KR100782051B1 - APPARATUS FOR POISONOUS GAS PURIFICATION USING ULTRA HIGH TEMPERATURE AND QUICK HEATING MoSi2 HEATING ELEMENT - Google Patents

APPARATUS FOR POISONOUS GAS PURIFICATION USING ULTRA HIGH TEMPERATURE AND QUICK HEATING MoSi2 HEATING ELEMENT Download PDF

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Abstract

본 발명은 소각로나 반도체 및 액정 표시 소자(LCD) 및 기타부품 소재 제조 공정시 사용하고 남은 기체 상태에 존재하는 유해 가스의 정화 효율을 향상시킬 수 있는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치에 관한 것이다. The present invention is used for the purification of harmful gases using ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating elements that can improve the purification efficiency of harmful gases present in the gaseous state remaining in the process of manufacturing incinerators, semiconductors, liquid crystal display devices (LCDs) and other parts. Relates to a device.

이를 위하여 본 발명의 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치는 유해 가스를 고온 열처리 하여 정화하는 유해 가스 정화 장치에 있어서, 개폐가 가능한 반응로와, 상기 반응로 내부 공간부에 구비되어 그 내부를 통과하는 유체를 정화시키는 반응 챔버와, 상기 반응 챔버를 통과하는 유체를 가열시키는 발열체를 포함하되, 상기 발열체는 비발열부와 이규화몰디브덴 물질로 이루어지는 발열부를 포함하여 구성된다.To this end, the noxious gas purification apparatus using the ultra-high temperature rapid heating molybdenum disulfide heating element of the present invention is provided in the noxious gas purification apparatus for purifying the noxious gas by high temperature heat treatment, and is provided with a reaction furnace capable of opening and closing the reactor and the space inside the reactor. A reaction chamber for purifying the fluid passing therein and a heating element for heating the fluid passing through the reaction chamber, wherein the heating element includes a non-heating unit and a heat generating unit made of molybdenum disulfide material.

발열체, 이규화몰디브덴, 고온, 유해 가스 Heating element, molybdenum disulfide, high temperature, harmful gas

Description

초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치{APPARATUS FOR POISONOUS GAS PURIFICATION USING ULTRA HIGH TEMPERATURE AND QUICK HEATING MoSi2 HEATING ELEMENT}{APPARATUS FOR POISONOUS GAS PURIFICATION USING ULTRA HIGH TEMPERATURE AND QUICK HEATING MoSi2 HEATING ELEMENT}

도 1은 본 발명에 일 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치의 전면 사시도.1 is a front perspective view of a harmful gas purification apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도1의 단면도.2 is a cross-sectional view of FIG.

도 3a 내지 도 3g는 도 1에 도시된 발열체의 다양한 실시예를 나타낸 도면3A to 3G illustrate various embodiments of the heating element illustrated in FIG. 1.

도 4는 도 1의 반응 챔버의 다른 실시예를 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view of another embodiment of the reaction chamber of FIG.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치의 전면 사시도.5 is a front perspective view of a harmful gas purification apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 반응 챔버를 도시한 사시도.6 is a perspective view of the reaction chamber of FIG.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치의 전면 사시도.7 is a front perspective view of a harmful gas purification apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 8 및 도 9는 도 7에 도시된 유해 가스 정화 장치에 설치되는 발열체의 여러 실시예를 나타낸 사시도.8 and 9 are perspective views showing various embodiments of the heating element installed in the harmful gas purification device shown in FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 반응로1: reactor

11 : 발열체, 111 : 발열부, 112 : 비발열부11: heating element, 111: heating part, 112: non-heating part

12 : 상부 커버, 13 : 하부 커버12: upper cover, 13: lower cover

2 : 반응 챔버, 2: reaction chamber,

21,25 : 유입관 21,25: inlet pipe

22 : 버닝관, 22: burning tube,

23,27 : 촉매관, 23,27: catalyst tube,

231, 271 : 촉매제231, 271: catalyst

24 : 배출관24: discharge pipe

26 : 제 1 챔버26: the first chamber

28 : 제 2 챔버28: second chamber

본 발명은 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치에 관한 것으로, 특히 소각로나 반도체 및 액정 표시 소자(LCD) 제조 공정시 사용하고 남은 기체 상태에 존재하는 유해 가스의 정화 효율을 향상시킬 수 있는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus for purifying harmful gases using ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating elements, and in particular, to improve the purification efficiency of the harmful gases present in the gaseous state remaining in incinerators, semiconductors, and liquid crystal display (LCD) manufacturing processes. It relates to a harmful gas purification apparatus using ultra-high temperature rapid heating molybdenum disulfide heating element.

일반적으로, 소각로에서 소각에 따라 발생된 후 대기로 방출되는 다이옥신Co2등을 포함하는 배기가스는 지구온난화와 대기오염의 한 원인이 되므로 정화시킨 후 배기시켜야 한다. In general, exhaust gas containing dioxin Co 2 generated in incinerators and released into the atmosphere is one of the causes of global warming and air pollution.

또한, 반도체 및 액정 표시 소자의 제조 공정 중에서 증착 및 확산, 식각 공 정에는 실란(SiH4)과 아르신(AsH3) 등의 유해 가스와 수소 등의 공정용 가스가 이용이 되는데, 이러한 가스는 발화성 및 독성이 있으므로, 사용이 끝난 가스는 정화한 후 대기로 배출하여야 한다.In addition, harmful gases such as silane (SiH4) and arsine (AsH3) and process gases such as hydrogen are used for deposition, diffusion, and etching processes in the manufacturing process of semiconductors and liquid crystal display devices. Toxic, the spent gas has to be purged and released to the atmosphere.

