KR100804502B1 - Surface Treating and Multi-layer Composite Plating Methods for Preventing Metal Allergy and Multi-layer Composite Plating Structures Thereof - Google Patents

Surface Treating and Multi-layer Composite Plating Methods for Preventing Metal Allergy and Multi-layer Composite Plating Structures Thereof Download PDF

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Abstract

본 발명은 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법 및 그에 따른 다층 복합 도금 구조에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품의 수지재 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금으로 된 하지(substrate) 표면상의 적어도 일부에 구리 도금층을 형성하는 하지 도금층 형성 단계 ; 상기한 하지 도금 층에 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층을 형성하는 중간 도금층으로 금속 알레르지 방지층 형성 단계를 포함하는 표면 처리 ; 상기한 중간 도금층 상에 귀금속 또는 크롬 도금층을 형성하는 다층 복합 도금 방법 및 그에 따른 표면처리 다층 복합 도금 구조가 제공되며, 본 발명의 표면처리 다층 복합 도금 구조는 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품 등의 도금에 사용되는 금속, 특히 니켈이나 코발트 성분과의 피부 접촉에 의해 야기되는 발진, 구진, 가려움증 등의 피부 부작용을 초래하는 금속 알레르기를 효과적으로 방지 내지 예방할 수가 있다.        The present invention relates to a metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method and a multilayer composite plating structure according to the present invention, and according to the present invention, a resin material of a mechanical component, an electronic component, a mechanical electronic component, a portable communication and electronic device, or a portable personal ornament. Or a base plated layer forming step of forming a copper plated layer on at least a portion of the substrate surface of a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy; A surface treatment comprising forming a metal allergy prevention layer as an intermediate plating layer forming a copper-tin alloy plating layer or a copper-tin-zinc alloy plating layer on the base plating layer; Provided is a multi-layered composite plating method for forming a noble metal or chromium plating layer on the intermediate plating layer, and a surface-treated multi-layered composite plating structure according to the present invention. Effectively prevent or prevent metal allergies that cause skin side effects such as rashes, papules and itching caused by skin contact with metals used in plating for portable communications and electronic devices, or portable personal ornaments, in particular nickel or cobalt. There is a number.

금속알레르기, 도금, 귀금속, 크롬, 구리-주석 합금, 구리-주석-아연 합금, 대용 니켈, 니켈프리(Nickel-free)   Metal Allergy, Plating, Precious Metals, Chrome, Copper-Tin Alloy, Copper-Tin-Zinc Alloy, Substitute Nickel, Nickel-Free

Description

금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법 및 그에 따른 다층 복합 도금 구조{Surface Treating and Multi-layer Composite Plating Methods for Preventing Metal Allergy and Multi-layer Composite Plating Structures Thereof}        Surface Treating and Multi-layer Composite Plating Methods for Preventing Metal Allergy and Multi-layer Composite Plating Structures Thereof}

도 1은 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제1 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.        1 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a first embodiment of the present invention to which a surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied.

도 2는 본 발명에 따른 다층 복합 표면처리 도금방법이 적용된 본 발명의 제2 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.2 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a second embodiment of the present invention to which a multilayer composite surface treatment plating method according to the present invention is applied.

도 3은 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제3 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.3 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a third embodiment of the present invention to which a surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied.

도 4는 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제4 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.4 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a fourth embodiment of the present invention to which a surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied.

도 5는 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제5 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.5 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a fifth embodiment of the present invention to which a surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied.

도 6은 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제6 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조를 나타내는 예시 단면도이다.6 is an exemplary cross-sectional view showing a multilayer composite plating structure according to a sixth embodiment of the present invention to which a surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied.

- 도면 중 주요부에 대한 부호의 설명 --Explanation of symbols for the main parts in the drawings-

1,1a,1b,1c,1d,1e: 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금층 구조        1,1a, 1b, 1c, 1d, 1e: Surface treatment multilayer composite plating layer structure according to the present invention

2: 하지(substrate) 3: 구리 도금층        2: substrate 3: copper plating layer

4: 구리-주석 도금층 4a: 구리-주석-아연 도금층        4: copper-tin plated layer 4a: copper-tin-zinc plated layer

5: 전기화학적 표면처리 도금층 6,6a: 귀금속층        5: electrochemical surface treatment plating layer 6,6a: precious metal layer

7: 크롬층        7: chrome layer

본 발명은 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법 및 그에 따른 다층 복합 도금 구조에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품 등의 도금에 사용되는 금속, 특히 니켈이나 코발트 성분과의 피부 접촉에 의해 야기되는 발진, 구진, 가려움증 등의 피부 부작용을 초래하는 금속 알레르기를 효과적으로 방지하기 위한 하지(下地: substrate) 표면처리 다층 복합 도금방법 및 그에 따라 제조되는 다층 복합 도금 구조에 관한 것이다.        The present invention relates to a metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method and a multilayer composite plating structure according to the present invention, and more particularly, plating of mechanical components, electronic components, mechanical electronic components, portable communication and electronic devices, or portable personal ornaments. Substrate surface treatment multilayer composite plating method for effectively preventing metal allergy causing skin side effects such as rash, papule and itching caused by skin contact with metal, especially nickel or cobalt component It relates to a multilayer composite plating structure thus produced.

일반적으로 알레르기란 특정한 외래성 이종물질(抗原, allergen)과 접한 생체(生體)가 그 물질에 대하여 그때까지와는 달리 변화된 반응을 나타내는 현상으로서, 생체는 이종물질에 대하여 이를 항원으로서 인식하여 이 항원에 특이적인 특이적으로 반응하는 항체와 림프구를 생산하는 면역응답을 하게 되며, 상기한 항원에 재차 접하게 되면 다양한 면역반응을 일으키게 된다. 이 면역응답 또는 면역반 응은 생체의 자기 보존을 위한 중요한 방어메커니즘의 하나로서, 통상적으로는 생체에 대한 보호 작용을 하게 되지만 때로는 이 방어메커니즘이 생체에 불리하게 작용하여 장애를 일으키는 경우가 있으며, 이것이 알레르기로서 면역반응에 의해 야기되는 생체의 전신성 또는 국소성 장애로 정의된다.        In general, an allergy is a phenomenon in which a living body that is in contact with a specific foreign heterogeneous substance exhibits a changed response to the substance unlike that until then, and the living body recognizes the heterogeneous substance as an antigen and is specific for this antigen. The immune response is produced to produce antibodies and lymphocytes that specifically react with each other. When the antigen is re-contacted, various immune responses are generated. This immune response or immune response is one of the important defense mechanisms for the self-preservation of the living body, which usually protects the living body, but sometimes this defense mechanism adversely affects the living body and causes disorders. This is defined as the systemic or localized disorder of the body caused by the immune response as an allergy.

한편, 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품 등의 도금에 사용되는 금속, 특히 니켈이나 코발트, 또는 수은 등의 금속 성분은 피부와 접촉하여 발진, 구진, 가려움증 등의 알레르기성 접촉성 피부염을 유발하는 것으로 알려져 있다. 여기서, 특히 광범위하게 문제가 되고 있는 것은 니켈로서 이것은 다양한 알레르기성 접촉성 피부염 증상을 유발하나 일반적인 증상은 가렵고 발진을 유발하며 피부를 두꺼워지게 하고 염증 후에는 색소 침착을 일으키는 경향이 있으며, 심한 경우에는 국소적으로 며칠 가렵다가 가라앉는 것이 아니라 전신 발진과 피부 박리 현상을 보이고, 더욱 심한 경우에는 내부 장기에 증상이 나타나는 경우도 있다.        On the other hand, metals used in the plating of mechanical parts, electronic parts, mechanical and electronic parts, portable communication and electronic devices, or portable personal ornaments, particularly metal components such as nickel, cobalt, or mercury, may come into contact with the skin to cause rashes, papules, It is known to cause allergic contact dermatitis, such as itching. Particularly problematic here is nickel, which causes a variety of allergic contact dermatitis symptoms, but the general symptom is itching, causing a rash, thickening of the skin and a tendency to pigmentation after inflammation. Instead of itching for a few days topically, the system develops rashes and skin peels, and in more severe cases, internal organs.

