KR100849447B1

KR100849447B1 - 자기 헤드

Info

Publication number: KR100849447B1
Application number: KR1020060131666A
Authority: KR
Inventors: 시게루 요시이케; 히로후미 나가이; 모토노리 유에다
Original assignee: 후지쯔 가부시끼가이샤
Priority date: 2006-06-26
Filing date: 2006-12-21
Publication date: 2008-07-31
Anticipated expiration: 2026-12-21
Also published as: KR20070122350A; JP2008004245A; CN101097718A; US20080043377A1

Abstract

본 발명은 자기 헤드의 판독 헤드에 마련되는 실드층의 자구(磁區) 배치를 안정화시키고, 판독 소자의 특성 변동을 방지하며, 자기 헤드의 신뢰성을 향상시키는 것을 목적으로 한다.

판독 소자(10)를 자기 실드하는 실드층(20)이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서, 상기 실드층(20)이 피착 형성된 하지층(下地層; 30)에, 착자(着磁) 처리 후에 이 실드층(20)에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 일치하는 단차(32)가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

Description

자기 헤드 {MAGNETIC HEAD}

도 1a는 하지층의 구성을 도시한 평면도, 도 1b는 A-A선을 따라 취한 단면도, 도 1c는 자기 헤드의 실드층의 구성을 도시한 평면도.

도 2a는 하지층에 형성하는 단차의 예를 도시한 평면도, 도 2b는 A-A선을 따라 절취한 단면도.

도 3a는 하지층에 형성하는 단차의 예를 도시한 평면도, 도 3b는 B-B선을 따라 절취한 단면도.

도 4a 및 도 4b는 7 자구 배치에 의한 하지층에 형성하는 단차의 예를 도시한 평면도.

도 5a는 하지층에 형성하는 단차 패턴의 예를 도시한 평면도, 도 5b는 A-A선을 따라 취한 단면도, 도 5c는 다른 예의 평면도, 도 5d는 B-B선을 따라 절취한 단면도(d).

도 6a는 하지층에 형성하는 슬릿형의 단차 구멍의 예를 도시한 평면도, 도 6b는 A-A선을 따라 절취한 단면도, 도 6c는 다른 예의 평면도.

도 7a는 실드층에 형성하는 단차의 예를 도시한 평면도, 도 7b는 A-A선을 따라 절취한 단면도, 도 7c는 다른 예의 평면도, 도 7d는 자구 배치의 설명도.

도 8a 내지 도 8c는 하지층 등에 형성하는 단차의 예를 도시한 평면도.

도 9a는 실드층에 착자 자계를 작용시킨 상태와, 도 9b는 착자 자계를 제거한 상태에서의 실드층의 자구 구성을 도시한 설명도.

도 10은 기록 매체와 판독 소자의 위치 관계를 도시한 설명도.

도 11a 내지 도 11c는 실드층의 자구 배치예를 도시한 설명도.

본 발명은 자기 헤드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자기 헤드의 판독 헤드에 마련되는 실드층의 구성을 특징으로 하는 자기 헤드에 관한 것이다.

도 10은 기록 매체로부터 기록 정보를 재생할 때에 있어서의 기록 매체(5)와 자기 헤드의 판독 헤드의 위치 관계를 도시한다. 판독 헤드에는 판독 소자(10)와 판독 소자(10)를 사이에 두는 배치로 자성층인 하부 실드층(12)과 상부 실드층(14)이 마련되어 있다. 하부 실드층(12)과 상부 실드층(14)은 판독 대상의 비트 이외로부터의 자계가 판독 소자(10)에 작용하지 않도록 실드하는 작용을 갖는다. 이 하부 실드층(12)과 상부 실드층(14)은 연자성재로 이루어지고, 전해도금에 의해 통상 평면 형상이 직사각형으로 형성된다.

그런데, 판독 소자(10)에는 프리층의 자화 방향을 정렬하기 위한 하드막이 마련되어 있고, 자기 헤드의 제조 공정에서, 이 하드막의 자화 방향을 정렬하기 위해서 강한 자계를 자기 헤드에 작용시키는 착자(着磁) 처리가 행해진다. 연자성층인 하부 실드층(12)과 상부 실드층(14)은 이 착자 처리에 의해 강자계가 작용하면 단자구(單磁區)가 되며, 착자 처리 후에는 도 11(도 11a 내지 도 11c)에 도시된 바와 같은 자구 배치가 된다.

