KR100783071B1 - 패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents

패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 Download PDF

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강대진
홍성환
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세메스 주식회사
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Abstract

패러데이 실드 유닛은 제1 패러데이 실드, 제2 패러데이 실드 및 구동부를 포함한다. 제1 패러데이 실드는 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제1 개구를 갖는다. 제2 패러데이 실드는 제1 패러데이 실드와 중첩되도록 구비되고, 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제2 개구를 갖는다. 구동부는 제1 개구 및 제2 개구의 중첩을 조절하기 위해 제1 패러데이 실드와 제2 패러데이 실드를 상대 운동시킨다.

Description

패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치{Faraday shield unit and apparatus for maufacturing a substrate having the same}
도 1은 본 발명의 일 실시예들에 따른 패러데이 실드 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 패러데이 실드 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 4는 도 3의 제1 및 제2 패러데이 실드를 설명하기 위한 분해 사시도이다.
도 5는 도 4의 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
도 6은 도 4의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
도 7은 도 4의 Ⅲ-Ⅲ'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100, 200 : 패러데이 실드 유닛 110, 210 : 제1 패러데이 실드
112, 212 : 제1 개구 120, 220 : 제2 패러데이 실드
122, 222 : 제2 개구 130, 230 : 구동부
500 : 기판 처리 장치 510 : 공정 챔버
520 : 기판지지부재 530 : 기판 가열 부재
540 : 제1 고주파 전원 550 : 배기구
552 : 배기 라인 554 : 배기 밸브
556 : 배기 부재 560 : 플라즈마 생성부
562 : 코일 564 : 제2 고주파 전원
570 : 패러데이 실드 유닛 572 : 제1 패러데이 실드
573 : 제1 개구 574 : 제2 패러데이 실드
575 : 제2 개구 576 : 구동부
본 발명은 패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유도 결합 플라즈마 형성시 수직 방향의 용량 결합을 방지하기 위한 패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마를 이용한 기판 처리 장치로는 유도 결합 플라즈마(ICP: inductively coupled plasma)를 이용하는 기판 처리 장치와 용량 결합 플라즈마(CCP: capacitively coupled plasma)를 이용하는 기판 처리 장치를 들 수 있다.
상기 유도 결합 플라즈마를 이용한 기판 처리 장치의 경우, 고주파 코일과 플라즈마간에 유도 결합뿐만 아니라 용량 결합도 이루어져 공정 챔버 내에 수직 방향으로 캐패시터와 같은 전계가 형성된다. 상기 수직 방향으로 형성되는 가상적 캐 패시터의 정전용량은 상기 공정 챔버 내부에서 플라즈마와 벽체, 플라즈마와 기판 사이에 전계를 인가하고 상기 플라즈마를 이루는 하전 입자가 전계에 의해 가속되도록 한다. 가속된 플라즈마 입자들이 벽체나 기판과 충돌하면 상기 공정 챔버 내부의 온도 및 상기 기판의 온도가 상승하고, 상기 기판의 표면이 손상된다.
상기 수직 방향으로의 전계를 제거하기 위해 상기 공정 챔버와 고주파 코일 사이에 패러데이 실드를 구비한다. 하지만, 적정한 크기의 개구를 갖는 패러데이 실드를 사용하지 않으면 상기 플라즈마의 점화에 사용되는 유도 결합까지 감소시키는 단점이 있다. 상기 패러데이 실드가 적정한 크기의 개구를 갖기 위해서는 많은 시행 착오와 계산이 이루어져야 한다.
본 발명의 실시예들은 개구의 크기를 조절할 수 있는 패러데이 실드 유닛을 제공한다.
