KR100818639B1 - 습식전기이오나이져 - Google Patents

Abstract

본 발명은 습식전기 이오나이져에 관한 것으로, 특히 처리하고자 하는 배기가스를 덕트 인입구로 유입될 경우에 고온이면서 많은 입자상의 물징을 함유하게 됨으로 이를 1차적으로 냉각하고 입자상의 물질등을 집진토록 하기 위하여 물로 분사토록 하게 되는데 이러한 분사를 서로 대응되는 방향에서 분사가 이루어지도록 함으로서 서로 대응되게 분사되는 물과 배기가스가 충돌하여 생기는 에너지에 의하여 접촉면적을 크게 하여 배기가스내에 함유되어진 가스상물질과 입자상물질의 제거효율을 향상토록 한 것이다.

Description

습식전기이오나이져{Ionizer}

도 1은 본 발명의 인입관의 일실시예의 단면도.

도 2는 본 발명의 인입관의 또 다른 일실시예의 단면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

10 : 인입관 11 : 상측스프레이

12 : 하측스프레이 13 : 축관부

본 발명은 습식전기 이오나이져(Ionizer)에 관한 것으로, 특히 처리하고자 하는 배기가스가 덕트 인입구로 유입될 경우에 인입되는 배기가스가 고온이면서 많은 입자상의 물질을 함유하게 됨으로 이를 1차적으로 냉각하고 입자상의 물질 등을 집진토록 할 경우에 집진효율을 항상토록 한 것이다.

현재 보일러나 소각로 또는 각종 산업설비 등에서 배출되는 가스에 함유되어진 황산화물(SO_x),염화수소(HCl), 불화수소(HF)등의 가스상의 물질과 먼지나 그보다 작은 입자상의 미스트(Mist)등의 입자상의 물질을 함유하고 있어 대기로 배출되기 전에 습식전기이오나이져를 거쳐 처리하게 되는 것이다.

그러나 이러한 습식전기이오나이져는 통상 배기가스가 인입되어지는 덕트상의 인입관(Duct)과 상기 인입관(10)의 내부에서 분사되는 스프레이(11)에 의하여 1차로 냉각되어지거나 입자등이 집진되어진 가스를 2차로 냉각하거나 미세입자를 제거토록 하기 위한 기 액접촉을 늘려주는 패킹층(20)과 순환수를 스프레이하는 스프레이층(30)과 순환수를 모으는 탱크(40)와 스프레이층에 순환수를 공급하여 순환펌프등으로 구비토록 되는 탈황탑(Absorber)(100)과 집진관(50)과 그 중앙에 위치되어지는 전극봉(60)등에 의하여 코로나 전류를 발생시켜 상승되는 가스 등을 이온화하여 집진관의 내벽에 접착되어 집진을 하게 되고 집진된 것의 제거를 위한 세정장치등으로 구성되어지는 정전집진부(ESI)(200)로 이루어져 제거하게 되는 것이다.

그러나 이러한 탈황탑(100)과 정전집진부(200)로 진입되는 가스가 포화온도까지 떨어지지 않을 경우에는 이온화율이 현저하게 감소되어 원하는 정도로의 효율을 얻을 수 없다는 단점이 있는 것이었다.

따라서 본 발명은 처리하고자 하는 배기가스가 덕트 인입관으로 유입될 경우에 고온이면서 많은 입자상의 물질을 함유하게 됨으로 이를 1차적으로 냉각하고 입자상의 물질등을 집진토록 하기 위하여 물로 분사토록 할 경우에 이러한 분사를 1,2차로 구분되아 이들이 서로 대응되는 방향에서 분사가 이루어지도록 함으로서 서로 대응되게 분사되는 물과 배기가스가 서로 충돌하여 생기는 에너지에 의하여 접촉면적을 크게 하여 배기가스 내에 함유되어진 가스상물질과 입자상물질의 제거 효율을 향상토록 한 것이다.

이러한 목적 달성을 위하여 본 발명에서는 처리하고자 하는 배기가스가 인입되어지는 인입관에 유입되는 배기가스 방향과 동일한 방향인 상측에서 하측으로 분사토록 되는 상측스프레이와 유입되는 배기가스와 반대방향인 하측에서 상측으로 분사토록 되는 하측스프레이를 형성하여 인입관을 통하여 유입되어지는 배기가스가 서로 대응되게 분사되는 물과 충돌하여 생기는 에너지에 의하여 접촉면적을 크게 하여 배기가스내에 함유되어진 가스상물질과 입자상물질의 제거효율을 향상토록 한 것이다.