따라서, 소각로나 반도체 공정 라인에는 유해 가스 정화 장치가 설치된다. Therefore, a noxious gas purification apparatus is installed in an incinerator or a semiconductor processing line.

상기 반도체 제조 공정 라인에 설치되는 유해 가스 정화 장치로는 공정용 가스를 공급받아 정화하는 서브 스크러버(sub scrubber)와, 각각의 서브 스크러버가 연결되는 덕트와, 건물 옥상에 설치되어 덕트와 연결되는 메인 스크러버(main scrubber) 등으로 구성된다. The hazardous gas purification apparatus installed in the semiconductor manufacturing process line includes a sub scrubber for supplying and purifying process gas, a duct to which each sub scrubber is connected, and a main installed on the building roof and connected to the duct. It consists of a scrubber (main scrubber).

이에 따라, 사용이 끝난 공정용 가스는 서브 스크러버에서 1차로 정화되고, 1차 정화된 공정용 가스는 덕트를 통해 메인 스크러버에 공급되어 상기 메인 스크러버에서 2차로 정화된 후, 대기로 배출된다.Accordingly, the used process gas is firstly purified in the subscrubber, the firstly purified process gas is supplied to the main scrubber through the duct, and is secondly purified in the main scrubber and then discharged to the atmosphere.

이와 같이 공정용 가스를 1차 정화하는 서브 스크러버는 처리 방식에 따라 통상 습식 스크러버와 건식 스크러버로 구분된다.As such, the subscrubber for primary purification of the process gas is generally classified into a wet scrubber and a dry scrubber depending on the treatment method.

상기 습식 스크러버는 공정용 가스를 초순수(H2O) 또는 가스 흡착성 액상 화학 약품에 통과시키거나 연무 상태로 분무시켜 흡착에 의한 방법으로 배출 가스를 제거하는 방식으로, 비교적 간단한 구성을 가지므로 제작이 용이하고 대용량화할 수 있는 장점을 가진다.The wet scrubber removes the exhaust gas by the adsorption method by passing the process gas through ultrapure water (H 2 O) or gas adsorbent liquid chemical or by spraying it in a mist state, and is easy to manufacture because it has a relatively simple configuration. Has the advantage of large capacity.

그러나, 습식 스크러버는 발화성이 강한 수소기를 포함하는 가스의 처리에는 부적절하고, 액상의 화학 물질을 반응의 주체로 사용하는 경우에는 2차 오염 물질을 발생시키므로 지속적인 유지 보수가 필요한 문제점이 있다.However, wet scrubbers are inadequate for the treatment of gases containing highly ignitable hydrogen groups, and in the case of using liquid chemicals as the main agents of the reaction, they generate secondary pollutants and thus require continuous maintenance.

그리고, 상기 건식 스크러버는 발열체를 이용하여 고온의 챔버를 형성하고, 이 챔버 속으로 공정용 가스를 통과시켜 상기 가스를 열반응을 통해 소각시키는 것으로, 비교적 안전하고 온도 제어가 용이하므로 주로 사용된다.In addition, the dry scrubber forms a high temperature chamber by using a heating element, and passes the process gas into the chamber to incinerate the gas through a thermal reaction, and is mainly used because it is relatively safe and easy to control temperature.

그런데, 이러한 종래 기술에 따라 고온 챔버를 이용한 유해 가스를 소각 시켜 정화시키는 방법에 따르면, 일반적으로 탄화수소 계열의 발열체를 이용하는 경우 탄화수소 계열의 발열체는 주로 1400~1500℃ 대의 온도 및 불활성 분위기에서 사용되므로, 유량이 많고 유속이 빠른 유체를 처리할 경우에는 그만큼 높은 에너지가 필요하기 때문에 효율이 떨어진다.By the way, according to the conventional method of incineration of the harmful gas using a high-temperature chamber to purify, in general, when using a hydrocarbon-based heating element hydrocarbon-based heating element is mainly used in 1400 ~ 1500 ℃ temperature and inert atmosphere, In the case of treating a high flow rate and a high flow rate, the efficiency is low because the high energy is required.

또한, 대기중에서 히타의 화학변화로 작동시 대기분위기는 바람직하지 못하다.In addition, the atmospheric atmosphere is undesirable when operating due to chemical changes in the heater in the atmosphere.

또한, 금속 발열체를 이용하는 경우에는 금속 발열체가 상용 분위기 온도 1000℃로서 전기 소모가 과다할 뿐만 아니라 유해 가스 정화에 그 효과가 미비하다. In addition, in the case of using a metal heating element, the metal heating element has a commercial atmosphere temperature of 1000 ° C., not only excessive electricity consumption but also ineffective in purifying harmful gases.

그리고, 발열체의 온도를 높여야 정화 효율을 높일 수 있게 되므로, 그 이상의 온도를 가하게 될 경우 발열체가 손상이 될 수 있는 문제점이 있다.In addition, since the purification efficiency can be increased only by increasing the temperature of the heating element, there is a problem that the heating element can be damaged if a higher temperature is applied.

