KR100756249B1 - apparatus for removing bubbles in liquid crystal - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정의 탈포에 이용되는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus used for defoaming of liquid crystals.

액정의 탈포시 챔버 내부의 공기를 일정하게 배출하는 것이 중요한데, 일반적인 액정 탈포 장치에서는 챔버 배출구의 개폐 정도를 수동밸브를 이용하여 조절하기 때문에 정확하게 제어하기 힘들다. 따라서, 챔버 내부의 공기가 너무 급속하게 배출될 경우, 액정 내에 존재하던 기포가 크게 발생되면서 액정이 액정 쟁반 밖으로 흘러내리게 된다.It is important to constantly discharge the air in the chamber during the defoaming of the liquid crystal, it is difficult to control accurately because the degree of opening and closing of the chamber outlet by using a manual valve in the general liquid crystal defoaming device. Therefore, when the air inside the chamber is discharged too rapidly, the bubbles existing in the liquid crystal are largely generated and the liquid crystal flows out of the liquid crystal tray.

본 발명에서는 진공 게이지의 진공도에 따라 자동으로 챔버 배출구의 개폐를 조절하는 자동 압력 콘트롤러를 이용하여, 챔버 내부의 공기 배출을 정확하게 제어함으로써, 발생되는 기포의 크기를 작게 조절하여 크게 발생된 기포가 터지면서 유발되는 액정 쟁반 상의 액정 유출을 방지할 수 있다.
In the present invention, by using an automatic pressure controller that automatically adjusts the opening and closing of the chamber outlet according to the vacuum degree of the vacuum gauge, by accurately controlling the air discharge in the chamber, by controlling the size of the generated bubbles small, the large bubbles are burst It is possible to prevent the liquid crystal spill on the liquid crystal tray caused.

액정 탈포, 기포, 탈포시간Liquid crystal defoaming, bubble, defoaming time

Description

액정의 탈포 장치{apparatus for removing bubbles in liquid crystal} Apparatus for removing bubbles in liquid crystal             

도 1은 일반적인 액정 표시 장치의 단면을 도시한 도면.1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display device.

도 2는 일반적인 액정 셀의 제조 공정을 도시한 흐름도.2 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a general liquid crystal cell.

도 3은 종래의 액정 탈포 장치를 도시한 도면.3 is a view showing a conventional liquid crystal defoaming apparatus.

도 4는 본 발명에 따른 액정 탈포 장치를 도시한 도면.
4 is a view showing a liquid crystal defoaming apparatus according to the present invention.

본 발명은 액정 표시 장치의 제조 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 액정의 탈포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a defoaming device for a liquid crystal.

최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시 장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 그 중 색 재현성 등이 우수한 액정 표시 장치(liquid crystal display)가 활발하게 개발되고 있다.Recently, with the rapid development of the information society, there is a need for a flat panel display having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption. Among them, a liquid crystal display having excellent color reproducibility, etc. displays are actively being developed.

일반적으로 액정 표시 장치는 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극 이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device includes two substrates on which electrodes are formed so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, inject a liquid crystal material between the two substrates, and apply a voltage to the two electrodes to generate an electric field. By moving the liquid crystal molecules, the image is expressed by the transmittance of light that varies accordingly.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 일반적인 액정 표시 장치의 구조에 대하여 설명한다. Hereinafter, a structure of a general liquid crystal display device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치에 대한 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display.

도 1에 도시한 바와 같이, 투명한 제 1 기판(10) 위에 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 게이트 전극(21)이 형성되어 있고, 그 위에 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2)으로 이루어진 게이트 절연막(30)이 게이트 전극(21)을 덮고 있다. 게이트 전극(21) 상부의 게이트 절연막(30) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(41)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(51, 52)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 1, a gate electrode 21 made of a conductive material such as a metal is formed on a transparent first substrate 10, and a silicon nitride film (SiN x ) or a silicon oxide film (SiO 2 ) is formed thereon. The gate insulating film 30 covers the gate electrode 21. An active layer 41 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 30 on the gate electrode 21, and ohmic contact layers 51 and 52 made of amorphous silicon doped with impurities are formed thereon.

