KR100847040B1 - 반도체 장치와 그 제조 방법 - Google Patents
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- H01L21/02271—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition
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- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B53/00—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors
Abstract
Description
Claims (12)
- (a) 반도체 소자를 형성한 반도체 기판 상방에, 산화물 유전체 커패시터를 형성한 기판을 준비하는 공정과,(b) 상기 산화물 유전체 커패시터를 덮어서, 제 1 조건의 고밀도 플라스마(HDP) CVD로 산화 실리콘 막을 퇴적하는 공정과,(c) 상기 공정 (b)의 뒤, 상기 제 1 조건보다 고주파 바이어스를 높인 제 2 조건의 HDPCVD로 산화 실리콘 막을 퇴적하는 공정을 포함하고,상기 공정 (b)에서 성막하는 산화 실리콘 막의 두께는 10nm ~ 50nm인 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 공정 (b)의 제 1 조건은 고주파 바이어스 없이, 수소 차폐능을 갖는 산화 실리콘 막을 성막하는, 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 1 조건으로부터 제 2의 조건에 이르는 사이, 고주파 바이어스는 서서히 증가하는, 반도체 장치의 제조 방법.
- 삭제
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공정 (b), (c)에서, 기판 온도는 175℃ ~ 350℃인, 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공정(b), (c)는, 원료 가스로, SiH4, O2, Ar의 혼합 가스, 또는 SiH4, N2O, Ar의 혼합 가스, 또는 SiF4, O2, Ar의 혼합 가스를 사용하는, 반도체 장치의 제조 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화물 유전체 커패시터를 덮어서, Al 산화물, Al 질화물, Ta 산화물, Ta 질화물, Ti 산화물, Zr 산화물 중 어느 하나의 층을 퇴적하는 (e) 공정을 더 포함하는, 반도체 장치의 제조 방법.
- 반도체 기판과,상기 반도체 기판에 형성된 반도체 소자와,상기 반도체 소자를 덮어서, 상기 반도체 기판 위에 형성된 층간 절연막과, 상기 층간 절연막 위에 형성된 산화물 유전체 커패시터와,상기 산화물 유전체 커패시터를 덮어서, 상기 층간 절연막 위에 퇴적된 Si가 풍부한 제 1 산화 실리콘 막과,상기 제 1 산화 실리콘 막의 상방에 퇴적되어, 상기 제 1 산화 실리콘 막보다 Si 조성이 낮은 제 2 산화 실리콘 막을 갖고,상기 제 1 산화 실리콘 막의 두께는 10nm ~ 50nm인 반도체 장치.
- 제 10항에 있어서, 상기 산화물 유전체는 PZT, SBT, BST 중 어느 하나인, 반도체 장치.
- 삭제
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KR1020067023449A KR100847040B1 (ko) | 2006-11-09 | 2004-07-27 | 반도체 장치와 그 제조 방법 |
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KR1020067023449A KR100847040B1 (ko) | 2006-11-09 | 2004-07-27 | 반도체 장치와 그 제조 방법 |
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Citations (3)
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JPH11233513A (ja) | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Fujitsu Ltd | 強誘電体膜を用いた装置の製造方法及び装置 |
JP2002299332A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-10-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ成膜方法及びプラズマcvd装置 |
JP2003273332A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-09-26 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
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2004
- 2004-07-27 KR KR1020067023449A patent/KR100847040B1/ko active IP Right Grant
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JPH11233513A (ja) | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Fujitsu Ltd | 強誘電体膜を用いた装置の製造方法及び装置 |
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