KR100789974B1 - 단일 모드 광섬유 및 단일 모드 광섬유의 제조 방법 - Google Patents

단일 모드 광섬유 및 단일 모드 광섬유의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광전도 코어부(4), 이 코어부(4)를 피복하는 내부 클래딩부(3), 이 내부 클래딩부(3)를 피복하는 자켓부(1)를 구비하고, 코어부의 굴절률은 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률 보다 크며, 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률은 실제적으로 동일한 단일 모드 광섬유의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

단일 모드 광섬유 및 단일 모드 광섬유의 제조 방법{SINGLE MODE OPTICAL FIBRE, AND METHOD FOR THE MANUFACTURE OF A SINGLE MODE OPTICAL FIBRE}
본 발명은 광전도(light-conductive) 코어부, 상기 코어부를 피복하는 내부 클래딩부 및 상기 내부 클래딩부를 피복하는 자켓부를 구비하는 단일 모드 광섬유를 제조하는 방법에 관한 것으로, 이 광섬유에서 코어부의 굴절률은 상기 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률 보다 크고, 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률은 실제적으로 동일하다. 본 발명의 방법에 따르면, 자켓부로 사용되는 실리카 모재 튜브에 내부적으로 하나 이상의 반응 가스를 흘려보내서 내부 클래딩 부분과 코어부를 각각 형성한 후, 그에 따라 여러층을 갖는 모재 튜브를 찌그러뜨려서 단일 모드 광섬유로 뽑아낸다. 또한, 본 발명은 광전도 코어부, 코어부를 피복하는 내부 클래딩부 및 내부 클래딩부를 피복하는 자켓부를 포함하는 단일 모드 광섬유에 관한 것이다.
이러한 방식의 광섬유는 공지된 것으로, 주로 원격 통신 기술 분야에 적용된다. 예를 들면, 유럽 특허 출원 제0 127 227호, 미국 특허 제5,242,476호 및 미국 특허 제5,838,866호를 참조하라. 본 명세서에 사용된 '단일 모드'란 용어는 당업자들에게 일반적으로 공지된 것이므로 여기에서 추가로 설명할 필요는 없다. 이러 한 광섬유는 그 특징적인 낮은 (광)손실 및 분산 때문에 종종 수천 킬로미터에 이르는 장거리 데이터 링크의 형성에 특히 적합하다. 그러한 상당한 거리 이상에서 광섬유는, 만일 광신호가 소수의 중간 증폭 스테이션을 통해 전송되는 경우, 광섬유에서의 누적 신호 손실이 최소로 유지되는 것이 중요하다. 보편적으로 채용되는 1550 nm의 전송 파장에서, 원격 통신 산업에서는 그러한 광섬유에서의 총 손실이 0.25dB/km, 바람직하게는 0.2dB/km를 초과하지 않는 것을 통상적으로 요구한다.
현재 생산되고 있는 광섬유들이 허용 가능한 손실과 관련하여 그러한 필요 조건 모두를 만족시킨다 할지라도, 그럼에도 불구하고, 시간의 경과후, 동일한 광섬유들이 상당한 손실의 증가를 나타내는 것이 관찰되곤 한다. 광범위한 조사로부터 이러한 현상은 주변으로부터 광섬유 내로 수소 가스가 점진적으로 침투되고, 그 결과 광섬유 내에 SiH와 SiOH 같은 기(基;group)의 형성에 기인하는 것으로 밝혀졌다. 이들 화합물은 약 1530 nm와 1385 nm의 파장에서 손실 피크를 가지며 강력한 적외선 흡수능을 나타낸다.
그러한 수소 유입 손실의 문제점을 해결하기 위한 해법이 유럽 특허 출원 제0 477 435호로부터 공지되어 있다. 공보에 개시된 방법에서, 광섬유내의 모든 구조적인 결함 부분들이 광섬유의 실제적인 완성에 앞서 이미 수소 원자에 노출되었음을 확실히 하기 위해 광섬유의 제조 과정중에 용융 상태의 광섬유를 수소 함유 가스에 상당 정도 노출시킨다. 그러나, 이 공지된 방법의 단점은 수소 유입에 의한 손실의 증상만을 언급할 뿐 그 원인에 대한 설명은 없다는 것이다. 더욱이, 이 공지된 조치는 제조 공정을 상당히 복잡하게 하며, 사용되는 수소 함유 가스에 의 한 광섬유 제품의 오염이라는 추가적인 위험을 가져온다.
