KR100785404B1 - 유도 결합형 플라즈마 안테나 및 이를 이용한 기판 처리장치와 방법 - Google Patents
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- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
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Abstract
Description
Claims (14)
- 처리실로 공급된 반응 가스를 이온화하여 플라즈마가 생성되도록 상기 처리실 내에 유도 전기장을 형성시키는 유도 결합형 플라즈마 안테나에 있어서,전원이 인가되는 공통 전극과;상기 공통 전극으로부터 각각 독립적으로 분기되며, 상기 공통 전극의 둘레에 배치되는 복수 개의 코일들;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 제 1 항에 있어서,상기 코일들은,상기 공통 전극을 통해 인가되는 전원이 균일하게 분산 공급되도록 동일한 길이로 마련되며, 상기 공통 전극을 중심으로 대칭 구조로 배치되는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 제 2 항에 있어서,상기 코일들은,상기 코일들이 설치되는 상기 처리실의 횡단면 형상에 대응하도록 감겨지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 제 2 항에 있어서,상기 코일들은,외곽 형상이 사각 형상을 가지며, 외곽 형상을 따라 점차적으로 내측으로 감겨지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 제 2 항에 있어서,상기 코일들은,외곽 형상이 원형을 가지며, 외곽 형상을 따라 내측으로 감겨지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 코일들은 상기 공통 전극의 둘레에 대칭을 이루도록 4 개소에 배치되며, 상기 공통 전극을 중심으로 점 대칭되는 위치에 배치된 상기 코일들은 동일한 방향으로 감겨지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 안테나.
- 기판 처리 장치에 있어서,플라즈마 처리 공정이 진행되는 처리실과;상기 처리실의 상부에 설치되는 유전체 윈도우와;상기 유전체 윈도우의 상면에 설치되며, 상기 처리실 내에 유도 전기장을 형성시키는 유도 결합형 플라즈마 안테나;를 포함하되,상기 유도 결합형 플라즈마 안테나는,상기 유전체 윈도우의 상측에 이격 배치되며, 전원이 인가되는 공통 전극과;상기 공통 전극으로부터 각각 독립적으로 분기되며, 상기 유전체 윈도우 상면의 상기 공통 전극 둘레에 배치되는 복수 개의 코일들;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 코일들은,상기 공통 전극을 통해 인가되는 전원이 균일하게 분산 공급되도록 동일한 길이로 마련되며, 상기 공통 전극을 중심으로 대칭 구조를 이루도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 코일들은,상기 코일들이 설치되는 상기 처리실의 횡단면 형상에 대응하도록 감겨지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 처리실은 사각형의 횡단면 형상을 가지며,상기 코일들은 외곽 형상이 사각 형상을 가지고, 외곽 형상을 따라 내측으로 감겨지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 코일들은 상기 공통 전극의 둘레에 대칭을 이루도록 4 개소에 배치되며, 상기 공통 전극을 중심으로 점 대칭되는 위치에 배치된 상기 코일들은 동일한 방향으로 감겨지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 플라즈마를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,공통 전극을 통해 전력을 인가하고, 인가된 전력을 상기 공통 전극의 둘레에 배치된 복수 개의 코일들에 분산 공급하여, 반응 가스가 공급된 처리실 내의 기판 상부 공간에 플라즈마를 생성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 12 항에 있어서,상기 방법은,상기 공통 전극을 통해 인가된 전력을 상기 공통 전극의 둘레에 점 대칭을 이루도록 배치된 상기 복수 개의 코일들에 분산 공급하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제 13 항에 있어서,상기 방법은,점 대칭을 이루는 상기 코일들을 동일한 방향으로 감아 상기 코일들에 분산 공급되는 인가 전력이 동일한 흐름 방향을 가지도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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KR20130019934A (ko) | 2011-08-18 | 2013-02-27 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR20190104080A (ko) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 주식회사 인포비온 | 고밀도 선형 유도 결합형 플라즈마 소스 |
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KR20040018343A (ko) * | 2001-03-30 | 2004-03-03 | 램 리서치 코포레이션 | 복수의 권선들을 갖는 코일을 구비하는 유도성 플라즈마프로세서 및 플라즈마 밀도의 제어방법 |
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2006
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KR102045059B1 (ko) | 2018-02-28 | 2019-12-03 | 주식회사 인포비온 | 고밀도 선형 유도 결합형 플라즈마 소스 |
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