본 발명의 실시예들은 상기 패어데이 실드 유닛을 갖는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 패러데이 실드 유닛은 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제1 개구를 갖는 제1 패러데이 실드와, 상기 제1 패러데이 실드와 중첩되도록 구비되고, 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제2 개구를 갖는 제2 패러데이 실드 및 상기 제1 개구들 및 상기 제2 개구들의 중첩을 조절하기 위해 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제 2 패러데이 실드를 상대 운동시키는 구동부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 구동부는 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 회전운동시킬 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 구동부는 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 승강운동시킬 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제1 개구들 및 상기 제2 개구들은 상하 방향으로 연장될 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 유전체 벽을 가지며, 기판을 수용하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버 내부로 상기 기판을 가공하기 위한 가스를 공급하기 위한 가스 공급 라인과, 상기 공정 챔버의 외부에 상기 유전체 벽과 인접하도록 구비되며 플라즈마 형성을 위해 상기 유전체 벽 내부에 유도 전자계를 형성하는 고주파 코일 및 상기 고주파 코일로 고주파 전력을 인가하는 전원부를 포함하는 플라즈마 생성부 및 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제1 개구를 갖는 제1 패러데이 실드, 상기 제1 패러데이 실드와 중첩되도록 구비되고, 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제2 개구를 갖는 제2 패러데이 실드 및 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구의 중첩을 조절하기 위해 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 운동시키는 구동부를 포함하며, 상기 공정 챔버와 상기 코일 사이에 구비되는 패러데이 실드 유닛를 포함한다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구의 중 첩을 조절하여 용량형 결합에 의한 전계는 차단하면서 유도 결합 플라즈마를 점화하는 유도 결합에 의한 전계를 조절할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 패러데이 실드 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지 다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예들에 따른 패러데이 실드 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.
도 1을 참조하면, 상기 패러데이 실드 유닛(100)은 제1 패러데이 실드(110), 제2 패러데이 실드(120) 및 구동부(130)를 포함한다.
상기 제1 패러데이 실드(110)는 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 갖는다. 상기 제1 패러데이 실드(110)는 측벽을 관통하는 다수의 제1 개구(112)를 갖는다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 개구(112)들은 도 1에 도시된 바와 같이 상하 방향으로 연장된 슬릿 형태를 가질 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제1 개구(112)들은 좌우 방향으로 연장된 슬릿 형태 및 원형, 다각형 등 다양한 형태를 가질 수 있다. 상기 제1 개구(112)들은 크기는 각각 동일할 수도 있고, 서로 다를 수도 있다.
상기 제2 패러데이 실드(120)도 상기 제1 패러데이 실드(110)와 마찬가지로 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 갖는다. 상기 제2 패러데이 실드(120)는 측벽을 관통하는 다수의 제2 개구(122)를 갖는다. 상기 제2 개구(122)는 상하 방향으로 연장된 슬릿 형태, 좌우 방향으로 연장된 슬릿 형태 및 원형, 다각형 등의 다양한 형태를 가질 수 있다. 상기 제2 패러데이 실드(120)는 상기 제1 패러데이 실드(110)의 내부에 삽입된다. 따라서, 상기 제1 패러데이 실드(110)와 상기 제2 패러데이 실드(120)는 중첩된다.
상기 제1 개구(112)들은 서로 제1 간격을 갖도록 형성되고, 상기 제2 개구(122)들은 서로 제2 간격을 갖도록 형성된다. 상기 제1 간격과 상기 제2 간격은 동일할 수도 있고, 서로 다를 수도 있다.
상기 제1 패러데이 실드(110) 및 상기 제2 패러데이 실드(120)는 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 상기 도전성 물질의 예로는 알루미늄을 들 수 있다.
상기 구동부(130)는 상기 제1 패러데이 실드(110)와 상기 제2 패러데이 실드(120)를 상대 운동시킨다. 상기 구동부(130)는 상기 제1 개구(112)들과 상기 제2 개구(122)들의 중첩을 조절한다. 상기 제1 개구(112)들과 상기 제2 개구(122)들의 형태에 따라 상기 구동부(130)의 구동이 달라진다.