상기 종래 기술에 따른 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 고온 발열체인 이규화몰디브덴 발열체를 이용함으로써 유체 발열 효율을 향상시키고 유량이 많고 유속이 빠른 가스의 유입시 발열체 손상을 방지할 수 있도록 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치를 제공함에 있다.An object of the present invention for solving the problems according to the prior art, by using a molybdenum disulfide heating element which is a high temperature heating element to improve the fluid heating efficiency and to prevent damage to the heating element when inflow of gas with high flow rate and high flow rate An object of the present invention is to provide a noxious gas purification apparatus using an ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating element.

상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치는 유해 가스를 소각하여 정화시키는 유해 가스 정화 장치에 있어서, 개폐가 가능한 반응로와, 상기 반응로 내부 공간부에 구비되어 그 내부를 통과하는 유체를 정화시키는 반응 챔버와, 상기 반응 챔버를 통과하는 유체를 가열시키는 발열체를 포함하되, 상기 발열체는 비발열부와 이규화몰디브덴 물질로 이루어지는 발열부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. In order to solve the above technical problem, the noxious gas purifying apparatus using the ultra-high temperature rapid heating molybdenum silicide-generated heating element of the present invention is a noxious gas purifying apparatus which incinerates and purifies the noxious gas. It includes a reaction chamber for purifying the fluid passing through the inside and the heating element for heating the fluid passing through the reaction chamber, wherein the heating element comprises a non-heating portion and a heat generating portion made of molybdenum disulfide material It features.

상기 본 발명의 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치의 일 양상에 있어서, 상기 반응 챔버는 유입관을 통해 유입되는 유체를 가열하여 1차 정화시키는 버닝관과, 상기 버닝관으로부터 유입되는 유해 가스를 2차 정화시키는 촉매제가 구비되는 촉매관, 및 상기 촉매관에서 정화되어 유입되는 가스를 배출하는 배출관을 포함하여 구성된다. In one aspect of the harmful gas purification apparatus using the ultra-high-temperature rapid heating molybdenum silicide heating element of the present invention, the reaction chamber is a burning tube for heating and firstly purifying the fluid flowing through the inlet pipe, and the inlet from the burning tube And a discharge pipe for discharging the gas, which is purged from the catalyst pipe, and a catalyst pipe equipped with a catalyst for secondary purifying the harmful gas.

상기 본 발명의 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치의 다른 양상에 있어서, 상기 반응 챔버는, 유입관을 통해 유입되는 유체를 가열시켜 소정 물질을 멸취 및 정화시키기 위한 제 1 챔버와, 상기 제 1 챔버로부터 가열된 유체의 온도가 일정 온도 이하로 냉각한 후 배출시키는 제 2 챔버, 및 상기 제 1 챔버와 제 2 챔버 사이에 구비되고 촉매제가 구비되며 상기 제 1 챔버로부터 제 2 챔버로 유입되는 유체의 량을 조절하기 위한 홀이 형성되어 있는 촉매관으로 구성된다. In another aspect of the noxious gas purification apparatus using the ultra-high temperature rapid heating molybdenum disulfide heating element of the present invention, the reaction chamber, the first chamber for heating the fluid flowing through the inlet pipe to annihilate and purify a predetermined substance; And a second chamber for discharging the temperature of the fluid heated from the first chamber after cooling to below a predetermined temperature, and between the first chamber and the second chamber, provided with a catalyst, and having a second chamber from the first chamber. It consists of a catalyst tube is formed with a hole for controlling the amount of fluid flowing into the.

상기 본 발명의 다양한 양상에서 상기 발열부는 상기 반응로 내측벽 또는 반 응 챔버의 외측벽에 수직 배열되고, 상기 비발열부는 상기 발열부의 양측 단부에 연결되며 연결부의 타측단은 각각 상기 상부 커버 또는 하부 커버를 관통하여 외측으로 돌출된다. In the various aspects of the present invention, the heating portion is vertically arranged on the inner wall of the reactor or the outer wall of the reaction chamber, and the non-heating portion is connected to both ends of the heating portion, and the other end of the connection portion is the upper cover or the lower cover, respectively. It penetrates through and protrudes outward.

이와 같이 본 발명의 다양한 양상에 따르면, 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어져 고온 발열되며 내산화성이 우수한 발열체를 이용함에 따라, 발열 효율을 향상시켜 유해 가스를 신속하게 정화하며 발열체의 손상을 방지할 수 있는 것이다. As described above, according to various aspects of the present invention, a molybdenum silicide (MoSi2) material is used to generate a high temperature and a high heat resistance, and thus, a heating element may be used to improve the heat generation efficiency to quickly purify harmful gases and prevent damage to the heating element. It can be.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 후술하는 바람직한 실시예를 통하여 더욱 명백해질 것이다. 이하에서는 본 발명의 실시예를 통해 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하도록 한다. The invention will become more apparent through the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings. Hereinafter will be described in detail to enable those skilled in the art to easily understand and reproduce through embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명에 일 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치의 전면 사시도이고, 도 2는 도1의 단면도로, 본 발명의 유해 가스 정화 장치는 소각로 또는 반도체 및 액정 표시 소자 제조시 사용하고 남은 유해 가스를 정화하는 장치에 있어서, 내측에 다수의 발열체(11)가 구비되며 개폐가 가능하도록 상부 커버(12) 및 하부 커버(13)를 구비하는 반응로(1)와, 상기 반응로(1) 내부 공간부에 구비되어 상기 발열체(11)에서 발생하는 열에 의해 가열되어 유체를 정화시키는 반응 챔버(2)를 포함하되, 상기 발열체(11)는 비발열부(111)와 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어지는 발열부(112)로 이루어진다. 1 is a front perspective view of a harmful gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of Figure 1, the harmful gas purifying apparatus of the present invention remains incinerator or used in the manufacture of semiconductor and liquid crystal display device In the apparatus for purifying gas, a plurality of heating elements (11) are provided on the inside, and a reactor (1) having an upper cover (12) and a lower cover (13) so as to be opened and closed, and the reactor (1) A reaction chamber 2 provided in an inner space and heated by heat generated from the heat generator 11 to purify the fluid, wherein the heat generator 11 includes a non-heat generator 111 and a molybdenum silicide (MoSi 2) material. It consists of a heat generating portion (112).

