KR100773391B1 - 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법 - Google Patents

박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100773391B1
KR100773391B1 KR1020050081099A KR20050081099A KR100773391B1 KR 100773391 B1 KR100773391 B1 KR 100773391B1 KR 1020050081099 A KR1020050081099 A KR 1020050081099A KR 20050081099 A KR20050081099 A KR 20050081099A KR 100773391 B1 KR100773391 B1 KR 100773391B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bonding
metal
metal thin
process chamber
thin plate
Prior art date
Application number
KR1020050081099A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070025220A (ko
Inventor
김호섭
오상수
김태형
송규정
하홍수
고락길
Original Assignee
한국전기연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국전기연구원 filed Critical 한국전기연구원
Priority to KR1020050081099A priority Critical patent/KR100773391B1/ko
Priority to US11/386,598 priority patent/US20070057017A1/en
Priority to JP2006081593A priority patent/JP4445481B2/ja
Publication of KR20070025220A publication Critical patent/KR20070025220A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100773391B1 publication Critical patent/KR100773391B1/ko
Priority to US12/574,457 priority patent/US7845548B2/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/04Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a rolling mill
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/0008Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/01Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/34Coated articles, e.g. plated or painted; Surface treated articles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

본 발명은 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박판 접합 장치는 공정챔버 및 상기 공정챔버 일측에 연결되고 상기 공정챔버를 진공상태로 만드는 펌프를 포함한다. 상기 공정챔버 내에는 제1 및 제 2 금속박판을 각각 공급하는 제1 및 제2 공급부, 상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사하는 분사부, 및 상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키는 접합부가 구비된다. 본 발명에 의하면, 접합물질의 접합력이 향상되고, 다양한 접합물질이 사용될 수 있다.
박판 접합 장치, 공정챔버, 펌프, 공급부, 분사부, 접합부, 가열기

