KR100772726B1 - 탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리 방법 및 이방법에 의하여 제조한 탈황장치 반응조의 에지테이터 - Google Patents

Abstract

본 발명은 화력발전소, 대규모 공장설비 등에서 배출되는 배출가스중 탈황장치의 반응조에 사용되는 에지테이터의 라이닝 처리 방법과 이 방법에 의하여 제작된 에지테이터에 관한 것이다.

화석연료를 연소하면서 매연이 발생하게 되며, 이 매연중에서 탈황을 위한 장치는 주로 습식배기가스 탈황장치가 범용적으로 이용되고 있다.

탈황을 위하여 배기가스를 주로 석회석-석고법(limestone-plaster method)에 의거한 탈황장치는 칼슘화합물을 흡수제로 이용하므로 반응조내에 부득히 고체상 탄산칼슘이 생성된다.

이 고형의 탄산칼슘은 고속회전하는 에지테이터의 윙표면 그리고 모서리부와 충돌하면서 이 부분의 마모가 불가피하게 된다. 이러한 마모가 발생하면서 고속 날개의 편심에 의한 진동발생은 물론이고 심한 경우 윙이 이탈 파괴되면서 반응조에 심한 충격을 주기도 한다.

본 발명은 에지테이터의 윙 표면에 다중구조로 탄성고무층을 적층하도록 하였다. 특히 화합물에 의한 내화학성이 우수하면서 금속재질의 윙과 접착력이 좋은 고무를 2중으로 적층하고, 프로펠러 형태의 윙의 첨예부는 4중구조로 구성하며, 특히 내층이 외층보다 탄성이 약하게 하고, 접착제도 선별 사용하므로서 회전중 윙에 가해지는 충격을 흡수제거하도록 하여 에지테이터의 가동중 각종 소음, 진동을 최소화하고, 마모와 고장도 없도록 하였다. 특히 장시간 가동후에도 금속재질의 윙은 그대로 유지되므로 일정기간 사용후 표면의 내외층만 제거후에 다시 라이닝 처리하면 거의 영구적 사용이 가능하여 경제성도 크게 개선하게 되었다.

탈황, 고무, 에지테이터

Description

탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리 방법 및 이 방법에 의하여 제조한 탈황장치 반응조의 에지테이터{Lining method of agitator propeller for the desulfurization reactor and its agitator propeller }

도 1 은 일반 에지테이터의 마모 파손 형태를 보여주는 도면대용 사진

도 2 는 반응조 내에 적체된 고상 입자들을 모아 놓은 상태의 사진,

도 3 은 반응조 내에 본 발명의 에지테이터 설치 직전의 상태 사진,

도 4 는 반응조 내에 본 발명의 에지테이터가 설치된 상태의 사진,

도 5 는 본 발명의 에지테이터 탄성층 적층 순서를 도시한 구성도,

도 6 은 본 발명의 에지테이터의 선단부 일부 절개된 상태의 구성도,

도 7 은 본 발명의 에지테이터에 내층적재되는 상태를 도시하는 선단부 일부 절개된 구성도,

도 8 은 본 발명의 에지테이터에 내층이 적층된 상태의 선단부 일부 절개된 구성도,

도 9 는 본 발명의 에지테이터에 내외층이 모두 적층된 상태의 선단부 일부절개된 구성도임.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1:에지테이터 2:윙 d:넓이 1a:내층 1b:외층

공장의 연소 기체에는 여러 가지 공해물질이 포함되어 있다. 이 중에서 황화합물은 석회석-석고법에 의하여 칼슘화합물을 흡습제로 이용하여 배기가스내에 들어있는 황산화물을 흡수하고, 이러한 반응을 통하여 생성된 아황산칼슘을 안정된 석고로 연화시키며 이렇게 반응이 된 상태는 반응조내에 침전물로 저류하며, 이것을 반응조내의 액을 모두 배출한 다음 바닥에 잔류한 침전물을 추후 제거한다(도 2).