그리고, 상기 비발열부(111)는 상기 발열부(112)의 양측 단부에 연결되며 연결부의 타측단은 상기 상부 커버(12) 또는 하부 커버(13)를 관통하여 외측으로 돌출되어, 외측으로 돌출된 부분을 통해 소정의 전압이 인가되면 상기 발열부(112)를 고온으로 발열시키는 것이다. The non-heating part 111 is connected to both ends of the heat generating part 112, and the other end of the connection part protrudes outwardly through the upper cover 12 or the lower cover 13, and protrudes outward. When a predetermined voltage is applied through the portion, the heat generating unit 112 generates heat at a high temperature.

상기 발열부(112)는 상기 반응로(1) 내측벽 수직 배열되는데 본 발명의 실시예에서는 상기 발열부(112)를 반응로(1)의 내측벽에 수직 배열되도록 도시하였으나, 다른 실시예를 통해 반응 챔버(2)의 외측면에 수직 배열할 수 있으며, 경우에 따라 상기 유체가 이동하는 반응 챔버(2) 내부에 구비할 수 있다.The heating unit 112 is arranged vertically on the inner wall of the reactor (1) In the embodiment of the present invention, the heating unit 112 is shown to be arranged vertically on the inner wall of the reactor (1), but another embodiment It may be arranged perpendicular to the outer surface of the reaction chamber (2), it may be provided in the reaction chamber (2) to move the fluid in some cases.

도 3a 내지 도 3g는 상기 도 1에 도시된 발열체의 다양한 실시예를 나타낸 도면으로 상기 발열체(11)는 도면에 도시된 바와 같이 직봉형, U 형, 벤트형, W 형, 나사형, 파노라마형 및 면상형 중 선택된 어느 하나 또는 이들 중 선택된 여러 형태를 혼합하여 채택할 수 있다. 3A to 3G are views illustrating various embodiments of the heating element illustrated in FIG. 1, wherein the heating element 11 is a straight rod, a U type, a vent type, a W type, a screw type, and a panoramic type, as shown in the drawing. And any one selected from among planar forms or various selected forms thereof.

한편, 반응 챔버(2)는 유입관(21)을 통해 유입되는 유체를 가열하여 1차 정화시키는 버닝관(22)과, 상기 버닝관(22)으로부터 유입되는 유체를 2차 정화시키는 촉매제(231)가 구비되는 촉매관(23), 및 상기 촉매관(23)에서 정화되어 유입되는 가스를 배출하는 배출관(24)을 포함하여 구성된다. On the other hand, the reaction chamber 2 is a burning tube 22 for heating and firstly purifying the fluid flowing through the inlet pipe 21, and a catalyst 231 for secondary purification of the fluid flowing from the burning tube 22. It is configured to include a catalyst pipe 23 is provided with, and a discharge pipe 24 for discharging the gas is purged from the catalyst pipe 23.

이에 따라, 상기 상부 커버(12) 및 하부 커버(13)에는 비발열부(111) 및 반응 챔버(2)의 양끝단이 외측으로 돌출될 수 있도록 다수의 관통홀이 형성됨이 바람직하다. Accordingly, it is preferable that a plurality of through holes are formed in the upper cover 12 and the lower cover 13 so that both ends of the non-heat generating portion 111 and the reaction chamber 2 protrude outward.

이때, 유입관(21)을 통해 유입되는 가스는 일반적인 소각로 또는 반도체 및 액정 표시 소자를 제조함에 있어서 이용되는 모든 가스일 수 있다.In this case, the gas flowing through the inlet pipe 21 may be any gas used in manufacturing a general incinerator or a semiconductor and a liquid crystal display device.

예를 들어, 식각 공정에서 이용되는 Cl2, HBr, BCl3, CF4, C2F6, CHF3, SF6 등과, 확산(diffusion) 공정에서 이용되는 SiH4, PH3, DCS, NH3, N2, ClF3 등과, 박막(thin film)공정에서 이용되는 N2O, HCl, O2, H2, He, TEOS, TMP, TMB, BF3, C2F6, NF3, WF6 ,CF4 등이 이용될 수 있다. For example, Cl2, HBr, BCl3, CF4, C2F6, CHF3, SF6, etc. used in the etching process, SiH4, PH3, DCS, NH3, N2, ClF3, etc. used in the diffusion process, thin film N2O, HCl, O2, H2, He, TEOS, TMP, TMB, BF3, C2F6, NF3, WF6, CF4 and the like used in the process may be used.