오믹 콘택층(51, 52) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 소스 및 드레인 전극(61, 62)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(61, 62)은 게이트 전극(21)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.Source and drain electrodes 61 and 62 made of a conductive material such as a metal are formed on the ohmic contact layers 51 and 52, and the source and drain electrodes 61 and 62 together with the gate electrode 21 are thin film transistors. (T).

도시하지 않았지만, 게이트 전극(21)은 게이트 배선과 연결되어 있고, 소스 전극(61)은 데이터 배선과 연결되어 있으며, 게이트 배선과 데이터 배선은 서로 직교하여 화소 영역을 정의한다.Although not shown, the gate electrode 21 is connected to the gate wiring, the source electrode 61 is connected to the data wiring, and the gate wiring and the data wiring are orthogonal to each other to define the pixel region.

이어, 소스 및 드레인 전극(61, 62) 위에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화 막 또는 유기 절연막으로 이루어진 보호층(70)이 형성되어 있으며, 보호층(70)은 드레인 전극(62)을 드러내는 콘택홀(71)을 가진다.Subsequently, a passivation layer 70 made of a silicon nitride film, a silicon oxide film, or an organic insulating layer is formed on the source and drain electrodes 61 and 62, and the passivation layer 70 has a contact hole 71 exposing the drain electrode 62. )

보호층(70) 상부의 화소 영역에는 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(81)이 형성되어 있고, 화소 전극(81)은 콘택홀(71)을 통해 드레인 전극(62)과 연결되어 있다.A pixel electrode 81 made of a transparent conductive material is formed in the pixel area above the passivation layer 70, and the pixel electrode 81 is connected to the drain electrode 62 through the contact hole 71.

한편, 제 1 기판(10) 상부에는 제 1 기판(10)과 일정 간격을 가지고 이격되어 있으며 투명한 제 2 기판(90)이 배치되어 있다. On the other hand, the second substrate 90, which is spaced apart from the first substrate 10 at regular intervals and disposed above the first substrate 10, is disposed.

제 2 기판(90)의 하부에는 블랙 매트릭스(91)가 형성되어 있는데, 블랙 매트릭스(91)는 박막 트랜지스터(T)와 대응되는 부분에 위치하며, 도시하지 않았지만 화소 전극(81) 이외의 부분도 덮고 있다. 블랙 매트릭스(91) 하부에는 컬러필터(92)가 형성되어 있으며, 컬러필터(92)는 적(R), 녹(G), 청(B)의 세 가지 색이 순차적으로 반복되어 있고, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응된다. 다음, 컬러필터(92) 하부에는 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(93)이 형성되어 있다. A black matrix 91 is formed below the second substrate 90. The black matrix 91 is positioned at a portion corresponding to the thin film transistor T. Although not illustrated, portions other than the pixel electrode 81 are also illustrated. Covering. A color filter 92 is formed below the black matrix 91. Three colors of red (R), green (G), and blue (B) are sequentially repeated. The color corresponds to one pixel area. Next, a common electrode 93 made of a transparent conductive material is formed under the color filter 92.

그리고, 화소 전극(81) 상부와 공통 전극(93) 하부에는 배향막(도시하지 않음)이 각각 형성되어 있으며, 두 배향막 사이에는 액정층(100)이 주입되어 있다.An alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 81 and the common electrode 93, respectively, and the liquid crystal layer 100 is injected between the two alignment films.

이러한 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터와 화소 전극을 형성하는 어레이 기판 제조 공정과 컬러필터와 공통 전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조 공정, 그리고 제조된 두 기판의 합착과 액정 물질의 주입 및 봉지, 그리고 편광판 부착으로 이루어진 액정 셀(liquid crystal cell) 공정에 의해 형성된다. Such a liquid crystal display includes an array substrate manufacturing process for forming a thin film transistor and a pixel electrode, a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode, bonding of the two substrates, injecting and encapsulating a liquid crystal material, and attaching a polarizing plate. It is formed by a liquid crystal cell process consisting of.                         