구체적으로, 상기 제1 개구(112)들 및 상기 제2 개구(122)들이 상하 방향으로 연장된 슬릿 형태인 경우, 상기 구동부(130)는 상기 제1 패러데이 실드(110)와 상기 제2 패러데이 실드(120)를 상대 회전 운동시킨다. 상기 구동부(130)는 상기 제1 패러데이 실드(110)를 회전시키거나 상기 제2 패러데이 실드(120)를 회전시킨다. 상기 구동부(130)는 상기 제1 패러데이 실드(110) 및 상기 제2 패러데이 실드(120)를 동시에 회전시킨다. 따라서, 상기 제1 개구(112)들과 상기 제2 개구(122)들의 중첩되는 영역을 용이하게 조절할 수 있다.
상기에서는 패러데이 실드가 2개 구비되는 경우에 대해 설명하였지만, 상기 개구들의 중첩을 보다 정밀하게 조절하기 위해 상기 패러데이 실드는 3개 이상 구비될 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 패러데이 실드 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.
도 2를 참조하면, 상기 패러데이 실드 유닛(200)은 제1 패러데이 실드(210), 제2 패러데이 실드(220) 및 구동부(230)를 포함한다. 상기 패러데이 실드 유닛(200)은 도 1에 도시된 패러데이 실드 유닛(100)과 제1 개구(212) 및 제2 개구(222)의 형태 및 상기 구동부(230)의 구동을 제외하는 실질적으로 동일하다.
상기 제1 개구(212)들 및 상기 제2 개구(222)들은 각각 원형 또는 다각형 형태를 갖는다. 상기 제1 개구(212)들 및 상기 제2 개구(222)들이 원형, 다각형 등인 경우, 상기 구동부(230)는 상기 제1 패러데이 실드(210)와 상기 제2 패러데이 실드(220)를 상대 회전운동시키거나 상대 승강운동시킨다. 따라서, 상기 제1 개구(212)들과 상기 제2 개구(222)들의 중첩되는 영역을 용이하게 조절할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 장치를 설명하기 위한 단면도이고, 도 4는 도 3의 제1 및 제2 패러데이 실드를 설명하기 위한 분해 사시도 이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 기판 처리 장치(500)는 공정 챔버(510), 플라즈마 생성부(560), 패러데이 실드 유닛(570)을 포함한다.
공정 챔버(510)는 플라즈마 처리 공정이 진행되는 공정 공간을 제공한다. 상기 공정 챔버(510)는 내부에 기판 지지 부재(520), 기판 가열 부재(530) 및 제1 고주파 전원(540)을 포함한다.
상기 공정 챔버(510)의 측벽은 유전 물질로 이루어지며, 예를 들어 세라믹 등을 포함한다. 상기 측벽은 공정 챔버(510) 내에서 발생하는 플라즈마가 외부에 미치는 전기적 효과를 감소시킨다.
기판 지지 부재(520)는 기판(W)을 지지한다. 예를 들어, 상기 기판 지지 부재(520)는 정전력에 의해 기판(W)을 흡착 지지하는 정전척(electro static chuck : ESC)을 포함한다. 이와 달리, 상기 기판지지부재(520)는 기계적으로 기판(W)을 지지하는 클램프를 포함할 수 있다. 또한, 기판 지지 부재(520)는 진공 압에 의해 기판(W)을 흡착 지지하는 방식의 진공척(vacuun chuck)을 포함할 수 있다.
기판 지지 부재(520)는 구동 수단(도시되지 않음)에 의해 상하 방향으로 이동이 가능하도록 동작될 수 있다. 이는 기판 지지 부재(520)가 상하 방향으로 이동되어, 기판 지지 부재(520)에 놓은 기판(W)을 보다 균일한 플라즈마 분포를 나타내는 영역에 배치시킬 수 있게 된다.
기판 가열 부재(530)는 기판 지지 부재(520)의 하부에 배치된다. 기판 가열 부재(530)는 기판(W)을 일정 공정 온도로 가열한다. 상기 기판 가열 부재(530)의 열이 기판(W)에 전달되어 기판이 가열된다. 기판 가열 부재(530)는 예를 들어, 코일과 같은 저항 발열체 등의 다양한 가열 수단을 포함한다.