CaO + SO2 -> CaSO3 + O -> CaSO4

이러한 처리 과정 중 오염물을 흡수제거하여 석고(탄산칼슘계통)의 형태로 고정하는 반응조에서, 반응을 촉진하기 위하여 프로펠러 형태로 구성한 에지테이터를 고속회전한다. 이런 에지테이터는 윙을 여러 개 연결한 프로펠러 형태로 반응중에 생성된 고체상의 황산칼슘 침전입자들과 필연적으로 충돌이 발생한다. 이러한 충돌이 연속적으로 장시간 지속이 되면 금속재질의 날개 선단부가 마모가 되고, 심한 경우 날개 중앙부까지 크랙 과 마모가 발생한다(도 1). 이러한 크랙과 마모는 단순히 윙부의 마모에 머무르는 것이 아니라, 고속회전하는 프로펠러형태의 에지테이터에 각각의 윙이 무게가 달라지면서 무게편차에 의한 심한 진동을 발생한다. 진동이 계속 진행되면 에지테이터 축의 왜곡으로 축이 변형하고 심한 경우 윙이 이탈하면서 반응조 내벽에 손상을 주는 안전사고가 발생한다.

대개 반응조의 직경이 16m 이상이고, 흡수탑도 대개 10m이상의 대형이며, 에지테이터의 윙부분도 1600mm 이상이면서 회전속도가 수천 rpm으로 고속회전이 된다. 이러한 고속 대형 윙의 자그마한 변형은 심각한 문제를 유발하게 되므로 일정시간이 경과하면 에지테이터 전체를 보수 교체하여야 한다. 빈번한 교체와 수리는 결국 공장 운용비의 상승으로 이어지고 원가 상승의 한 요인이 되고 있다.

본 발명은 반응조의 에지테이터에 설치되는 윙의 표면부에 고속의 회전시 발생하는 고상 입자를 충분히 흡수할 수 있는 탄성구조층을 윙의 표면에 설치한 에지테이터 라이닝 처리방법 및 이 방법에 의하여 제조한 탈황장치 반응조의 에지테이터에 관한 것이다.

본 발명은 특히 내부 반응조가 산성에 치우치면서 산성에 의한 부식도 방지하면서 일정한 운영 기간이 경과한 후에는 기존의 프로펠러 형태의 윙 자체는 그대로 잔류하면서 윙의 외면에 적층 처리한 탄성층을 교체하여 주는 작업만으로 유지 보수가 가능하게 하는 에지테이터 라이닝 처리방법에 관한 것이다.

본 발명은 특히 금속재질로 구성된 에지테이터와 표면에 적층한 고무가 서로 이질(異質)의 재질로 장시간 화학반응조내에서 고속 회전하여도 분리가 일어나지 않으며, 강한 화학성분액 내의 회전과 침전된 고체들과의 충돌을 동시에 흡수할 수 있는 에지테이터를 제공하고자 한다.

본 발명은 화력발전소와 같이 대규모 매연배출소로 부터 배출되는 배기 가스중에서 탈황을 하기 위한 반응조의 에지테이터에 사용되는 프로펠러 형태의 윙 표면부를 내충격성을 갖도록 라이닝 처리하는 방법 그리고 이 방법에 의하여 제조한 탈황장치 반응조의 에지테이터에 관한 것이다.

본 발명은 장기간 사용되어져 에지부를 비롯하여 윙의 여러 부위에 손상이 가해진 에지테이터의 윙의 표면을 탄성과 내구성을 갖도록 라이닝 처리하여 폐기 혹은 교체가 불가피한 에지테이터를 재활용가능하도록 하는 방법도 제공하고자 한다.

본 발명은 특히 에지테이터의 윙과 고상입자가 충돌하면서 발생하는 충격력을 탄성의 고무층에 의하여 흡수제거하여 하부에 배치된 금속재질의 윙의 마모, 손상을 차단하며, 각종 화학적 침식을 방지하는 라이닝재를 피복하는 공정을 제공하고자 한다.