상기한 금속 알레르기 현상은 피부 부작용에 의한 건강상의 문제뿐만 아니라 다양한 악세서리나 신변 휴대품의 선택에도 제한을 주어 수많은 이들에 불편을 초래하고 있으며, 이러한 금속 알레르기는 일단 한번 나타나면 평생 그 금속을 피하여야만 하고, 의학적 치료에 의해 증상의 완화는 가능하지만 종국적인 완치는 불가능하다.        The above metal allergy phenomenon is not only a health problem due to skin side effects, but also a variety of accessories or personal items to be limited to the choice of causing inconvenience to many people, such a metal allergy once once avoided the metal, Medical treatment can relieve symptoms, but ultimate cure is not possible.

이러한 금속 알레르기 현상은 생체가 특정한 금속 성분과 접촉하여 항체에 의한 T 세포계의 작용에 의한 세포성의 지연형 면역 반응으로서 골수에 있는 간세 포(幹細胞)에서 분화된 지연형 반응성 T세포(감작(感作) T 림프구)에 의해 유발되는 것으로 알려져 있다.        This metal allergy phenomenon is a delayed-type reactive T cell differentiated from liver cells in bone marrow as a cellular delayed immune response caused by the action of the T cell system by antibodies in contact with a specific metal component (sensitization). T lymphocytes).

근래, 다양한 산업분야의 기계 부품, 전자 부품, 또는 기계전자 부품, 그리고 장식용품이나 신변 휴대품의 최종 표면처리 금속으로서 구리, 니켈, 주석, 아연, 크롬, 납 등을 비롯하여 귀금속 재료인 금, 은, 백금, 루티늄 등이 다양하게 응용되고 있다. 또한 사용 환경에 적합한 기능성 산업 부품을 제작하기 위하여, 우수한 특성을 갖는 단순 금속을 다층 도금하거나 이들을 합금 도금하는 방법이 다양하게 이용되고 있다.        In recent years, as the final surface treatment metals of mechanical parts, electronic parts, or mechanical and electronic parts of various industrial fields, and decorative or personal items, gold, silver, precious metal materials including copper, nickel, tin, zinc, chromium, lead, etc. Platinum, rutinium and the like are widely used. In addition, in order to manufacture a functional industrial part suitable for the use environment, various methods of multi-layer plating or alloy plating of simple metals having excellent characteristics have been used.

그러나 최근 들어 다양한 소재의 부품 조합체인 표면 도금 처리된 휴대용 신변 제품이 급격히 증대됨에 따라 금속 알레르기 유발 금속으로서 특히 문제가 되고 있는 니켈 또는 코발트와의 접촉 빈도 내지 접촉 가능성도 함께 급격히 증대되어 이들 금속에 의한 알레르기성 접촉성 피부염 문제가 심각하게 대두 되고 있으나, 니켈은 도금 시 아름다운 광택과 내식성(耐蝕性)을 지니고 있어 각종 장식용 도금 중에서도 가장 널리 사용되고 있을 뿐만 아니라, 각종 특수강에도 첨가되고, 전기통신기기 재료로서도 광범위하게 사용되며, 합금으로서 자성재료 및 전열재료로도 사용되고, 그 비철합금(非鐵合金)은 기계장치의 구조재로 사용되며, 주화로서도 광범위하게 사용되고 있고, 코발트는 그 합금이 고온에서의 내산화성 및 내식성이 우수하므로 도자기나 유리 등의 착색안료, 도금 원료 등으로 광범위하게 사용되고 있으므로, 이들 금속의 사용은 여전히 증가되는 추세에 있음이 현실이며, 이들 금속으로 인한 금속 알레르기 문제를 극복하기 위한 효과적인 방안은 현재로서는 요원한 것으로 받아들여지고 있다.        Recently, however, as the surface plated portable personal products, which are component combinations of various materials, have rapidly increased, the contact frequency and the possibility of contact with nickel or cobalt, which are particularly problematic as metal allergen metals, have also increased rapidly. Although allergic contact dermatitis is a serious problem, nickel has beautiful luster and corrosion resistance when plating, and is not only the most widely used among various decorative platings, but also added to various special steels, and as a material for telecommunication equipment. Widely used, it is also used as a magnetic material and heat transfer material as an alloy, the non-ferrous alloy is used as a structural material of machinery, and also widely used as a coin, and cobalt has a high oxidation resistance and Excellent corrosion resistance ceramics As it is widely used for coloring pigments such as glass, plating raw materials, etc., the use of these metals is still increasing, and an effective way to overcome the metal allergy problem caused by these metals is currently considered to be a long way. have.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 피부와 직접 접촉되는 제품의 제반 기능과 특성을 유지하면서도 금속 알레르기성 접촉성 피부염을 방지 내지 완화하기 위한 몇몇 방안이 제안되어 있기는 하지만, 이들 방안은 생산성이 열등하게 될 뿐만 아니라 표면의 귀금속 도금층이 상대적으로 매우 두텁게 표면 처리되므로 상당한 정도의 코스트업(cost-up)을 피할 수 없게 된다는 단점이 있다. In order to solve the problems described above, some measures have been proposed to prevent or alleviate metal allergic contact dermatitis while maintaining all functions and characteristics of the product in direct contact with the skin. In addition, since the surface of the precious metal plated surface is relatively very thick, there is a disadvantage that a considerable amount of cost-up cannot be avoided.

따라서 본 발명의 첫 번째 목적은 다양한 산업분야에서 사용되는 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 부품 또는 휴대용 신변 장식품 등의 도금에 광범위하게 사용되는 금속, 특히 니켈이나 코발트 성분에 의한 금속 알레르기를 효과적으로 방지하기 위한 대체 도금으로서의 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(下地: substrate) 표면처리 다층 복합 도금방법을 제공하기 위한 것이다.        Therefore, the first object of the present invention is a metal allergy, in particular nickel or cobalt component metals widely used in plating of mechanical parts, electronic parts, mechanical and electronic parts, portable communication parts or portable personal ornaments used in various industries It is to provide a multi-layer composite plating method for surface treatment of a resin material, or a metal material, especially magnesium or magnesium alloy material as an alternative plating to effectively prevent the.

본 발명의 두 번째 목적은 상기한 첫 번째 목적에 더하여 생산성 저하 및 코스트 업 문제가 심각한 문제로 대두 되지 않는 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지 표면처리 다층 복합 도금방법을 제공하기 위한 것이다.         The second object of the present invention is to provide a method for coating a multilayer surface coating of a base material of a resin material or a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy material, in which a decrease in productivity and cost-up problems are not serious problems in addition to the first object described above. will be.

본 발명의 세 번째 목적은 상기한 첫 번째 및 두 번째 목적에 따라 제조되는 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금(층) 구조(체)를 제공하기 위한 것이다.        A third object of the present invention is to provide a surface treatment multilayer composite plating (layer) structure (body) for metal allergy prevention prepared according to the first and second objects described above.