제1 고주파 전원(540)은 기판 지지 부재(520)에 고주파 바이어스 전원을 인가한다. 따라서, 상기 공정 챔버(510) 내의 플라즈마가 상기 기판지지 부재(520)에 의해 지지되는 상기 기판(W)으로 유도된다.
공정 챔버(510)는 배기구(550), 배기 라인(552), 배기 밸브(554) 및 배기 부재(556)를 더 포함한다. 예를 들어, 배기구(550)는 공정 챔버(510)의 바닥면에 배치된다. 배기 라인(552)은 배기구(550)와 배기 부재(556)를 연결한다. 배기 밸브(554)는 배기 라인(552)을 개폐한다. 배기 부재(556)는 공정 챔버(510)의 내부를 진공 상태로 유지한다. 배기 부재(556)의 예로는 진공 펌프 등을 들 수 있다.
플라즈마 생성부(560)는 공정 챔버(510)의 일측에서 전계를 제공하여 공정 챔버(510) 내부에 상기 플라즈마를 생성시킨다. 플라즈마 생성부(560)는 공정 챔버(510)의 측면을 감싸도록 배치되는 코일(562) 및 코일(562)에 고주파 전원을 인가하는 제2 고주파 전원(564)을 포함한다.
코일(562)은 공정 챔버(510)의 외부에 배치된다. 예를 들어, 코일(562)은 공정 챔버(510)의 측벽 외측면을 따라 나선형으로 둘러싸며, 공정 챔버(510)의 외측면에 적어도 1회 이상 감겨진다. 공정 챔버(510)의 공정 공간에 자기장을 형성할 수 있다면, 상기 코일(562)은 공정 챔버(510)의 외측면에 다양한 형태로 배치될 수 있다.
코일(562)은 제2 고주파 전원(564)으로부터 고주파가 인가되면 코일(562)의 코일을 따라 흐르는 전류가 공정 챔버(510)의 공정 공간에 자기장을 형성한다. 이 자기장에 의해 유도 전기장이 형성되며, 공정 챔버(510)에 공급된 반응 가스는 유도 전기장으로부터 이온화에 필요한 충분한 에너지를 얻어 플라즈마를 생성한다.
제2 고주파 전원(564)은 코일(562)에 고주파를 인가한다. 구체적으로, 제2 고주파 전원(564)은 코일(562)의 사이에 배치된 정합 회로부(도시되지 않음)를 통하여 코일(562)에 고주파를 인가한다. 상기 인가된 고주파에 의해 코일(562)이 플라즈마를 발생시키기 위한 유도 자기장을 형성한다.
상기 패러데이 실드 유닛(570)은 플라즈마 생성부(560)와 공정 챔버(510)의 측벽 사이에 배치된다. 본 실시예에서 패러데이 실드들이 2개가 배치되는 경우에 대하여 설명하기로 한다. 다만, 공정 종류, 공정 챔버(510)의 크기 및 종류 및 공정 시간 등의 다양한 공정 조건에 따라 패러데이 실드들의 개수는 다양하게 변경될 수 있다.
상기 패러데이 실드 유닛(570)은 제1 패러데이 실드(572), 제2 패러데이 실드(574) 및 구동부(576)를 포함한다. 상기 패러데이 실드 유닛(570)에 대한 구체적인 설명은 상기 도 1에 도시된 패러데이 실드 유닛(100) 또는 도 2에 도시된 패러데이 실드 유닛(200)과 동일하다.
제1 개구(573)를 갖는 제1 패러데이 실드(572)는 고주파 전원이 인가되는 코일(562)과 공정 챔버(510) 내의 반응 가스 사이에 발생하는 용량성 결합의 영향으로 인한 상기 수직 방향으로의 전계를 제거한다. 하지만, 제1 개구(573)의 간격에 따라 용량성 결합 플라즈마 효과를 감소시키는 정도와 플라즈마의 점화 발생률이 달라질 수 있다. 즉, 상기 제1 개구(573)의 크기가 적정하지 않은 제1 패러데이 실드(572)를 사용하는 경우, 상기 플라즈마의 점화에 사용되는 유도 결합 플라즈마까지 감소시킬 수 있다.
