KR100767047B1 - A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask - Google Patents

A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask Download PDF

Info

Publication number
KR100767047B1
KR100767047B1 KR1020060045386A KR20060045386A KR100767047B1 KR 100767047 B1 KR100767047 B1 KR 100767047B1 KR 1020060045386 A KR1020060045386 A KR 1020060045386A KR 20060045386 A KR20060045386 A KR 20060045386A KR 100767047 B1 KR100767047 B1 KR 100767047B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrolytic polishing
metal mask
deformation preventing
preventing means
polishing jig
Prior art date
Application number
KR1020060045386A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김만
이주열
권식철
이상열
김정환
Original Assignee
한국기계연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기계연구원 filed Critical 한국기계연구원
Priority to KR1020060045386A priority Critical patent/KR100767047B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100767047B1 publication Critical patent/KR100767047B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/04—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/228—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/22—Electroplating combined with mechanical treatment during the deposition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

An electro-polishing jig and a method for electro-polishing a metal mask by using the electro-polishing jig are provided to remove the burr and impurities formed on a metal mask and to prevent the breakage of a metal mask by fixing and supporting the metal mask. An electro-polishing jig(100) is installed in an electro-polishing solution at an electro-polishing apparatus and restricts the motion of a metal mask in the electro-polishing apparatus, and comprises a deformation prevention unit(120) which is in contact with the front surface and back surface of the metal mask to prevent the deformation of the metal mask, a lower supporting unit(140) which is provided at the outer side of the deformation prevention unit to form the some part of the appearance and supports the load of the deformation prevention unit, and a motion guide unit(160) which guides the some part of the deformation prevention unit to move back and forth linearly in the load supporting unit.

Description

전해연마지그 및 이를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법 {A electro-Polishing JIG and the electro-Polishing method of metal mask} Electrolytic polishing jig and electrolytic polishing method of metal mask using the same {A electro-Polishing JIG and the electro-Polishing method of metal mask}

도 1 은 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법으로 버어 및 이물이 제거된 메탈마스크의 외관을 보인 사시도.1 is a perspective view showing the appearance of a metal mask with burrs and foreign substances removed by the electrolytic polishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 2 는 버어 및 이물이 제거되기 전 메탈마스크의 외관 구성을 보인 부분 측종단면도.Figure 2 is a partial side cross-sectional view showing the appearance of the metal mask before the burr and foreign matter is removed.

도 3 은 본 발명에 의한 전해연마지그의 외관 구성을 보인 사시도.Figure 3 is a perspective view showing the external configuration of the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 4 는 본 발명에 의한 전해연마지그의 요부 구성인 변형방지수단 내측에 메탈마스크가 위치한 모습을 보인 사시도.Figure 4 is a perspective view showing a state that the metal mask is located inside the deformation preventing means that is the main portion of the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 5 는 본 발명에 의한 전해연마지그의 요부 구성인 변형방지수단의 내부 구성을 보인 측종단면도.Figure 5 is a side longitudinal sectional view showing the internal configuration of the deformation preventing means that is the main configuration of the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 6 은 본 발명에 의한 전해연마지그의 요부 구성인 변형방지수단의 내측에 메탈마스크가 삽입된 못브을 보인 측종단면도.Figure 6 is a side longitudinal sectional view showing a nail with a metal mask inserted into the inner side of the deformation preventing means that is the main portion of the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 7 은 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법에서 연마용액의 구성 변화에 따른 작업조건을 나타낸 작업조건표.7 is a working condition table showing the working conditions according to the configuration change of the polishing solution in the electrolytic polishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 8 은 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법으로 버어 및 이물이 제거되기 전과 후의 모습을 보인 확대 사진.8 is an enlarged photograph showing a state before and after burrs and foreign substances are removed by the electropolishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도 9 는 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법을 순서대로 나타낸 공정순서도.9 is a process sequence diagram sequentially showing an electrolytic polishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100. 전해연마지그 120. 변형방지수단100. Electrolytic polishing jig 120. Deformation prevention means

122. 부착수단 123. 함몰부122. Attachments 123. Recesses

123'. 씰링블럭 124. 전류전달구123 '. Sealing block 124. Current transfer port

124'. 체결구멍 126. 길이조절구124 '. Tightening Hole 126. Length Adjuster

126'. 회동방지홈 128. 유동규제구126 '. Rotating Prevention Groove 128. Flow Regulator

140. 하중지지수단 142. 안내홀140. Load supporting means 142. Guide holes

144. 관통구멍 146. 장공144.Through holes 146. Long holes

160. 운동안내수단 162. 안내봉160. Exercise guide 162. Guide bar

163. 삽입홀 164. 탄성부재163. Insertion hole 164. Elastic member

166. 구속핀 168. 이탈방지판166. Restraint pin 168. Breakaway prevention plate

B . 버어 F . 체결부재 B. Burr F. Fastening member

M . 메탈마스크 O . 개구부 M. Metal Mask O. Opening

S100. 폭변경단계 S200. 유동제한단계S100. Width change step S200. Flow restriction stage

S300. 마스크고정단계 S400. 마스크담수단계S300. Mask fixing step S400. Mask freshwater stage

S500. 전류인가단계 S600. 버어산화단계S500. Current application step S600. Burr oxidation stage

본 발명은 전해연마지그 및 이를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메탈마스크를 수용한 상태로 전해연마장치 내부에 삽입 고정되어 메탈마스크에 형성된 버어(Burr) 및 이물이 제거되도록 하는 전해연마지그 및 이를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrolytic polishing jig and an electropolishing method of a metal mask using the same, and more particularly, burrs and foreign substances formed on the metal mask are removed by being inserted into and fixed inside the electrolytic polishing apparatus in a state in which the metal mask is accommodated. The present invention relates to an electrolytic polishing jig and an electropolishing method of a metal mask using the same.

메탈마스크는 스테인레스스틸이나 인바(INVAR:니켈합금)를 박판으로 성형하고 이러한 박판에 다수개의 개구부를 형성시킨 것으로, 80년대 초 국내에 처음 도입됐을 때에는 포토에칭(Photo Etching)을 통해 개구부가 가공되었으며, 근래에는 레이저기술의 발달로 인하여 레이저를 이용한 개구부의 가공이 일반화되고 있다.The metal mask is formed of stainless steel or invar (nickel alloy) into a thin plate and formed a plurality of openings in the thin plate. When it was first introduced to Korea in the early 80's, the opening was processed through photo etching. Recently, due to the development of laser technology, the processing of openings using laser is becoming common.

그리고, 상기 메탈마스크는 다양한 분야에 적용된다. 예컨대, 상기 메탈마스크의 전면에 다수개의 개구부를 등간격으로 형성하고, 상기 개구부에 유기다이오드를 삽입 고정시킴으로써 휴대폰의 액정에 적용된다.The metal mask is applied to various fields. For example, a plurality of openings are formed at equal intervals on the front surface of the metal mask, and the organic diode is inserted into and fixed to the openings to be applied to the liquid crystal of the mobile phone.

다른 예로, 상기 메탈마스크의 개구부를 인쇄회로기판(PCB) 상면의 땜납 위치와 일치되게 형성하고, 상기 메탈마스크를 스크린프린터에 장착함으로써 인쇄회로기판의 땜납 인쇄에도 사용되고 있다.As another example, the opening of the metal mask is formed to match the solder position of the upper surface of the printed circuit board (PCB), and the metal mask is mounted on the screen printer to be used for solder printing of the printed circuit board.

이와 같이 상기 메탈마스크는 개구부의 형상에 따라 다양한 분야에 사용 가능하며, 상기 개구부의 정밀도는 메탈마스크의 가치를 결정하는 척도가 되므로 상기 개구부의 정밀도 향상은 근래 메탈마스크 개발의 관건이 되고 있다.As described above, the metal mask can be used in various fields according to the shape of the opening, and since the precision of the opening is a measure for determining the value of the metal mask, the improvement of the precision of the opening has become a key to the development of the metal mask.

그러나, 레이저를 이용하여 개구부를 가공시에 개구부 외측으로는 날카롭게 돌출되는 버어(burr)가 형성되고 레이저의 높은 열에 의해 개구부 주위에는 그을음 이 발생된다. However, when processing the opening using a laser, a burr is formed which protrudes sharply outside the opening, and soot is generated around the opening due to the high heat of the laser.

따라서, 메탈마스크의 품질을 높이기 위해 이러한 버어 및 그을음은 필수적으로 제거되어야 하며, 이를 위해 종래에는 전해연마장치 내부의 연마용액에 메탈마스크를 담군 상태에서 전류를 가함으로써 버어 및 그을음을 제거 및 세척하였다.Therefore, in order to increase the quality of the metal mask, such burrs and soot should be removed essentially. To this end, the burrs and soot were removed and washed by applying an electric current while the metal mask was immersed in the polishing solution inside the electrolytic polishing apparatus. .