본 발명은 라이닝 처리에 있어 고무와 금속재질간의 접착력을 극대화하며 충격에 의한 분리를 방지하도록 하기 위하여 표면처리를 하며, 표면처리가 되면 고무와 금속간의 중간적인 완충과 접착기능을 갖도록 완충층을 구성하고 이 완충층에 고무질 탄성층을 피복하여 양생처리하는 라이닝 처리방법에 관한 것이다.

이하 본 발명의 대표적인 예를 첨부한 도면에 의하여 구체적으로 설명한다.

본 발명의 도 5 는 본 발명의 에지테이터에 내층과 외층의 탄성층이 적층되는 순서를 도시한 구성도이고, 도 6 은 본 발명의 탄성층이 적층된 상태의 에지테이터의 윙의 선단부 일부를 절개한 상태의 구성도이며, 도 7 은 본 발명의 에지테이터의 하나의 윙에 내층을 적층하는 상태의 부분 절개된 구성도이고, 도 8 은 본 발명의 에지테이터중의 어느 하나의 윙에 내층이 적층된 상태의 부분절개된 구성도이며, 도 9 는 본 발명의 에지테이터의 어느 하나의 윙에 내외층이 모두 적층된 상태의 부분절개된 구성도이다.

본 발명의 에지테이터 라이닝 처리는 도5에 도시하듯이 금속재의 에지테이터(1)의 각각의 프로펠러 형태의 윙(2)의 상하면에 2중의 탄성층을 구성하였다.

윙의 상하면에 적층되는 내층(1a)과 외층(1b)은 윙의 전체를 덮을 수 있도록 윙과 동일한 형태이면서 외측으로 확장된 넓이(d)를 갖도록 한다. 넓이(d)는 도 8에 도시하듯이 윙의 첨예부에 겹쳐지면서 이 첨예부를 다층으로 적층가능한 정도의 넓이로 구성한다. 즉, 윙의 두께가 변화하면 이 넓이도 함께 변경하여 주며, 내층위에 덮어주는 외층은 내층이 덮여진 다음 윙의 첨예부가 내층의 두께만큼 증가하므로 그만큼 확장된 넓이를 갖도록 하여 윙의 첨예부가 다중으로 적층되도록 한다.

윙에 적층되는 내층(1a)은 외층(1b)에 비하여 경도가 2 내지 4배가 높은 것을 사용하였다.

내층과 외층이 서로 다른 경도를 갖는 것은 경도가 높은 것일 수 록 팽창계수가 낮고 내부로의 충돌에너지 전달이 적게 되기 때문이다. 반면에 외층의 고탄성층은 외부에 직접 가해지는 충격을 대부분 흡수제거하여 내부로의 전달을 차단하도록 한다. 따라서 내외층이 서로 다른 탄성으로 구성되므로서 반응조에 형성된 미세한 고상물에 의한 충돌을 흡수하도록 하며, 회전중에 발생하는 고열로 윙이 열팽창되는 경우 외층과 윙과의 변형오차로 인한 층간분리를 최대한 억제하는 효과를 갖는다.

본 발명에서 2중으로 적층이 이루어지는 동시에 윙에 적층되는 내층(1a)은 외층(1b)에 비하여 경도가 2 내지 4배가 높은 것을 채용한 것은 에지테이터의 회전 으로 발생하는 충격이 우선 외층에 1차적으로 전달되고 이어서 내층 그리고 윙의 금속부분에 전달이 이루어진다. 이러한 전달 과정중에 외층은 내층에 비하여 비교적 탄성이 높은 것으로 이루어지므로 우선 이곳에서 대부분의 충격에너지를 흡수하며, 이어서 전달된 나머지 충격에너지는 내층에서 흡수하도록 하였다. 그결과 대부분의 충격에너지가 내부의 금속재 윙에 전달되지 못하도록 차단하여 준 것이다.

2중으로 적층 처리된 윙은 도 6과 같이 부시부(20)을 중심으로 프로펠러 형태로 구성되며, 부시부는 도면대용 사진인 도 3과 같이 반응조에 일부 노출된 회전축에 축결되도록 하여 도 4와 같이 고정된다.