도 11에 도시된 자구 배치는 환류 자구 구조라고 불리는 자구 배치로서, 자기 헤드에 있어서는 실드층의 자기 실드 작용이 유효하게 작용하는 자구 배치이다. 도 11a, 도 11b는 4 자구 배치의 예, 도 11c는 7 자구 배치의 예이며, 양쪽 경우 모두 자기 헤드의 자기 실드 작용으로서는 문제없이 사용할 수 있다. 4 자구 배치의 경우, 하부 실드층(12) 및 상부 실드층(14)은 직사각형으로 형성되어 있기 때문에, 착자 자계를 제거한 후에 생기는 자구 구조로서는 도 11a에 도시된 우선회 자구 구조와 도 11b에 도시된 좌선회 자구 구조는 동일한 확률로 발생한다.

도 11에 도시된 바와 같은 자구 구조가 자기 헤드에 유효한 것은 실드 작용이 유효하게 작용하는 자구 배치라는 것과, 판독 소자(10)는 하부 실드층(12) 및 상부 실드층(14)으로부터의 누설 자계의 영향을 받기 쉽고, 실드층으로부터의 누설 자계는 자구의 자벽 부분에서 발생하기 쉽기 때문에, 도 11에 도시된 바와 같이, 판독 소자(10)로부터 자벽이 이격된 배치로 함으로써 자벽이 이동했을 때에도 누설 자계의 영향을 받지 않도록 할 수 있기 때문이다. 제조에 있어서는 착자 처리에 의해 자구가 세로로 배열되는 「세로 균열 자구」가 되지 않고, 환류 자구 구조가 되도록 실드층의 막 두께나 형상, 조성을 조절하고 있다.

특허 문헌 1 : 일본 특허 공표 제2004-501478호 공보

특허 문헌 2 : 일본 특허 공개 평성 제11-31306호 공보

특허 문헌 3 : 일본 특허 공개 제2002-50009호 공보

자기 헤드의 제조 공정에 있어서는, 실드층이 안정된 환류 자구 구조가 되도록 실드층을 형성하는 것이지만, 기록 매체로부터의 자계나 자기 헤드의 기록 헤드로부터의 누설 자계, 외계로부터 자기 헤드에 작용하는 자계, 기록용 코일로부터의 발열에 따른 응력 등에 의해 실드층의 자구의 형상이 변화되고, 판독 소자의 특성이 변동한다고 하는 문제가 있다. 이것은 실드층의 자구의 형상이 변화되어 자벽이 판독 소자의 근방으로까지 이동하여 자벽으로부터의 누설 자계가 판독 소자에 자기 노이즈로서 영향을 미치는 것이 하나의 원인이라고 생각된다.

또한, 전술한 바와 같이, 하드막의 자화 방향을 정렬하기 위한 착자 자계를 제거하면, 예컨대, 4 자구 배치의 경우에는 우선회와 좌선회의 자구 구조가 동일한 확률로 발생하기 때문에, 판독 소자가 형성되어 있는 부위에서의 자화 방향이, 우선회의 자구 구조와 좌선회의 자구 구조에 의해 역방향이 되고, 이것에 의해 판독 소자의 출력이 변화되어 판독 소자의 특성이 변동되는 원인이 된다고 하는 것을 생각할 수 있다.

본 발명은 이들 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 자기 헤드의 판독 헤드에 마련되는 실드층의 자구 배치를 안정화시키고, 이것에 의해 판독 소자의 특성의 변동을 방지하여, 신뢰성을 향상시킨 자기 헤드를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 이하의 구성을 갖춘다.

즉, 판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서, 상기 실드층이 피착 형성된 하지층에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 일치하는 단차가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역이 다른 영역보다 저위가 되는 단차면에 형성되어 있음으로써, 또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역이 다른 영역보다 고위가 되는 단차면에 형성되어 있음으로써, 착자 처리 후의 실드층을 원하는 자구 배치로 할 수 있다.