Description

박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법{LAMINATION APPARATUS AND LAMINATION METHOD USING THE SAME}
도 1은 본 발명에 따른 박판 접합 장치를 개략적으로 보여주는 도면,
도 2는 본 발명에 따른 박판 접합 장치에 의해 두 박판테이프가 접합되었을 때의 단면도,
도 3은 종래의 접합 방법에 따라 초전도테이프와 안정화금속테이프가 접합된 금속박판테이프의 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 접합 방법에 따라 초전도테이프와 안정화금속테이프가 접합된 금속박판테이프의 단면도이다.
♧ 도면의 주요부분에 대한 참조부호의 설명 ♧
10 : 공정챔버 21 : 제1 릴
22 : 제2 릴 23 : 제3 릴
25 : 분사부 30 : 금속 증발기
30h : 하우징 30e : 분사출구
30m : 접합물질 32 : 위치조정기
34 : 온도제어기 36 : 열차단막
40 : 가열기 50 : 펌프
55 : 흡착판
1t : 제1 금속박판테이프 2t : 제2 금속박판테이프
3t : 접합된 금속박판테이프 11t, 21t : 초전도테이프
12t, 22t : 안정화금속테이프 11t1, 21t1 : 기판층
11t2, 21t2 : 완충층 11t3, 21t3 : 초전도층
11t4, 21t4 : 보호층
본 발명은 접합 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법에 관한 것이다.
일반적으로 금속박판을 접합하는 방법으로는 접합되는 금속박판의 종류에 따라 브레이징 또는 솔더링 등 납땜에 의한 방법과 플라즈마 용접 또는 레이저 용접 등 용접에 의한 방법이 있다.
용접은 접합되는 금속박판의 접합부를 부분적으로 용융시켜 다시 응고시키는 과정에서 결합되는 것이다. 접합으로 형성되는 내부가 완전히 밀폐될 수 있도록 하기 위해서는 플라즈마 용접 또는 레이저 용접 등에 의해야 하지만, 납땜에 비하여 현격하게 높은 비용이 소요되므로 경제성이 떨어지는 문제가 있다.
납땜은 접합되는 금속박판보다 낮은 녹는점을 갖는 접합물질을 사용하여, 용융된 접합물질이 모세관 현상에 의하여 접합되는 금속박판 사이로 골고루 스며들어가 응고됨으로써 금속박판을 접합시킨다. 납땜은 접합되는 금속박판의 용융온도에 따라서 약430℃ 이하인 경우를 솔더링(soldering)이라 하고, 그 이상인 경우를 브레이징( brazing)이라 하며, 금속박판의 종류에 따라서 선택적으로 적용된다.
그런데, 이러한 납땜에 의하여 금속박판을 접합하는 경우, 녹는점이 금속박판보다 낮은 접합물질을 사용하여야 하는 등 접합물질을 선택하는데 있어서 제한을 받는다. 또한, 접합물질의 두께가 다를 수 있고, 접합물질이 다공의 상태로 되어 밀도가 낮을 수 있으며, 납땜은 대기 중에서 수행되므로 접합물질이 산화되기 쉽다. 이러한 여러가지 이유로 접합물질의 접합력이 상당히 떨어질 수 있다.
본 발명은 이상에서 언급한 상황을 고려하여 제안된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 접합력을 향상시킬 수 있는 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법을 제공하는 것이다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 박판 접합장치는 공정챔버 및 상기 공정챔버 일측에 연결되고 상기 공정챔버를 진공상태로 만드는 펌프를 포함한다. 상기 공정챔버 내에는 제1 및 제 2 금속박판을 각각 공 급하는 제1 및 제2 공급부, 상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사하는 분사부, 및 상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키는 접합부가 구비된다.
상기 금속박판은 테이프형일 수 있으며, 상기 제1 및 제2 공급부는 각각 제1 및 제2 릴이고, 상기 테이프형의 제1 및 제2 금속박판은 상기 제1 및 제2 릴의 회전에 의해 공급될 수 있다. 상기 제1 및 제2 릴의 폭은 서로 다를 수 있다. 상기 접합부는 롤러이고, 상기 테이프형의 제1 및 제2 금속박판은 상기 롤러의 회전에 의해 일측으로 밀착되어 접합될 수 있다. 상기 접합부에 의해 접합된 금속박판이 감기는 제3 릴이 더 포함될 수 있다.
상기 접합부는 상기 제1 및 제2 금속박판을 서로 밀착시켜서 접합시킬 수 있다. 이는 상기 제1 및 제2 금속박판이 밀착될 때 상기 두 금속박판 사이의 틈에 접합물질이 메워지게 되고, 이때 생긴 접합층에 의해 상기 두 금속박판은 접합된다.
상기 접합부에 의해 접합된 금속박판을 가열하여 상기 제1 및 제2 금속박판의 접합력을 높이는 가열기가 더 포함될 수 있다. 상기 가열기는 고주파 유도 가열기, 적외선 가열기, 또는 할로겐 히터 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다. 상기 가열기는 상기 접합부 내에 장착될 수 있다.
상기 분사부는 금속 증발기(thermal evaporator)일 수 있다.