본 발명에서 반응조의 에이테이터에 설치된 프로펠러 형태의 윙 표면에 상기한 상하층의 탄성층을 적층하는 공정은 아래와 같다.

처리할 윙의 표면을 계면활성제를 주재로 한 세정제로 탈지처리하고, 이어서 입경이 0.4 내지 1.6㎜인 샌드입자를 5내지 6 기압으로 조절된 블라스트기를 이용하여 날개 표면에 0.1내지 0.2초간 균질 분사처리하여 주는 표면 전처리 공정,

세척연마된 표면에 1차프라이머를 5 ～ 10 ㎛ 를 도포하고 30 내지 45분간 건조한 후 이어서 접착제 25～ 50 ㎛ 를 도포하여 40 내지 60분간 실온에서 건조처리하는 접착제 도포 공정,

40 내지 60분간 실온에서 건조처리하여 접착제가 건조되면, 원료고무에 산화아연 4 내지 7중량%, 스테아린산 1 내지 2중량%, 황 1 내지 2 중량%, 카본 45 내지 55 중량%, 가황촉진제 1 내지 2 중량%, 노화방지제 1 내지 2 중량%를 배합하여 구성한 고무혼합물로 제조한 고무 쉬이트를 윙부에 적층하는 공정,

접착부의 이상 유무를 검사한 다음, 140 ～ 150 ℃, 압력 4.5 ～ 5.0 ㎏/㎠로 유지되는 가황장치에서 12 내지 15시간 경화 처리하는 공정으로 구성한다.

본 발명에서 날개 표면에 대한 블라스트에 의한 샌딩처리는 금속재질의 종류에 따라 다르지만 대개의 경우 순간적인 샌드입자의 고압접촉으로 미세한 흠이 형성되어져 이어서 사용될 접착제의 접착 표면적을 증대시켜주도록 한다.

보다 구체적으로는 석영으로 이루어진 모래입자 혹은 주철과 같은 금속재 그릿과 같은 입자로 구성된 입경 0.4 내지 1.6㎜의 샌드입자를 사용한다. 샌드입자가 0.4 ㎜보다 작게 되면 표면에 형성된 요철이 너무 미세하여 충분한 접착력을 확보하기 어려우며, 반대로 1.6㎜보다 크게 되면 요철이 너무 크게 되어 요철의 산과 골 사이에 접착제의 도포량이 불균일하여 접촉불량이 된다.

본 발명에서 가황촉진제는 디티오카바메이트, 디에틸티오우레아, 디에틸디티오카바메이트, 디벤조티아질디술피드, 디부틸티오우레아, 디에틸벤조티아질술펜아미드, 티오카바아닐리드, 테트라메틸티오우레아, 머캡토벤조티아졸, 머캡토벤즈이미다졸, 트리메틸티오우레아, 티오카바밀술펜아미드, 테트라부틸티우라미드술피드,테트라메틸티우라미드술피드의 어느 하나 혹은 이들의 혼합물로 구성된다.

본 발명에서 사용되는 접착제는 특히 바람직하게는 가류접착제를 사용한다. 보다 구체적으로는 케므록 (chemlok, 등록상표)을 사용하며, 피접착물인 프로펠러의 재질이 알루미늄인 경우에는 케므록 제품번호 213, 218, 250/250X, 252X/252X, 253X/253H, 254, Ty-Ply BN, 607, 608 를 원코트용으로 사용하며, 프라이머로 250, 207, 805, 8007 를 사용하며, 피접착물이 구리/황동의 합금인 경우에는 250/250X, 254 를 원코트용으로 하며, 250, 607, 8007를 프라이머로 사용한다. 피접착물이 스테인레스 스틸인 경우에는 250/250X 를 원코트용으로 사용하며 205, 207, 8007를 프라이머로 사용한다.