광섬유 제조 방법에 관한 미국 특허 제5,090,979호로부터 알려진 바에 따르면, 순수 실리콘 이산화물의 코어부, 불소 도핑된 실리콘 이산화물의 외부층, 불소 도핑된 실리콘 이산화물의 모재층, 순수 실리콘 이산화물의 캐리어층으로 구성되고, 코어부의 굴절률은 실제적으로 캐리어층과 동일하다.
다중 모드 방식의 광섬유에 관한 미국 특허 제5,033,815호로부터 알려진 바에 따르면, 이 광섬유는 본 발명의 단일 모드 광섬유와는 실질적으로 상이하다. 더욱이, 상기 공보로부터 공지된 다중 모드 광섬유는 GeO2 또는 Sb2O3가 도핑된 코어부, 불소 도핑된 클래딩부, 가능하게는 TiO2 도핑된 자켓부를 포함하며, 코어부의 굴절률은 클래딩부와 자켓부 영역에서 보다 크고, 자켓부의 굴절률은 클래딩부에서 보다 실질적으로 작으며, 굴절률 프로파일은 본 발명의 그것과 실질적으로 상이하다. 상기 공보로부터는 축방향 압축 응력에 대한 데이터를 알 수 없다.
분산-보상 광섬유에 관한 유럽 특허 출원 제0 762 159호로부터 알려진 바에 따르면, 10 mol% 이상의 GeO2를 갖는 코어부 및 클래딩부를 구비하며, 클래딩부는 불소 도핑된 제1 클래딩부, 염소 도핑된 제2 클래딩부, 염소 또는 불소 도핑된 제3 클래딩부로 구성되어 있다. 제3 클래딩부의 도핑은 인발(drawing)시의 유리 점성이 순수 실리콘 이산화물의 그것 보다 낮게 하여 비교적 저온에서도 인발을 행할 수 있도록 선택된다. 이 출원으로부터는 축방향 압축 응력에 대한 데이터는 알 수 없다.
그러므로, 본 발명의 목적은 1550 nm의 파장에서의 수소 유입에 의한 손실을 크게 낮게 하여 상기 파장에서의 총 손실이 0.25dB/km, 바람직하게는 0.2dB/km를 초과하지 않도록 보장하는 단일 모드 광섬유의 제조 방법을 제공하는 것이다.
서두에서 언급한 바와 같이, 본 발명의 단일 모드 광섬유의 제조 방법의 특징이, 내부 클래딩부가 0.1-8.5wt% 범위 내의 불소 도핑부를 갖는 SiO2로 구성되어 코어부가 그 전체 횡단면에 걸쳐 축방향 압축 응력을 받도록 하는데 있기 때문에, 상기 목적은 본 발명에 따라 달성된다.
본 발명의 발명자들은 광섬유 코어부에서의 축방향 압축의 존재가 전술한 결함의 발생을 방지하고, 따라서 수소 유입에 의한 손실을 크게 감소시킨다는 점을 가정하고 있다. 본 발명에 따르면, 광섬유 코어부에서의 축방향 인장(tension)의 존재는 실리콘 이산화물 코어부에서 구조적 결함의 발생을 용이하게 하므로, 광섬유 코어부에서 축방향 압축의 존재는 그러한 결함의 발생을 필연적으로 억제할 것이며, 따라서 수소 유입에 의한 손실을 실질적으로 감소시킬 것이다.
본 발명의 발명자들은 수많은 실험을 수행하였으며, 이 실험에서 모재 튜브의 내부면에 실리콘 산화물의 내부 클래딩부를 후속으로 제공하는 것에 의해 예비 성형체(preform)를 제조하였으며, 이때, 클래딩부는 불소 도핑부와 실리콘 산화물의 제2 도핑층을 갖는 SiO2로 구성되며, 이 제2 도핑층은 내부 클래딩부의 굴절률 보다 크고 광섬유의 최종 코어부를 형성하는 것이다. 이에 따라 코어부와 내부 클 래딩부를 구비한 모재 튜브는 후속으로 열을 가해 붕괴 공정(collapse procesure)을 거쳐 봉(rod)을 형성하며, 이 봉은 용융 상태의 말단부중 하나에서 소망의 광섬유로 인발된다.