상기한 본 발명의 첫 번째 및 두 번째 목적을 원활히 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 일 양태(樣態)에 따르면, 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품의 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(substrate) 표면상에 전기화학적 도금층을 형성시키는 단계; 상기한 전기화학적 도금층 표면의 적어도 일부에 구리 도금층을 형성하는 하지 도금층 형성 단계; 상기한 하지 도금층 상에 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층을 형성하는 중간 도금층 형성 단계; 상기한 중간 도금층 상에 귀금속 또는 크롬 도금층을 형성하는 금속 알레르기 방지층 형성 단계를 포함하는 표면처리 다층 복합 도금방법이 제공된다.        According to one preferred aspect of the present invention for smoothly achieving the first and second objects of the present invention described above, a mechanical component, an electronic component, a mechanical electronic component, a portable communication and electronic device, or a portable personal ornament Forming an electrochemical plating layer on a substrate surface of a resin material or a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy material; A base plating layer forming step of forming a copper plating layer on at least a part of the surface of the electrochemical plating layer; An intermediate plating layer forming step of forming a copper-tin alloy plating layer or a copper-tin-zinc alloy plating layer on the base plating layer; Provided is a surface treatment multilayer composite plating method including a metal allergy prevention layer forming step of forming a noble metal or chromium plating layer on the intermediate plating layer.

상기한 본 발명의 세 번째 목적을 원활히 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 일 양태(樣態)에 따르면, 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품의 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(substrate) 표면상의 전기화학적 도금층; 상기한 전기화학적 도금층의 적어도 일부에 형성되는 구리 도금층으로서의 하지 도금층; 상기한 하지 도금층 상에 형성되는 중간 도금층으로서의 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층; 상기한 중간 도금층 상에 형성되는 금속 알레르기 방지층으로서의 귀금속 또는 크롬 도금층으로 구성되는 표면처리 다층 복합 도금 구조가 제공된다.        According to one preferred aspect of the present invention for smoothly achieving the third object of the present invention, a resin material of a mechanical part, an electronic part, a mechanical electronic part, a portable communication and electronic device, or a portable personal ornament, Or an electrochemical plating layer on the substrate surface of a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy material; A base plated layer as a copper plated layer formed on at least part of said electrochemical plated layer; A copper-tin alloy plating layer or a copper-tin-zinc alloy plating layer as an intermediate plating layer formed on the base plating layer described above; A surface treatment multilayer composite plating structure composed of a noble metal or a chromium plating layer as the metal allergy prevention layer formed on the intermediate plating layer is provided.

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이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다.        Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금 방법은 플라스틱류와 같은 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재로 된 하지상에 전기화학적 도금층을 형성시키고, 이어서 상기한 전기화학적 도금층상에 하지 도금층으로서 구리 도금층을 선 형성시킨 다음, 상기 구리 도금층 상면에 금속 알레르기의 주요 원인이 되는 니켈 및 니켈 합금, 또는 코발트 및 코발트 합금 대신에, 중간 도금층으로서 구리-주석 합금 또는 구리-주석-아연 합금층을 형성시킨 다음, 다시 그 표면상에 금속 알레르기 방지 도금층으로서 귀금속 도금층, 크롬 도금층, 또는 귀금속과 크롬의 다층 도금층을 형성하는 것으로 이루어진다.        In the metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method of the present invention, an electrochemical plating layer is formed on a resin material such as plastics, or a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy material, and then on the electrochemical plating layer. A copper plating layer was pre-formed as a plating layer, and then a copper-tin alloy or copper-tin-zinc alloy layer as an intermediate plating layer instead of nickel and nickel alloys or cobalt and cobalt alloys as the main cause of metal allergy on the upper surface of the copper plating layer. And then form a noble metal plating layer, a chromium plating layer, or a multilayer plating layer of noble metal and chromium on the surface thereof as a metal allergy prevention plating layer.

보다 구체적으로는, 본 발명에 따른 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.        More specifically, the metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention will be described.

(A) 표면이 전해 탈지 또는 에칭 처리된 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품의 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(substrate)를 제공하는 단계;        (A) Providing resin or metal materials, especially magnesium or magnesium alloy substrates of mechanical parts, electronic parts, mechanical and electronic parts, portable communications and electronics, or portable personal ornaments whose surfaces are electrolytically degreased or etched. Making;

(B) 후술하는 하지 도금층의 밀착성 및 균일성 향상을 위하여 균일한 전류 분포를 갖도록 함으로써 침식이 없는 균일한 하지 도금층이 형성되도록 하기 위하여 상기한 하지 표면에 전기화학 도금층을 형성하는 전처리 단계;        (B) a pretreatment step of forming an electrochemical plating layer on the surface of the substrate to form a uniform substrate plating layer without erosion by having a uniform current distribution to improve adhesion and uniformity of the substrate plating layer to be described later;

(C) 상기한 전기화학 도금층의 적어도 일부 표면에 경면 광택성과 평활성을 부여하며 다양한 하지 소재에 균일한 금속 특성을 부여하기 위한 하지 도금층으로서의 구리 도금층, 귀금속 도금층, 또는 이들의 합금층을 형성하는 하지 도금층 형성 단계;         (C) a base for forming a copper plating layer, a noble metal plating layer, or an alloy layer thereof as a base plating layer for imparting specular glossiness and smoothness to at least part of the surface of the electrochemical plating layer and imparting uniform metal properties to various base materials. Plating layer forming step;

(D) 내마모성, 내산성, 내부식성을 부여하고 상기한 하지 도금층 보다 강고한 표면 경도를 갖도록 상기한 하지 도금층 상에 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층을 형성하는 중간 도금층 형성 단계;         (D) an intermediate plating layer forming step of forming a copper-tin alloy plating layer or a copper-tin-zinc alloy plating layer on the underlying plating layer to impart wear resistance, acid resistance, and corrosion resistance and to have a stronger surface hardness than the above-described underlying plating layer;

(E) 상기한 중간 도금층 상에 다양한 색상과 광택을 부여함과 동시에, 금속 알레르기 방지 가능성을 부여하도록 상기한 중간 도금층 상에 귀금속 및/또는 크롬 도금층을 형성하는 표면층으로서의 금속 알레르기 방지층 형성 단계를 포함한다.        (E) forming a metal allergy prevention layer as a surface layer for forming a noble metal and / or a chromium plating layer on the intermediate plating layer to impart various colors and gloss on the intermediate plating layer, and at the same time to impart the possibility of preventing metal allergy. do.

또한, 선택적으로는 (C) 및/또는 (D) 단계에 있어서의 하지 도금층 및/또는 중간 도금층에 이어서, 레이저 가공, 샌드 블라스팅, 또는 기타 기계적 가공을 수행하는 단계를 더욱 포함할 수도 있다.         Further, optionally, the method may further include a step of performing laser processing, sand blasting, or other mechanical processing following the base plating layer and / or the intermediate plating layer in steps (C) and / or (D).

상기 귀금속 도금층에 사용 가능한 귀금속으로서는 금, 은, 팔라듐, 이리듐, 루티늄, 로듐, 또는 백금 등을 들 수 있다.        As a noble metal which can be used for the said noble metal plating layer, gold, silver, palladium, iridium, rutin, rhodium, platinum, etc. are mentioned.

또한 상기한 (C) 단계에서 형성되는 하지 도금층으로서는 구리 도금층, 귀금속 도금층, 또는 이들의 합금층이 사용될 수 있으나, 본 발명에 있어서 바람직한 것은 비용 측면에서 구리 도금층일 수 있으며, 하지와 중간 도금층 사이에서 기계 적, 물리적, 화학적 완충성을 나타내게 된다.        In addition, a copper plating layer, a noble metal plating layer, or an alloy layer thereof may be used as the base plating layer formed in the above step (C), but the preferred one in the present invention may be a copper plating layer in terms of cost, between the base and the intermediate plating layer. Mechanical, physical and chemical buffering properties.