본 발명에서 에지테이터는 제작이 방금 완료된 것은 금속재질의 부식을 방지하기 위하여 여러 가지 산화방지 오일을 도포한 상태이며, 사용 기간이 어느정도 경과한 것은 반응조내에서 산,알카리 성분과 각종 오일계통의 이물질이 침착되어 있는 상태이다. 따라서 금속과 고무 재질간에 접착성을 높이고 접착후 안정된 접착 상태를 유지하면서, 사용중 윙 표면에 가해지는 물리적 충격, 화학적 충격 들에 견딜 수 있도록 전처리가 필요하다.

전처리에는 기본적으로 계면활성제에 의한 처리, 표면의 pH를 측정하여 산, 혹은 알카리에 의한 중화후 염화물을 수세제거하도록 한다.

본 발명에서 특히 중요한 것은 고무재질과 금속재질간에 접착이 되고 난 다음 이들은 서로 열에 의한 신율, 물리적 충격에 대한 반발도 등이 현저하게 다르기 때문에 단순한 접착만으로는 접착상태를 장시간 유지하기 어렵다. 따라서 본 발명은 전(前)처리후에 접착되어질 고무의 종류가 갖는 탄성과 신율에 따라 숏블라스트를 이용하여 표면을 거칠게 하여 접착면적을 최대화하는 것이다.

본 발명에서 윙의 외부에 적층하는 고무재질의 내층과 윙의 내부 금속층간에 배치되는 접착제는 내층의 고무 쉬이트 경도의 40 내지 60% 로 되도록 하는 것을 특징으로 한다.

프로펠러 형태의 윙은 금속재의 특성상 거의 탄성이 없고, 반면에 열에 의한 열팽창도가 표면에 적층되는 고무재질보다 높다. 반면에 상층의 고무 적층부는 탄성이 높고 열팽창에 의한 팽창도가 극히 미미하다. 따라서 이들 사이에 접착층을 경도가 중간 정도가 되도록 구성하여 이들 간의 물리적 탄성, 팽창변이 오차를 흡수토록 한다.

본 발명에서 특히 적합한 것은 적층된 고무 쉬이트가 경화후 60 내지 90의 경도( 쇼어 경도 기준)와 45 내지 65의 연질을 갖도록 하는 것을 특징으로 한다. 특히 내층과 외층은 서로 다른 경도를 갖도록 하여 금속재의 윙이 갖는 강도, 열팽창 등이 물리화학적 성상의 차이를 중간에 배치된 내층이 흡수하여 층분리가 이루어지지 않고 장기간 안정된 구조를 이루도록 한다.

본 발명에서 반응조에 형성되는 황산칼슘과 같은 고상 입자는 마이크로 단위에서 부터 이들 입자가 서로 응결하면서 마크로단위에 이르는 다양한 크기를 갖고 있다. 따라서 에지테이터내에서 약 120내지 130 RPM으로 회전하는 프로펠러는 상기한 고무 쉬이트층에 의하여 이들 입자와 충돌시 받는 물리적 충격이 직접 금속재질의 윙 표면에 전달되지 않도록 한다. 경도가 90보다 크게 되면 회전중 충돌하는 고상입자의 충돌에너지가 그대로 윙의 금속부에 전달되어 충격을 주게 된다. 반면에 60보다 경도가 작게 되면 고상입자의 충돌에 고무층이 견디지 못하고 단시간내에 마모 파손되게 된다.

이하 본 발명을 첨부한 실시예에 의하여 설명한다. 본 실시예는 130±5rpm으로 회전하며, 직경 30㎝ , 알루미늄재질 에지테이터를 직경 1m의 원통속에 잠기도록 하며, 원통속에는 황산칼슘입자를 분산시키도록 구성한 파일롯 구조물에 의하여 실험하였다.

실시예1

주철합금재 프로펠러 형태의 윙 표면을 0.4에서 1.6mm의 입경을 갖는 모래입자를 5 내지 6바아의 압력을 갖는 블라스트기로 표면을 0.1내지 0.2초간 샌딩처리하였다. 샌딩이 된 것을 고압분무기로 표면의 미세 마모입자와 샌드입자를 세척하여 준다. 이어서 프라이머를 10㎛ 코팅하여 40분간 건조처리하였다. 이어서 접착제를 35에서 45㎛ 정도가 되도록 코팅하여 50분간 건조처리하였다.