본 발명에서 내부 클래딩부는 0.1-8.5wt%, 바람직하게는 0.2-2.0wt% 범위내에서 불소를 도핑하는 것이 바람직하다. 불소 도핑을 8.5wt% 이상으로 하는 것은 그러한 층의 증착에 문제점들이 생길 것이기 때문에 바람직하지 않다. 0.1wt% 미만의 불소 도핑은 코어부에서의 요구되는 축방향 압축 응력에 대해 주목할만한 결과를 내지 않는다. 최대 도핑량인 2.0wt%는 매우 적은 감쇠 손실을 요한다면 특히 바람직하며, 이 감쇠 손실은 레일리 산란(Rayleigh scattering)의 증가에 의해 악영향을 미친다. 실험으로부터 알 수 있는 사실은 내부 클래딩부의 일부가 광섬유의 코어부 내부로 전송되는 빛의 광로(光路)로서도 기능한다는 점이었다.
내부 클래딩부에 불소 도핑부를 적용하는 것은 이 층의 굴절률의 감소를 가져온다. 자켓부 영역에서의 굴절률과 실제적으로 동일한 이렇게 감소된 굴절률의 조절을 위해, 내부 클래딩부에는 예컨대, P2O5, TiO2, ZrO2, SnO2, GeO2, N 또는 Al2O3, 또는 이들 성분중 하나 이상의 조합과 같은 소위 굴절 증가 도핑 물질이 포함된다.
본 발명의 방법의 특정 실시예에서, 자켓부와 내부 클래딩부 사이에 버퍼층을 삽입하는 것이 특히 바람직한데, 이 버퍼층은 코어부의 굴절률 보다 작은 굴절률을 가지며, 클래딩부와 자켓부의 굴절률과 실제적으로 동일하다.
이러한 버퍼층은 자켓부의 광학적 품질이 낮은 경우에 특히 필요하며, 광학적 품질이 낮다는 것은 자켓부에 불순물이 함유되어 있음을 의미하는 것이다. 예비 성형체의 제조를 위한 붕괴 공정과 이에 후속하여 예비 성형체로부터 광섬유를 인발하는 공정을 위한 연속적인 열처리 공정에서, 그러한 불순물은 광섬유의 광전도부(light-conductive part)로 확산될 것이며, 그 결과 손실 증가가 발생한다. 버퍼층의 적용은 따라서 광섬유의 광전도부에 불순물이 끼는 것을 방지한다.
본 발명의 방법의 특별한 실시예에서, 코어부와 내부 클래딩부 사이에 중간층을 삽입하는 것도 바람직하다. 이 중간층은 코어부의 굴절률 보다 낮고 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는다.
단일 모드 광섬유에서 광전도(light conduction)는 코어부를 직접 피복하는 층에서 부분적으로 일어난다. 이 층이 도핑이 많이 되어 있다면, 증가된 레일리 산란의 효과가 현저하여 손실의 증가를 야기한다. 그러나, 코어부가 요구되는 축방향 압축 응력을 갖는데는 상당한 도핑이 필요할 수 있다. 따라서, 도핑을 적게 한 중간층을 삽입하여 여분의 레일리 산란의 가능성에 의한 악영향을 방지하는 것이 바람직하다.
내부 클래딩부는 최종 광섬유에서 3-21 마이크로미터의 두께를 갖는 것이 바람직하다.
필요로 하는 층의 두께는 층에서의 도핑물에 의존한다. 테스트에서 보여주는 바에 따르면, 3 마이크로미터 미만의 층 두께는 본 발명에 따라 요구되는 코어부의 필요 축방향 압축 응력의 획득에 불충분하다. 내부 클래딩부의 최대 층 두께의 상한은 궁국적으로 광섬유로 인발될 예비 성형체의 가공성에 의해 주로 결정된다.
특정 실시예에서, 한 종류 이상의 도핑물을 갖는 광전도 코어부는 0.2-2wt% 범위 내의 불소 도핑물과 코어부가 본 발명에 따라 요구되는 굴절률을 갖도록 보장하는 한 종류 이상의 도핑물을 갖는 SiO2로 구성되며, 이때 상기 도핑물은 예컨대, P2O5, TiO2, ZrO2, SnO2, GeO2, N 및 Al2O3, 또는 이들 성분중 하나 이상의 조합으로 이루어질 수 있다.