또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역에 다른 영역보다 저위가 되는 상기 실드층의 하지와는 다른 층의 단차 패턴이 형성되어 있음으로써, 또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역에 다른 영역보다 고위가 되는 상기 실드층의 하지와는 다른 층의 단차 패턴이 형성되어 있음으로써도, 실드층을 원하는 자구 배치로 할 수 있다.

또한, 판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서, 상기 실드층이 피착 형성된 하지층에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 맞추어 슬릿형의 단차 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서, 상기 실드층의 표면에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 일치하는 단차 또는 슬릿형의 단차 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역이 다른 영역보다 저위가 되는 단차면에 형성되어 있음으로써, 또한, 상기 단차에 의해 구분된 영역이 다른 영역보다 고위가 되는 단차면에 형성되어 있음으로써, 착자 처리 후에 실드층을 원하는 자구 구조로 할 수 있다.

또한, 상기 실드층에 생성시키는 자구 배치가 실드층의 높이 방향에 비대칭이 되는 배치로 설정되고, 상기 판독 소자와 평면 배치가 중복되는 위치의 자구 영역이 최대 면적의 자구 영역으로 설정되어 있음으로써, 판독 소자에 실드층의 자벽이 간섭하는 것을 방지할 수 있어 판독 소자의 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 착자 처리시에 인가하는 자화 방향이 판독 소자와 동일 평면 배치 위치에 있는 자구의 자화 방향이 되기 때문에, 판독 소자의 출력 변동을 억제할 수 있다.

이하, 본 발명에 따른 자기 헤드가 적합한 실시 형태에 대해서 첨부 도면에 따라 상세하게 설명한다.

(제1 실시 형태)

본 실시 형태의 자기 헤드는 판독 헤드에 형성되는 실드층(하부 실드층과 상부 실드층)의 자구 구조를 안정화시키기 위해서 실드층의 하지층에 자구 구조의 평면 배치에 맞추어 단차를 형성하고, 이 단차를 형성한 하지층 위에 실드층을 형성함으로써 실드층(하부 실드층과 상부 실드층)의 자구 구조를 안정화시키는 것을 특징으로 한다.

도 1a는 평면 형상이 직사각형인 실드층을 형성할 때의 하지층(30)의 평면 형상, 도 1b는 도 1a의 A-A선을 따라 절취한 단면도를 도시한다. 도 1a, 도 1b는 착자 처리 후의 자구 배치로서 4 자구의 환류 자구 구조를 실현하기 위해서 하지층(30)에 4 자구 배치의 사다리꼴 자구 영역의 경계 위치에 맞추어 단차(32)를 형성하고, 사다리꼴 영역을 단차면(32a)에 형성한 예를 나타낸다. 단차면(32a)을 형성한 사다리꼴 영역은 판독 소자를 배치하는 위치와는 다른 쪽의 사다리꼴 영역이다.

도 1c는 하지층(30)에 전해도금에 의해 자성층을 형성하여 실드층(20)을 형성하고, 착자 처리한 후에 실드층(20)에 생기는 자구 구조를 나타낸다. 즉, 하지층(30)에 단차(32)를 형성하여 자성층을 형성함으로써, 착자 후의 자구 구조는 단차(32)의 위치에 따라 자벽이 형성되도록 자구 배치되고, 도 1c에 도시된 환류 자구 구조가 실현된다.

이러한 자구 배치가 형성되는 것은, 자성막에서는 막 속에 존재하는 결함 등에 의해 자벽의 위치가 좌우되고, 자벽이 이동할 때에 단차 부분에서는 자벽이 단차를 넘기 어려워 단차를 따라 자벽의 위치가 유도된다고 하는 성질이 있는 것에 좌우된다. 따라서, 이 자성막의 성질을 이용하면, 실드층(20)에서 실현하고자 하는 자구 구조에 맞추어 자성막에 단차(32)를 형성함으로써, 실드층(20)의 자구 구조를 원하는 자구 구조로 유도할 수 있다.

도 2(도 2a 및 도 2b)는 하지층(30)에 형성하는 단차(32)의 위치는 도 1(도 1a 내지 도 1c)과 동일 배치이며, 단차면(32a)을 형성하는 영역을 도 1과는 반대 배치로 한 예이다. 하지층(30)에 형성하는 단차(32)는 실드층(20)에서 실현하고자 하는 자구 배치에 따라 형성하면 좋기 때문에, 단차(32)를 경계로 하는 단차면(32a)은 단차(32)를 사이에 두고 어느 쪽에 형성하여도 좋다.