상기 분사부의 분사출구의 폭은 상기 제1 금속박판 또는 상기 제2 금속박판의 폭과 동일할 수 있다.
상기 분사부에 연결되고, 상기 접합부에 대한 상기 분사부의 위치를 조정하 는 위치조정기가 더 포함될 수 있다.
상기 분사부에 연결되고, 상기 분사부의 온도를 조절하는 온도제어기가 더 포함될 수 있다.
상기 제1 및 제2 금속박판과 상기 분사부 사에에 위치하는 열차단막이 더 포함될 수 있다.
상기 공정챔버와 상기 펌프 사이에 위치하고, 상기 접합물질의 증기를 흡착하여 상기 접합물질이 상기 펌프로 들어가는 것을 방지하는 흡착판이 더 포함될 수 있다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 다른 측면에 따른 박판 접합 방법은 제1 및 제2 금속박판이 구비된 공정챔버 내부를 진공상태로 만드는 것을 포함한다. 상기 제1 및 제2 금속박판을 공급하고, 상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사한다. 상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키고, 상기 접합된 금속박판을 가열한다.
상기 제1 금속박판은 초전도테이프이고, 상기 제2 금속박판은 안정화금속테이프일 수 있다. 이때, 상기 초전도테이프의 폭이 상기 안정화금속테이프의 폭보다 작을 수 있다. 상기 초전도테이프는 보호층, 초전도층, 완충층, 및 기판층의 적층구조일 수 있으며, 상기 접합물질은 상기 초전도테이프를 둘러쌀 수 있다.
상기 접합물질을 분사시키는 것은 금속 증발에 의해 수행될 수 있다. 상기 금속 증발을 위하여 히터에 의한 가열 또는 고주파 유도 가열이 사용될 수 있다.
상기 접합된 금속박판을 가열하는 것은 고주파 유도 가열, 적외선 가열, 또는 할로겐 히터에 의한 가열 중에서 선택된 어느 하나의 방법에 의해 수행될 수 있다.
본 발명에 의하면, 접합물질의 접합력이 향상되고, 다양한 접합물질이 사용될 수 있다.
이하에서는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다.
본 명세서의 실시예에서 제1, 제2 등의 용어들은 단지 어느 소정의 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었으므로, 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다.
도면들에 있어서, 구성요소들의 크기 등은 명확성을 기하기 위하여 과장되게 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 박판 접합 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 공정챔버(10) 내에 제1, 제2 및 제3 릴(21,22,23)이 위치한다. 제1 릴(21)에 감겨져 있는 제1 금속박판테이프(1t)는 제1 릴(21)의 회전에 의해 공급되고, 제2 릴(22)에 감겨져 있는 제2 금속박판테이프(2t)는 제2 릴(22)의 회전에 의해 공급된다.
금속 증발기(30)는 공급된 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t) 사이에 접합물질(30m)인 금속 증기를 분사시킨다. 금속 증발기(30)는 밀폐형 하우징(30h)과 분사출구(30e)를 포함한다. 하우징(30h)에 형성된 시료투입구(미도시)를 통해 하우징 내부에 금속물질이 투입되고, 가스주입구(미도시)를 통해 하우징 내부에 불활성 가스가 주입된다. 이때, 불활성 가스를 주입하지 않고 금속물질을 고온의 증기로 만들어 분사할 수도 있다. 하우징(30h) 내부에는 투입된 금속물질을 증발시키는 가열수단(미도시)이 배치된다. 하우징 내부의 불활성 가스 및 증발된 금속물질은 분사출구(30e)를 통하여 고속분사된다. 분사출구(30e)의 폭은 제1 금속박판테이프(1t) 또는 제2 금속박판테이프(2t)의 폭과 동일할 수 있다. 증기상태로 분사된 금속물질이 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t)를 접합시키는 접합물질(30m)이 된다. 접합물질(30m)로 사용되는 금속물질로는 은(Ag), 아연(Zn), 구리(Cu), 납(Pb) 등이 있다. 가열수단에는 온도제어기(34)가 연결되어 금속물질의 온도가 일정하게 제어될 수 있다. 금속 증발기(30)의 하부에 연결된 위치조정기(32)에 의해 금속 증발기(30)의 위치가 조절될 수 있다. 접합물질(30m)의 증착효율을 높이기 위해서 분사출구(30e)가 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t)가 접합되는 부분에 최대한 밀 착되는 것이 좋다. 금속 증발기(30)에서의 금속 증발을 위하여 히터에 의한 가열 또는 고주파 유도 가열 등의 방법이 사용될 수 있다.
금속 증발기(30)의 복사열이 금속박판테이프들(1t,2t)을 과다하게 가열할 경우를 대비하여, 금속 증발기(30)와 금속박판테이프들(1t,2t) 사이에 열차단막(36)이 배치될 수 있다.