특별한 실시예에서, 코어부, 내부 클래딩부 및 자켓부를 구비하고 추가로 자켓부의 외부면에 버퍼층 및/또는 중간층을 구비할 수 있는 예비 성형체는 예컨대, 외부의 화학기상증착(CVD) 공정에 의해 적용되는 유리 튜브 또는 층의 형태인 부가적인 층을 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 코어부, 내부 클래딩부 그리고 전술한 바와 같이 가능하게는 중간층 및/또는 버퍼층의 형성은 화학기상증착 공정, 특히 플라즈마 화학기상증착(PCVD) 공정, 바람직하게는 플라즈마 도입 공정에 의해 수행된다. 통상의 모재 튜브의 축방향 길이는 특히 그 직경의 수배이기 때문에, 그러한 모재 튜브의 내부면에 균일한 층의 소정 재료의 조절된 증착은 스퍼터링 증착 또는 레이저 제거 증착(laser ablation deposition)과 같은 종래의 증착 공정으로 실현되기가 곤란하다. PCVD 실시예에서, 적용된 화학 증기는 모재 튜브의 내부면 전체 길이에 걸쳐 연속적으로 분포될 수 있으므로, 내부벽을 매우 균일하게 증착할 수 있게 한다. 더욱이, PCVD 공정을 적용하는 것에 의해, 도핑 수준을 조절하여 층의 증착이 가능해지므로, 이 공정은 코어부와 내부 클래딩부 그리고 가능하게는 중간층 및/또는 버퍼층의 증착에 성공적으로 이용될 수 있다.
본 발명은 광전도 코어부, 이 코어부를 피복하는 내부 클래딩부, 이 내부 클래딩부를 피복하는 자켓부로 구성된 단일 모드 광섬유에 관한 것이기도 한데, 상기 코어부의 굴절률은 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률 보다 크며, 내부 클래딩부와 자켓부의 굴절률은 실제적으로 동일하다. 본 발명에 따른 단일 모드 광섬유는, 코어부가 그 전체 횡단면에 걸쳐 축방향 압축 응력을 받도록, 0.1-8.5wt%, 바람직하게는 0.2-2.0wt% 범위 내의 불소 도핑물을 갖는 SiO2로 구성되는 것을 특징으로 한다.
특별한 실시예에서, 단일 모드 광섬유는 코어부와 내부 클래딩부 사이에 중간층이 삽입되도록 구성하는 것도 바람직하다. 중간층은 코어부의 굴절률 보다 낮고 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는다.
더욱이, 본 발명의 단일 모드 광섬유의 특별 실시예에서, 자켓부와 내부 클래딩부 사이에 버퍼층을 삽입하는 것이 바람직한데, 이 버퍼층은 코어부의 굴절률 보다 작은 굴절률을 가지며, 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률과 실제적으로 동일하다.
또한, 소정 실시에에서, 자켓부의 외면에 외부 클래딩부를 구비하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명은 다수의 도면에 의해 설명되지만, 이 도면들은 예시의 목적 으로만 사용되며 본 발명의 보호 범위를 한정하는 것은 아니다.
도 1은 본 발명에 따른 단일 모드 광섬유의 실시예를 나타낸 도면이다.
도 2는 버퍼층을 배치한 본 발명에 따른 단일 모드 광섬유의 특별 실시예를 나타낸 도면이다.
도 3은 중간층을 배치한 본 발명에 따른 단일 모드 광섬유의 특별 실시예를 나타낸 도면이다.
도 4-6은 도 1-3과 유사한 도면이지만, 자켓부가 외부 클래딩부를 구비하고 있는 도면이다.
도 7은 종래 기술에 따른 인장/광섬유 반경의 그래프이다.
도 8은 본 발명에 따른 인장/광섬유 반경의 그래프이다.
도 1에는 단일 모드 광섬유(6)가 개략적으로 도시되어 있으며, 광섬유(6)는 예비 성형체를 붕괴(collapse)시킨 후, 그것을 광섬유로 인발함으로써 얻어지게 된다. 단일 모드 광섬유(6)는 광전도 코어부(4)로서 간주될 수 있으며, 광전도 코어부(4)는 내부 클래딩부(3)로 피복되며, 내부 클래딩부(3)는 후속으로 자켓부(1)로 피복된다. 모재 튜브는 예컨대, 자켓부로서 적합하다. 코어부(4)의 굴절률은 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1)의 굴절률 보다 크며, 내부 클래딩부와 자켓부의 굴절률은 실제적으로 동일하다. 도 1-6에 사용된 동일한 참조 부호는 서로 대응하는 것임을 알아야 한다.