도 3(도 3a 및 도 3b)은 하지층(30)에 형성하는 단차(32)를 4 자구 배치인 경우의 2개의 삼각형의 자구의 경계를 따라 배치하는 예이다. 도 3b는 도 3a의 B-B선을 따라 절취한 단면도이다. 이와 같이, 4 자구 배치로 평면 형상이 삼각형이 되는 자구 영역이 단차면(32a)이 되도록 하지층(30)을 형성하여 실드층을 성막함으로써도 실드층을 4 자구의 환류 자구 구조로 할 수 있다.

또한, 하지층(30)에 형성하는 단차면(32a)은 실드층을 환류 자구 구조로 할 때의 하나의 자구 영역의 일면에 미치도록 형성한다.

도 3에 도시된 실시 형태에서는, 좌우의 삼각형의 영역을 단차면(32a)으로 하였지만, 한쪽 삼각형의 영역에만 단차면(32a)을 형성함으로써, 4 자구의 환류 자구 구조를 유도할 수도 있다. 또한, 4 자구 배치에 있어서 삼각형의 자구 영역의 꼭지각 θ를 각도 90°로 설정하면 안정된 환류 자구 구조가 된다.

하지층(30)에 단차(32) 및 단차면(32a)을 형성하기 위해서는 예컨대 하부 실드층(12)에 대해서는 하지층(30)이 되는 기판(알루미나-탄화티탄 기판)의 표면에 단차면(32a)을 형성하는 부위를 노출시키도록 레지스트 패턴을 형성하고, 이온 밀링에 의해 하지층(30)의 단차면(32a)을 형성하는 면을 식각하도록 하면 좋다.

상부 실드층(14)의 경우는, 상부 실드층(14)의 하층에 형성하는 알루미나 등의 절연층에 마찬가지로 단차면(32a)이 되는 부위를 노출시키도록 레지스트 패턴을 형성하고, 이온 밀링에 의해 단차면(32a)을 형성하면 좋다.

하부 실드층(12) 및 상부 실드층(14)의 두께는 수 ㎛ 정도이다. 단차(32)의 높이는 그 이하라도 좋다.

상기 실시 형태에서는 실드층을 4 자구 구조로 하는 예이지만, 도 4는 도 11c에 도시된 7 자구의 환류 자구 구조로 하는 경우의 예이다.

도 4a는 7 자구 배치의 경우에 실드층의 길이 방향의 양단에 형성되는 삼각형의 자구 영역에 대응하여 자구의 경계를 따라 단차(32)를 형성하여 삼각형의 자구 영역을 단차면(32a)으로 한 예이다.

도 4b는 7 자구 배치로 중앙에 형성되는 육각형의 자구 영역의 경계를 따라 단차(32)를 형성하고, 육각형의 영역 내를 단차면(32a)으로 한 것이다.

이 실시 형태의 경우도 착자 자계를 제거했을 때에 실드층에 생기는 자구의 자벽을 단차(32)의 위치로 유도하여 도 11c에 도시된 바와 같은 7 자구의 환류 자구 배치를 실현할 수 있다.

이와 같이 실드층(20)의 자구 배치를 4 자구 또는 7 자구로 이루어진 환류 자구 구조로 함으로써, 실드층(20)의 실드 효과를 높일 수 있고, 또한 자구의 배치를 안정화시켜 자기 헤드의 특성 변동 방지 및 특성 안정화를 도모할 수 있다.

(제2 실시 형태)

실드층에서 실현하고자 하는 환류 자구 구조에 따라 하지층에 단차를 형성하는 경우에는, 단차면은 다른 자구 영역에 대하여 저위가 되는 단차면에 형성하여도 좋고, 다른 자구 영역에 비하여 고위가 되는 단차면에 형성하여도 좋다.

상기 실시 형태에서는 하지층(30) 자체에 이온 밀링 등에 의해 단차(32) 및 단차면(32a)을 형성하였다. 하지층(30)과는 다른 층에 단차(32)를 형성하는 단차 패턴을 마련하는 방법에 의해 단차(32)를 형성할 수도 있다.