접합부(25)는 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t)를 밀착시켜 접합시킨다. 접합부(25)로 롤러가 사용될 수 있다. 이때, 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t)는 롤러의 회전에 의해 밀착되어 접합된다.
이렇게 접합된 금속박판테이프(3t)는 제3 릴(23)에 의해 감겨진다.
롤러(25)와 제3 릴(23) 사이에 가열기(40)가 배치될 수 있다. 가열기(40)는 고주파 유도 가열기, 적외선 가열기, 또는 할로겐 히터 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다. 또한, 가열기(40)는 롤러(25) 내에 장착될 수 있다. 가열기(40)는 접합된 금속박판테이프(3t)를 가열하여 접합력을 향상시킨다. 이때, 가열온도는 접합물질(30m)의 녹는점 이하가 되는 것이 바람직하다.
공정챔버(10) 일측에는 펌프(50)가 배치된다. 펌프(50)는 공정챔버 내부를 진공상태로 만들어, 금속 증발기(30)에서 증기상태로 증발된 금속물질이 산화되지 않은 상태로, 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t)가 접합되는 부분으로 공급되도록 한다. 공정챔버(10)와 펌프(50) 사이에 흡착판(55)이 배치될 수 있다. 이 흡착판(55)은 접합물질(30m)인 금속 증기를 흡착하여, 금속 증기가 펌프(50)로 들어가는 것을 방지한다.
도 2는 본 발명에 따른 박판 접합 장치에 의해 두 금속박판테이프가 접합되었을 때의 단면도이다.
도 2를 참조하면, 제1 금속박판테이프(1t)와 제2 금속박판테이프(2t)가 접합물질(30m)에 의해 접합된다. 제1 및 제2 금속박판테이프(1t,2t) 사이에 위치하는 접합물질(30m)의 두께는 균일하다. 도시되어 있지 않지만, 접합물질(30m)의 밀도는 높으며, 그 구조 또한 치밀하다.
도 3은 종래의 접합 방법에 따라 제1 및 제2 금속박판테이프가 접합된 금속박판테이프의 단면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 접합 방법에 따라 접합된 금속박판테이프의 단면도이다. 이때, 제1 및 제2 금속박판테이프는 각각 초전도테이프와 안정화금속테이프일 수 있다. 안정화금속테이프는 구리(Cu)나 스텐레스 등으로 만들어지며, 초전도테이프의 과전류를 수용하는 등 초전도테이프를 보호하는 기능을 갖는다.
도 3을 참조하면, 초전도테이프(11t)는 기판층(11t1), 완충층(11t2), 초전도층(11t3), 및 보호층(11t4)을 포함한다. 초전도테이프(11t)와 안정화금속테이프(12t)가 접합물질(30m)에 의해 접합된다. 초전도층(11t3)과 기판층(11t1) 사이에 절연성 물질의 완충층(11t2)이 개재되기 때문에 초전도층(11t3)에 임계전류 이상의 과전류가 흐르게 되면 안정화금속테이프(12t)를 통하여 전류가 흐르게 된다. 따라서, 과전류를 수용할 수 있는 능력이 제한되었다.
도 4를 참조하면, 초전도테이프(21t)의 구조는 종래의 초전도테이프(도 3 참조)와 동일하다. 그러나, 초전도테이프(21t)의 폭이 안정화금속테이프(22t)의 폭 보다 작다. 따라서, 초전도테이프(21t)와 안정화금속테이프(22t)를 접합물질(30m)로 접합시키면, 초전도테이프(21t)의 측면에도 접합물질(30m)이 증착하게 된다. 또한, 접합물질(30m)은 초전도테이프(21t)를 둘러쌀 수 있다. 접합물질(30m)은 금속물질이므로 전도성이 있기 때문에 초전도층(21t3)은 기판층(21t1)과 전기적으로 통할 수 있게 된다. 이에 의해, 초전도층(21t3)의 과전류를 기판층(21t1) 및 안정화금속테이프(22t)를 통하여 우회시킬 수 있으므로 과전류 수용량을 더 늘일 수 있게 된다.
한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다.
그러므로, 본 발명의 범위는 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
상술한 본 발명에 의하면, 진공증착법을 이용하므로 접합물질의 녹는점이 높은 경우에도 진공속에서 쉽게 온도를 높일 수 있고 높은 증기압을 얻을 수 있으므로, 다양한 접합물질을 사용하여 박판을 접합시킬 수 있다.
분사부 내의 접합물질의 증기압은 온도제어기에 의해 정확하게 제어되므로 일정한 증착률을 얻을 수 있어 접합물질의 두께가 균일하다.
진공증착은 접합물질이 원자상태로 고속분사되어 증착되기 때문에 밀도가 높은 접합층을 얻을 수 있다.
진공상태에서 산화반응가스를 최소한 줄여서 증착되기 때문에 접합물질이 산화될 확률이 줄어든다. 산화반응가스가 잔류하고 있는 경우라도 두 박판이 접합되는 부분에는 증기가 높은 기압을 이루기 때문에 산화반응가스가 쉽게 접근하지 못한다.
따라서, 이러한 여러 가지 이유로 접합물질의 접합력이 향상된다.
또한, 진공증착을 이용하는 박판 접합 장치의 제작 및 유지 비용이 저렴하다.
초전도테이프와 안정화금속테이프가 본 발명에 따른 접합 방법에 의해 접합되는 경우, 전도성 접합물질을 테이프 옆면에 증착할 수 있으므로 기판층까지 전기적 접촉을 가능하게 한다. 이에 의해, 과전류를 기판층 및 안정화금속테이프를 통하여 우회시킬 수 있으므로 과전류 수용량을 더 늘일 수 있다.