상기 F 또는 Cl을 포함하는 가스를 이용할 때 종래의 탄화수소 계열의 발열체는 내산화성이 뛰어나지 못하여, 표면 산화로 인해 발열체가 손상되어 자주 교체해야 하는 문제점이 있었지만, 본원 발명 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어지는 발열체는 내산화성이 뛰어나고 표면이 상해도 자연 치유 기능을 갖기 때문에 발열체의 손상 문제가 해결이 된다. When using a gas containing F or Cl, a conventional hydrocarbon-based heating element is not excellent in oxidation resistance, and the heating element is damaged due to surface oxidation, so that it has to be frequently replaced, but the present invention uses molybdenum disulfide (MoSi 2) material. The heating element is excellent in oxidation resistance, and even if the surface injury has a natural healing function solves the problem of damage to the heating element.

한편, 상기 유입관(21)을 통해 버닝관(22)으로 유입된 유체 즉 유해 가스는 발열체(11)의 발열부(112)에서 발생하는 고온에 의해 가열되어 1차로 정화된다. On the other hand, the fluid introduced into the burning tube 22 through the inlet pipe 21, that is, harmful gas is heated by the high temperature generated in the heat generating portion 112 of the heat generating element 11 is first purified.

이때, 상기 발열부(112)가 1700~1800℃로 발열되는 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어져 있기 때문에 고온 발열을 통해 유해 가스의 소각이 신속하게 이루어지는 것이다.At this time, since the heat generating part 112 is made of molybdenum disulfide (MoSi 2) material that generates heat at 1700 to 1800 ° C., incineration of harmful gases is rapidly performed through high temperature heat.

따라서, 종래의 탄화수소 계열의 발열체를 이용하는 경우에는 많은 유량과 빠른 유속을 갖는 유체를 가열하기 어려워 발열체에 부하가 발생하여 발열체가 손상되거나 유체 가열이 효율적으로 이루어지지 않았던 반면, 본 발명의 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어지는 발열체는 고온 발열되기 때문에 많은 양과 빠른 속도로 유체가 유입되어도, 유해 가스를 신속하게 소각하여 유해 가스 정화를 효율적으로 하게 되는 것이다.Therefore, in the case of using a hydrocarbon-based heating element of the prior art, it is difficult to heat a fluid having a large flow rate and a high flow rate, so that a load is generated on the heating element, and thus the heating element is not damaged or the fluid heating is not efficiently performed. Since a heating element made of (MoSi 2) material generates high temperature, even if a fluid flows in a large amount and at a high speed, the harmful gas can be incinerated quickly to efficiently purify the harmful gas.

이로 인하여, 많은 양과 빠른 속도로 유체가 유입되어도 발열체의 손상이 발생하지 않게 되는 것이다. Therefore, even if the fluid is introduced at a large amount and at a high speed, damage to the heating element does not occur.

그리고, 상기 버닝관(22)을 통과한 유체는 1차 정화된 후에 촉매제(231)가 구비되는 촉매관(23)으로 유입되어, 촉매제에 의해 2차 정화된 후 배출관(24)을 통해 외부로 배출이 된다. In addition, the fluid passing through the burning pipe 22 is first purified and then introduced into the catalyst pipe 23 having the catalyst 231, and after being secondly purified by the catalyst, is discharged to the outside through the discharge pipe 24. It is discharged.

상기 촉매제(231)로는 크롬 성분이 이용될 수 있다. Chromium component may be used as the catalyst 231.

도 4는 도 1의 반응 챔버의 다른 실시예를 나타낸 단면도로, 반응 챔버(2)는, 유입관(25)을 통해 유입되는 유체를 가열시켜 소정 물질을 멸취 및 정화시키기 위한 제 1 챔버(26)와, 상기 제 1 챔버(26)로부터 가열된 유체의 온도가 일정 온도 이하로 냉각한 후 배출시키는 제 2 챔버(28), 및 상기 제 1 챔버(26)와 제 2 챔버(28) 사이에 구비되고 촉매제(271)가 구비되며 상기 제 1 챔버(26)로부터 제 2 챔버(28)로 유입되는 유체의 량을 조절하기 위한 촉매관(272)으로 구성된다. FIG. 4 is a cross-sectional view of another embodiment of the reaction chamber of FIG. 1, wherein the reaction chamber 2 is configured to heat a fluid flowing through an inlet pipe 25 to destroy and purify a predetermined material. ), Between the second chamber 28 and the first chamber 26 and the second chamber 28 for discharging the temperature of the fluid heated from the first chamber 26 after cooling below a predetermined temperature. It is provided with a catalyst 271 is composed of a catalyst tube 272 for controlling the amount of fluid flowing from the first chamber 26 to the second chamber 28.

또한 상기 제 1 챔버(26), 촉매관(27) 및 제 2 챔버(28)는 일체형으로 이루어지며, 상기 제 1 챔버(26)의 출구와 상기 제 2 챔버(28)의 입구는 상기 촉매관(27)의 양끝단과 각각 소정의 경사각을 갖도록 형성되는데, 이때의 경사각은 45°가 바람직하나, 실시예에 따라 달라질 수 있다.In addition, the first chamber 26, the catalyst tube 27 and the second chamber 28 are integrally formed, and the outlet of the first chamber 26 and the inlet of the second chamber 28 are the catalyst tubes. Both ends of (27) are formed to have a predetermined inclination angle, and the inclination angle is preferably 45 °, but may vary depending on the embodiment.