상기한 (D) 단계에서 형성되는 중간 도금층은 하지에 기본적인 기능성과 장식성을 부여하게 되며, 특히 금속 알레르기에 의한 알레르기성 접촉성 피부염을 현저히 저감시키는 역할을 하게 된다.        The intermediate plating layer formed in the above step (D) imparts basic functionality and decorative properties to the base, and in particular, serves to significantly reduce allergic contact dermatitis caused by metal allergy.

또한 상기한 (E) 단계에서 형성되는 표면층으로서의 금속 알레르기 방지층을 구성하는 귀금속 또는 크롬은 품위 있는 금속광택 또는 고광택성을 각각 부여하게 된다.        In addition, the noble metal or chromium constituting the metal allergy prevention layer as the surface layer formed in the above (E) is to give a fine metallic gloss or high gloss, respectively.

이어서 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다.        Next, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 6은 각각 본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금방법이 적용된 본 발명의 제1 내지 제6 실시예에 따른 다층 복합 도금 구조(1,1a,1b,1c,1d,1e)를 나타내는 예시 단면도이다.        1 to 6 show multilayer composite plating structures 1, 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e according to the first to sixth embodiments of the present invention to which the surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention is applied, respectively. An example cross section.

도 1 내지 도 6에 나타난 바와 같이, 수지재, 또는 금속재, 특히 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(2) 상에 선택적 도금층으로서 전기화학적 표면처리 도금층(5)을 형성하며, 상기한 전기화학적 표면처리 도금층(5) 상에 구리 도금층(3)(귀금속 도금층, 구리 합금 도금층, 귀금속 합금 도금층일 수도 있음)을 형성한 다음, 다시 그 표면상에 구리-주석 합금 도금층(4) 또는 구리-주석-아연 합금 도금층(4a)를 형성하고, 다시 그 표면상에 최종 표면층으로서 귀금속 도금층(6 또는 6a) 또는 크롬 도금층(7)의 어느 하나를 형성하거나, 또는 도 2 및 도 5에 나타낸 바와 같이 귀금속 도금층(6a)과 크롬 도금층(7)을 순차적으로 적층 형성할 수도 있다. 물론, 크롬 도금층(7)을 형성한 후, 다시 그 위에 귀금속 도금층(6a)을 형성할 수 있고, 귀금속 도금층(6a)을 형성한 후, 최종 표면처리로 크롬 도금층(7)을 형성할 수도 있다. 크롬 도금층(7)은 고광택의 우수한 물리적 성질을 갖는 전자부품의 표면처리로서 특히 적합하다.        As shown in Figs. 1 to 6, an electrochemical surface treatment plating layer 5 is formed as a selective plating layer on a base material 2 of a resin material or a metal material, in particular magnesium or magnesium alloy material, and the electrochemical surface treatment plating layer described above. A copper plating layer 3 (which may be a noble metal plating layer, a copper alloy plating layer, or a noble metal alloy plating layer) on (5), and then on the surface thereof, a copper-tin alloy plating layer (4) or a copper-tin-zinc alloy The plating layer 4a is formed, and on the surface thereof, either the precious metal plating layer 6 or 6a or the chrome plating layer 7 is formed as a final surface layer, or as shown in FIGS. 2 and 5, the precious metal plating layer 6a. ) And the chromium plating layer 7 may be sequentially laminated. Of course, after the chrome plating layer 7 is formed, the noble metal plating layer 6a may be formed thereon again, and after the noble metal plating layer 6a is formed, the chrome plating layer 7 may be formed by the final surface treatment. . The chromium plating layer 7 is particularly suitable as the surface treatment of electronic components having high gloss and excellent physical properties.

본 발명에 따른 표면처리 방법에 있어서, 하지 도금층으로서의 구리 도금층(3)의 두께는 일반적으로 1~150㎛, 바람직하게는 3∼60㎛의 범위이고, 상기 하지 도금층(3)의 상면에 형성되는 중간 도금층으로서의 구리-주석 합금 도금층(4) 또는 구리-주석-아연 합금 도금층(4a)의 두께는 일반적으로 0.5~30㎛, 바람직하게는 1∼10㎛의범위이며, 중간 도금층의 상면에 형성되는 귀금속 도금층(6,6a)은 도 1 및 도 4의 경우와 같이 최상 표면층인 경우에는 0.05~5.0㎛, 바람직하게는 0.1∼3.0㎛의 범위이며, 도 2 및 도 5와 같이 최상 표면의 크롬 도금층(7)의 직하층인 경우에는 보다 얇은 두께인 0.005~3.0㎛, 바람직하게는 0.01∼1.0㎛의 범위이다. 한편, 크롬 도금층(7)의 두께는 일반적으로 0.05∼3.0㎛, 바람직하게는 0.1∼3.0㎛, 더욱 바람직하게는 0.1∼1.0㎛의 범위로 할 수 있다.         In the surface treatment method according to the present invention, the thickness of the copper plating layer 3 as the underlying plating layer is generally in the range of 1 to 150 µm, preferably 3 to 60 µm, and is formed on the upper surface of the underlying plating layer 3. The thickness of the copper-tin alloy plating layer 4 or the copper-tin-zinc alloy plating layer 4a as the intermediate plating layer is generally in the range of 0.5 to 30 µm, preferably 1 to 10 µm, and is formed on the upper surface of the intermediate plating layer. The noble metal plating layers 6 and 6a are in the range of 0.05 to 5.0 탆, preferably 0.1 to 3.0 탆 in the case of the top surface layer as in the case of Figs. 1 and 4, and the chromium plating layer of the top surface as shown in Figs. In the case of the direct layer of (7), it is 0.005-3.0 micrometers which is thinner thickness, Preferably it is the range of 0.01-1.0 micrometer. On the other hand, the thickness of the chromium plating layer 7 is generally 0.05 to 3.0 µm, preferably 0.1 to 3.0 µm, and more preferably 0.1 to 1.0 µm.

한편, 도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 하지(2) 상에 침식이 없는 균일한 하지 도금층(3)을 형성하기 위하여 전기화학적 표면처리를 하며, 상기한 전기화학적 표면처리 도금층(5)의 두께는 일반적으로 0.005∼5.0㎛, 바람직하게는 0.01∼1.0㎛의 범위, 더욱 바람직하게는 0.01∼0.3㎛의 범위이다.         On the other hand, as shown in Figures 1 to 3, the electrochemical surface treatment is performed to form a uniform base plating layer (3) without erosion on the base 2, the electrochemical surface treatment plating layer (5) The thickness of is generally in the range of 0.005 to 5.0 m, preferably in the range of 0.01 to 1.0 m, more preferably in the range of 0.01 to 0.3 m.

본 발명에 따른 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층에 있어서, 합금의 성분 비율은 구리:주석=30∼80중량%:70∼20중량%이며, 구리:주석:아연=40∼89중량%:10∼50중량%:1∼10중량%이며, 본 발명에 따른 중간 도금층(4,4a)의 형성을 위한 전류밀도는 0.5∼3A/dm2의 범위이다. In the copper-tin alloy plating layer or the copper-tin-zinc alloy plating layer according to the present invention, the component ratio of the alloy is copper: tin = 30 to 80% by weight: 70 to 20% by weight, and copper: tin: zinc = 40 to 89 weight%: 10-50 weight%: 1-10 weight%, and the current density for formation of the intermediate | middle plating layers 4 and 4a which concerns on this invention is the range of 0.5-3 A / dm <2> .