그러나, 상기와 같은 버어의 제거 방법에는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the above-described method for removing burrs has the following problems.

즉, 메탈마스크는 전술한 바와 같이 박판이며 다수의 개구부가 형성되어 플렉시블(Flexible)한 상태이다. 따라서, 메탈마스크를 연마용액에 담그게 되면 전해연마과정 중에 움직임이 발생되어 버어 및 그을음의 제거가 용이하지 못한 문제점이 있다.That is, as described above, the metal mask is thin and has a plurality of openings and is in a flexible state. Therefore, when the metal mask is immersed in the polishing solution, movement occurs during the electropolishing process, and thus there is a problem that removal of burrs and soot is not easy.

또한, 전해연마과정 중에 메탈마스크의 파손이 빈번하여 불량율이 증가하게 되므로 바람직하지 못하다.In addition, since the breakage of the metal mask is frequent during the electropolishing process, the failure rate increases, which is not preferable.

뿐만 아니라, 개구부의 윤곽이 깨끗하지 못해 품질이 저하되는 문제점이 있다.In addition, the contour of the opening is not clean, there is a problem that the quality is reduced.

따라서 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 메탈마스크를 수용한 상태로 전해연마장치 내부에 삽입 고정되어 메탈마스크의 움직임이 규제되도록 하는 전해연마지그를 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention for solving the above problems is to provide an electrolytic polishing jig that is inserted and fixed inside the electropolishing apparatus in a state in which the metal mask is accommodated so that the movement of the metal mask is regulated.

본 발명의 다른 목적은, 전해연마지그에 의해 견고하게 지지된 메탈마스크의 버어가 용이하게 제거되도록 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법을 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide an electropolishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig so that burrs of the metal mask firmly supported by the electrolytic polishing jig can be easily removed.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 전해연마장치 내부에서 전해연마액에 담긴 상태로 설치되고, 메탈마스크 일측을 구속하여 전해연마장치 내부에서 메탈마스크의 움직임을 구속하는 전해연마지그에 있어서, 상기 전해연마지그는, 상기 메탈마스크의 전면 및 후면 테두리와 접촉하여 메탈마스크가 변형되지 않도록 규제하는 변형방지수단과, 상기 변형방지수단 외측에 구비되어 외관 일부를 형성하고 상기 변형방지수단의 하중을 지지하는 하중지지수단과, 상기 변형방지수단의 일부가 하중지지수단 내부에서 직선 왕복운동하도록 안내하는 운동안내수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The present invention for achieving the object as described above, the electropolishing jig is installed in the electrolytic polishing solution in the electropolishing apparatus, restraining one side of the metal mask to restrain the movement of the metal mask in the electropolishing apparatus. In the electrolytic polishing jig, deformation preventing means for restricting the metal mask from being deformed in contact with the front and rear edges of the metal mask, and provided outside the deformation preventing means to form a part of the exterior of the deformation preventing means. And load guide means for supporting the load, and movement guide means for guiding a portion of the deformation preventing means to linearly reciprocate in the load support means.

상기 변형방지수단은, 상기 메탈마스크의 일면에 구비되어 전해연마장치의 (+)전극이 상기 메탈마스크에 연결되도록 하는 전류전달구와, 상기 전류전달구와 동일 평면상에서 이격 설치되고, 상기 메탈마스크의 크기에 따라 선택적으로 직선 왕복운동 가능한 길이조절구와, 상기 전류전달구 및 길이조절구와 인력을 발생하여 상기 메탈마스크의 움직임을 규제하는 유동규제구를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The deformation preventing means is provided on one surface of the metal mask so that the (+) electrode of the electropolishing apparatus is connected to the metal mask, and spaced apart from each other on the same plane as the current transfer hole, and the size of the metal mask. According to the present invention is characterized in that it comprises a length regulator that can be selectively linearly reciprocating, and a flow regulator that regulates the movement of the metal mask by generating a current and the current transfer port and the length control mechanism.

상기 변형방지수단은 비전도성 재질로 형성되며, 내부 일측에는 자기력을 발생하여 상기 전류전달구 및 길이조절구와 유동규제구가 서로 부착되도록 하는 부착수단이 구비됨을 특징으로 한다.The deformation preventing means is formed of a non-conductive material, it is characterized in that the inner side is provided with an attachment means for generating a magnetic force to be attached to the current transfer port and the length adjusting port and the flow regulator.

상기 전류전달구의 일측에는 전해연마장치에서 인가된 전류가 메탈마스크로 전달되도록 하는 전류전달판이 구비됨을 특징으로 한다.One side of the current transfer port is characterized in that the current transfer plate for transmitting the current applied from the electrolytic polishing device to the metal mask is provided.

상기 전류전달판은 전해연마액과 반응하지 않는 납(Pb) 또는 금속 산화물로 형성됨을 특징으로 한다.The current transfer plate is formed of lead (Pb) or metal oxide that does not react with the electrolytic polishing liquid.

상기 운동안내수단은, 상기 하중지지수단을 관통한 후 일단부가 길이조절구 일측과 결합되어 상기 길이조절구의 직선왕복운동을 안내하는 안내봉과, 상기 안내봉 외측에 구비되어 상기 안내봉에 일방향의 탄성력을 발생하는 탄성부재와, 상기 안내봉 및 하중지지수단을 동시에 관통하여 상기 안내봉의 일방향 움직임을 구속하는 구속핀을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The movement guide means, after passing through the load supporting means, the one end is coupled to one side of the length adjusting tool to guide the linear reciprocating motion of the length adjusting device, and the guide rod is provided on the outside of the elastic guide rod in one direction It characterized in that it comprises a resilient member and a restraint pin to penetrate the guide rod and the load supporting means at the same time to restrain the one-way movement of the guide rod.

상기 안내봉의 일측에는, 상기 탄성부재의 일단부를 간섭하여 상기 안내봉으로부터 탄성부재의 이탈을 규제하는 이탈방지판이 구비됨을 특징으로 한다.One side of the guide rod, characterized in that the separation prevention plate for restricting the separation of the elastic member from the guide rod by interfering one end of the elastic member.

상기 안내봉에는 상기 구속핀이 삽입되도록 천공된 다수개의 삽입홀이 형성됨을 특징으로 한다.The guide rod is characterized in that a plurality of insertion holes are formed to be drilled so that the restriction pin is inserted.

상기 하중지지수단의 일측에는, 상기 삽입홀과 대응되는 크기로 천공되어 상기 구속핀이 삽입홀에 삽입될 수 있도록 안내하는 안내홀이 구비됨을 특징으로 한다.One side of the load supporting means is characterized in that it is provided with a guide hole which is drilled in a size corresponding to the insertion hole to guide the restraint pin to be inserted into the insertion hole.

본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법은, 메탈마스크의 전면 및 후면 테두리와 접촉하여 메탈마스크가 변형되지 않도록 규제하는 변형방지수단의 일측을 움직여 변형방지수단의 폭과 메탈마스크의 폭이 대응되도록 변경하는 폭변경단계와, 상기 변형방지수단의 하중을 지지하는 하중지지수단에 상기 변형방지수단의 직선 왕복운동을 안내하는 운동안내수단을 고정시켜 상기 변형방지수단의 움직임을 제한하는 유동제한단계와, 상기 변형방지수단 내측에 메탈마스크를 삽입 고정하는 마스크고정단계와, 상기 메탈마스크를 전해연마액에 담수하는 마스크담수단계와, 상기 변형방지수단 일측에 구비된 전류전달판에 (+)전극을 연결하고, 전해연마액 내에 (-)전극을 설치하여 전류전달판에 전류가 흐르도록 하는 전류인가단계, 상기 전류인가단계에서 인가된 전류에 의해 상기 메탈마스크에 형성된 버어(Burr)가 산화되는 버어산화단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.In the electrolytic polishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention, the width and the metal mask of the deformation preventing means by moving one side of the deformation preventing means for contacting the front and rear edges of the metal mask so as not to deform the metal mask. The width changing step of changing the width of the corresponding and the movement guide means for guiding the linear reciprocating motion of the deformation preventing means to the load supporting means for supporting the load of the deformation preventing means to limit the movement of the deformation preventing means A flow restriction step, a mask fixing step of inserting and fixing a metal mask inside the deformation preventing means, a mask desalination step of freshening the metal mask in the electrolytic polishing liquid, and a current transfer plate provided at one side of the deformation preventing means. Connect the positive electrode and install the negative electrode in the electrolytic polishing solution to apply the current to the current transfer plate. System, and by the electric current applied in the current step is characterized by configured by comprising a burr oxidation step in which the burr (Burr) formed on the metal oxide mask.