본 발명의 반응 챔버의 다른 실시예에서는 상기 반응 챔버(2)의 형상과 유체가 이동하는 각 챔버(26,28) 및 촉매관(27)의 공간부의 형태를 다양하게 변형함으로써 고로 열처리 시간 조절할 수 있다. In another embodiment of the reaction chamber of the present invention, the blast furnace heat treatment time can be adjusted by variously modifying the shape of the reaction chamber 2 and the shape of the space portion of each of the chambers 26 and 28 and the catalyst tube 27 through which the fluid moves. have.

예를 들어, 유입 유체가 100%의 볼륨(volume)으로 유입되는 경우 제 1 챔버(26) 내부의 이동 통로는 촉매관(27)과 동일한 크기를 갖도록 형성한다. 그러므로 상기 제 1 챔버(26) 내부의 이동통로와 촉매관(27)의 크기는 유입구(25)의 유입 파 이프의 크기보다 작게 형성된다. For example, when the inflow fluid is introduced at a volume of 100%, the moving passage inside the first chamber 26 is formed to have the same size as the catalyst tube 27. Therefore, the size of the moving passage and the catalyst tube 27 inside the first chamber 26 is smaller than the size of the inlet pipe of the inlet 25.

이때, 그 크기의 비례 값은 유입 압력대비 제 1 챔버(26)의 내부 압력차(△P)는 20% 차이가 나는 정도에서 결정되는데, 20%의 내부 압력차는 유입 유체의 유량과 유속을 둔화시키고 제 2 챔버(28)의 출구 파이프의 크기를 변화시켜 다시 한번 배출 유량을 조절하여 전체적으로 각각의 챔버(26)(28) 내부에 유해가스의 정체 시간을 늘려 유해 가스의 제거를 효율적으로 할 수 있도록 한다.At this time, the proportional value of the size is determined by a difference of 20% between the internal pressure difference ΔP of the first chamber 26 relative to the inlet pressure, and the internal pressure difference of 20% slows the flow rate and the flow rate of the inlet fluid. By changing the size of the outlet pipe of the second chamber 28 and adjusting the discharge flow rate once again, it is possible to efficiently remove the harmful gas by increasing the stagnation time of the harmful gas inside each chamber 26 and 28 as a whole. Make sure

상기와 같이 제 1 챔버(26) 및 제 2 챔버(28)의 구조를 형성시킴으로써, 저온의 유체가 제 1 챔버(26)로 유입될 때 상기 제 1 챔버(28)의 경사각으로 인하여 유체의 역류(back-flow)가 적게 발생되므로, 결과적으로 챔버 내부의 흐름을 원활히 하여 챔버 내부의 부하를 일정하게 유지시킬 수 있게 하고, 발열체의 온도를 일정한 주기로 조절 가능하게 하여 발열체의 수명을 연장시킬 수 있게 한다.By forming the structures of the first chamber 26 and the second chamber 28 as described above, the backflow of the fluid due to the inclination angle of the first chamber 28 when the low-temperature fluid flows into the first chamber 26 (back-flow) is generated less, resulting in a smooth flow inside the chamber to maintain a constant load in the chamber, and to control the temperature of the heating element at regular intervals to extend the life of the heating element do.

이러한, 구성에 의해 상기 유입관(25)으로부터 유체가 제 1 챔버(26) 내부로 유입되면, 유입된 유체는 발열체의 고온 발열에 의해 1차로 정화된다. 이때, 본 발명의 발열체의 발열부가 1700~1800℃로 발열되는 이규화몰디브덴 물질로 이루어지기 때문에 유체가 신속하게 가열되어 정화가 이루어진다.When the fluid flows into the first chamber 26 from the inflow pipe 25 by this configuration, the introduced fluid is primarily purified by the high temperature heat generation of the heating element. At this time, since the heat generating portion of the heating element of the present invention is made of a molybdenum disulfide material that generates heat at 1700 ~ 1800 ℃, the fluid is heated quickly to be purified.

이렇게 1차 정화된 유체는 촉매관(27)을 통과하면서 촉매관 내부에 구비되는 촉매제(271)에 의해 2차 정화되고, 2차 정화된 유체는 제 2 챔버(28) 내부로 유입된 후 발열체의 고온 발열에 의해 3차 정화된다. The first purified fluid is secondly purified by the catalyst 271 provided inside the catalyst tube while passing through the catalyst tube 27, and the second purified fluid flows into the second chamber 28 and then generates a heating element. It is 3rd purification | purified by high temperature heat_generation.

본 발명의 일실시예에서는 상기 반응로(1)와 반응 챔버(2)가 수직으로 설치되고, 유체가 상부에서 하부로 이동하는 경우를 도시하였으나, 도 5에 도시된 바와 같이 유체가 하부에서 상부로 이동하는 경우에도 적용될 수 있다. 이때, 각 구성 요소들은 상기 본 발명의 일실시예와 동일하므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략 하도록 한다. In the exemplary embodiment of the present invention, the reactor 1 and the reaction chamber 2 are installed vertically, and the fluid is moved from the top to the bottom, but as shown in FIG. 5, the fluid is from the top to the bottom. This may also apply when moving to. At this time, each component is the same as the embodiment of the present invention, so a detailed description thereof will be omitted.