도 2에 개략적으로 도시된 특별한 실시예의 단일 모드 광섬유(6)는 광전도 코어부(4)를 구비하며, 이 코어부(4)는 내부 클래딩부(3)로 피복되며, 이 내부 클래딩부(3)는 버퍼층(2)으로 피복되며, 이 버퍼층(2)은 최종적으로 자켓부(1)로 피복된다. 이러한 단일 모드 광섬유(6)는 자켓부(1)로서 실리카 모재를 사용하고, 이것에 버퍼층(2), 내부 클래딩부(3), 마지막으로 코어부(4)를 각각 플라즈마 화학기상증착 공정(PCVD)으로 증착하는 본 발명의 방법에 따라 제조된다. 전술한 층들이 실리카 모재 튜브에 증착되면, 가열 붕괴 공정을 행하여 예비 성형체를 획득하며, 이로부터 결국 단일 모드 광섬유(6)를 인발한다.
도 3에서 개략적으로 도시된 특별한 실시예의 단일 모드 광섬유(6)는 중간층(5)이 피복된 코어부(4)를 구비하며, 이 중간층(5)은 내부 클래딩부(3)로 피복되며, 이 내부 클래딩부(3)는 버퍼층(2)으로 피복되며, 이 버퍼층(2)은 최종적으로 자켓부(1)로 피복된다. 도 3에 개략적으로 도시된 특별한 실시예의 단일 모드 광섬유(6)는 도 2에서 설명된 것과 동일한 방법으로 제조된다. 그러나, 특정 실시예에서, 도 3에 도시된 버퍼층(2)을 생략하여, 내부 클래딩부(3)가 직접 자켓부(1)에 증착되고, 후속하여 중간층(5)과 마지막으로 코어부(4)가 오도록 할 수도 있다. 그러나, 이 실시예는 모식적으로 도시되어 있지 않다.
도 4에서, 자켓부(1)는 외부 클래딩부(7)를 구비하고 있으며, 이는 도 5 및 6에도 적용되고 있다. 본 발명은 특히, 0.1-8.5wt%, 바람직하게는 0.2-2.0wt% 범위 내의 불소를 내부 클래딩부에 도핑하는 것에 의해 단일 모드 광섬유의 코어부에 축방향 압축 응력이 부여됨을 알아야 한다.
도 7에서, 그래프는 종래 기술에 따른 단일 모드 광섬유의 반경(r)의 함수로서 응력을 보여주고 있다. 이때, 광섬유는 GeO2와 F로 도핑된 SiO2로 구성된 코어부, SiO2로 된 도핑되지 않은 클래딩부로 이루어져 있다. 코어부의 위치는 수직 점선으로 나타내고 있으며, 따라서 코어부가 이른바 인장 응력(tensile stress)이라고 하는 정(positive)의 응력하에 있음을 곧바로 알 수 있다.
도 8에서, 그래프는 본 발명에 따른 단일 모드 광섬유의 반경(r)의 함수로서 응력을 보여주고 있다. 이때, 광섬유는 GeO2와 F로 도핑된 SiO2로 구성된 코어부와 도 5에 따라 F와 GeO2로 도핑된 SiO2로 구성된 내부 클래딩부를 추가로 포함하며, 그 나머지 영역은 도핑되지 않은 SiO2로 이루어져 있다. 코어부의 위치는 수직 점선으로 나타내고 있어서, 코어부가 본 발명에 따른 요구되는 축방향 압축 응력하에 있음을 곧바로 알 수 있다.
본 발명의 단일 모드 광섬유 및 그 제조 방법에 따르면, 1550 nm의 파장에서 수소 유입에 의한 손실을 크게 낮게 하여 상기 파장에서의 총 손실이 0.25dB/km, 바람직하게는 0.2dB/km를 초과하지 않도록 보장된다.