상기 폭변경단계는 상기 운동안내수단의 일구성인 안내봉이 하중지지수단 일측을 관통하여 일방향으로 슬라이딩되는 과정임을 특징으로 한다.The width changing step is characterized in that the guide rod which is one component of the motion guide means is a process of sliding in one direction through one side of the load supporting means.

상기 유동제한단계는, 상기 안내봉과 하중지지수단을 동시에 관통하는 구속핀이 상기 안내봉에 천공 형성된 다수개의 삽입홀 중 어느 하나에 삽입되는 과정임을 특징으로 한다.The flow restricting step is characterized in that the restraint pins that simultaneously pass through the guide rod and the load supporting means is inserted into any one of a plurality of insertion holes formed in the guide rod.

상기 마스크고정단계는, 상기 변형방지수단 내부에 삽입 고정된 부착수단이 인력을 발생시에 상기 메탈마스크가 변형방지수단 사이에 끼워지는 과정임을 특징으로 한다.The mask fixing step is characterized in that the metal mask is sandwiched between the deformation preventing means when the attachment means fixed to the inside of the deformation preventing means generates a attraction force.

상기 마스크담수단계에서 상기 전해연마용액은, 인산, 글리세린, 염산, 질산, 황산, 크롬산, 질산 중 적어도 어느 하나로 구성됨을 특징으로 한다.The electrolytic polishing solution in the mask desalination step, characterized in that composed of at least one of phosphoric acid, glycerin, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, nitric acid.

상기 전해연마용액의 온도는 20 ∼70℃임을 특징으로 한다.The temperature of the electrolytic polishing solution is characterized in that 20 ~ 70 ℃.

상기 전류인가단계에서 전류밀도는 10∼50A/d㎡임을 특징으로 한다.In the current application step, the current density is characterized in that 10 ~ 50A / dm 2.

상기 버어산화단계는 1 ∼ 5분 동안 실시됨을 특징으로 한다.The burr oxidation step is characterized in that it is carried out for 1 to 5 minutes.

이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의하면, 메탈마스크의 파손이 방지되며 품질이 향상되는 이점이 있다.According to the present invention having such a configuration, there is an advantage that the damage of the metal mask is prevented and the quality is improved.

이하에서는 메탈마스크의 외관 구성을 간략히 살펴본 후에 본 발명에 의한 전해연마지그의 구성을 상세히 살펴보기로 한다.Hereinafter, after briefly examining the external configuration of the metal mask, the configuration of the electrolytic polishing jig according to the present invention will be described in detail.

도 1에는 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법으로 버어 및 이물이 제거된 메탈마스크의 외관을 보인 사시도가 도시되어 있고, 도 2에는 버어 및 이물이 제거되기 전 메탈마스크의 외관 구성을 보인 부분 측종단면도가 도시되어 있다.1 is a perspective view showing the appearance of a metal mask from which burrs and foreign substances have been removed by an electrolytic polishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig according to the present invention, and FIG. 2 shows a metal mask before burrs and foreign substances are removed. Partial side cross-sectional view is shown showing the appearance configuration.

그리고, 도 3에는 본 발명에 의한 전해연마지그의 외관 구성을 보인 사시도가 도시되어 있고, 도 4에는 본 발명에 의한 전해연마지그의 요부 구성인 변형방지수단 내측에 메탈마스크가 위치한 모습을 보인 사시도가 도시되어 있으며, 도 5에는 본 발명에 의한 전해연마지그의 요부 구성인 변형방지수단의 내부 구성을 보인 측종단면도가 도시되어 있다.And, Figure 3 is a perspective view showing the appearance configuration of the electrolytic polishing jig according to the present invention, Figure 4 is a perspective view showing a state in which the metal mask is located inside the deformation preventing means that is the main configuration of the electrolytic polishing jig according to the present invention. 5 is a side longitudinal sectional view showing the internal configuration of the deformation preventing means, which is a main component of the electrolytic polishing jig according to the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 메탈마스크(M)는 대략 세로가 긴 사각판 모양을 가지며, 상기 메탈마스크(M)의 전면에는 전/후를 관통하여 좌/우로 길게 개구부(0)가 형성된다.As shown in the figure, the metal mask M has a substantially vertical rectangular plate shape, the opening (0) is formed in the front of the metal mask (M) to extend left / right through the front / back.

상기 개구부(0)는 레이저 가공에 의해 동일한 형상으로 다수개 천공 형성된 것으로, 상기 개구부(0)의 테두리부에는 좌측 방향으로 날카롭게 돌출된 버어(burr,도면부호 B)가 형성된다. 그리고, 상기 개구부(0) 주위에는 레이저의 높은 열에 의해 개구부(0)가 형성시에 발생된 이물이 존재하게 된다.The openings 0 are formed in a plurality of perforations in the same shape by laser processing, and burrs (reference numeral B) protruding sharply in the left direction are formed at the edges of the openings 0. In addition, foreign substances generated when the openings 0 are formed by the high heat of the laser are present around the openings 0.

상기 버어(B) 및 이물은 메탈마스크(M)의 품질을 저하시키는 요인으로 반드시 제거되어야 하며, 이러한 버어(B) 및 이물의 제거를 용이하게 하기 위한 본 발 명에 의한 전해연마지그가 도 3 내지 도 5 에 도시되어 있다.The burr (B) and the foreign material must be removed as a factor degrading the quality of the metal mask (M), electrolytic polishing jig according to the present invention for facilitating the removal of the burr (B) and the foreign material is Figure 3 To FIG. 5.

이하에서는 도 3 내지 도 5 를 참조하여 전해연마지그의 구성을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the configuration of the electrolytic polishing jig will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5.

이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 전해연마지그(100)는 전해연마장치(미도시) 내부에서 전해연마액(미도시)에 담긴 상태로 설치되고, 메탈마스크(M)의 전면 및 후면 좌/우측을 구속하여 전해연마장치 내부에서 메탈마스크(M)의 움직임을 구속하는 역할을 수행한다.As shown in these drawings, the electrolytic polishing jig 100 according to the present invention is installed in an electrolytic polishing liquid (not shown) inside the electrolytic polishing apparatus (not shown), and the front surface of the metal mask M and the like. Constrains the movement of the metal mask (M) in the electrolytic polishing device by restraining the rear left / right.

그리고, 상기 전해연마지그(100)는 크게 상기 메탈마스크(M)의 전면 및 후면 테두리와 접촉하여 메탈마스크(M)가 변형되지 않도록 규제하는 변형방지수단(120)과, 상기 변형방지수단(120) 외측에 구비되어 상기 변형방지수단(120)의 하중을 지지하는 하중지지수단(140)과, 상기 변형방지수단(120)의 일부가 하중지지수단(140) 내부에서 직선 왕복운동하도록 안내하는 운동안내수단(160)을 포함하여 구성된다.In addition, the electrolytic polishing jig 100 is largely in contact with the front and rear edge of the metal mask (M) deformation preventing means for restricting the metal mask (M) and the deformation preventing means 120, A load supporting means 140 supporting the load of the deformation preventing means 120 and a part of the deformation preventing means 120 to guide the linear reciprocating motion in the load supporting means 140. It comprises a guide means (160).

상기 변형방지수단(120)은 자기력으로 상기 메탈마스크(M)를 구속하여 하중지지수단(140) 내부에 메탈마스크(M)가 고정되도록 하는 것으로, 비전도성 재질로 형성되고 세로로 긴 직육면체 형상을 가지며, 내부에는 자기력을 발생하는 부착수단(도 5 의 도면부호 122)이 구비된다.The deformation preventing means 120 is to restrain the metal mask (M) by a magnetic force to fix the metal mask (M) inside the load supporting means 140, is formed of a non-conductive material and has a vertically long rectangular parallelepiped shape And an attachment means (reference numeral 122 of FIG. 5) for generating a magnetic force therein.

즉, 상기 변형방지수단(120)은 테프론 또는 실리콘으로 외관이 형성되며, 내부에는 서로 마주보는 면이 동일한 극성을 가지도록 삽입되어 인력(引力)을 발생하는 자석으로 이루어진 부착수단(122)이 구비된다.That is, the deformation preventing means 120 is made of Teflon or silicon, the appearance is formed, the inside is provided with the attachment means 122 made of a magnet that is inserted so as to have the same polarity facing each other to generate a attraction force (urge) do.

상기 부착수단(122)은 변형방지수단(120) 내부에 삽입되며, 상기 전해연마지 그(100)를 전해연마용액에 담갔을 때 전해연마용액과 접촉하지 않도록 구성된다.The attachment means 122 is inserted into the deformation preventing means 120, and is configured not to contact the electrolytic polishing solution when the electrolytic polishing paper 100 is immersed in the electrolytic polishing solution.