NBR(Nitrile Butadiene Rubber)에 산화아연 5중량%, 스테아린산 2중량%, 황 2중량%, 카본블랙 50중량%, 가황촉진제 2중량%, 노화방지제 2 중량%를 배합하여 혼련(混鍊)후 쉬이트상으로 한 고무쉬이트를 상기한 표면처리된 윙의 상하면에 압착하였다. 쉬이트의 두께는 5㎜로 하였다.

적층되어진 것을 140내지 150℃, 압력 5.0㎏/㎠으로 유지되는 가황반응조에 넣고 15시간 동안 가황처리하여 고무쉬이트가 적층된 프로펠러 형태의 에지테이터를 제작하였다.

실시예2

접착제를 40㎛를 코팅하여주며, 카본블랙을 55중량%를 배합한 고무쉬이트를 사용한 것 외에는 상기한 실시예1과 동일한 방식을 에지테이터를 제작하였다.

비교실시예1

샌딩처리입자를 2㎜로 한 것이외에는 상기한 실시예1과 동일한 방식으로 표면처리하여 가황처리하여 에지테이터를 제작하였다.

비교실시예2

접착제를 55㎛가 되도록 한 것 이외에는 상기한 실시예1과 동일한 방식으로 프로펠러를 제작하였다.

비교실시예3

고무쉬이트 제조시 카본블랙을 40%를 배합한 것 이외에는 실시예1과 동일한 방법으로 에지테이터를 제작하였다.

비교실시예4

접착제를 20㎛가 되도록 한 것 이외에는 상기한 실시예1과 동일한 방식으로 에지테이터를 제작하였다.

	실시예1	실시예2	비교실시예1	비교실시예2	비교실시예3	비교실시예4
표면핀홀검사	없음	없음	없음	없음	표면핀홀		날개첨단부일부 박리발생
접착상태	분리없음	분리없음	부분이탈발생	부분이탈	부분이탈	부분이탈

* 비고 : 운행 장소 : 하동 화력발전소

*.운행 기간 : 2006년 9월 1일 부터 6주간 하루 24시간 운행함.

*.실시예1에서 부터 비교실시예4의 제품을 각각 1주일간 교체하면서 운행한 결과임.

위 시험에 나타나듯이 비교실시예의 경우 금속재의 에지테이터 표면과 고무 쉬이트간의 접착성이 중간에 개재되는 접착제의 두께 그리고 고무의 경도에 따라 접착의 일부가 이탈하거나 표면 핀홀이 발생하는 것을 발견하였다.

이러한 사소한 핀홀도 운행되는 반응조가 부식성이 심한 화학성분이 주류를 이루며 고속회전과 그에 따른 다양한 크기의 고상물과 충돌이 된다. 비교실시예의 제품을 7일이 아닌 더 긴 기간동안 작동시킨 경우 심각한 파손의 우려가 발생할 것으로 유의적으로 검증된다.

이상 본 발명은 기존에 내부에 포함된 각종 화학적 고상입자에 의하여 표면에 각종 마모 현상이 발생하며 심한 진동, 소음 그리고 이들 마모와 진동등으로 에지테이터를 지지하는 축이 휘어지거나 심한 경우 가동 중단이 발생하던 것을 고상입자와 에지테이터간에 중간 탄성층을 개재시켜 흡수 제거하도록 하였다.

따라서 작동중 소음을 감소하며, 마모를 근본적으로 차단하므로 장기간 사용이 가능하게 되었다. 특히 장기간 사용후 표면에 설치된 고무쉬이트층만 교체하면 영구히 에지테이터가 사용가능하여 보수 유지비용이 획기적으로 절감하게 되었다.

