KR100837706B1 - 가열 장치 - Google Patents
가열 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100837706B1 KR100837706B1 KR1020020028635A KR20020028635A KR100837706B1 KR 100837706 B1 KR100837706 B1 KR 100837706B1 KR 1020020028635 A KR1020020028635 A KR 1020020028635A KR 20020028635 A KR20020028635 A KR 20020028635A KR 100837706 B1 KR100837706 B1 KR 100837706B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- heater
- heating
- surface side
- cover
- lower cover
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
- F27D7/02—Supplying steam, vapour, gases, or liquids
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Surface Heating Bodies (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
- 상하 방향을 따라서 서로 간격을 두고 병렬하는 복수의 패널형 히터를 구비하고,각 히터는 발열체와, 그 발열체의 상부면을 덮는 상부 커버와, 그 발열체의 하부면을 덮는 하부 커버를 가지며,서로 인접하는 상기 히터의 사이에 배치되는 가열 대상을 각 히터의 상부면측에서 방사되는 열과 하부면측에서 방사되는 열에 의해 가열할 수 있는 가열 장치로서,상기 하부 커버의 방사율이 상기 상부 커버의 방사율보다도 작아짐으로써, 각 히터에서의 단위 시간당 하부면측으로부터의 열방사량이 상부면측으로부터의 열방사량보다도 억제되어 있는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 하부 커버 표면의 성상(性狀)과 상기 상부 커버 표면의 성상을 표면 가공 또는 피막 형성을 포함하는 표면 처리에 의해 다르게 함으로써, 상기 하부 커버의 방사율이 상기 상부 커버의 방사율보다도 작게 되어 있는 것인 가열 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하부 커버의 열전도율이 상기 상부 커버의 열전도율보다도 작아짐으로써, 각 히터에서의 단위 시간당 하부면측으로부터의 열방사량이 상부면측으로부터의 열방사량보다도 억제되어 있는 것인 가열 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 하부 커버의 재질과 상기 상부 커버의 재질과의 차이에 의해, 상기 하부 커버의 열전도율이 상기 상부 커버의 열전도율보다도 작게 되어 있는 것인 가열 장치.
- 상하 방향을 따라서 서로 간격을 두고 병렬하는 복수의 패널형 히터를 구비하고,각 히터는 발열체와, 그 발열체의 상부면을 덮는 상부 커버와, 그 발열체의 하부면을 덮는 하부 커버를 가지며,서로 인접하는 상기 히터의 사이에 배치되는 가열 대상을 각 히터의 상부면측에서 방사되는 열과 하부면측에서 방사되는 열에 의해 가열할 수 있는 가열 장치로서,상기 하부 커버의 열전도율이 상기 상부 커버의 열전도율보다도 작아짐으로써, 각 히터에서의 단위 시간당 하부면측으로부터의 열방사량이 상부면측으로부터의 열방사량보다도 억제되어 있는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 하부 커버의 재질과 상기 상부 커버의 재질과의 차이에 의해, 상기 하부 커버의 열전도율이 상기 상부 커버의 열전도율보다도 작게 되어 있는 것인 가열 장치.
- 제1항 또는 제5항에 있어서, 상기 히터는 양단 지지형으로 노체(爐體)에 의해 지지되고, 상기 하부 커버의 열팽창율은 상기 상부 커버의 열팽창율보다도 작게 되어 있는 것인 가열 장치.