이를 위해, 상기 부착수단(122)의 삽입을 위해 개구 형성된 함몰부(도 5 참조 123)는 상기 변형방지수단(120)이 서로 마주보는 방향으로 개구되며, 상기 부착수단(122)이 함몰부(123)에 수용된 후에 개구된 함몰부(123)의 빈 공간에는 씰링블럭(123')이 삽입된다.To this end, the recessed portion (refer to FIG. 5) 123 opened for insertion of the attachment means 122 is opened in the direction in which the deformation preventing means 120 face each other, and the attachment means 122 is recessed ( The sealing block 123 ′ is inserted into the empty space of the recess 123 opened after being accommodated in the 123.

상기 씰링블럭(123')은 함몰부(123)와 대응되는 종단면을 가짐으로써 상기 함몰부(123)를 완전히 차폐하여 상기 부착수단(122)이 전해연마용액과 접촉하지 못하도록 차단하며, 테프론 또는 실리콘으로 형성되어 전해연마용액과는 반응하지 않게 된다.The sealing block 123 ′ has a longitudinal section corresponding to the depression 123 to completely shield the depression 123 to block the attachment means 122 from contacting with the electrolytic polishing solution, Teflon or silicon. It is formed to prevent the reaction with the electrolytic polishing solution.

그리고, 상기 변형방지수단(120)은 다수개의 부품, 보다 정확하게는 4개의 부품으로 형성된다(도 3 참조).In addition, the deformation preventing means 120 is formed of a plurality of parts, more precisely four parts (see FIG. 3).

보다 상세하게는, 상기 변형방지수단(120)은 상기 메탈마스크(M)의 후면과 면접촉하여 전해연마장치에서 인가된 (+)전압이 상기 메탈마스크(M)에 연결되도록 하는 전류전달구(124)와, 상기 전류전달구(124)와 동일 평면상에서 우측에 이격 설치되고, 선택적으로 직선 왕복운동 가능한 길이조절구(126)와, 상기 전류전달구(124) 및 길이조절구(126)와 인력을 발생하여 상기 메탈마스크(M)의 움직임을 규제하는 유동규제구(128)를 포함하여 구성된다. More specifically, the deformation preventing means 120 is in contact with the rear surface of the metal mask (M) to the current transfer port (+) voltage applied from the electrolytic polishing device is connected to the metal mask (M) ( 124, a length adjusting device 126 which is installed on the right side on the same plane as the current transmitting device 124 and selectively linearly reciprocates, the current transmitting device 124 and the length adjusting device 126 and It is configured to include a flow regulator (128) for generating the attraction force to regulate the movement of the metal mask (M).

상기 전류전달구(124)는 하중지지수단(140)의 천공된 내부 좌측에 구비된 것으로, 상기 전류전달구(124)의 상/하단부에는 체결구멍(124')이 형성된다. 상기 체결구멍(124')은 아래에서 설명할 관통구멍(144)을 관통한 체결부재(F)의 단부와 체 결되며, 상기 체결부재의 결합에 의해 상기 전류전달구(124)는 하중지지수단(140)으로부터 분리되지 않게 된다.The current transfer hole 124 is provided at the inner left side of the load supporting means 140, and the fastening hole 124 'is formed at the upper and lower ends of the current transfer hole 124. The fastening hole 124 ′ is engaged with an end portion of the fastening member F passing through the through hole 144, which will be described below, and the current transfer hole 124 is connected to the load carrying means by the fastening member. No separation from 140.

그리고, 상기 전류전달구(124)는 메탈마스크(M)의 후면 좌측과 면접촉함으로써 메탈마스크(M)에 전류를 인가하게 된다. 따라서, 상기 전류전달구(124)의 전면에는 전기전도도가 높은 납(Pb) 형성된 사각판 모양의 전류전달판(125)이 구비된다.In addition, the current transfer hole 124 is in surface contact with the rear left side of the metal mask M to apply a current to the metal mask M. Therefore, the front surface of the current transfer hole 124 is provided with a rectangular plate-shaped current transfer plate 125 formed of lead (Pb) having high electrical conductivity.

상기 전류전달판(125)은 납(Pb) 뿐만 아니라, 전해연마액과 반응하지 않는 범위 내에서 어떠한 금속도 가능하며, 상단부가 상기 하중지지수단을 관통하도록 설치된다. The current transfer plate 125 may be any metal within the range of not reacting with the lead (Pb) as well as the electrolytic polishing liquid, and the upper end portion is installed to penetrate the load supporting means.

즉, 상기 전류전달판(125)은 전류전달구(124)의 길이보다 조금 길게 형성되며, 상기 전류전달판(125)의 상단부는 아래에서 설명할 장공(146)을 관통하게 된다.That is, the current transfer plate 125 is formed slightly longer than the length of the current transfer port 124, the upper end of the current transfer plate 125 is to pass through the long hole 146 to be described below.

상기 전류전달판(125)은 메탈마스크(M)가 변형방지수단(120) 사이에 끼워져 고정시에 메탈마스크(M)의 후면과 면접촉하는 것으로, 상기 전류전달판(125)의 상측으로는 외부의 (+) 전류를 전달받게 된다.The current transfer plate 125 is a metal mask (M) is sandwiched between the deformation preventing means 120 and is in surface contact with the rear surface of the metal mask (M) when fixed, the upper side of the current transfer plate 125 It receives external positive current.

상기 전류전달구(124)의 이격된 우측에는 길이조절구(126)가 구비된다. 상기 길이조절구(126)는 전류전달구(124)와 대응되는 크기 및 형상을 가지며, 상기 하중지지수단(140)의 내부 우측 공간에서 좌/우로 직선 왕복 운동 가능하게 구성된다.A length adjusting tool 126 is provided on the spaced right side of the current transfer hole 124. The length adjusting tool 126 has a size and shape corresponding to the current transfer hole 124, and is configured to linearly reciprocate left / right in an inner right space of the load supporting means 140.

이것은 다양한 크기의 메탈마스크(M)가 전해연마지그(100)에 공용으로 부착 가능하도록 하기 위함이다.This is to allow the metal mask M of various sizes to be commonly attached to the electrolytic polishing jig 100.

상기 변형방지수단(120)의 외측에는 하중지지수단(140)이 구비된다. 상기 하중지지수단(140)은 상기 메탈마스크(M) 및 변형방지수단(120)의 하중을 지지하는 역할을 수행하는 것으로, 중앙부가 천공된 사각판 형상을 가진다.The load supporting means 140 is provided on the outside of the deformation preventing means 120. The load supporting means 140 serves to support the load of the metal mask M and the deformation preventing means 120, and has a rectangular plate shape in which a central portion thereof is perforated.

그리고, 상기 하중지지수단(140)의 상/하면 후반부에는 관통구멍(144)이 천공된다. 상기 관통구멍(144)은 전류전달구(124) 및 길이조절구(126)가 하중지지수단(140)으로부터 분리되지 않도록 하는 것으로, 상기 관통구멍(144) 내부에는 체결부재(F)가 삽입되며, 상기 체결부재(F)의 단부가 상기 체결구멍(124') 및 회동방지홈(126')에 체결되면 전류전달구(124) 및 길이조절구(126)는 하중지지수단(140)에 견고하게 고정된다.In addition, the through hole 144 is drilled in the upper and lower rear portions of the load supporting means 140. The through hole 144 is to prevent the current transfer hole 124 and the length adjusting opening 126 from being separated from the load supporting means 140, the fastening member (F) is inserted into the through hole (144) When the end of the fastening member F is fastened to the fastening hole 124 ′ and the anti-rotation groove 126 ′, the current transfer hole 124 and the length adjusting hole 126 are firmly supported by the load supporting means 140. Is fixed.

또한, 상기 관통구멍(144)은 길이조절구(126)의 좌우방향 움직임을 안내하는 역할도 동시에 수행한다. In addition, the through hole 144 also serves to guide the left and right movement of the length adjustment port 126 at the same time.

즉, 상기 길이조절구(126)의 상/하단부에 체결된 체결부재(F)를 느슨하게 풀게되면 상기 길이조절구(126)는 하중지지수단(140) 내부에서 좌/우방향으로 움직임이 가능하며, 상기 길이조절구(126)를 메탈마스크(M)의 크기와 대응되는 위치만큼 전류전달구(124)로부터 이격시킨 상태에서 상기 체결부재(F)를 다시 죄게 되면 상기 길이조절구(126)의 좌/우 움직임은 제한된다.That is, when the fastening member F loosely fastened to the upper / lower end of the length adjusting tool 126 is loosened, the length adjusting tool 126 is movable in the left / right direction inside the load supporting means 140. When the length adjusting tool 126 is tightened again in the state where the length adjusting tool 126 is spaced apart from the current transfer tool 124 by a position corresponding to the size of the metal mask M, Left and right movements are limited.