또한 귀금속 도금층(6,6a)은 금, 은, 팔라듐, 이리듐, 루티늄, 로듐 및 백금으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종의 금속을 사용할 수 있으며, 귀금속의 함량은 80∼99.999중량%의 것이 사용될 수 있다. 또한 도 2 및 도 5에서 상기 귀금속 도금층(6a) 위에 최종 표면처리 층으로 형성되는 크롬 도금층(7)의 함량은 80∼99.999중량%의 것이 사용될 수 있다.        In addition, the precious metal plating layers 6 and 6a may use at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, palladium, iridium, rutin, rhodium and platinum, and the content of the precious metal is 80 to 99.9% by weight. Can be. In addition, the content of the chromium plating layer 7 formed as the final surface treatment layer on the noble metal plating layer 6a in FIGS. 2 and 5 may be 80 to 99.9% by weight.

본 발명에 따르면, 구리 도금층(3)은 경면 광택과 평활성을 부여하며, 부품의 기재로 사용되는 다양한 재료에 동일하고도 균질한 특성을 부여한다. 또한 구리 도금층(3)의 상면에 형성되는 구리-주석 합금 도금층(4) 또는 구리-주석-아연 합금 도금층(4a)은 구리 도금층(3)보다 우수한 물리적, 기계적 성질을 갖는 금속 도금층으로서 내마모성, 내산성, 내부식성을 부여하며, 견고한 표면 경도를 나타낼 뿐만 아니라 다시 그 위에 형성되는 귀금속 도금층(6,6a) 및/또는 크롬 도금층(7)을 위한 하지층으로서 우수한 특성을 갖는다.According to the present invention, the copper plating layer 3 imparts mirror gloss and smoothness, and imparts the same and homogeneous properties to various materials used as the substrate of the part. In addition, the copper-tin alloy plating layer 4 or the copper-tin-zinc alloy plating layer 4a formed on the upper surface of the copper plating layer 3 is a metal plating layer having physical and mechanical properties superior to the copper plating layer 3, and is abrasion resistance and acid resistance. , Imparting corrosion resistance, exhibiting a firm surface hardness, and also having excellent properties as a base layer for the noble metal plating layers 6 and 6a and / or the chromium plating layer 7 formed thereon.

도 2 및 도 5에 나타낸 예에서, 귀금속 도금층(6a)은 그 하부의 중간 도금층(4,4a)과, 상기 귀금속 도금층(6a) 상면의 크롬 도금층(7) 계면에서 기계적, 물리적, 화학적 완충성을 가지며, 최종 표면 도금층으로서 사용되는 귀금속 도금층(6) 또는 크롬 도금층(7)은 다양한 색상과 기능성을 갖기 때문에 휴대부품, 기계부품, 가전제품의 장식용 표면처리에 특히 적합하다.        In the example shown in Figs. 2 and 5, the noble metal plating layer 6a is mechanically, physically and chemically buffered at the interface between the lower intermediate plating layers 4 and 4a and the chromium plating layer 7 on the upper surface of the noble metal plating layer 6a. The noble metal plating layer 6 or chromium plating layer 7, which is used as the final surface plating layer, has various colors and functions, and is particularly suitable for decorative surface treatment of portable parts, machine parts, and home appliances.

본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금 방법에 의하면 니켈 및 니켈 합 금, 코발트 및 코발트 합금에 의해 야기되는 피부 알레르기에 의한 알레르기성 접촉성 피부염을 예방 내지 방지할 수 있다.        The surface treatment multilayer composite plating method according to the present invention can prevent or prevent allergic contact dermatitis caused by skin allergy caused by nickel and nickel alloys, cobalt and cobalt alloys.

한편, 본 발명에 따르면 구리-주석 도금층의 성상은 합금 비율에 따라 큰 차이가 나며, 예컨대, 구리 함량이 높을 경우에는 금색 빛깔을 나타내며 경도 및 내마모성이 높아지나 내식성이 열등하게 되며, 또한 온도가 높고 전류 밀도가 높아도 동일한 현상이 나타난다. 반대로 구리 함량이 낮으면 경도 및 내마모성이 열등해 지고 구름이 낀 것 같은 흐린(haze) 상태의 도금이 된다. 따라서 합금의 금속비율은 전술한 바와 같이 구리:주석=30∼80중량%:70∼20중량%, 구리:주석:아연=40∼89중량%:10∼50중량%:1∼10중량%가 바람직할 수 있다.        On the other hand, according to the present invention, the properties of the copper-tin plated layer is greatly different depending on the alloy ratio. For example, when the copper content is high, the color of gold is high, the hardness and abrasion resistance are increased, but the corrosion resistance is inferior, and the temperature is high. The same phenomenon occurs even with a high current density. Conversely, low copper content results in inferior hardness and wear resistance, resulting in a haze-like plating. Therefore, the metal ratio of the alloy is as described above: copper: tin = 30 to 80% by weight: 70 to 20% by weight, copper: tin: zinc = 40 to 89% by weight: 10 to 50% by weight: 1 to 10% by weight. It may be desirable.

본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금 합금에 있어서의 중간 도금층 및 종래의 니켈 합금 도금층에 대한 물리적 특성을 평가한 결과를 하기의 표 1에 나타낸다.        Table 1 shows the results of evaluating the physical properties of the intermediate plating layer and the conventional nickel alloy plating layer in the surface-treated multilayer composite plating alloy according to the present invention.

[표 1]TABLE 1

니켈합금Nickel Alloy 구리-주석 합금Copper-tin alloy 구리-주석-아연 합금Copper-tin-zinc alloy 합금비Alloy ratio 90∼99.990-99.9 30∼80:70∼2030 to 80: 70 to 20 40∼89:10∼50:1∼1040 to 89: 10 to 50: 1 to 10 밀도(g/㎤)Density (g / cm 3) 8.4~9.18.4 ~ 9.1 7.8~8.97.8 ~ 8.9 7.2~8.97.2 ~ 8.9 색상color 백색,연한 회색(광택)White, light gray (glossy) 백색, 연한 아이보리White, light ivory 백색White 경도(MVH)Longitude (MVH) 350∼550350-550 400∼600400-600 350∼550350-550 내식성(S.S.T 72hr)Corrosion Resistance (S.S.T 72hr) 양호Good 좋음good 양호Good 도금두께(㎛)Plating thickness (㎛) 88 55 55

본 발명에 따른 표면처리 다층 복합 도금 합금에 있어서의 전처리 및 각종 도금 처리 조건 및 방법의 구체적인 예를 하기에 예시하나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 필요 및 용도 등의 다양한 파라메타에 따라 당업자라면 본 발명의 영역 내에서 이로부터 적절한 변경이 가능함은 물론이다.         Specific examples of the pretreatment and various plating treatment conditions and methods in the surface treatment multilayer composite plating alloy according to the present invention are illustrated below, but the present invention is not limited thereto, and those skilled in the art according to various parameters such as necessity and use Of course, appropriate changes are possible therefrom within the scope of the present invention.

- 탈지 --Degreasing-

가성소다 10~150g/L, 또는 인산염을 포함하는 화합물 20~100g/L 및 계면활성제.Caustic soda 10-150 g / L, or 20-100 g / L compound containing phosphate and surfactant.