Claims (23)

  1. 공정챔버;
    상기 공정챔버 내에 위치하고, 제1 및 제 2 금속박판을 각각 공급하는 제1 및 제2 공급부;
    상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사하는 분사부;
    상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키는 접합부;
    상기 접합부에 의해 접합된 금속박판을 가열하여 상기 제1 및 제2 금속박판의 접합력을 높이는 가열기; 및
    상기 공정챔버 일측에 연결되고, 상기 공정챔버를 진공상태로 만드는 펌프를 포함하고,
    상기 제1 및 제2 공급부는 각각 서로 다른 폭을 갖는 제1 및 제2 릴인 박판 접합 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속박판은 테이프형이고,
    상기 테이프형의 제1 및 제2 금속박판은 상기 제1 및 제2 릴의 회전에 의해 공급되는 박판 접합 장치.
  3. 삭제
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 접합부는 롤러이고, 상기 테이프형의 제1 및 제2 금속박판을 상기 롤러의 회전에 의해 일측으로 밀착시켜서 접합시키는 박판 접합 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 접합부에 의해 접합된 금속박판이 감기는 제3 릴을 더 포함하는 박판 접합 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 접합부는 상기 제1 및 제2 금속박판을 서로 밀착시켜서 접합시키는 박판 접합 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열기는 고주파 유도 가열기, 적외선 가열기, 또는 할로겐 히터 중에서 선택된 어느 하나인 박판 접합 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열기는 상기 접합부 내에 장착된 박판 접합 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 공정챔버와 상기 펌프 사이에 위치하고, 상기 접합물질의 증기를 흡착하여 상기 접합물질이 상기 펌프로 들어가는 것을 방지하는 흡착판을 더 포함하는 박판 접합 장치.
  10. 공정챔버;
    상기 공정챔버 내에 위치하고, 제1 및 제 2 금속박판을 각각 공급하는 제1 및 제2 공급부;
    상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사하는 분사부;
    상기 분사부에 연결되고, 상기 접합부에 대한 상기 분사부의 위치를 조정하는 위치조정기;
    상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키는 접합부; 및
    상기 공정챔버 일측에 연결되고, 상기 공정챔버를 진공상태로 만드는 펌프를 포함하는 박판 접합 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 분사부의 분사출구의 폭은 상기 제1 금속박판 또는 상기 제2 금속박판의 폭과 동일한 박판 접합 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 분사부는 금속 증발기인 박판 접합 장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 분사부에 연결되고, 상기 분사부의 온도를 조절하는 온도제어기를 더 포함하는 박판 접합 장치.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 금속박판과 상기 분사부 사에에 위치하는 열차단막을 더 포함하는 박판 접합 장치.
  15. 제 10 항에 있어서,
    상기 공정챔버와 상기 펌프 사이에 위치하고, 상기 접합물질의 증기를 흡착하여 상기 접합물질이 상기 펌프로 들어가는 것을 방지하는 흡착판을 더 포함하는 박판 접합 장치.
  16. 삭제
  17. 제1 및 제2 금속박판이 구비된 공정챔버 내부를 진공상태로 만들고,
    상기 제1 및 제2 금속박판을 공급하고,
    상기 공급된 제1 및 제2 금속박판 사이에 접합물질을 분사하고,
    상기 제1 및 제2 금속박판을 접합시키고,
    상기 접합된 금속박판을 가열하는 것을 포함하고,
    상기 제1 금속박판은 초전도테이프이고, 상기 제2 금속박판은 안정화금속테이프인 박판 접합 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 초전도테이프의 폭이 상기 안정화금속테이프의 폭보다 작은 박판 접합 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 초전도테이프는 보호층, 초전도층, 완충층, 및 기판층의 적층구조인 박판 접합 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 접합물질은 상기 초전도테이프를 둘러싸는 박판 접합 방법.
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 삭제
KR1020050081099A 2005-09-01 2005-09-01 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법 KR100773391B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050081099A KR100773391B1 (ko) 2005-09-01 2005-09-01 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법
US11/386,598 US20070057017A1 (en) 2005-09-01 2006-03-22 Lamination apparatus and lamination method using the same
JP2006081593A JP4445481B2 (ja) 2005-09-01 2006-03-23 薄板接合装置及びこれを用いた薄板接合方法
US12/574,457 US7845548B2 (en) 2005-09-01 2009-10-06 Lamination method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050081099A KR100773391B1 (ko) 2005-09-01 2005-09-01 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070025220A KR20070025220A (ko) 2007-03-08
KR100773391B1 true KR100773391B1 (ko) 2007-11-05