상기 관통구멍(144)으로부터 전방으로 이격된 곳에는 장공(146)이 천공 형성된다. 상기 장공(146)은 전류전달판(125)이 하중지지수단(140) 상면을 관통하여 외부로부터 전원을 인가받을 수 있도록 하는 구성으로, 상기 전류전달구(124)의 좌/우 움직임 범위를 감안하여 좌/우방향으로 길게 천공 형성된다.A long hole 146 is formed in a hole spaced forward from the through hole 144. The long hole 146 is configured to allow the current transfer plate 125 to receive power from the outside through the upper surface of the load supporting means 140, taking into account the left / right movement range of the current transfer hole 124. Perforations are formed long in the left / right direction.

따라서, 상기 전류전달구(124)가 필요에 따라 하중지지수단(140) 내부에서 좌/우로 이동하게 되더라도 상기 전류전달판(125)은 하중지지수단(140)의 어떠한 부분과도 간섭되지 않게 된다.Therefore, even if the current transfer hole 124 is moved to the left / right inside the load supporting means 140, the current transfer plate 125 is not interfered with any part of the load supporting means 140. .

상기 하중지지수단(140)의 상면에는 거치대(148)가 구비된다. 상기 거치대(148)는 전방에서 볼 때 대략 "

Figure 112006035215433-pat00001
"형상을 가지며 상기 전해연마지그(100)의 운반 또는 거치를 용이하게 하기 위한 것으로, 하단부가 상기 하중지지수단(140)의 상면에 결합되어 고정된다.A cradle 148 is provided on an upper surface of the load supporting means 140. The cradle 148 is approximately "
Figure 112006035215433-pat00001
"To have a shape and to facilitate the transport or mounting of the electrolytic polishing jig 100, the lower end is coupled to the upper surface of the load supporting means 140 is fixed.

그리고, 상기 거치대(148)는 하중지지수단(140)의 상면 뿐만 아니라, 우측면에도 선택적으로 부착 가능하도록 구성된다. 즉, 전해연마지그(100)를 이용하여 메탈마스크(M)의 버어(B)를 전해연마시에 전해연마장치의 내부 구조상 상기 거치대(148)와 간섭이 발생될 때에는 하중지지수단(140)의 상면에 부착된 거치대(148)를 분리하여 우측면에 부착할 수도 있을 것이다.In addition, the holder 148 is configured to be selectively attached to the upper surface of the load supporting means 140, as well as the right surface. That is, when interference occurs with the cradle 148 due to the internal structure of the electropolishing apparatus during electropolishing of the burr B of the metal mask M using the electropolishing jig 100, the load supporting means 140 The cradle 148 attached to the upper surface may be detached and attached to the right side.

상기 길이조절구(126)의 우측에는 전술한 운동안내수단(160)이 구비된다. 상기 운동안내수단(160)은 크게 상기 하중지지수단(140)을 관통한 후 좌측단부가 길이조절구(126) 우측면과 결합되어 상기 길이조절구(126)의 좌/우 직선 왕복운동을 안내하는 안내봉(162)과, 상기 안내봉(162) 외측에 구비되어 상기 안내봉(162)에 일방향의 탄성을 발생하는 탄성부재(164)와, 상기 안내봉(162) 및 하중지지수단(140)을 동시에 관통하여 상기 안내봉(162)의 좌/우 움직임을 구속하는 구속핀(166)을 포함하여 구성된다.On the right side of the length adjustment port 126 is provided with the above-described exercise guide means 160. The movement guide means 160 is large through the load supporting means 140 and then the left end is coupled to the right side of the length adjusting tool 126 to guide the left / right linear reciprocating motion of the length adjusting device 126. A guide rod 162, an elastic member 164 provided outside the guide rod 162 to generate elasticity in one direction to the guide rod 162, the guide rod 162 and the load supporting means 140 Constrained pin 166 to constrain the left / right movement of the guide rod 162 at the same time through the configuration.

상기 안내봉(162)은 원기둥모양으로 형성되며 우측단부에는 원판모양의 이탈 방지판(168)이 구비된다. 상기 이탈방지판(168)은 탄성부재(164)의 외경보다 큰 외경을 가지도록 형성되어 상기 안내봉(162)의 우측단부에 결합 고정된 것으로, 상기 안내봉(162)이 좌측으로 이동시에 탄성 복원력을 발생하게 된다.The guide rod 162 is formed in a cylindrical shape, the right end is provided with a disc-shaped departure prevention plate 168. The release preventing plate 168 is formed to have an outer diameter larger than the outer diameter of the elastic member 164 is fixed to the right end of the guide rod 162, the elastic when the guide rod 162 is moved to the left It will generate resilience.

그리고, 상기 안내봉(162)의 외면에는 다수개의 삽입홀(163)이 천공 형성된다. 상기 삽입홀(163)은 안내봉(162)의 길이방향으로 등간격을 가지도록 천공된 것으로 상기 구속핀(166)의 외경과 대응되는 내경으로 형성된다.In addition, a plurality of insertion holes 163 are formed in the outer surface of the guide rod 162. The insertion hole 163 is bored to have equal intervals in the longitudinal direction of the guide rod 162 and is formed with an inner diameter corresponding to the outer diameter of the restriction pin 166.

따라서, 상기 구속핀(166)의 후단부가 하중지지수단(140)을 관통한 후에 상기 다수개의 삽입홀(163) 중에 어느 하나에 삽입되면 상기 안내봉(162)은 하중지지수단(140)에 대하여 어떠한 방향으로도 이동이 규제된다.Therefore, when the rear end of the restraining pin 166 passes through the load supporting means 140 and then is inserted into any one of the plurality of insertion holes 163, the guide rod 162 is provided with respect to the load supporting means 140. Movement is regulated in any direction.

그리고, 상기 구속핀(166)이 다수개의 삽입홀(163) 중에서 삽입되는 위치에 따라 상기 길이조절구(126)는 전류전달구(124)로부터 이격거리가 조절 가능하게 된다.In addition, the length adjusting opening 126 may be controlled to be separated from the current transfer opening 124 according to a position where the restriction pin 166 is inserted among the plurality of insertion holes 163.

상기 구속핀(166)이 하중지지수단(140)을 관통할 수 있도록 하기 위해 상기 하중지지수단(140)의 전면 우측에는 후방으로 관통된 안내홀(142)이 형성되어야 함은 자명하다.Obviously, the guide hole 142 penetrated rearward should be formed in the front right side of the load supporting means 140 in order to allow the restriction pin 166 to penetrate the load supporting means 140.

또한, 상기 길이조절구(126)의 상/하단부에는 함몰 형성되어 체결부재가 결합됨으로써 상기 길이조절구(126)가 하중지지수단(140) 내부에서 회동하지 않도록 하는 회동방지홈(126')이 구비된다. In addition, the anti-rotation groove 126 ′ is formed in the upper / lower end of the length adjusting tool 126 to prevent the length adjusting tool 126 from rotating inside the load supporting means 140 by coupling the fastening member. It is provided.

상기 회동방지홈(126')은 장공(146)을 관통한 체결부재(F)의 단부가 체결되는 곳으로, 상기 회동방지홈(126')이 스크류 등의 체결부재에 의해 체결되면 상기 길이조절구(126)는 안내봉(162)을 중심으로 회전하지 않게 된다. The anti-rotation groove 126 'is an end portion of the fastening member F passing through the long hole 146, and the length adjustment is performed when the anti-rotation groove 126' is fastened by a fastening member such as a screw. The sphere 126 does not rotate about the guide rod 162.

이하에서는 상기와 같이 구성되는 전해연마지그(100)를 이용하여 메탈마스크(M)의 버어(B)를 전해연마하는 방법을 도 4 내지 도 9 를 참조하여 설명한다.Hereinafter, a method of electropolishing the burr B of the metal mask M using the electrolytic polishing jig 100 configured as described above will be described with reference to FIGS. 4 to 9.

도 7에는 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법에서 연마용액의 구성 변화에 따른 작업조건을 나타낸 작업조건표가 도시되어 있고, 도 8에는 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법으로 버어(B) 및 이물이 제거되기 전과 후의 모습을 보인 확대 사진이 도시되어 있으며, 도 9에는 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법을 순서대로 나타낸 공정순서도가 도시되어 있다.7 is a working condition table showing the working conditions according to the change of the configuration of the polishing solution in the electrolytic polishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention, Figure 8 is a metal using the electrolytic polishing jig according to the present invention An enlarged photograph is shown before and after the burr (B) and the foreign material is removed by the electropolishing method of the mask, Figure 9 is a process showing the electropolishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention in order Flowchart is shown.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법은 먼저, 전해연마가 요구되는 메탈마스크(M)의 좌우폭에 맞추기 위해 상기 변형방지수단(120)의 길이조절구(126)를 움직이는 폭변경단계(S100)를 실시하게 된다.As shown in the figure, the electrolytic polishing method of the metal mask using the electrolytic polishing jig according to the present invention, first, to adjust the length of the deformation preventing means 120 to match the left and right width of the metal mask (M) required for electrolytic polishing. The width change step S100 of moving the sphere 126 is performed.