도 5(도 5a 내지 도 5d)는 하지층(30)에 하지층(30)과는 다른 층에 금속으로 이루어진 단차 패턴(34)을 형성한 예를 도시한다. 도 5a는 4 자구 배치에 의한 사다리꼴 자구 영역에 단차 패턴(34)을 형성한 예, 도 5b는 4 자구 배치로 삼각형의 자구 영역에 단차 패턴(36)을 형성한 예이다. 양쪽 단차 패턴(34, 36) 모두 단차 패턴(34, 36)의 경계가 실드층의 자구의 경계 위치에 일치하도록 형성된다.

단차 패턴(34, 36)은 하지층(30)의 표면에 금속층을 스퍼터링 또는 도금 등에 의해 형성하고, 금속층의 표면에 단차 패턴(34, 36)에 따라 금속층을 덮도록 레지스트 패턴을 형성하며, 레지스트 패턴을 마스크로서 금속층을 에칭하여 형성할 수 있다. 또한, 금속층을 형성하는 대신에 소정 패턴으로 절연층을 형성하여도 좋다.

또한, 하지층(30)에 단차 패턴을 형성할 때에, 도 5에 사선으로 도시한 영역 이외의 영역에 단차 패턴을 형성하고, 도 5에 도시된 사선 영역에는 단차 패턴을 형성하지 않도록 하는 방법에 의해서도 자구 영역의 경계 위치에 일치시켜 단차를 형성할 수 있다.

(제3 실시 형태)

도 6(도 6a 내지 도 6c)은 실드층에 4 자구 배치의 환류 자구 구조를 유도하여 구성하는 다른 방법으로서, 실드층을 형성하는 하지층(40)에 실드층에 구성하고자 하는 환류 자구 구조에 의한 자구의 경계 위치에 맞추어 슬릿형의 단차 구 멍(40a)을 형성한 예이다. 본 실시 형태에서는 하지의 표면에 하지층(40)으로서의 금속층을 성막하여 이 금속층을 하지층(40)이라고 한다.

도 6a는 4 자구 배치로 2개의 사다리꼴 자구 영역을 구분하는 중앙의 경계선에 맞추어 하지층(40)에 슬릿형의 단차 구멍(40a)을 형성한 예[도 6b는 도 6a의 A-A선을 따라 절취한 단면도]이다. 도 6b는 4 자구 배치에 의한 각 자구를 구분하는 경계선의 위치에 맞추어 하지층(40)에 단차 구멍(40a)을 형성한 예이다.

이와 같이, 실드층을 형성하는 하지층에, 실드층으로 구성하고자 하는 자구의 경계선 위치에 맞추어 슬릿형의 단차 구멍을 형성하면, 하지층(40)의 표면에 실드층을 형성했을 때에, 단차 구멍(40a)을 형성한 부위에는 실드층이 좁은 폭의 돌기 선형으로 형성되고, 단차 구멍(40a)을 형성한 부위가 착자 처리에 의해 실드층이 자구 형성될 때에 자벽을 유도하는 위치가 된다. 이것에 의해, 실드층을 원하는 환류 자구 구조로 할 수 있다.

(제4 실시 형태)

전술한 각 실시 형태에 있어서는 실드층에 환류 자구 구조를 실현하기 위해서 실드층을 형성하는 하지에 단차(32)나 슬릿형의 단차 구멍(40a)을 형성하였다. 본 실시 형태에서는, 실드층의 표면에 소정 패턴, 예컨대 평면 형상이 직사각형으로 실드층(20)을 형성한 후, 실드층(20)의 표면에 단차(22)를 형성하여 착자 처리를 실시했을 때에 실드층(20)이 원하는 자구 배치가 되도록 한다.

도 7a는 실드층(20)의 표면에 4 자구 배치의 사다리꼴 형상이 되는 자구의 경계 위치에 맞추어 단차(22)가 형성되도록 단차면(22a)을 형성한 예이다. 도 7b는 4 자구 배치의 삼각형의 자구 영역에 맞추어, 자구의 경계 위치에 맞추어 단차(22)가 되도록 단차면(22a)을 형성한 예이다.