Family

ID=37854053

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050081099A KR100773391B1 (ko) 2005-09-01 2005-09-01 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법

Country Status (3)

Country Link
US (2) US20070057017A1 (ko)
JP (1) JP4445481B2 (ko)
KR (1) KR100773391B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7631727B2 (en) * 2006-05-24 2009-12-15 Airbus Deutschland Gmbh Sandwich structure with frequency-selective double wall behavior
KR100945201B1 (ko) * 2007-10-31 2010-03-03 한국전기연구원 안정화재가 형성된 초전도 박막선재 및 그의 접합방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11226753A (ja) 1998-02-19 1999-08-24 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 帯板多層圧着設備
JP2000107871A (ja) 1998-08-07 2000-04-18 Hitachi Metals Ltd クラッド金属板の製造方法
JP2001096376A (ja) 2000-08-30 2001-04-10 Hitachi Metals Ltd 積層帯材の製造装置
JP2002127298A (ja) 2000-10-18 2002-05-08 Toyo Kohan Co Ltd 多層金属積層板及びその製造方法
JP2002346765A (ja) 2001-05-29 2002-12-04 Hitachi Metals Ltd 積層金属帯の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2996418A (en) * 1957-06-05 1961-08-15 Gen Motors Corp Method and apparatus for vapor depositing thin films
US3591827A (en) * 1967-11-29 1971-07-06 Andar Iti Inc Ion-pumped mass spectrometer leak detector apparatus and method and ion pump therefor
US4011982A (en) * 1975-09-15 1977-03-15 Airco, Inc. Surface joining by bonding of metal and deposited metal
JPS5317583A (en) 1976-08-02 1978-02-17 Nippon Sheet Glass Co Ltd Process for forming vacuum evaporation layer on largeesized substrate surface
US4452389A (en) * 1982-04-05 1984-06-05 The Bendix Corporation Method for welding with the help of ion implantation
JPH01127184A (ja) 1987-11-10 1989-05-19 Kawasaki Steel Corp 溶射複合型制振鋼板の製造方法
KR20000071383A (ko) * 1999-02-26 2000-11-25 마쯔노고오지 배선층 전사용 복합재와 그 제조방법 및 장치
EP1086776B1 (en) * 1999-09-22 2006-05-17 Hitachi Metals, Ltd. Laminated ribbon and method and apparatus for producing same
JP2001087872A (ja) 1999-09-22 2001-04-03 Hitachi Metals Ltd 積層金属板の製造方法
US20020006526A1 (en) * 1999-10-11 2002-01-17 Polese Frank J. Aluminum silicon carbide and copper clad material and manufacturing process