상기 폭변경단계(S100)는 상기 메탈마스크(M)의 폭과 전류전달구(124)와 길이조절구(126) 사이의 이격 거리를 대응되게 변경하는 것으로, 상기 안내봉(162)이 하중지지수단(140)의 우측면을 관통하여 일방향으로 슬라이딩되는 과정이다.The width changing step (S100) is to change the width of the metal mask (M) and the separation distance between the current transfer port 124 and the length adjustment port 126 correspondingly, the guide rod 162 is supported by the load It is a process of sliding in one direction through the right side of the means (140).

이때 상기 구속핀(166)은 도 3과 같이 안내홀(142) 및 삽입홀(163)에서 빠져있는 상태이며, 이후 상기 안내봉(162)에 좌측 또는 우측 방향의 힘을 가해서 상기 길이조절구(126)를 움직이게 된다. At this time, the restraining pin 166 is in a state of being pulled out from the guide hole 142 and the insertion hole 163 as shown in FIG. 3, and then applying a force in a left or right direction to the guide rod 162 to adjust the length adjusting device ( 126).

만약 상기 안내봉(162)이 좌측으로 이동하게 되면 상기 탄성부재(164)는 이 탈방지판(168)과 하중지지수단(140)의 우측면의 이격거리가 가까워짐에 따라 탄성복원력이 증가하게 되며, 상기 안내봉(162)이 우측으로 이동하게 되면 상기 탄성부재(164)의 탄성복원력은 감소하게 된다.If the guide rod 162 moves to the left side, the elastic member 164 increases the elastic restoring force as the separation distance between the release preventing plate 168 and the right side of the load supporting means 140 approaches. When the guide rod 162 moves to the right, the elastic restoring force of the elastic member 164 is reduced.

이런 과정으로 상기 변형방지수단(120)의 좌/우 폭 조절이 완료되면 상기 전류전달구(124) 및 길이조절구(126)의 움직임을 제한하는 유동제한단계(S200)를 실시하게 된다.In this process, when the left / right width adjustment of the deformation preventing means 120 is completed, the flow restriction step S200 of restricting the movement of the current transfer hole 124 and the length adjusting hole 126 is performed.

상기 유동제한단계(S200)는 안내봉(162)을 하중지지수단(140)에 고정하여 좌/우 움직임을 구속하는 것으로, 상기 구속핀(166)의 후단부가 안내홀(142)을 관통한 후에 상기 다수개의 삽입홀(163) 중에서 어느 하나에 삽입되는 과정이다. The flow restriction step (S200) is to restrain the left / right movement by fixing the guide rod 162 to the load supporting means 140, after the rear end of the restraining pin 166 passes through the guide hole 142 The process is inserted into any one of the plurality of insertion holes (163).

따라서, 상기 삽입홀(163) 내부에 구속핀(166)이 삽입되는지 여부에 따라 상기 길이조절구(126)는 선택적으로 좌/우방향의 움직임이 가능하게 된다.Therefore, depending on whether the restriction pin 166 is inserted into the insertion hole 163, the length adjusting opening 126 can be selectively moved left / right.

이후 상기 장공(146)에 삽입된 체결부재(F)를 체결구멍(124') 및 회동방지홈(126')에 체결하여 상기 전류전달구(124) 및 길이조절구(126)에 대한 구속력을 더욱 더 증가시키게 된다.Thereafter, the fastening member F inserted into the long hole 146 is fastened to the fastening hole 124 'and the anti-rotation groove 126' to restrain the binding force on the current transfer hole 124 and the length adjusting hole 126. Increase even more.

상기 변형방지수단(120)이 메탈마스크(M)의 폭과 대응되는 폭을 가지도록 조정이 완료되면 상기 변형방지수단(120) 내측에 메탈마스크(M)가 위치하도록 하는 마스크고정단계(S300)가 실시된다.Mask fixing step (S300) so that the metal mask (M) is located inside the deformation prevention means 120 when the adjustment is completed so that the deformation preventing means 120 has a width corresponding to the width of the metal mask (M). Is carried out.

상기 마스크고정단계(S300)는 변형방지수단(120) 내부에 삽입 고정된 부착수단(122)이 인력(引力)을 발생한 상태에서 상기 부착수단(122) 사이에 메탈마스크(M)를 위치시키는 것으로, 상기 전류전달구(124)와 길이조절구(126) 전면에 메탈마스크(M)가 위치하고, 상기 메탈마스크(M) 전면에 상기 유동규제구(128)가 위치하게 되면, 상기 부착수단(122)은 서로 인력을 발생하여 상기 메탈마스크(M)의 움직임을 제한하게 된다.The mask fixing step (S300) is to place the metal mask (M) between the attachment means 122 in a state in which the attachment means 122 is fixed in the deformation preventing means 120 generated attraction When the metal mask (M) is located on the front surface of the current transfer hole (124) and the length adjusting device (126), and the flow restrictor (128) is located on the front of the metal mask (M), the attachment means (122) ) Generates attraction force to each other to limit the movement of the metal mask (M).

상기와 같은 과정에 의해 상기 전해연마지그(100)에 의한 메탈마스크(M)의 고정은 완료되며, 이후 상기 전해연마지그(100)를 전해연마장치 내부에 고여 있는 전해연마용액에 담수하는 마스크담수단계(S400)를 실시하게 된다.By the above process, the fixing of the metal mask M by the electrolytic polishing jig 100 is completed, and then the mask fresh water for desalination of the electrolytic polishing jig 100 in the electrolytic polishing solution accumulated in the electrolytic polishing apparatus. Step S400 is performed.

이때 상기 전해연마용액은 인산, 글리세린, 염산, 질산, 황산, 크롬산, 질산 중 적어도 어느 하나로 구성되며, 상기 전해연마용액의 구성에 따른 작업조건이 도 7에 도시되어 있다.At this time, the electrolytic polishing solution is composed of at least one of phosphoric acid, glycerin, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, nitric acid, the working conditions according to the configuration of the electrolytic polishing solution is shown in FIG.

즉, 상기 마스크담수단계(S400)에서 전해연마용액의 성분변화에 따른 작업조건을 살펴보면, 상기 전해연마용액의 온도는 20∼70℃ 범위를 유지하게 된다.That is, looking at the operating conditions according to the change in the composition of the electrolytic polishing solution in the mask desalination step (S400), the temperature of the electrolytic polishing solution is maintained at 20 ~ 70 ℃ range.

상기 마스크담수단계(S400) 이후에는 상기 전류안내판(125)에 전해연마장치의 (+)전극을 연결하여 (+)전압을 인가하고, 상기 전해연마액 내에는 (-)전극을 설치하여 (-)전압을 인가하는 전류인가단계(S500)가 진행된다. 이때, 전류밀도는 10∼50A/d㎡ 범위 내에 실시되며, 상기 전류전달판(125)에는 전류가 흐르게 된다. After the mask desalination step (S400), a positive voltage is applied by connecting a positive electrode of the electropolishing apparatus to the current guide plate 125, and a negative electrode is installed in the electrolytic polishing liquid (−). A current application step S500 of applying a voltage is performed. At this time, the current density is carried out in the range of 10 to 50A / dm 2, and current flows in the current transfer plate 125.

상기 전류인가단계(S500)는 전류안내판(125)에 인가된 (+)전압이 메탈마스크(M)로 인가되도록 하는 단계로서, 상기 전류인가단계(S500)와 동시에 상기 버어(B)는 산화되어 버어산화단계(S600)가 진행된다.The current application step S500 is a step of applying a positive voltage applied to the current guide plate 125 to the metal mask M. At the same time as the current application step S500, the burr B is oxidized. Burr oxidation step (S600) is carried out.

보다 상세하게 설명하자면, 상기 전류인가단계(S500)는 (+)전하가 (-)전하로 이동하는 원리를 이용한 것으로, 상기 전류안내판(125)에 인가된 (+)전하가 상기 메탈마스크에 전달되면 상기 버어(B) 역시 (+)전하를 띄게 된다. In more detail, the current applying step (S500) uses the principle that the (+) charge is moved to the (-) charge, the (+) charge applied to the current guide plate 125 is transferred to the metal mask. When the burr (B) also has a (+) charge.