이하, 액정 표시 장치의 액정 셀 제조 공정에 대하여 첨부한 도 2를 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the liquid crystal cell manufacturing process of the liquid crystal display device will be described in more detail with reference to FIG. 2.

도 2는 일반적인 액정 셀 제조 공정을 도시한 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a general liquid crystal cell manufacturing process.

먼저, 박막 트랜지스터를 포함하는 하부의 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터를 포함하는 상부의 컬러필터 기판을 준비한다(st1).First, a lower thin film transistor substrate including a thin film transistor and an upper color filter substrate including a color filter are prepared (st1).

박막 트랜지스터 기판은 박막을 증착하고 패터닝하는 과정을 여러 회 반복함으로써 형성되는데, 박막의 패터닝시 사용되는 마스크의 수가 공정수를 나타내며, 현재 마스크 수를 감소시켜 제조 비용을 줄이기 위한 연구가 활발히 이루어지고 있다.The thin film transistor substrate is formed by repeating a process of depositing and patterning a thin film several times. The number of masks used in patterning of thin films represents the number of processes, and researches are being actively conducted to reduce manufacturing costs by reducing the number of masks. .

컬러필터 기판은 화소 영역 이외의 부분에서 빛샘이 발생하는 것을 방지하기 위한 블랙 매트릭스와 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터 및 공통 전극을 순차적으로 형성함으로써 이루어진다. 컬러필터는 염색법, 인쇄법, 안료 분산법, 전착법 등에 의해 형성되는데, 현재 컬러 필터 형성에 사용되는 보편적인 방법은 안료 분산법이다.The color filter substrate is formed by sequentially forming a black matrix, a color filter of red (R), green (G), and blue (B) and a common electrode to prevent light leakage from occurring in portions other than the pixel region. The color filter is formed by a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, or the like. A common method currently used for forming a color filter is a pigment dispersion method.

컬러필터 기판은 블랙 매트릭스와 컬러필터 및 공통 전극을 순차적으로 형성함으로써 이루어지는데, 컬러필터는 상술한 제조 방법 이외에 최근 잉크젯 방식이나 전사법과 같은 방법이 개발되어 이용되고 있다.The color filter substrate is formed by sequentially forming a black matrix, a color filter, and a common electrode. In addition to the manufacturing method described above, a color filter has recently been developed and used such as an inkjet method or a transfer method.

이어, 각 기판에 액정 분자의 초기 배열 방향을 결정하기 위한 배향막을 형성한다(st2).Subsequently, an alignment film for determining an initial arrangement direction of liquid crystal molecules is formed on each substrate (st2).

배향막의 형성은 고분자 박막을 도포하고 배향막을 일정한 방향으로 배열시 키는 공정으로 이루어진다. 일반적으로 배향막에는 폴리이미드(polyimide) 계열의 유기물질이 주로 사용되고, 배향막을 배열시키는 방법으로는 러빙 방법이 이용된다. 러빙 방법은 러빙포를 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러주는 것으로, 배향 처리가 용이하여 대량 생산에 적합하고 배향이 안정하며 프리틸트각(pretilt angle)의 제어가 용이한 장점이 있다. 그러나, 러빙포에 의한 불량 등이 발생하므로 최근에는 광배향 방법이 개발되어 사용되고 있다.Formation of the alignment film consists of applying a polymer thin film and arranging the alignment film in a constant direction. In general, a polyimide-based organic material is mainly used for the alignment layer, and a rubbing method is used as a method of arranging the alignment layer. The rubbing method is to rub the alignment film in a certain direction by using a rubbing cloth, and has an advantage of easy alignment treatment, suitable for mass production, stable orientation, and easy control of the pretilt angle. However, since a defect caused by a rubbing cloth occurs, a photo-alignment method has recently been developed and used.