이를 위한 본 발명의 구성은 본 발명의 기본적인 구성으로서 우선 처리하고자 하는 배기가스가 인입되어지는 인입관(10)과 상기 인입관(10)의 내부에서 분사장치에 의하여 1차 처리되어진 가스가 인입구를 통하여 탈황탑으로 인입되면 패킹층을 통과하게 되고 상기 패킹층에는 그 상측에서 분사노즐에 의하여 분사되는 분사액에 의하여 기액접촉면적을 크게 하여 2차 처리하게 되고, 탈황탑에서 처리되어진 가스를 이온화하여 완전한 처리를 위하여는 집진관의 내부를 통과할 경우에 집진관의 내부에 설치된 전극봉에 의하여 이온화되면서 진진관의 내벽에 집진되어지고, 이와 같이 집진되어진 가스상의 물질등은 세정수단에 의하여 씻겨내려가게 되는 것이고, 이렇게 씻겨내려간 집진물질등은 집진탱크에 집진되어지고 집진되어진 것은 정화하여 순환펌프에 의하여 재활용하게 되고 재활용되어진 것은 다시 순환수로 사용되어지는 것이다.

이와 같은 습식전기이오나이져에서 인입관에 도1 및 도2에 도시된 바와 같이 인입관(10)의 입구 상측에서 하측으로 분사토록 되는 상측스프레이(11)와 서로 대응되게 위치되어진 하측스프레이(12)가 하측에서 상측으로 분사토록 되는 구조이다.

이때 상측스프레이(11)와 하측스프레이(12)는 분사되는 물이 서로 충돌할 정도의 거리를 유지하게 되는 것이고, 하측스프레이(12)가 장착된 인입관(10)의 후단으로는 인입관의 입구보다 상대적으로 직경이 작게 축관부(13)로 형성하여 인입관(10)으로 유입되어진 배기가스가 인입관의 입구에서 축관부의 사이에 어느 정도 머물 수 있게 됨으로서 대응되게 분사되는 분무에 의하여 제거효율을 향상토록 한 것이다.

따라서 상측스프레이(11)과 하측스프레이(12)에서 분사되어지는 물이 서로 충돌하게 되고 이러한 충돌은 인입되어지는 배기가스와 또 다시 충돌하게 됨으로 접촉면적을 크게 하게 되어 처리하고자 하는 배기가스를 포화온도까지 떨어트리게 되는 것이다.

이는 상측스프레이(11)와 하측스프레이(12)의 중간영역에서는 각각의 스프레이층에서 분사되어지는 물방울이 서로 충돌하게 되면서 생기는 에너지가 처리하고자 하는 배기가스가 진입되는 방향과 반대방향에서 분사되어지는 하측스프레이에서 분사되는 분사액과 배기가스가 충돌하게 되면서 생기는 에너지에 의하여 분사액과 배기가스와의 접촉하는 면적이 커지게 되는 것이고, 이로 인하여 배기가스 내에 함유되어진 가스상의 물질은 물론 미세한 입자상의 물질도 제거되는 것이다.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 습식전기 이오나이져에서 처리하고자 하는 배기가스를 덕트 인입관으로 유입될 경우에 분사되는 물이 서로 대응되는 방향에서 분사가 이루어짐으로 그 중간영영에서의 충돌에너지로 인하여 접촉면적을 크게 하여 배기가스내에 함유되어진 가스상물질과 입자상물질의 제거효율을 향상토록 한 것이다.

Claims (3)

1. 처리하고자 하는 배기가스가 인입되어지는 인입관과 상기 인입관에서 스프레이에 의하여 1차 처리되어진 가스를 2차 처리하기 위한 탈황탑과 상기 탈황탑에서 미 처리되어진 가스를 이온화 처리를 위한 정전집진부로 이루어지는 것에 있어서, 상기 인입관에는 상측에서 하측으로 분사토록 되는 상측스프레이와 이와 대응되게 하측에서 상측으로 분사토록 되는 하측스프레이가 서로 충돌하는 위치에 설치되어지고, 상기 하측스프레이의 후단에는 축관부를 형성하여 인입관의 입구로 유입된 배기가스가 인입관의 입구와 축관부의 사이에서 어느 정도 머물게 있게 됨을 특징으로 하는 습식전기이오나이져
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