그리고, 발열체(11)의 발열부(112)는 도 6에 도시된 바와 같이 유체가 흐르는 반응 챔버(2) 내부에 설치하고, 비발열부(111)를 반응 챔버(2)의 외측에 구비할 수 있다. The heat generating part 112 of the heat generating element 11 may be installed inside the reaction chamber 2 through which the fluid flows, and the non-heating part 111 may be provided outside the reaction chamber 2 as shown in FIG. 6. have.

한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치는 도 7에 도시된 바와 같이 상기 반응로(1)와 반응 챔버(2)가 수평하게 설치되어 유체가 좌측에서 우측으로 이동하는 경우에도 적용될 수 있다. On the other hand, the harmful gas purifying apparatus according to another embodiment of the present invention, even if the reaction furnace 1 and the reaction chamber 2 is installed horizontally as shown in Figure 7 the fluid moves from left to right Can be applied.

이에 따라, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치는 내측에 다수의 발열체(11)가 구비되며 개폐가 가능하도록 좌측 커버(12‘) 및 우측 커버(13’)를 구비하는 반응로(1)와, 상기 반응로(1) 내부 공간부에 구비되어 상기 발열체(11)에서 발생하는 열에 의해 가열되어 유체를 정화시키는 반응 챔버(2)를 포함하되, 상기 발열체(11)는 비발열부(111)와 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어지는 발열부(112)로 이루어진다. Accordingly, the harmful gas purification apparatus according to another embodiment of the present invention is provided with a plurality of heating elements 11 therein and a reaction furnace having a left cover 12 'and a right cover 13' to be opened and closed. (1) and a reaction chamber (2) provided in the inner space of the reactor (1) to be heated by heat generated by the heating element (11) to purify the fluid, wherein the heating element (11) is a non-heating unit And a heat generating portion 112 made of a molybdenum disulfide (MoSi 2) material.

도 8 및 도 9는 도 7에 도시된 유해 가스 정화 장치의 발열체 설치 구조를 나타낸 사시도로, 도 7에서는 발열체(11)를 반응로(1)의 내측벽에 설치하였으나, 도 8에 도시된 바와 같이 상기 발열체(11)를 반응 챔버(2)의 외주면을 감싸도록 형성하거나, 도 9에 도시된 바와 같이 발열부(112)를 유체가 흐르는 반응 챔버(2)의 내부에 구비하고, 비발열부(111)를 반응 챔버(2)의 외측에 구비할 수 있다. 8 and 9 are perspective views illustrating a heating element installation structure of the hazardous gas purification apparatus illustrated in FIG. 7. In FIG. 7, the heating element 11 is installed on the inner wall of the reactor 1, but as illustrated in FIG. 8. As described above, the heating element 11 is formed to surround the outer circumferential surface of the reaction chamber 2, or as shown in FIG. 9, the heating part 112 is provided inside the reaction chamber 2 through which the fluid flows, and the non-heating part ( 111 may be provided outside the reaction chamber 2.

상기 본 발명의 다른 실시예 및 또 다른 실시예에 따른 유해 가스 정화 장치에서의 발열체 또한, 상기 본 발명의 일실시예와 마찬가지로, 도 3a 내지 도 3g에 도시된 바와 같이 직봉형, U 형, 벤트형, W 형, 나사형, 파노라마형 및 면상형 중 선택된 어느 하나 또는 이들 중 선택된 여러 형태를 혼합하여 채택할 수 있다. Heating element in the harmful gas purifying apparatus according to another embodiment and another embodiment of the present invention, as in the embodiment of the present invention, as shown in Figures 3a to 3g, straight, U-shaped, vent Any one selected from the shape, W shape, screw type, panoramic type and planar type, or a combination of several types selected from these may be adopted.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 1700℃ 이상 발열되는 이규화몰디브덴(MoSi2) 물질로 이루어지는 발열체를 이용함에 따라 유체를 신속하게 정화시킬 수 있어 정화 효율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.As described above, according to the present invention, by using a heating element made of molybdenum disulfide (MoSi 2) material that generates heat of 1700 ° C. or more, the fluid can be quickly purged, thereby improving the purification efficiency.

또한, 본 발명에서는 내산화성 및 자연 치유성이 뛰어난 고온 발열체를 이용함에 따라 발열체의 부하 발생 없이 많은 양과 빠른 속도로 유입되는 유체를 정화할 수 있어 발열체의 손상에 따른 교체 작업이 불필요하므로, 생산성 향상 및 비용 절감을 할 수 있는 이점이 있다. In addition, in the present invention, by using a high temperature heating element excellent in oxidation resistance and natural healing properties, it is possible to purify the fluid flowing in a large amount and at a high speed without generating a load of the heating element, so that replacement work due to the damage of the heating element is unnecessary, thereby improving productivity. And cost reduction.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 중심으로 기술되었지만 당업자라면 이러한 기재로부터 본 발명의 범주를 벗어남이 없이 많은 다양하고 자명한 변형이 가능하다는 것은 명백하다. 따라서 본 발명의 범주는 이러한 많은 변형예들을 포함하도록 기술된 특허청구범위에 의해서 해석되어져야 한다.Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it will be apparent to those skilled in the art that many different and obvious modifications are possible without departing from the scope of the invention from this description. Therefore, the scope of the invention should be construed by the claims described to include many such variations.