이들 단차면(22a)은 실드층(20)을 형성한 후, 실드층(20)을 레지스트에 의해 피복하고, 단차면(22a)을 형성하는 영역을 노출시키도록 레지스트를 패턴 형성하며, 이온 밀링에 의해 실드층(20)을 식각하여 형성할 수 있다.

이와 같이, 실드층(20)의 표면에 단차(22)를 형성함으로써, 단차(22)의 위치로 자벽을 유도하여 착자 처리시에 실드층(20)을 4 자구 배치 등의 원하는 환류 자구 구조로 할 수 있다. 도 7d가 단차(22)의 위치에 따라 실드층(20)이 4 자구 배치가 되는 것을 나타낸다.

또한, 도 7(도 7a 내지 도 7d)에 도시된 예에서 단차면(22a)을 다른 영역보다 저위가 되도록 형성하는 대신에 단차면(22a)이 다른 영역보다 고위가 되도록 다른 영역을 이온 밀링하여 식각하도록 하여도 좋다. 또한, 실드층(20)에 단차면(22a)을 형성하는 대신에, 실드층(20)에 형성하는 자구의 경계선상에 실드층(20)에 좁은 폭의 오목홈을 형성하고, 실드층(20)의 자벽 위치를 이 오목홈으로 유도하여 실드층(20)을 원하는 자구 배치로 할 수 있다.

(제5 실시 형태)

전술한 바와 같이, 실드층을 형성하는 하지층 또는 실드층에 단차 등을 형성함으로써, 착자 처리시에 실드층을 원하는 자구 구성으로 할 수 있는 것을 이용하면, 예컨대, 통상은 높이 방향에 대칭으로 배치되는 자구 배치를 높이 방향(상하 방향)에 비대칭 배치로 할 수 있다.

도 8(도 8a 내지 도 8e)은 4 자구 배치의 환류 자구 구조를 상하 방향으로 비대칭 배치로 하는 경우의 구성예를 도시한다. 도 8a는 사다리꼴 자구의 경계 위치를 위쪽으로 치우치게 하여 사다리꼴 영역의 단차(32)를 형성한 예이다. 도 8b는 삼각형 영역의 단차면의 정점 위치를 위쪽으로 치우치게 하여 형성한 예이다. 도 8c는 하지층(40)에 형성하는 슬릿형의 단차 구멍(40a)을 높이 방향에서 위쪽으로 치우치게 하여 형성한 예이다. 실드층의 자구 배치를 제어하는 방법에 대해서는 도시예 이외에 전술한 각 실시 형태의 방법을 이용할 수 있다.

이와 같이 단차(32) 또는 단차 구멍(40a)의 위치를 설정하면, 착자 처리 후의 실드층(20)의 자구 배치가 이들 단차(32) 또는 단차 구멍(40a) 등으로 유도되어 도 9(도 9a 및 도 9b)에 도시한 바와 같은 상하 비대칭의 환류 자구 구조가 된다.

도 9는 착자 처리시에 있어서의 실드층(20)의 자구 상태를 함께 도시한 것으로서, 도 9a는 착자 처리시의 강자계에 의해 실드층(20)이 단일 자구가 되는 것을 나타내고, 도 9b는 착자 자계를 제거한 후의 상태에서 그 때의 실드층(20)에 있어서의 자구 배치와 각 자구의 자화 방향을 나타내고 있다.

본 실시 형태와 같이, 실드층(20)의 자구를 높이 방향에서 비대칭으로 구성하면, 착자 자계를 제거한 후에 실드층(20)에 구성되는 자구의 자화 방향은 자구 중 최대 면적을 차지하는 사다리꼴 자구 영역(D)의 자화 방향이 착자 자계 방향과 일치하게 된다. 즉, 종래의 실드층에서는 자구 배치가 상하 대칭이기 때문에 착자 자계를 제거한 후에 실드층(20)에 구성되는 자구는 우회전 자구와 좌선회 자구가 동일 확률로 표시되지만, 본 실시 형태와 같이, 실드층(20)에 형성되는 자구를 비 대칭 배치로 하면, 착자 자계를 제거한 상태에서의 자화 방향을 특정할 수 있다. 도 9a는 좌측에서 우측 방향으로 착자 자계를 작용시킨 경우이지만, 이것과는 반대로 우측에서 좌측을 향해 착자 자계를 작용시키면, 자구(D)는 도 9b와는 반대 방향으로 자화된다.