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11226753A (ja) 1998-02-19 1999-08-24 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 帯板多層圧着設備
JP2000107871A (ja) 1998-08-07 2000-04-18 Hitachi Metals Ltd クラッド金属板の製造方法
JP2001096376A (ja) 2000-08-30 2001-04-10 Hitachi Metals Ltd 積層帯材の製造装置
JP2002127298A (ja) 2000-10-18 2002-05-08 Toyo Kohan Co Ltd 多層金属積層板及びその製造方法
JP2002346765A (ja) 2001-05-29 2002-12-04 Hitachi Metals Ltd 積層金属帯の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007061899A (ja) 2007-03-15
KR20070025220A (ko) 2007-03-08
JP4445481B2 (ja) 2010-04-07
US7845548B2 (en) 2010-12-07
US20070057017A1 (en) 2007-03-15
US20100022398A1 (en) 2010-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011067864A (ja) 加熱溶融処理装置および加熱溶融処理方法
KR102571961B1 (ko) 복합 재료를 제조하기 위한 방법
WO2013039005A1 (ja) 乾燥装置及び乾燥方法
US6410881B2 (en) Process for manufacturing electronic circuits
KR20130111272A (ko) 증발원, 및 그것을 이용한 진공 증착 장치
JP2002280417A (ja) 半導体装置及びその製造方法並びに半導体製造装置
KR100773391B1 (ko) 박판 접합 장치 및 이를 이용한 박판 접합 방법
JP5077529B2 (ja) 絶縁基板の製造方法、ならびに半導体装置の製造方法
US20140050850A1 (en) Vacuum apparatus, method for cooling heat source in vacuum, and thin film manufacturing method
CN107112248A (zh) 芯片接合装置以及芯片接合方法
US6645572B2 (en) Process for producing a ceramic evaporation boat having an improved initial wetting performance
JP2012028589A (ja) 加熱溶融処理方法および加熱溶融処理装置
KR101172810B1 (ko) 초전도 선재 리플로우 라미네이팅 장치
KR100264945B1 (ko) 박판스트립의 연속제조 방법 및 장치
EP0217685B1 (fr) Panneau renforcé, son procédé de fabrication et appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé
JP2011124430A (ja) 太陽電池モジュールの接合方法および接合装置
US9042048B1 (en) Laser-ignited reactive HAMR bonding
JP4872647B2 (ja) クラッド材製造設備の加熱冷却装置
EP0385007A2 (en) Sealing of polymeric web surfaces
JPH04270181A (ja) 超伝導体繊維を銅チャンネルにはんだ付けする方法
KR100628929B1 (ko) 박막증착장치
JPH11224889A (ja) 電子部品共晶ボンディング用ヒートブロック
JPH10291876A (ja) 金属ーセラミックス複合部材の製造方法及びその装置
JP2003053527A (ja) ハンダ溶融装置およびこれを用いた噴流式ハンダ付け装置
JP3926084B2 (ja) フロー式はんだ付け装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121031

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131031

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141231

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151028

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161027

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181031

Year of fee payment: 12