다음, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 씰 패턴(seal pattern)을 형성하는데(st3), 씰 패턴은 화상이 표현되는 영역의 외곽에 위치하며, 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정의 누설을 방지하는 역할을 한다. Next, a seal pattern is formed on one of the two substrates (st3), and the seal pattern is located outside the region where the image is represented, and forms a gap for injecting the liquid crystal and leaks the injected liquid crystal. Serves to prevent.

씰 패턴은 열경화성 수지를 일정한 패턴으로 형성함으로써 이루어지며, 씰 패턴 형성 방법으로는 스크린 마스크(screen mask)를 이용한 스크린 인쇄법과 디스펜서를 이용한 씰 디스펜서(dispenser)법이 있다. 현재 공정의 편의성이 큰 스크린 인쇄법이 주로 사용되고 있으나, 마스크와 배향막의 접촉에 의한 불량 유발과 기판의 크기가 커짐에 따라 스크린 마스크의 대응이 어려운 단점이 있어 점차 씰 디스펜서법으로 변경이 이루어지고 있다.The seal pattern is formed by forming a thermosetting resin in a predetermined pattern, and a seal pattern forming method includes a screen printing method using a screen mask and a seal dispenser method using a dispenser. Currently, screen printing, which has a large process convenience, is mainly used. However, the screen mask is difficult to cope with defects caused by the contact between the mask and the alignment layer and the size of the substrate increases. .

이어, 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터 기판 사이의 간격을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 일정한 크기의 스페이서를 산포한다(st4). 스페이서의 산포 방식은 알코올 등에 스페이서를 혼합하여 분사하는 습식 산포법과 스페이서만을 산포하는 건식 산포법으로 나눌 수 있으며, 건식 산포는 정전기를 이용하는 정전 산포법과 기체의 압력을 이용하는 제전 산포법으로 나 뉘는데, 액정 표시 장치는 정전기에 취약한 구조를 가지므로 제전 산포법이 많이 사용된다.Subsequently, in order to maintain a precise and uniform gap between the thin film transistor substrate and the color filter substrate, a spacer having a predetermined size is scattered on one of the two substrates (st4). The scattering method of the spacer can be divided into a wet spraying method in which the spacer is mixed by spraying alcohol and the like and a dry spraying method in which only the spacer is scattered. Since the liquid crystal display has a structure vulnerable to static electricity, the static elimination dispersion method is widely used.

다음, 액정 표시 장치의 두 기판 즉, 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판을 배치하고 씰 패턴을 가압경화하여 합착한다(st5). 이때, 각 기판의 배향막이 마주 대하며, 화소 전극과 컬러필터가 일대일 대응하도록 배치한다.Next, two substrates of the liquid crystal display, that is, the thin film transistor substrate and the color filter substrate are disposed, and the seal pattern is pressed and bonded (st5). At this time, the alignment layers of the substrates face each other, and the pixel electrodes and the color filters are disposed to correspond one-to-one.

다음, 두 기판을 각각의 셀로 절단하여 분리한다(st6). 일반적으로 액정 표시 장치는 한 장의 기판 상에 하나의 액정 표시 장치가 될 셀을 다수 개 형성하고 각 셀로 분리함으로써, 제조 효율을 향상시키고 제조 비용을 감소시킬 수 있다.Next, the two substrates are cut into respective cells and separated (st6). In general, the liquid crystal display may improve the manufacturing efficiency and reduce the manufacturing cost by forming a plurality of cells to be one liquid crystal display on a single substrate and separating the cells into individual cells.

셀 절단 공정은 유리 기판 보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜(pen)으로 유리 기판 표면에 절단선을 형성하는 스크라이브(scribe) 공정과 힘을 가하여 절단하는 브레이크(break) 공정으로 이루어진다.The cell cutting process includes a scribe process of forming a cutting line on the surface of the glass substrate using a diamond pen having a hardness higher than that of the glass substrate, and a break process of applying a force to cut the glass substrate.