상온~60도, 침적 탈지 또는 3~10V의 전해 탈지와 황산 30~150g/L +첨가제 2초~2분 또는 염산 30~150g/L+첨가제로 구성된 산성 활성화Acid activation consisting of room temperature ~ 60 ° C, deposition degreasing or electrolytic degreasing at 3 ~ 10V and sulfuric acid 30 ~ 150g / L + additive 2 seconds ~ 2 minutes or hydrochloric acid 30 ~ 150g / L + additive

- 연마 --Polishing-

질산10~100g/L, 황산 5~100g/L, 불산 30~80g/L 등을 포함하는 혼산으로 기타 부식 억제제, 안정제, 계면 활성제를 포함하는 용액 침적시간 1초~60초, 상온Mixed acid containing 10 ~ 100g / L nitric acid, 5 ~ 100g / L sulfuric acid, 30 ~ 80g / L hydrofluoric acid, solution deposition time including other corrosion inhibitors, stabilizers, surfactants 1sec ~ 60sec, room temperature

- 에칭 -Etching

롯셀염10~50g/L, 청화소다 30~100g/L를 포함하는 용액에 침적 시간 10~120초, 25~50도Immersion time 10 ~ 120 sec, 25 ~ 50 degree in solution containing 10 ~ 50g / L of loxel salt and 30 ~ 100g / L of blue soda

가성 소다 10~50g/L, 중불화 암모늄 10~50g/L, 옥살산 5~40g/L 를 포함하는 용액 1분~5분 침적, 작업 온도 40~70도 Caustic soda 10-50g / L, ammonium bifluoride 10-50g / L, solution containing 5-40g / L oxalic acid, 1-5 minutes deposition, working temperature 40-70 degrees

- 청화동 도금 --Tonghua Copper Plating-

[표 2]TABLE 2

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time pHpH CuCN+NaCN(KCN)+NaOH(KOH) +첨가제CuCN + NaCN (KCN) + NaOH (KOH) + Additive 40~6040-60 2~10V2 ~ 10V 10초~30초 또는 3분~10분10 to 30 seconds or 3 to 10 minutes 11~13.511-13.5

- 유산동 도금 --Acid Copper Plating-

[표 3]TABLE 3

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time pHpH CuSO4(150~240g/L)+H2SO4(30~80g/L)+Cl(20~ 200ppm)+첨가제CuSO 4 (150 ~ 240g / L) + H 2 SO 4 (30 ~ 80g / L) + Cl (20 ~ 200ppm) + Additive 15~3515-35 2~5V2-5V 10~50분10-50 minutes 2이하2 or less

- Sn-Cu 합금 도금(2원 합금 도금)또는 Sn-Cu-Zn 합금 도금(3원 합금 도금) -Sn-Cu alloy plating (binary alloy plating) or Sn-Cu-Zn alloy plating (ternary alloy plating)

[표 4]TABLE 4

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time pHpH CuCN(5~15g/L)+K2[Sn(OH)6](5~40g/L) +가성소다(2~50g/L) +가성가리(10~150g/L)+첨가제CuCN (5 ~ 15g / L) + K 2 [Sn (OH) 6 ] (5 ~ 40g / L) + Caustic Soda (2 ~ 50g / L) + Caustic (10 ~ 150g / L) + Additive 40~6540-65 1~6V1 ~ 6V 3~30분3-30 minutes 12이상12 or more

[표 5]TABLE 5

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time pHpH CuCN(5~15g/L)+K2[Sn(OH)6](5~40g/L)+청화아연(1~20g/L)+가성소다(2~50g/L) +가성가리(10~150g/L)+첨가제CuCN (5 ~ 15g / L) + K 2 [Sn (OH) 6 ] (5 ~ 40g / L) + Cyanated Zinc (1 ~ 20g / L) + Caustic Soda (2 ~ 50g / L) + Caustic (10 ~ 150 g / L) + additive 40~6540-65 1~6V1 ~ 6V 3~30분3-30 minutes 12이상12 or more

- 귀금속 도금 --Precious Metal Plating-

[표 6]TABLE 6

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time Ag, Au, Pt, Pd, Ru, Rh, Ir 등을 포함하는 용액Solutions containing Ag, Au, Pt, Pd, Ru, Rh, Ir, etc. 10~6010-60 1~6V1 ~ 6V 3~10분3 ~ 10 minutes

- 크롬 도금 --Chrome Plating-

[표 7]TABLE 7

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time Cr을 포함함는 염+첨가제Salts and additives containing Cr 10~6010-60 3~8V3 ~ 8V 1~8분1-8 minutes

- Sn-Cu-Zn 합금 도금(3원 합금 도금) -Sn-Cu-Zn Alloy Plating

[표 8]TABLE 8

온도Temperature 전압Voltage 통전시간Energization time pHpH Cu염(5~15g/L)+주석염(5~40g/L)+Zn(1~8g/L)첨가제Cu salt (5-15 g / L) + tin salt (5-40 g / L) + Zn (1-8 g / L) additive 40~6540-65 1~6V1 ~ 6V 3~30분3-30 minutes 12이상12 or more

- 레이저 가공 -Laser processing

각 소재별 2원 합금 및 3원 합금 도금 후 적용 가능.Applicable after plating binary and tertiary alloys for each material.

- 전기화학적 표면 처리 도금층 --Electrochemical Surface Treatment Plating Layer-

하지가 마그네슘이나 그 합금인 경우 당업계 공지의 아연 등과 같은 금속 이온의 치환 처리를 의미하며, 하지가 수지재인 경우 당업계 공지의 표면 활성화 처리를 의미한다.When the base is magnesium or an alloy thereof, it means a substitution treatment of metal ions such as zinc known in the art, and when the base is a resin material, it means surface activation treatment known in the art.

이러한 전기화학적 표면처리 도금중 하나인 금속이온 치환, 특히 아연 치환은 후속하는 전해도금, 특히 동 도금을 위한 균일한 표면 전류 분포를 갖도록 하기 위한 전기 도금용 사전 피막으로서, ZnSO4계 용액을 이용하여 수행되며, 예컨대, 일본 딥솔사 제, 모델명 20000EA 또는 20000EA 등을 이용하여 수행될 수 있으며, 다른 하나인 활성화 처리는 Na4P2O7를 주제로 하는 다양한 활성 처리액을 이용하여 수행될 수 있다.One of these electrochemical surface treatment platings, metal ion substitution, in particular zinc substitution, is a precoat for electroplating to have a uniform surface current distribution for subsequent electroplating, in particular copper plating, using ZnSO 4 based solutions. For example, it may be performed using, for example, Japan DeepSol Corporation, model name 20000EA or 20000EA, and the other activation treatment may be performed using various active treatment liquids based on Na 4 P 2 O 7 . .

- 도금 공정 -Plating Process

[표 9]TABLE 9

소재로서 알루미늄, 마그네슘, 아연, 플라스틱, 철 등의 경우In case of aluminum, magnesium, zinc, plastic, iron, etc.

철 및 철 합금Iron and iron alloy 알루미늄 및 알루미늄 합금Aluminum and aluminum alloy 아연 및 아연 합금Zinc and zinc alloy 마그네슘 및 마그네슘 합금Magnesium and magnesium alloy Plastic등의 수지 류Resin such as plastic 동 및 동합금Copper and Copper Alloy 공정fair 탈지Degreasing 탈지Degreasing 탈지Degreasing 탈지Degreasing 탈지Degreasing 탈지Degreasing 산세Pickling 에칭etching 연마grinding 에칭etching 에칭etching 산세Pickling 전해탈지Electrolytic degreasing (아연)치환(Zinc) Substitution 산세Pickling (아연)치환(Zinc) Substitution 중화Chinese copper 동 도금Copper plating (니켈)(nickel) copper copper 촉매catalyst 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys copper 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys 활성화Activation (귀금속)(Precious metals) (귀금속)(Precious metals) 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys (귀금속)(Precious metals) (귀금속)(Precious metals) (니켈(동))(Nickel) Cr 도금Cr plating Cr 도금Cr plating (귀금속)(Precious metals) Cr 도금Cr plating Cr 도금Cr plating copper Cr 도금Cr plating 2원 합금 또는 3원 합금Binary or ternary alloys (귀금속)(Precious metals) Cr 도금Cr plating

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 하나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것일 뿐, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.        Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, which are intended to illustrate the present invention but are not intended to limit the present invention.

