KR100813202B1 - 평판 디스플레이 장치 제조용 장비 및 그 제어 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (5)
- 공정 챔버;상기 공정 챔버에 공급되는 약액을 저장하는 약액 탱크;상기 약액을 상기 약액 탱크로 공급하는 펌프;상기 약액 탱크와 상기 펌프 사이에 설치되어 상기 약액의 통로를 제공하는 다수의 배관들;상기 다수의 배관들을 연결시키는 다수의 연결 부재;상기 다수의 연결 부재들 및/또는 상기 공정 챔버 저면에 설치된 리크 센서; 및상기 리크 센서에서 제공된 신호에 따라 접점들이 개폐되어 상기 펌프의 동작을 제어하는 릴레이를 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 릴레이 및 상기 펌프와 연결되어, 상기 릴레이의 개폐에 따라 상기 펌프의 동작을 제어하는 마그네틱 콘택터를 더 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비.
- 펌프를 동작시켜 다수의 배관들을 통해 약액 탱크로 약액을 공급하고,상기 다수의 배관들을 연결시키는 다수의 연결 부재들에 설치된 리크 센서들로부터 약액의 누출을 감지하고,상기 리크 센서들에 의해 상기 약액의 누출이 미감지되면 릴레이의 접점을 폐쇄하여 상기 펌프를 계속 동작시키고,상기 리크 센서들에 의해 상기 약액의 누출이 감지되면 릴레이의 접점을 개방하여 상기 펌프의 동작을 중단시키는 것을 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비의 제어 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 릴레이의 접점 폐쇄는, 마그네틱 컨택터를 온시켜 상기 펌프를 계속 동작시키는 것을 더 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비의 제어 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 릴레이의 접점 개방은, 마그네틱 컨택터를 오프시켜 상기 펌프의 동작을 중단시키는 것을 더 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 장비의 제어 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060135630A KR100813202B1 (ko) | 2006-12-27 | 2006-12-27 | 평판 디스플레이 장치 제조용 장비 및 그 제어 방법 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060135630A KR100813202B1 (ko) | 2006-12-27 | 2006-12-27 | 평판 디스플레이 장치 제조용 장비 및 그 제어 방법 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040036300A (ko) * | 2002-10-24 | 2004-04-30 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 습식 식각 장치의 리크 감지 기능을 구비한 케미컬순환 시스템 |
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2006
- 2006-12-27 KR KR1020060135630A patent/KR100813202B1/ko active IP Right Grant
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KR20040036300A (ko) * | 2002-10-24 | 2004-04-30 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 습식 식각 장치의 리크 감지 기능을 구비한 케미컬순환 시스템 |
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