이어, 두 기판의 배향막 사이에 액정을 주입한다(st7). 액정의 주입은 셀 내외의 압력차를 이용한 진공 주입법이 주로 이용된다. 여기서 셀 내부에 액정이 주입되었을 때, 액정 속의 미세한 공기 방울에 의해 셀 내부에서 기포가 형성되어 불량이 발생할 수 있다. 따라서, 이를 방지하기 위해 액정을 장시간 진공에 방치하여 기포를 제거하는 탈포 과정이 필요하다.Next, the liquid crystal is injected between the alignment layers of the two substrates (st7). As the injection of the liquid crystal, a vacuum injection method using a pressure difference inside and outside the cell is mainly used. Here, when the liquid crystal is injected into the cell, bubbles may be formed inside the cell by minute air bubbles in the liquid crystal, which may cause a defect. Therefore, in order to prevent this, a defoaming process of removing bubbles by leaving the liquid crystal in vacuum for a long time is necessary.

액정의 주입이 완료되면 셀의 주입구에서 액정이 흘러나오지 않도록 주입구를 봉합한다. 보통 디스펜서를 이용하여 주입구에 자외선 경화 수지를 도포한 후, 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 주입구를 막아준다.When the injection of the liquid crystal is completed, the injection hole is sealed so that the liquid crystal does not flow out of the injection hole of the cell. In general, after applying the ultraviolet curable resin to the inlet using a dispenser, the inlet is prevented by irradiating with ultraviolet rays to cure.

다음, 이러한 방법으로 형성된 액정 셀의 외측에 각각 편광판을 부착한 후 구동회로를 연결하면 액정 표시 장치가 완성된다(st8).Next, when the polarizers are attached to the outside of the liquid crystal cell formed in this manner, the driving circuits are connected to complete the liquid crystal display (st8).

이와 같은 방법으로 액정 표시 장치를 제조하는데 있어서, 액정의 탈포 과정에 이용되는 장치에 대하여 이하에서 설명한다.In manufacturing the liquid crystal display device in such a manner, a device used for the defoaming process of the liquid crystal will be described below.

도 3은 액정의 탈포 과정에 이용되는 진공 장치에 대하여 도시한 것으로서, 도시한 바와 같이, 액정의 탈포에 사용되는 진공장치는 일측에 시료의 출입구(111)와 배출구(112)를 가지는 챔버(110)가 있고, 챔버(110)의 내부에는 액정이 담겨져 있는 액정 쟁반(120)이 위치한다. 챔버(110)의 바깥쪽 일측에는 챔버(110) 내부의 압력을 측정하는 진공 게이지(vacuum gauge)(130, 140)가 위치하는데, 진공 게이지(130, 140)는 각각 저진공 영역의 진공도와, 고진공 영역의 진공도를 측정한다.3 illustrates a vacuum apparatus used for the defoaming process of the liquid crystal, and as shown, the vacuum apparatus used for the defoaming of the liquid crystal includes a chamber 110 having an entrance 111 and an outlet 112 of a sample on one side. ), The liquid crystal tray 120 in which the liquid crystal is contained is located in the chamber 110. On the outer side of the chamber 110, vacuum gauges 130 and 140 for measuring the pressure inside the chamber 110 are located, and the vacuum gauges 130 and 140 respectively have a vacuum degree of a low vacuum region, The degree of vacuum in the high vacuum region is measured.

챔버(110)의 배출구(112)는 배기계(pumping system)(150)와 연결되어 있으며, 배출구(112)의 중간에는 핸들(161)을 조절하여 배출구(112)를 개폐하기 위한 밸브(160)가 위치한다.The outlet 112 of the chamber 110 is connected to a pumping system 150, and in the middle of the outlet 112, a valve 160 for opening and closing the outlet 112 by adjusting the handle 161 is provided. Located.

이와 같은 장치를 이용하여 액정을 탈포하는 과정은 다음과 같다.Degassing the liquid crystal using such a device is as follows.