Claims (7)

유해 가스를 소각하여 정화시키는 유해 가스 정화 장치에 있어서,In the harmful gas purification device which incinerates and cleans harmful gases, 개폐가 가능한 반응로(1)와,Reactor (1) which can open and close, 상기 반응로(1) 내부 공간부에 구비되어 그 내부를 통과하는 유체를 정화시키는 반응 챔버(2)와,A reaction chamber (2) provided in the inner space of the reactor (1) to purify the fluid passing therein; 상기 반응 챔버(2)를 통과하는 유체를 가열시키는 발열체(11)를 포함하되,It includes a heating element (11) for heating the fluid passing through the reaction chamber (2), 상기 발열체(11)는 비발열부(111)와 이규화몰디브덴 물질로 이루어지는 발열부(112)를 포함하여 구성되되 The heating element 11 is configured to include a non-heating portion 111 and the heat generating portion 112 made of molybdenum disulfide material 상기 반응 챔버(2)는;The reaction chamber (2); 유입관(21)을 통해 유입되는 유체를 가열하여 1차 정화시키는 버닝관(22)과,A burning tube 22 for firstly purifying the fluid flowing through the inlet tube 21, 상기 버닝관(22)으로부터 유입되는 유해 가스를 2차 정화시키는 촉매제(231)가 구비되는 촉매관(23), 및Catalyst tube 23 is provided with a catalyst 231 for secondary purification of the harmful gas flowing from the burning tube 22, and 상기 촉매관(23)에서 정화되어 유입되는 가스를 배출하는 배출관(24)을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치. The apparatus for purifying harmful gases using ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating elements, characterized in that it comprises a discharge pipe (24) for discharging the gas introduced by purification in the catalyst pipe (23). 유해 가스를 소각하여 정화시키는 유해 가스 정화 장치에 있어서,In the harmful gas purification device which incinerates and cleans harmful gases, 개폐가 가능한 반응로(1)와,Reactor (1) which can open and close, 상기 반응로(1) 내부 공간부에 구비되어 그 내부를 통과하는 유체를 정화시키는 반응 챔버(2)와,A reaction chamber (2) provided in the inner space of the reactor (1) to purify the fluid passing therein; 상기 반응 챔버(2)를 통과하는 유체를 가열시키는 발열체(11)를 포함하되,It includes a heating element (11) for heating the fluid passing through the reaction chamber (2), 상기 발열체(11)는 비발열부(111)와 이규화몰디브덴 물질로 이루어지는 발열부(112)를 포함하여 구성되되 The heating element 11 is configured to include a non-heating portion 111 and the heat generating portion 112 made of molybdenum disulfide material 상기 반응 챔버(2)는;The reaction chamber (2); 유입관(25)을 통해 유입되는 유체를 가열시켜 소정 물질을 멸취 및 정화시키기 위한 제 1 챔버(26)와, A first chamber 26 for annihilating and purifying a predetermined substance by heating a fluid flowing through the inlet pipe 25, 상기 제 1 챔버(26)로부터 가열된 유체의 온도가 일정 온도 이하로 냉각한 후 배출시키는 제 2 챔버(28), 및A second chamber 28 for discharging the fluid heated from the first chamber 26 after cooling to below a predetermined temperature, and 상기 제 1 챔버(26)와 제 2 챔버(28) 사이에 구비되고 촉매제가 구비되며 상기 제 1 챔버(26)로부터 제 2 챔버(28)로 유입되는 유체의 량을 조절하기 위한 내부 홀이 형성되어 있는 촉매관(27)으로 구성됨을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치.An inner hole is provided between the first chamber 26 and the second chamber 28, provided with a catalyst, and controls an amount of fluid flowing from the first chamber 26 to the second chamber 28. An apparatus for purifying harmful gases using an ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating element, comprising a catalyst tube (27). 제 1항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 유체는 F 또는 Cl을 포함하는 가스임을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치.The fluid is an apparatus for purifying harmful gases using ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating elements, which is a gas containing F or Cl. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 발열체(11)는 상기 반응로(1) 내측벽 또는 반응 챔버(2)의 외측면에 구비됨을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치.The heating element (11) is an apparatus for purifying harmful gases using an ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating element, characterized in that it is provided on the inner wall of the reactor (1) or the outer surface of the reaction chamber (2). 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 발열부(112)는 상기 반응 챔버(2) 내부에 구비되고, The heat generating part 112 is provided in the reaction chamber 2, 상기 발열부(112)의 양측 단에는 각각 비발열부(111)의 일측단이 연결되며,One end of each of the non-heating unit 111 is connected to both ends of the heat generating unit 112, 상기 비발열부(111)의 타측 단은 각각 상기 반응 챔버(2) 외부로 돌출 구비됨을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치. The other end of the non-heating unit 111 is a harmful gas purification apparatus using an ultra-high temperature heated molybdenum silicide dendritic heating element, characterized in that each protruding to the outside of the reaction chamber (2). 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 발열체(11)는 직봉형, U 형, 벤트형, W 형, 나사형, 파노라마형 및 면상형 중 선택된 적어도 하나 이상의 형태로 형성함을 특징으로 하는 초고온 급가열 이규화몰디브덴 발열체를 이용한 유해 가스 정화 장치.The heating element 11 is a noxious gas using an ultra-high temperature heated molybdenum disulfide heating element, characterized in that formed in at least one form selected from a straight rod, U type, vent type, W type, screw type, panoramic type and planar type. Purification device. 삭제delete
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