Claims (5)

1. 반응조에 설치될 에지테이터(1)의 부시부(20)를 제외한 표면을 계면활성제를 주재로 한 세정제로 탈지처리하고, 이어서 입경이 0.4 내지 1.6㎜인 샌드입자를 5내지 6 기압으로 조절된 블라스트기를 이용하여 날개 표면에 0.1내지 0.2초간 균질 분사처리하여 주는 표면 전처리 공정,

   세척연마된 표면에 1차프라이머를 5 ～ 10 ㎛ 를 도포하고 30 내지 45분간 건조한 후 이어서 접착제 25～ 50 ㎛ 를 도포하는 공정,

   40 내지 60분간 실온에서 접착제를 건조처리한 다음, 원료 고무에 산화아연 4 내지 7중량%, 스테아린산 1 내지 2중량%, 황 1 내지 2 중량%, 카본 45 내지 55 중량%, 가황촉진제 1 내지 2 중량%, 노화방지제 1 내지 2 중량%를 배합하여 구성한 고무혼합물로 제조한 고무 쉬이트를 상기한 접착제 도포된 에지테이터(1)의 각각의 윙(2)의 상하면에 윙의 전체를 덮을 수 있도록 윙과 동일한 형태이면서 외측으로 확장된 넓이(d)를 갖도록 구성한 내층(1a)과 외층(1b)을 적층하는 공정,

   상기한 내층과 외층의 접착부의 이상 유무를 검사한 다음, 140 ～ 150 ℃, 압력 4.5 ～ 5.0 ㎏/㎠로 유지되는 가황장치에서 12 내지 15시간 경화 처리하는 공정으로 구성한 탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   경화처리가 완료된 후 접착층 경도가 내층(1a) 경도의 40 내지 60% 로 되는 것을 특징으로 하는 탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리 방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   적층된 고무 쉬이트가 경화후 쇼어 경도 기준으로 70 내지 90의 경도와 쇼어 A 타입 기준으로 45 내지 65의 연질을 갖는 것을 특징으로 하는 탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리 방법.
4. 제 1 항에 있어서,

   내층(1a)은 외층(1b)보다 경도가 2 내지 4배가 높으며, 윙의 첨예부(가)는 4중의 적층구조를 갖는 것을 특징으로 하는 탈황장치 반응조의 에지테이터 라이닝 처리방법.
5. 반응조에 설치될 에지테이터(1)의 부시부(20)를 제외한 표면을 계면활성제를 주재로 한 세정제로 탈지처리하고, 이어서 입경이 0.4 내지 1.6㎜인 샌드입자를 5내지 6 기압으로 조절된 블라스트기를 이용하여 날개 표면에 0.1내지 0.2초간 균질 분사처리하여 주는 표면 전처리 공정,

   세척연마된 표면에 1차프라이머를 5 ～ 10 ㎛ 를 도포하고 30 내지 45분간 건조한 후 이어서 접착제 25～ 50 ㎛ 를 도포하여 40 내지 60분간 실온에서 건조처리하는 접착제 도포 공정,

   40 내지 60분간 실온에서 접착제를 건조처리한 다음, 원료 고무에 산화아연 4 내지 7중량%, 스테아린산 1 내지 2중량%, 황 1 내지 2 중량%, 카본 45 내지 55 중량%, 가황촉진제 1 내지 2 중량%, 노화방지제 1 내지 2 중량%로 구성된 고무혼합물로 제조한 고무 쉬이트를 적층하는 공정,

   상기한 내층과 외층의 접착부의 이상 유무를 검사한 다음 140 ～ 150 ℃, 압력 4.5 ～ 5.0 ㎏/㎠로 유지되는 가황장치에서 12 내지 15시간 경화 처리하는 공정에 의하여 제조한 고무 쉬이트를 금속재의 에지테이터(1)의 각각의 윙(2)의 상하면에 윙의 전체를 덮을 수 있도록 윙과 동일한 형태이면서 외측으로 확장된 넓이(d)를 갖도록 구성한 내층(1a)은 외층(1b)을 윙부에 적층하여 첨예부가 4중의 적층구조를 갖도록 구성하여 프로펠러 형태로 부시부(20)에 설치한 탈황장치 반응조의 에지테이터.

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