Claims (17)

  1. 광전도 코어부(4), 이 코어부(4)를 피복하는 내부 클래딩부(3), 이 내부 클래딩부(3)를 피복하는 자켓부(1)를 구비하고, 코어부(4)의 굴절률은 클래딩부와 자켓부(3,1)의 영역의 굴절률 보다 크며, 클래딩부와 자켓부(3,1)의 영역의 굴절률은 실제적으로 동일한 단일 모드 광섬유에 있어서,
    상기 내부 클래딩부(3)는 코어부(4)가 그 전체 횡단면에 걸쳐 축방향 압축 응력을 받도록 0.1-8.5wt% 범위 내로 불소 도핑된 SiO2로 구성되며, 자켓부(1)의 굴절률과 동일한 굴절률을 갖도록 굴절 증가 도핑물을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  2. 제1항에 있어서, 상기 내부 클래딩부(3)의 불소 함량은 0.2-2.0wt% 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 자켓부(1)와 내부 클래딩부(3) 사이에 버퍼층(2)이 존재하며, 이 버퍼층(2)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1)의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  4. 제1항에 있어서, 코어부(4)와 내부 클래딩부(3) 사이에 중간층(5)이 존재하며, 이 중간층(5)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  5. 제1항에 있어서, 자켓부(1)의 외면에 외부 클래딩부(7)가 존재하며, 이 외부 클래딩부(7)는 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  6. 제1항에 있어서, 내부 클래딩부(3)는 3-21 ㎛ 범위 내의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  7. 제1항에 있어서, 상기 코어부(4)는 0.2-2.0wt% 범위 내로 불소 도핑된 SiO2로 구성된 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유.
  8. 광전도 코어부, 이 코어부를 피복하는 내부 클래딩부, 이 내부 클래딩부를 피복하는 자켓부를 구비하고, 코어부의 굴절률은 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률 보다 크며, 내부 클래딩부와 자켓부 영역의 굴절률은 실제적으로 동일한 단일 모드 광섬유의 제조 방법으로써, 자켓부로 작용하는 실리카 모재 튜브에, 내부 클래딩부와 코어부를 각각 형성하는 하나 이상의 반응 가스를 흘려보내고 나서, 모재 튜브를 붕괴시키고 단일 모드 광섬유로 인발하는 단계를 포함하여 구성되는 제 조 방법에 있어서, 상기 내부 클래딩부(3)는 코어부(4)가 그 전체 횡단면에 걸쳐 축방향 압축 응력을 받도록 0.1-8.5wt% 범위 내로 불소 도핑된 SiO2로 구성된 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 내부 클래딩부(3)의 불소 함량은 0.2-2.0wt% 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  10. 제8항에 있어서, 자켓부(1)와 내부 클래딩부(3) 사이에 버퍼층(2)이 존재하며, 이 버퍼층(2)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  11. 제8항에 있어서, 코어부(4)와 내부 클래딩부(3) 사이에 중간층(5)이 존재하며, 이 중간층(5)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  12. 제8항에 있어서, 자켓부(1)의 외면에 외부 클래딩부(7)가 배치되며, 이 외부 클래딩부(7)는 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  13. 제9항에 있어서, 자켓부(1)와 내부 클래딩부(3) 사이에 버퍼층(2)이 존재하며, 이 버퍼층(2)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  14. 제9항에 있어서, 코어부(4)와 내부 클래딩부(3) 사이에 중간층(5)이 존재하며, 이 중간층(5)은 코어부(4)의 굴절률 보다 작고 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  15. 제9항에 있어서, 자켓부(1)의 외면에 외부 클래딩부(7)가 배치되며, 이 외부 클래딩부(7)는 내부 클래딩부(3)와 자켓부(1) 영역의 굴절률과 실제적으로 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  16. 제8항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 코어부(4), 내부 클래딩부(3) 및 가능하게는 외부 클래딩부(7), 중간층(5) 및/또는 버퍼층(2)의 형성은 플라즈마 화학기상증착(PCVD) 공정에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서, 플라즈마 화학기상증착(PCVD) 공정은 플라즈마 도입하에서 행해지는 것을 특징으로 하는 단일 모드 광섬유 제조 방법.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100322131B1 (ko) * 1999-01-28 2002-02-04 윤종용 오.에이치.차단층을 구비한 광섬유 모재 및 그 제조방법
WO2003059828A1 (fr) * 2002-01-17 2003-07-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede et dispositif de fabrication d'un tube de verre
US7079749B2 (en) * 2003-01-27 2006-07-18 Peter Dragic Waveguide configuration
WO2004083141A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Heraeus Tenevo Gmbh Rohr aus synthetischem quarzglas für die herstellung einer vorform, verfahren für seine herstellung in einem vertikalziehverfahren und verwendung des rohres
JP2005298271A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバの製造方法及び光ファイバ
FR2896795B1 (fr) * 2006-01-27 2008-04-18 Draka Compteq France Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique
US7493009B2 (en) * 2007-05-25 2009-02-17 Baker Hughes Incorporated Optical fiber with tin doped core-cladding interface
US7848604B2 (en) 2007-08-31 2010-12-07 Tensolite, Llc Fiber-optic cable and method of manufacture