그리고, 상기 버어(B)는 (-)전하를 가지는 전해연마용액과 반응하여 산화됨으로써 상기 버어산화단계(S600)가 진행되는 동안 점차적으로 그 크기가 감소하게 된다. 이때, 상기 버어산화단계(S600)는 1 ∼ 5분 동안 실시되며, 이러한 연마시간 범위 외의 시간동안 버어산화단계(S600)가 실시되면, 상기 버어(B)의 산화가 불충분하게 진행되거나, 상기 메탈마스크(M)의 손상을 발생하게 된다.In addition, the burr B is oxidized by reacting with an electrolytic polishing solution having a (-) charge to gradually reduce its size during the burr oxidation step (S600). At this time, the burr oxidation step (S600) is carried out for 1 to 5 minutes, if the burr oxidation step (S600) is carried out for a time outside the polishing time range, the oxidation of the burr (B) proceeds insufficiently, or the metal The mask M may be damaged.

상기한 단계에 따라 상기 메탈마스크(M)의 전해연마가 완료되면 도 8에 도시된 전해연마 전과 후의 확대 사진에서 확인할 수 있듯이, 상기 개구부(0) 주위의 버어(B)는 물론 이물까지 제거 가능하게 된다.When the electropolishing of the metal mask M is completed according to the above steps, as shown in the enlarged photograph before and after the electropolishing shown in FIG. 8, the burr B around the opening 0 may be removed as well as foreign matter. Done.

이러한 본 발명의 범위는 상기에서 예시한 실시예에 한정하지 않고, 상기와 같은 기술범위 안에서 당업계의 통상의 기술자에게 있어서는 본 발명을 기초로 하는 다른 많은 변형이 가능할 것이다.The scope of the present invention is not limited to the above-exemplified embodiments, and many other modifications based on the present invention may be made by those skilled in the art within the above technical scope.

예를 들어 본 발명의 실시예에서는 변형방지수단 내부에 부착수단이 삽입될 수 있도록 안내하는 함몰부가 서로 마주보는 면에 형성되도록 구성하였으나, 필요에 따라서는 본 발명의 실시예에서 형성된 면의 대향되는 면에 함몰 형성되도록 구성할 수도 있음은 물론이다.For example, in the embodiment of the present invention, but configured to be formed on the surface facing each other depressions for guiding the attachment means inside the deformation preventing means, but if necessary the opposite of the surface formed in the embodiment of the present invention Of course, it can also be configured to be recessed in the surface.

또한, 본 발명의 실시예에서는 길이조절구가 전류전달구의 우측에 위치하여 좌/우로 이동 가능하도록 구성하였으나, 필요에 따라서는 전류전달구와 길이조절구 및 운동안내수단의 위치는 서로 동일한 평면상에 위치하는 조건하에 다양한 위치에 구성될 수도 있음은 물론이다. In addition, in the embodiment of the present invention, the length adjusting device is located on the right side of the current transmitting device and configured to be movable to the left / right. Of course, it may be configured in a variety of locations under the conditions of the location.

위에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 전해연마지그 및 이를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법은, 전해연마용액에 담겨진 메탈마스크가 전해연마지그에 의해서 견고하게 지지되도록 구성된다.As described in detail above, the electrolytic polishing jig and the electrolytic polishing method of the metal mask using the same are configured so that the metal mask contained in the electrolytic polishing solution is firmly supported by the electrolytic polishing jig.

따라서, 버어산화단계 진행중에 메탈마스크의 흔들림 및 움직임이 제한되어 버어 제거가 용이한 이점이 있다.Therefore, the shaking and movement of the metal mask is limited during the burr oxidation step, thereby making it easy to remove the burr.

또한, 상기한 이유로 메탈마스크의 파손이 미연에 방지되는 이점이 있다.In addition, there is an advantage that the breakage of the metal mask is prevented in advance.

뿐만 아니라, 메탈마스크에 부착된 이물 및 버어의 제거를 위한 전해연마용액의 온도, 전류밀도 및 전류 인가시간 등의 조건에 의해 메탈마스크의 품질이 향상되는 이점이 있다.In addition, there is an advantage that the quality of the metal mask is improved by conditions such as temperature, current density, and current application time of the electrolytic polishing solution for removing foreign matter and burrs attached to the metal mask.

Claims (17)