먼저, 액정이 담겨져 있는 액정 쟁반(120)을 챔버(110) 내에 로딩(loading)하고, 챔버(110)의 내부와 외부를 차단한다. 이어, 배기계(150)를 동작시키고, 사전 개폐율이 조절된 밸브(160)를 통하여 챔버(110) 내부의 공기를 배출함으로써, 챔버(110) 내부를 서서히 진공 상태로 만든다. First, the liquid crystal tray 120 containing the liquid crystal is loaded in the chamber 110 and blocks the inside and the outside of the chamber 110. Subsequently, the exhaust system 150 is operated and the air inside the chamber 110 is discharged through the valve 160 whose pre-opening and closing rate is adjusted, thereby gradually making the inside of the chamber 110 into a vacuum state.

챔버(110) 내부는 공기가 계속 배출되면서 진공 상태로 되는 동시에 점차로 액정의 내/외부에 압력 차이가 발생되면서 액정에 담겨져 있는 기포를 제거하는데, 챔버(110) 내부의 압력이 40 파스칼(Pa)이 될 때까지는 밸브(160)를 약 15% 정도만 열고 공기를 천천히 배출함으로써 탈포하고, 40 파스칼 이하가 되면 밸브(160)를 완전히 열어 챔버(110) 내부의 압력이 약 1 파스칼 정도가 될 때까지 탈포한다.In the chamber 110, the air is continuously discharged to become a vacuum state, and pressure difference occurs inside and outside of the liquid crystal, thereby removing bubbles contained in the liquid crystal. The pressure inside the chamber 110 is 40 pascals (Pa). Until this, open the valve 160 only about 15% and slowly deflate by slowly venting the air, and when less than 40 pascal, open the valve 160 completely until the pressure inside the chamber 110 becomes about 1 pascal. Defoaming.

그런데, 이러한 탈포 과정 중 챔버(110) 내부의 공기가 배출되는 정도를 적절히 조절하여야 한다. 챔버(110) 내부의 압력이 40 파스칼 이상일 때 공기의 배출 정도가 너무 빠르면, 기포가 크게 발생하여 액정이 액정 쟁반(120) 밖으로 흘러 내릴 수 있다. 이에 따라, 이후 액정 주입시 액정 주입 부족과 같은 불량이 나타날 수 있으며, 특히 최근에는 액정 표시 장치에 고속 응답형 액정이 요구되는데, 이러한 액정은 점도(viscosity)가 낮아 탈포시 거품이 발생될 확률이 더욱 높다.By the way, the degree of air discharged inside the chamber 110 during the defoaming process should be appropriately adjusted. When the air discharge rate is too fast when the pressure inside the chamber 110 is 40 Pascal or more, bubbles may be generated largely and the liquid crystal may flow out of the liquid crystal tray 120. Accordingly, defects such as insufficient liquid crystal injection may occur during liquid crystal injection, and in particular, recently, high-speed response liquid crystals are required in liquid crystal displays, and since the liquid crystal has a low viscosity, it is unlikely that bubbles are generated during defoaming. Even higher.

공기의 배출 정도는 밸브(160)의 열린 정도에 의해 조절되는데, 이와 같은 장치에서는 수동 핸들(161)을 돌려서 밸브(160)의 열린 정도를 조절하게 되는데, 이러한 방식으로는 공기의 배출 정도를 정확하게 제어하기 어려운 문제가 있다.
The degree of air discharge is controlled by the degree of opening of the valve 160. In such a device, the degree of opening of the valve 160 is adjusted by turning the manual handle 161. There is a problem that is difficult to control.

본 발명은 상기한 종래의 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 액정 탈포 과정에서 정량적으로 관리가 가능한 탈포 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide a defoaming apparatus that can be quantitatively managed in the liquid crystal defoaming process.