US8315495B2 (en) 2009-01-30 2012-11-20 Corning Incorporated Large effective area fiber with Ge-free core
US7689085B1 (en) 2009-01-30 2010-03-30 Corning Incorporated Large effective area fiber with GE-free core
US9052486B2 (en) 2010-10-21 2015-06-09 Carlisle Interconnect Technologies, Inc. Fiber optic cable and method of manufacture
RU2457519C1 (ru) * 2010-12-03 2012-07-27 Общество с ограниченной ответственностью "Фиберус" Интегрально-оптический волновод с активированной сердцевиной, двойной светоотражающей оболочкой и способ его изготовления
US8929701B2 (en) 2012-02-15 2015-01-06 Draka Comteq, B.V. Loose-tube optical-fiber cable
KR102029213B1 (ko) * 2017-10-30 2019-10-07 국방과학연구소 방사상 전파를 위한 광섬유 팁의 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5090979A (en) 1989-08-02 1992-02-25 Compagnie Generale D'electricite Method of manufacturing an optical fiber preform having doped cladding
EP0762159A2 (en) * 1995-08-31 1997-03-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Dispersion-compensating fiber and method of fabricating the same

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5033815A (en) * 1979-10-25 1991-07-23 Nippon Telephone & Telegraph Optical transmission fiber and process for producing the same
JPS5662204A (en) * 1979-10-25 1981-05-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical transmission fiber and its manufacture
JPS56121002A (en) * 1980-02-28 1981-09-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical fiber for light transmission and its manufacture
DE3205345A1 (de) * 1982-02-15 1983-09-01 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg "verfahren zur herstellung von fluordotierten lichtleitfasern"
DE3376884D1 (de) * 1983-06-29 1988-07-07 Ant Nachrichtentech Single-mode w-fibre
DE3500672A1 (de) * 1985-01-11 1986-07-17 Philips Patentverwaltung Lichtleitfaser mit fluordotierung und verfahren zu deren herstellung
US5044724A (en) * 1989-12-22 1991-09-03 At&T Bell Laboratories Method of producing optical fiber, and fiber produced by the method
DE4028275A1 (de) * 1990-09-06 1992-03-12 Kabelmetal Electro Gmbh Verfahren zur herstellung von glasfaser-lichtwellenleitern mit erhoehter zugfestigkeit
US5059229A (en) * 1990-09-24 1991-10-22 Corning Incorporated Method for producing optical fiber in a hydrogen atmosphere to prevent attenuation
DE19505929C1 (de) * 1995-02-21 1996-03-28 Heraeus Quarzglas Optisches Bauteil
JP3068013B2 (ja) * 1995-08-31 2000-07-24 住友電気工業株式会社 分散補償ファイバ
JP3562545B2 (ja) * 1995-12-04 2004-09-08 住友電気工業株式会社 光ファイバ用ガラス母材の製造方法
TW371650B (en) * 1995-12-04 1999-10-11 Sumitomo Electric Industries Method for producing an optical fiber quartz glass preform
JP3503427B2 (ja) * 1997-06-19 2004-03-08 ソニー株式会社 薄膜トランジスタの製造方法
US6131415A (en) * 1997-06-20 2000-10-17 Lucent Technologies Inc. Method of making a fiber having low loss at 1385 nm by cladding a VAD preform with a D/d<7.5
JP3337954B2 (ja) * 1997-09-17 2002-10-28 株式会社フジクラ 分散補償光ファイバ
FR2792733B1 (fr) * 1999-04-26 2002-01-11 Cit Alcatel Preforme comprenant un revetement barriere contre la diffusion d'hydrogene dans la fibre optique fabriquee a partir de cette preforme et procede de preparation d'une telle preforme

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5090979A (en) 1989-08-02 1992-02-25 Compagnie Generale D'electricite Method of manufacturing an optical fiber preform having doped cladding
EP0762159A2 (en) * 1995-08-31 1997-03-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Dispersion-compensating fiber and method of fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
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