- 제1항 또는 제5항에 있어서, 상기 하부 커버의 내부에 공간이 형성되어 있는 것인 가열 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 공간에 히터의 설정 온도보다도 저온의 가스를 도입하기 위한 가스 도입 배관을 포함하는 가스 도입 수단이 설치되고, 상기 공간에 도입된 가스가 히터의 중앙 근방에서 주변을 향하여 유동하도록 상기 가스는 히터의 중앙 근방에 도입되는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
- 제9항에 있어서, 각 히터에는 상기 공간을 히터의 중앙 근방의 챔버와 상기 중앙 근방의 챔버보다 주변에 근접하는 챔버로 분할하는 칸막이 벽이 설치되고, 상기 칸막이 벽에는 서로 인접하는 챔버를 연통시키는 가스 유통 구멍이 마련되며, 상기 중앙 근방의 챔버에 상기 가스 도입 수단에 의해 가스가 도입되는 것인 가열 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002107597A JP2003303666A (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 加熱装置 |
JPJP-P-2002-00107597 | 2002-04-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030080948A KR20030080948A (ko) | 2003-10-17 |
KR100837706B1 true KR100837706B1 (ko) | 2008-06-13 |
Family
ID=28786471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020020028635A KR100837706B1 (ko) | 2002-04-10 | 2002-05-23 | 가열 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003303666A (ko) |
KR (1) | KR100837706B1 (ko) |
CN (1) | CN100350207C (ko) |
TW (1) | TW533301B (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5074707B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2012-11-14 | 光洋サーモシステム株式会社 | 加熱装置 |
KR101360895B1 (ko) * | 2011-12-09 | 2014-02-17 | 주식회사 제우스 | Lcd 글라스 기판용 오븐챔버의 개폐 커버 |
KR101441974B1 (ko) * | 2012-11-06 | 2014-09-24 | 주식회사 제우스 | 열처리 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100245260B1 (ko) * | 1996-02-16 | 2000-02-15 | 엔도 마코토 | 반도체 제조장치의 기판 가열장치 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100238626B1 (ko) * | 1992-07-28 | 2000-02-01 | 히가시 데쓰로 | 플라즈마 처리장치 |
US5800618A (en) * | 1992-11-12 | 1998-09-01 | Ngk Insulators, Ltd. | Plasma-generating electrode device, an electrode-embedded article, and a method of manufacturing thereof |
JP2960645B2 (ja) * | 1994-03-30 | 1999-10-12 | 日本碍子株式会社 | セラミックスヒータ及びその製造方法 |
JP2001012856A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-01-19 | Hitachi Chemical Techno-Plant Co Ltd | 熱処理装置 |
JP4209057B2 (ja) * | 1999-12-01 | 2009-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | セラミックスヒーターならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法 |
-
2002
- 2002-04-10 JP JP2002107597A patent/JP2003303666A/ja active Pending
- 2002-05-16 TW TW091110224A patent/TW533301B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-05-23 KR KR1020020028635A patent/KR100837706B1/ko active IP Right Grant
- 2002-07-10 CN CNB021409277A patent/CN100350207C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100245260B1 (ko) * | 1996-02-16 | 2000-02-15 | 엔도 마코토 | 반도체 제조장치의 기판 가열장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW533301B (en) | 2003-05-21 |
CN100350207C (zh) | 2007-11-21 |
KR20030080948A (ko) | 2003-10-17 |
JP2003303666A (ja) | 2003-10-24 |
CN1450331A (zh) | 2003-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100297282B1 (ko) | 열처리장치 및 열처리방법 | |
KR100993028B1 (ko) | 가스 분사 및 배출을 위한 대향 포켓을 구비하는 반응 챔버 | |
US7860379B2 (en) | Temperature measurement and control of wafer support in thermal processing chamber | |
US5938850A (en) | Single wafer heat treatment apparatus | |
US7127367B2 (en) | Tailored temperature uniformity | |
KR101046043B1 (ko) | 노용 다중 구역 히터 | |
US20060027165A1 (en) | Heated gas box for PECVD applications | |
CN100398696C (zh) | 单晶片腔室中的无辐射率变化泵送板套件 | |
KR20200058493A (ko) | 유기막 형성 장치 | |
KR102661888B1 (ko) | 가열 장치, 증발원 및 증착 장치 | |
KR100837706B1 (ko) | 가열 장치 | |
TWI392027B (zh) | Heat treatment apparatus, heater and heater manufacturing method | |
CN111748773A (zh) | 一种蒸发源和蒸镀装置 | |
KR101920331B1 (ko) | 기판 열처리 장치 | |
KR102148834B1 (ko) | 밀리세컨드 어닐 시스템을 위한 가스 흐름 제어 | |
JP3840486B2 (ja) | 加熱方法および加熱装置 | |
JP3665283B2 (ja) | 加熱方法および加熱装置 | |
JP7398107B2 (ja) | 加熱装置および加熱方法 | |
US7393205B2 (en) | Device and method for heating up extrusion dies prior to their installation in an extruder | |
JP2002353207A (ja) | 半導体製造装置のプロセスチャンバ構造および半導体製造装置 | |
JP2005032883A (ja) | 基板処理装置 | |
JP7289161B2 (ja) | 加熱装置および加熱方法 | |
TWI833960B (zh) | 加熱裝置、加熱系統及加熱方法 | |
US20230082802A1 (en) | Apparatus for processing a substrate and method of operating the same | |
KR101870662B1 (ko) | 기판 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130311 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131206 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141218 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151209 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170113 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171212 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190307 Year of fee payment: 12 |