구동부(576)는 제1 개구(573)를 갖는 제1 패러데이 실드(572)와 제2 개구(575)를 갖는 제2 패러데이 실드(574)를 상대 운동시킴으로서 상기 제1 개구(573)와 상기 제2 개구(575)의 중첩 정도를 조절한다. 따라서, 상기 패러데이 실드 유닛(570)은 상기 수직 방향으로의 전계를 제거하면서, 상기 플라즈마의 점화에 사용되는 유도 결합 플라즈마를 용이하게 조절할 수 있다.
도 5는 도 4의 I-I'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이고, 도 6은 도 4의 II-II'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이며, 도 7은 도 4의 III-III'선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
도 5 내지 도 7을 참조하면, 기판 처리 장치(500)는 공정 챔버(510)의 측벽(210), 제1 패러데이 실드(572), 제2 패러데이 실드(574) 및 코일(562)이 내부로부터 차례대로 배치된다. 제1 패러데이 실드(572)는 슬릿 형태의 제1 개구(573)를 가지고, 제2 패러데이 실드(574)는 슬릿 형태의 제2 개구(575)를 가진다. 제1 개구(573) 및 제2 개구(510)가 공정 챔버(510)의 둘레 방향을 따라 엇갈리도록 배치된다. 이후, 상기 구동부(576)가 제1 패러데이(572) 또는 제2 패러데이 실드(574)는 회전시킨다. 따라서, 제1 개구(573) 및 제2 개구(575)의 간격 등에 대한 설계에 오류가 있는 경우, 패러데이 실드의 교체없이 제1 패러데이 실드(572) 또는 제2 패러데이 실드(574)를 회전하여 유도 결합 플라즈마 효과를 조절한다. 따라서, 전체 적으로 안정적이고 효율적인 기판 처리 장치(500)를 얻을 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 제1 개구를 갖는 제1 플라즈마 실드와 제2 개구를 갖는 제2 플라즈마 실드를 상대 운동시켜 상기 제1 개구와 상기 제2 개구의 중첩 정도를 조절한다. 따라서, 유도 결합 플라즈마 형성시 수직 방향의 전계를 제거하면서 유도 결합 플라즈마를 용이하게 점화할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (5)

  1. 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제1 개구를 갖는 제1 패러데이 실드;
    상기 제1 패러데이 실드와 중첩되도록 구비되고, 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제2 개구를 갖는 제2 패러데이 실드; 및
    상기 제1 개구들 및 상기 제2 개구들의 중첩을 조절하기 위해 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 운동시키는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 패러데이 실드 유닛.
  2. 제1항에 있어서, 상기 구동부는 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 회전운동시키는 것을 특징으로 하는 패러데이 실드 유닛.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구동부는 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 승강운동시키는 것을 특징으로 하는 패러데이 실드 유닛.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 개구들 및 상기 제2 개구들은 상하 방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 패러데이 실드 유닛.
  5. 유전체 벽을 가지며, 기판을 수용하는 공정 챔버;
    상기 공정 챔버 내부로 상기 기판을 가공하기 위한 가스를 공급하기 위한 가스 공급 라인;
    상기 공정 챔버의 외부에 상기 유전체 벽과 인접하도록 구비되며, 플라즈마 형성을 위해 상기 유전체 벽 내부에 유도 전자계를 형성하는 고주파 코일 및 상기 고주파 코일로 고주파 전력을 인가하는 전원부를 포함하는 플라즈마 생성부; 및
    상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제1 개구를 갖는 제1 패러데이 실드, 상기 제1 패러데이 실드와 중첩되도록 구비되고, 상하가 개방된 중공의 실린더 형태를 가지며, 측면을 관통하는 다수의 제2 개구를 갖는 제2 패러데이 실드 및 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구의 중첩을 조절하기 위해 상기 제1 패러데이 실드와 상기 제2 패러데이 실드를 상대 운동시키는 구동부를 포함하며, 상기 공정 챔버와 상기 코일 사이에 구비되는 패러데이 실드 유닛를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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