실시예 1 Example 1

전해 탈지 처리된 치수 20x20x0.2cm의 평판상 아연 합금 하지상에 탈지 및 에칭 공정 후 표 2에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 청화동 도금을 수행하고 다시 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 30㎛로 형성시킨 후, 표 4에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석 합금 도금층을 3㎛ 두께 형성하고, 다시 크롬 도금층을 표 6에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.5㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.         After degreasing and etching on a plate-shaped zinc alloy substrate having a size of 20x20x0.2 cm, subjected to electrolytic degreasing, the copper plating was carried out under the compositions and conditions as shown in Table 2, and then plated copper lactate under the compositions and conditions as shown in Table 3. After the copper plating layer was formed to have a thickness of 30 μm, the copper-tin alloy plating layer was formed to have a thickness of 3 μm under the composition and conditions as shown in Table 4, and the chrome plated layer was 0.5 μm under the conditions as shown in Table 6 again. A composite multilayer plating structure formed to a thickness was formed.

실시예 2Example 2

전해 탈지 및 표면 엣칭 처리된 치수 20x20x0.2cm의 마그네슘 합금 하지상에 일본 딥솔사 제, 모델명 20000EA을 이용하여 65~75℃에서 전기화학적 표면처리 도금층을 0.2㎛ 두께로 형성시킨 다음, 표 2에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 청화동 도금을 수행하고 다시 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 30㎛로 형성시킨 후, 표 4에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석 합금 도금층을 3㎛ 두께 형성하고, 다시 팔라듐 도금층을 표 6에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.2㎛ 두께로 형성시킨 후, 크롬 도금층을 표 7에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.5㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.        An electrochemical surface treatment plating layer was formed to a thickness of 0.2 μm at 65 to 75 ° C. using a Japan DeepSol Corporation model name 20000EA on a 20 × 20 × 0.2 cm sized magnesium alloy substrate subjected to electrolytic degreasing and surface etching, and then shown in Table 2. The copper plating layer was formed under the composition and the conditions as described above, and copper lactate was formed under the composition and the conditions as shown in Table 3 to form a copper plating layer having a thickness of 30 μm, and then the copper under the composition and the conditions as shown in the Table 4 below. A composite multilayer in which a tin alloy plating layer was formed in a thickness of 3 µm, and the palladium plating layer was formed in a thickness of 0.2 µm under the conditions shown in Table 6, and then the chromium plating layer was formed in a thickness of 0.5 µm under the conditions as shown in Table 7. The plating structure was formed.

실시예 3Example 3

전해 탈지 처리된 치수 20x20x0.2cm의 평판상 아크릴 수지재 하지상에 활성화 처리는 Na4P2O7+CH3COONa계 활성 처리액을 이용하여 전기화학적 표면처리 도금층을 1㎛ 두께로 형성시킨 다음, 표 2에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 청화동 도금을 수행하고 다시 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 30㎛로 형성시킨 후, 표 5에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석 합금 도금층을 3㎛ 두께 형성하고, 다시 크롬 도금층을 표 7에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.5㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.The activation treatment on the base acrylic resin substrate of size 20x20x0.2cm which was electrolytic degreasing was performed by forming an electrochemical surface treatment plating layer having a thickness of 1 μm using Na 4 P 2 O 7 + CH 3 COONa-based active treatment solution. , Copper plating layer was carried out under the compositions and conditions as shown in Table 2 and copper lactate plating under the compositions and conditions as shown in Table 3 to form a copper plating layer having a thickness of 30 μm, and then as shown in Table 5 A copper-tin alloy plating layer was formed to have a thickness of 3 µm under the composition and conditions, and a composite multilayer plating structure in which the chromium plating layer was formed to a thickness of 0.5 µm under the conditions as shown in Table 7 was formed.

실시예 4Example 4

전해 탈지 처리된 치수 20x20x0.2cm의 평판상 철 하지상에 표 2에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 청화동 도금을 수행하고 다시 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 50㎛로 형성시킨 후, 표 8에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석-아연 합금 도금층을 3㎛ 두께 형성하고, 다시 금 도금층을 표 6에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.2㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.         The copper plating layer was formed by electrolytic degreasing on a flat iron substrate having a size of 20x20x0.2 cm under the composition and conditions as shown in Table 2 and copper lactate plating under the composition and conditions as shown in Table 3. After the thickness was formed to 50 mu m, the copper-tin-zinc alloy plated layer was formed to have a thickness of 3 mu m under the composition and conditions as shown in Table 8, and the gold plated layer was further formed to a thickness of 0.2 mu m under the conditions as shown in Table 6. A composite multilayer plating structure was formed.

실시예 5Example 5

전해 탈지 및 표면 엣칭 처리된 치수 20x20x0.2cm의 아연 합금 하지상에 표 2에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 청화동 도금을 수행하고 다시 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 40㎛로 형성시킨 후, 표 8에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석-아연 합금 도금층을 5㎛ 두께 형성하고, 다시 팔라듐 도금층을 표 6에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.2㎛ 두께로 형성시킨 후, 크롬 도금층을 표 7에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.7㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.        Copper plating on electrolytic degreasing and surface etched zinc alloy bases with dimensions 20x20x0.2 cm was carried out under compositions and conditions as shown in Table 2 and copper lactate plating under compositions and conditions as shown in Table 3 After the plated layer was formed to a thickness of 40 μm, a copper-tin-zinc alloy plated layer was formed to have a thickness of 5 μm under the compositions and conditions as shown in Table 8, and the palladium plated layer was then to a thickness of 0.2 μm under the conditions shown in Table 6. After the formation, the composite multilayer plating structure in which the chromium plating layer was formed to a thickness of 0.7 mu m under the conditions as shown in Table 7 was formed.

실시예 6Example 6

전해 탈지 처리된 치수 20x20x0.2cm의 평판상 구리 하지상에 표 3에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 유산동 도금을 수행하여 구리 도금층을 두께 10㎛로 형성시킨 후, 표 8에 나타낸 바와 같은 조성 및 조건 하에 구리-주석-아연 합금 도금층을 5㎛ 두께 형성하고, 다시 크롬 도금층을 표 7에 나타낸 바와 같은 조건으로 0.5㎛ 두께로 형성시킨 복합 다층 도금 구조체를 형성하였다.        The copper plating layer was formed to a thickness of 10 탆 by performing copper plating on the plated copper substrate having a size of 20x20x0.2cm and electrolytic degreasing under the composition and conditions as shown in Table 3, and then the composition and conditions as shown in Table 8 A copper-tin-zinc alloy plating layer was formed under 5 mu m thick, and then a composite multilayer plating structure was formed in which a chromium plating layer was formed with a thickness of 0.5 mu m under the conditions as shown in Table 7.

시험예 - 금속 알레르기 테스트Test Example-Metal Allergy Test

상기 실시예 1 내지 6에 따라 제조된 도금편(1cm x 2cm x 0.5mm 시편)의 금 속 알레르기성 접촉성 피부염의 원인 항원 여부를 판정하기 위하여 첩포검사(貼布檢査, patch test)를 수행하였으며, 이 검사는 첩포검사용 반창고의 린트포(布)위에 상기한 도금편을 부착한 상태로 팔 하박부에 부착, 고정시켰다가 4시간 경과 후 떼어내서 판정하였다. A patch test was performed to determine whether the plating antigen (1 cm x 2 cm x 0.5 mm specimen) prepared according to Examples 1 to 6 was the causative antigen of metal allergic contact dermatitis. This test was judged by attaching and fixing the lower plate of the arm on the lint of the bandage for patch inspection and fixing it after 4 hours.