이와 같이, 실드층(20)에 형성되는 자구의 자화 방향이 특정되면, 실드층(20)으로부터 누설 자계가 판독 소자(10)에 작용하였다고 해도 판독 소자(10)에는 일정한 방향의 자화가 작용하게 되고, 판독 소자(10)에 작용하는 누설 자계의 방향이 변함으로써 판독 소자(10)의 출력이 변동한다고 하는 문제가 해소된다. 판독 소자(10)가 누설 자계 등에 민감한 특성을 갖는 경우에는, 이와 같이 자구의 자화 방향을 한 방향으로 제어할 수 있는 것은 자기 헤드의 특성을 향상시키는 데에 있어서 매우 유효하다.

또한, 도 9b에 도시된 바와 같이, 가장 넓은 사다리꼴 자구 영역(D)의 평면 배치 내에 판독 소자(10)를 배치하면, 판독 소자(10)와 실드층(20)의 자벽과는 크게 이격하게 되고, 외적인 영향에 의해 실드층(20)의 자벽이 이동한 경우에도 자벽에 의한 영향을 판독 소자(10)가 쉽게 받지 않게 되며, 이 점으로부터도 안정된 특성을 갖추는 자기 헤드로서 제공할 수 있다.

또한, 하부 실드층(12)과 상부 실드층(14)에 대해서는 평면 형상이 직사각형 이외의 형태, 예컨대 사다리꼴 형상, 육각 형상 등의 형태도 생각되고 있다. 본 발명은 하지층 또는 실드층에 단차 등을 형성함으로써, 착자 처리 후의 실드층에 있어서의 자구 배치를 원하는 자구 배치로 하는 것을 가능하게 하는 것으로서, 실드 층의 평면 형상이 전술한 직사각형의 제품에 한정되는 것은 아니다.

또한, 본 발명은 하부 실드층과 상부 실드층 양쪽에 적용하여도 좋고, 한쪽에만 적용하는 것도 가능하다. 또한, 본 발명은 자기 헤드의 판독 헤드에 있어서의 실드층의 구성을 특징으로 하는 것으로서, 판독 헤드의 판독 소자에 대해서는 특별히 한정되지 않는다. 또한, 자기 헤드의 기록 헤드의 구성에 대해서도 마찬가지로 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 관한 자기 헤드에 따르면, 실드층을 형성하는 하지층, 또한 실드층의 표면에 단차를 형성해 둠으로써, 착자 처리 후에 실드층이 자구 배치할 때에, 단차를 따라 자벽이 유도되고, 실드층을 원하는 자구 배치가 되도록 할 수 있다. 이것에 의해, 실드층의 자구 배치가 안정화하여 자기 헤드의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

Claims

판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서,

상기 실드층이 피착 형성된 하지층에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라서 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 일치하는 단차가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역은, 다른 영역보다 저위(低位)가 되는 단차면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역은, 다른 영역보다 고위(高位)가 되는 단차면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역에 다른 영역보다 저위가 되는 상기 실드층의 하지와는 다른 층의 단차 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역에 다른 영역보다 고위가 되는 상기 실드층의 하지와는 다른 층의 단차 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서,

상기 실드층이 피착 형성된 하지층에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라서 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 맞추어 슬릿형의 단차 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
판독 소자를 자기 실드하는 실드층이 마련된 판독 헤드를 포함하는 자기 헤드에 있어서,

상기 실드층의 표면에, 착자 처리 후에 이 실드층에 생성시키는 원하는 자구 배치에 따라 이 자구 배치 중 적어도 하나의 자구 영역의 경계 위치에 일치하는 단차가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제7항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역은 다른 영역보다 저위가 되는 단차면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제7항에 있어서, 상기 단차에 의해 구분된 영역은 다른 영역보다 고위가 되는 단차면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 실드층에 생성시키는 자구 배치는 실드층의 높이 방향에 비대칭이 되는 배치로 설정되고, 상기 판독 소자와 평면 배치가 중복되는 위치의 자구 영역은 최대 면적의 자구 영역으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.