전해연마장치 내부에서 전해연마액에 담긴 상태로 설치되고, 메탈마스크 일측을 구속하여 전해연마장치 내부에서 메탈마스크의 움직임을 구속하는 전해연마지그에 있어서, In the electrolytic polishing jig which is installed in the electrolytic polishing solution in the electrolytic polishing device, restrains the metal mask one side to restrain the movement of the metal mask in the electrolytic polishing device, 상기 전해연마지그는,The electrolytic polishing jig, 상기 메탈마스크의 전면 및 후면 테두리와 접촉하여 메탈마스크가 변형되지 않도록 규제하는 변형방지수단과,Deformation preventing means for regulating the metal mask is not deformed in contact with the front and rear edge of the metal mask, 상기 변형방지수단 외측에 구비되어 외관 일부를 형성하고 상기 변형방지수단의 하중을 지지하는 하중지지수단과,A load supporting means provided on an outer side of the deformation preventing means to form a part of the exterior and supporting the load of the deformation preventing means; 상기 변형방지수단의 일부가 하중지지수단 내부에서 직선 왕복운동하도록 안내하는 운동안내수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 전해연마지그.Electrolytic polishing jig, characterized in that it comprises a movement guide means for guiding a portion of the deformation preventing means to linearly reciprocate in the load supporting means. 제 1 항에 있어서, 상기 변형방지수단은,The method of claim 1, wherein the deformation preventing means, 상기 메탈마스크의 일면에 구비되어 전해연마장치의 (+)전극이 상기 메탈마스크에 연결되도록 하는 전류전달구와,A current transfer hole provided on one surface of the metal mask to connect a positive electrode of the electropolishing apparatus to the metal mask; 상기 전류전달구와 동일 평면상에서 이격 설치되고, 상기 메탈마스크의 크기에 따라 선택적으로 직선 왕복운동 가능한 길이조절구와,A length adjusting device which is installed on the same plane as the current transfer hole and selectively linearly reciprocates according to the size of the metal mask; 상기 전류전달구 및 길이조절구와 인력을 발생하여 상기 메탈마스크의 움직임을 규제하는 유동규제구를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 전해연마지그.Electrolytic polishing jig characterized in that it comprises a flow regulation sphere for regulating the movement of the metal mask by generating a current and the current transfer port and the length adjuster. 제 2 항에 있어서, 상기 변형방지수단은 비전도성 재질로 형성되며, 내부 일측에는 자기력을 발생하여 상기 전류전달구 및 길이조절구와 유동규제구가 서로 부착되도록 하는 부착수단이 구비됨을 특징으로 하는 전해연마지그.The method of claim 2, wherein the deformation preventing means is formed of a non-conductive material, the inner side of the electrostatic force generating means characterized in that the attachment means for attaching the current transfer port, the length adjustment port and the flow regulator is provided with each other Abrasive jig. 제 3 항에 있어서, 상기 전류전달구의 일측에는 전해연마장치에서 인가된 전류가 메탈마스크로 전달되도록 하는 전류전달판이 구비됨을 특징으로 하는 전해연마지그.The electrolytic polishing jig according to claim 3, wherein a current transfer plate is provided at one side of the current transfer port to transfer the current applied from the electrolytic polishing device to the metal mask. 제 4 항에 있어서, 상기 전류전달판은 전해연마액과 반응하지 않는 납(Pb) 또는 금속 산화물로 형성됨을 특징으로 하는 전해연마지그.The electrolytic polishing jig according to claim 4, wherein the current transfer plate is formed of lead (Pb) or metal oxide that does not react with the electrolytic polishing liquid. 제 5 항에 있어서, 운동안내수단은,The method of claim 5, wherein the exercise guide means, 상기 하중지지수단을 관통한 후 일단부가 길이조절구 일측과 결합되어 상기 길이조절구의 직선왕복운동을 안내하는 안내봉과,A guide rod having one end coupled to one side of the length adjusting tool after the load supporting means is used to guide the linear reciprocation of the length adjusting tool; 상기 안내봉 외측에 구비되어 상기 안내봉에 일방향의 탄성력을 발생하는 탄성부재와,An elastic member provided outside the guide rod to generate an elastic force in one direction on the guide rod; 상기 안내봉 및 하중지지수단을 동시에 관통하여 상기 안내봉의 일방향 움직임을 구속하는 구속핀을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 전해연마지그.Electrolytic polishing jig characterized in that it comprises a restriction pin penetrates the guide rod and the load supporting means at the same time to restrain the one-way movement of the guide rod. 제 6 항에 있어서, 상기 안내봉의 일측에는,According to claim 6, On one side of the guide rod, 상기 탄성부재의 일단부를 간섭하여 상기 안내봉으로부터 탄성부재의 이탈을 규제하는 이탈방지판이 구비됨을 특징으로 하는 전해연마지그.Electrolytic polishing jig characterized in that the separation prevention plate for restricting the separation of the elastic member from the guide rod by interfering one end of the elastic member. 제 7 항에 있어서, 상기 안내봉에는 상기 구속핀이 삽입되도록 천공된 다수개의 삽입홀이 형성됨을 특징으로 하는 전해연마지그.8. The electrolytic polishing jig according to claim 7, wherein the guide rod has a plurality of insertion holes formed therein so as to insert the restriction pins. 제 8 항에 있어서, 상기 하중지지수단의 일측에는,According to claim 8, One side of the load supporting means, 상기 삽입홀과 대응되는 크기로 천공되어 상기 구속핀이 삽입홀에 삽입될 수 있도록 안내하는 안내홀이 구비됨을 특징으로 하는 전해연마지그.Electrolytic polishing jig characterized in that the guide hole which is drilled to the size corresponding to the insertion hole to guide the insertion pin to be inserted into the insertion hole. 메탈마스크의 전면 및 후면 테두리와 접촉하여 메탈마스크가 변형되지 않도록 규제하는 변형방지수단의 일측을 움직여 변형방지수단의 폭과 메탈마스크의 폭이 대응되도록 변경하는 폭변경단계와,A width changing step of changing the width of the deformation preventing means and the width of the metal mask by moving one side of the deformation preventing means which contacts the front and rear edges of the metal mask so as not to deform the metal mask; 상기 변형방지수단의 하중을 지지하는 하중지지수단에 상기 변형방지수단의 직선 왕복운동을 안내하는 운동안내수단을 고정시켜 상기 변형방지수단의 움직임을 제한하는 유동제한단계와,A flow restriction step of restricting the movement of the deformation preventing means by fixing a movement guide means for guiding linear reciprocation of the deformation preventing means to a load supporting means for supporting the load of the deformation preventing means; 상기 변형방지수단 내측에 메탈마스크를 삽입 고정하는 마스크고정단계와,A mask fixing step of inserting and fixing a metal mask inside the deformation preventing means; 상기 메탈마스크를 전해연마액에 담수하는 마스크담수단계와,A mask desalination step of desalination of the metal mask in an electrolytic polishing solution; 상기 변형방지수단 일측에 구비된 전류전달판에 (+)전극을 연결하고, 전해연마액 내에 (-)전극을 설치하여 전류전달판에 전류가 흐르도록 하는 전류인가단계,Connecting a (+) electrode to a current transfer plate provided on one side of the deformation preventing means, and installing a (-) electrode in the electrolytic polishing liquid to apply current to the current transfer plate; 상기 전류인가단계에서 인가된 전류에 의해 상기 메탈마스크에 형성된 버어(Burr)가 산화되는 버어산화단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법. Electrolytic polishing method of the metal mask using an electrolytic polishing jig characterized in that it comprises a burr oxidation step of oxidizing a burr formed in the metal mask by the current applied in the current application step. 제 10 항에 있어서, 상기 폭변경단계는 상기 운동안내수단의 일구성인 안내봉이 하중지지수단 일측을 관통하여 일방향으로 슬라이딩되는 과정임을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.The electrolytic polishing method of claim 10, wherein the width changing step is a process in which the guide rod, which is one component of the motion guide means, slides in one direction through one side of the load supporting means. 제 11 항에 있어서, 상기 유동제한단계는, 상기 안내봉과 하중지지수단을 동시에 관통하는 구속핀이 상기 안내봉에 천공 형성된 다수개의 삽입홀 중 어느 하나에 삽입되는 과정임을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.12. The electrolytic polishing jig according to claim 11, wherein the flow restricting step is a process in which a restriction pin penetrating the guide rod and the load supporting means is inserted into one of a plurality of insertion holes formed in the guide rod. Electrolytic polishing method of the used metal mask. 제 12 항에 있어서, 상기 마스크고정단계는, 상기 변형방지수단 내부에 삽입 고정된 부착수단이 인력을 발생시에 상기 메탈마스크가 변형방지수단 사이에 끼워지는 과정임을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.The metal using the electrolytic polishing jig according to claim 12, wherein the mask fixing step is a process in which the metal mask is sandwiched between the deformation preventing means when an attachment means inserted and fixed inside the deformation preventing means generates an attractive force. Electropolishing method of mask. 제 13 항에 있어서, 상기 마스크담수단계에서 상기 전해연마용액은,The method of claim 13, wherein the electrolytic polishing solution in the mask desalination step, 인산, 글리세린, 염산, 질산, 황산, 크롬산, 질산 중 적어도 어느 하나로 구 성됨을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.Electrolytic polishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig, characterized in that composed of at least one of phosphoric acid, glycerin, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, nitric acid. 제 14 항에 있어서, 상기 전해연마용액의 온도는 20 ∼70℃임을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.The electrolytic polishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig according to claim 14, wherein the electrolytic polishing solution has a temperature of 20 to 70 ° C. 제 15 항에 있어서, 상기 전류인가단계에서 전류밀도는 10∼50A/d㎡임을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법.The electrolytic polishing method of a metal mask using an electrolytic polishing jig according to claim 15, wherein the current density in the current application step is 10 to 50 A / dm 2. 제 16 항에 있어서, 상기 버어산화단계는 1 ∼ 5분 동안 실시됨을 특징으로 하는 전해연마지그를 이용한 메탈마스크의 전해연마방법. The method of claim 16, wherein the burr oxidation step is electrolytic polishing method of the metal mask using an electrolytic polishing jig, characterized in that performed for 1 to 5 minutes.
KR1020060045386A 2006-05-20 2006-05-20 A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask KR100767047B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060045386A KR100767047B1 (en) 2006-05-20 2006-05-20 A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060045386A KR100767047B1 (en) 2006-05-20 2006-05-20 A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100767047B1 true KR100767047B1 (en) 2007-10-17

Family

ID=38814778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060045386A KR100767047B1 (en) 2006-05-20 2006-05-20 A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100767047B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101403103B1 (en) * 2012-04-20 2014-06-03 주식회사 포스코 Method of manufacturing a metal substrate having improved flatness for flexible oled
KR101967672B1 (en) 2017-11-27 2019-04-11 주식회사 다윈 An apparatus for electrolytic polishing a metal mask
KR102478175B1 (en) * 2022-04-14 2022-12-14 김태수 Electrolytic ploishing system using alignment jig

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004060027A (en) 2002-07-31 2004-02-26 Ebara Corp Electro-chemical machining method and apparatus
KR20040064699A (en) * 2001-11-02 2004-07-19 누툴 인코포레이티드 Electrochemical mechanical processing with advancible sweeper

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040064699A (en) * 2001-11-02 2004-07-19 누툴 인코포레이티드 Electrochemical mechanical processing with advancible sweeper
JP2004060027A (en) 2002-07-31 2004-02-26 Ebara Corp Electro-chemical machining method and apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101403103B1 (en) * 2012-04-20 2014-06-03 주식회사 포스코 Method of manufacturing a metal substrate having improved flatness for flexible oled
KR101967672B1 (en) 2017-11-27 2019-04-11 주식회사 다윈 An apparatus for electrolytic polishing a metal mask
KR102478175B1 (en) * 2022-04-14 2022-12-14 김태수 Electrolytic ploishing system using alignment jig

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4642771B2 (en) Method and apparatus for fluid processing a workpiece
KR100767047B1 (en) A electro-polishing jig and the electro-polishing method of metal mask
KR101129213B1 (en) Run-off path to collect liquid for an immersion lithography apparatus
KR101630585B1 (en) Holding device for a product and treatment method
JP6813490B2 (en) Board cage receiving device
US6884153B2 (en) Apparatus for electrochemical processing
EP1710630A3 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
US10113246B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and plating method
WO2015033399A1 (en) Work apparatus for substrate
JP4933175B2 (en) Method and apparatus for fluid processing a workpiece
JP2021114601A (en) Tooling pin placement system
EP1146400A3 (en) Developing apparatus and assembling method for the same
JP2007023348A (en) Electroplating treatment system
JP4268515B2 (en) Electrolytic peeling method
CN110026628B (en) Electrochemical machining device based on magneto-deformable electrode and electrochemical machining method thereof
CN114318477A (en) Contact structure, substrate holder, electroplating device and method for supplying power to substrate
KR101153275B1 (en) Plating jig for electronic parts and electrolysis plating apparatus
JP2009257895A (en) Inspection tool
KR101286254B1 (en) Wafer Holder Assist Apparatus for Electroplating of Semiconductor
KR20050043618A (en) Plating jig for electronic parts and electrolysis plating apparatus
KR101531112B1 (en) Chuck and processing apparatus
JP2010027292A (en) Static eliminator equipped with electrode needle
JP3122753B2 (en) Printed circuit board plating jig
JP2005127842A (en) Pin block
JP2007056322A (en) Plating method and apparatus therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121009

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131010

Year of fee payment: 7