니켈 접촉성 알레르기 양성인 성인남녀 30명을 수행하고 육안으로 피부상태 변화를 판독하였으며, 그 결과를 표 10에 나타낸다.        Thirty adult men and women who were positive nickel contact allergy were performed and the skin condition was visually read and the results are shown in Table 10.

[표 10]TABLE 10

제품 product 판정결과Judgment result 자극도 Stimulus AA BB CC DD 실시예 1Example 1 3030 2626 33 1One 0.160.16 실시예 2Example 2 3030 2222 66 1One 0.330.33 실시예 3Example 3 3030 2626 22 22 0.190.19 실시예 4Example 4 3030 2727 33 1One 0.100.10 실시예 5Example 5 3030 2424 44 22 0.250.25 실시예 6Example 6 3030 2222 66 1One 0.330.33

* 판정표* Judgment Table

A: 홍반이나 특이한 현상없음A: No erythema or unusual symptoms

B: 주위보다 약간 붉어짐B: Slightly redder than the surroundings

C: 주위보다 현저히 붉어짐C: noticeably redder than the surroundings

D: 주위보다 심하게 붉어지고 부풀음D: Severe reddening and swelling

[수학식 1][Equation 1]

(B수x1)+(C수x2)+(D수x3)               (Number B1) + (Number C2) + (Number D3)

자극도 = --------------------------------Stimulus = --------------------------------

(B수x1)+(C수x2)+(D수x3)+A수            (Number B1) + (Number C2) + (Number D3) + A Number

상기 금속 알레르기에 의한 자극성 시험결과에서 알 수 있는 바와 같이, 니켈이나 코발트를 전혀 포함하지 않으며 금속 알레르기 방지 표면층을 갖는 본 발명의 실시예 1 내지 실시예 6에 따른 표면처리 다층 복합 도금 구조는 니켈 알레르기를 나타내는 사람에 있어서도 거의 금속 알레르기를 나타내지 않는 것으로 판명되었다.        As can be seen from the irritation test result of the metal allergy, the surface treatment multilayer composite plating structure according to Examples 1 to 6 of the present invention, which does not contain nickel or cobalt and has a metal allergy prevention surface layer, is nickel allergy. It was found that even those who exhibited almost no allergic to metals.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법에 따른 다층 복합 도금 구조(체)는 금속 알레르기 유발 금속 성분인 니켈이나 코발트 도금 대신에 다양한 산업분야에서 사용되는 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 또는 휴대용 신변 장식품 등의 도금에 광범위하게 적용될 수가 있으며, 금속 알레르기성 접촉성 피부염의 예방 및 방지에 효과적임과 더불어, 생산성 저하 및 코스트 업 문제에서도 양호하다는 효과가 있다.        As described above, the multilayer composite plating structure (sieve) according to the metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method of the present invention is a mechanical component, an electronic component used in various industrial fields instead of nickel or cobalt plating, which is a metal allergen causing metal component. It can be widely applied to plating of mechanical, electronic parts, or portable personal ornaments, and is effective in preventing and preventing metal allergic contact dermatitis, and is also effective in reducing productivity and cost-up problems.

Claims (9)

하기의 단계를 포함하는 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법:        Metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method comprising the following steps: (A) 기계부품, 전자부품, 기계전자부품, 휴대용 통신 및 전자기기, 또는 휴대용 신변 장식품의 수지재, 또는 마그네슘이나 마그네슘 합금재의 하지(substrate) 표면에 전기화학적 표면처리를 수행하여 두께 0.01∼1.0㎛의 전기화학 도금층을 형성시키는 전처리 단계;(A) Electrochemical surface treatment on the surface of the resin material of mechanical parts, electronic parts, mechanical and electronic parts, portable communication and electronic devices, or portable personal ornaments, or of the substrate of magnesium or magnesium alloy, to a thickness of 0.01 to 1.0. A pretreatment step of forming an electrochemical plating layer of μm; (B) 상기한 전기화학 도금층의 적어도 일부 표면상에 구리, 귀금속, 또는 이들의 합금으로 된 도금층을 형성하는 하지 도금층 형성 단계; (B) a base plating layer forming step of forming a plating layer of copper, a noble metal, or an alloy thereof on at least part of the surface of the electrochemical plating layer; (C) 상기한 하지 도금층 상에 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층으로 된 금속 알레르기 방지층으로서의 중간 도금층을 형성하는 단계; 및(C) forming an intermediate plating layer as a metal allergy prevention layer of a copper-tin alloy plating layer or a copper-tin-zinc alloy plating layer on said base plating layer; And (D) 상기한 중간 도금층 상에 귀금속 또는 크롬 도금층을 형성하는 단계.(D) forming a noble metal or chromium plating layer on the intermediate plating layer. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기한 하지 도금층 형성 단계 또는 중간 도금층 형성 단계 직후에 레이저 가공, 샌드 블라스팅, 또는 기계적 표면 가공 단계를 더욱 수행하는 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법.        The surface treatment multilayer composite plating method of claim 1, further comprising performing a laser processing, sand blasting, or a mechanical surface processing step immediately after the base plating layer forming step or the intermediate plating layer forming step. 제1항에 있어서, 상기 귀금속 도금층이 금, 은, 팔라듐, 이리듐, 루티늄, 로듐 및 백금으로 이루어지는 군(群)으로부터 선택되는 적어도 1종의 귀금속으로 형성되는 도금층인 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법.        The surface treatment multilayer composite according to claim 1, wherein the precious metal plating layer is a plating layer formed of at least one precious metal selected from the group consisting of gold, silver, palladium, iridium, rutin, rhodium and platinum. Plating method. 제1항에 있어서, 하지 도금층의 두께는 3∼60㎛, 중간 도금층으로서의 구리-주석 합금 도금층 또는 구리-주석-아연 합금 도금층의 두께는 1∼10㎛, 귀금속 도금층 또는 크롬 도금층의 두께는 0.1∼3.0㎛인 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법.        The thickness of the base plating layer is 3 to 60 µm, the thickness of the copper-tin alloy plating layer or the copper-tin-zinc alloy plating layer as the intermediate plating layer is 1 to 10 µm, and the thickness of the noble metal plating layer or the chromium plating layer is 0.1 to 1. Surface treatment multilayer composite plating method for metal allergy prevention of 3.0㎛. 제5항에 있어서, 귀금속 도금층과 크롬 도금층을 모두 포함하며, 귀금속 도금층의 두께는 0.01∼1.0㎛, 크롬 도금층의 두께는 0.1∼1.0㎛인 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법.        The method of claim 5, wherein both the precious metal plating layer and the chromium plating layer are included, the thickness of the precious metal plating layer is 0.01-1.0 탆, and the thickness of the chromium plating layer is 0.1-1.0 탆. 제1항에 있어서, 상기 중간 도금층이 구리-주석 합금 도금층인 경우 합금 비율은 구리:주석= 30∼80중량%:70∼20중량%이고, 구리-주석-아연 합금 도금층인 경우 합금 비율은 구리:주석:아연= 40∼89중량%:10∼50중량%:1∼10중량%인 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법.        The alloy ratio of claim 1, wherein the alloy ratio is copper: tin = 30 to 80% by weight: 70 to 20% by weight when the intermediate plating layer is a copper-tin alloy plating layer, and the alloy ratio is copper to a copper-tin-zinc alloy plating layer. : Tin: Zinc = 40-89 weight%: 10-50 weight%: 1-10 weight% The surface treatment multilayer composite plating method for metal allergy prevention. 삭제delete 상기한 제1항 또는 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금방법에 의하여 제조되는 금속 알레르기 방지용 표면처리 다층 복합 도금 구조.        A metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating structure manufactured by the metal allergy prevention surface treatment multilayer composite plating method according to any one of the preceding claims.
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