본 발명의 다른 목적은 저점도 액정의 탈포시 기포에 의해 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있는 탈포 장치를 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a defoaming apparatus that can prevent the occurrence of defects due to bubbles during defoaming of the low viscosity liquid crystal.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 탈포 장치는 액정쟁반의 출입구와, 내부의 공기가 배출되는 배출구를 가진 챔버와; 상기 챔버 내부의 진공도를 측정하는 진공 게이지와; 상기 배출구와 연결되어 있으며, 상기 챔버 내부의 진공도를 유지하는 배기계와; 상기 챔버 내부의 진공도에 따라 대기압에서 탈포 기준압력까지의 저진공 상태에서와 상기 기준압력 미만의 고진공 상태에서의 상기 배출구의 개폐 정도를 2단계로 자동으로 조절함으로써 상기 액정 쟁반내의 액정의 흘러내림을 방지하는 것을 특징으로 하는 자동 압력 콘트롤러로 이루어진다.Liquid crystal defoaming apparatus according to the present invention for achieving the above object comprises a chamber having an entrance and exit port of the liquid crystal tray, the outlet air is discharged; A vacuum gauge for measuring the degree of vacuum inside the chamber; An exhaust system connected to the discharge port and maintaining a degree of vacuum in the chamber; The flow of the liquid crystal in the liquid crystal tray is controlled by automatically adjusting the opening and closing degree of the outlet in two stages in a low vacuum state from atmospheric pressure to a defoaming reference pressure and in a high vacuum state below the reference pressure according to the degree of vacuum in the chamber. It consists of an automatic pressure controller, characterized in that to prevent.

여기서, 진공 게이지는 100 파스칼 이상의 저진공도를 측정하는 저진공 게이지와, 1 파스칼 이하의 고진공도를 측정하는 고진공 게이지로 이루어질 수 있다.Here, the vacuum gauge may be composed of a low vacuum gauge for measuring a low vacuum degree of 100 Pascal or more, and a high vacuum gauge for measuring a high vacuum of 1 pascal or less.

이와 같이, 본 발명에서는 배출구의 개폐 정도를 자동으로 조절하여 챔버 내부의 공기 배출을 정확하게 제어함으로써, 액정의 탈포시 발생하는 기포에 의한 불량을 방지할 수 있다.As described above, in the present invention, by automatically adjusting the opening and closing degree of the discharge port to accurately control the discharge of air in the chamber, it is possible to prevent the defect caused by the bubbles generated during the defoaming of the liquid crystal.

이하, 첨부한 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 액정의 탈포 장치에 대하여 상세히 설명한다. 도 4는 액정의 탈포 장치에 대하여 도시한 것이다.Hereinafter, a defoaming apparatus for a liquid crystal according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying FIG. 4. 4 shows a defoaming apparatus for liquid crystal.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정의 탈포 장치에서는 일측에 시료의 출입구(211)와 내부의 공기를 배출하기 위한 배출구(212)를 가지며 밀폐된 공간을 정의하는 챔버(210)가 있고, 챔버(210)의 내부에는 액정이 담겨져 있는 액정 쟁반(220)이 위치한다. 챔버(210)의 바깥쪽 일측에는 챔버(210) 내부의 압력을 측정하는 진공 게이지(230, 240)가 위치하는데, 압력 범위는 광범위하므로 한 게이지로서는 챔버(210) 내부의 압력을 모두 알 수 없다. 따라서, 100 파스칼 이상의 저전공 영역에 대한 진공도와, 1 파스칼 이하의 고진공 영역에 대한 진공도를 각각 측정하는 진공 게이지(230, 240)를 사용한다. 저진공 영역을 측정하는 게이지로는 열전대 게이지(thermocouple gauge : TC 게이지)와 피라니 게이지(pirani gauge) 등이 있고, 고진공 영역을 특정하는 게이지로는 전리 게이지(ionization gauge)와 같은 것이 있다.As shown, the defoaming apparatus of the liquid crystal according to the present invention has a chamber 210 having an entrance 211 of the sample and an outlet 212 for discharging the air therein and defining a closed space on one side. The liquid crystal tray 220 in which the liquid crystal is contained is located inside 210. On the outer side of the chamber 210, there are vacuum gauges 230 and 240 for measuring the pressure inside the chamber 210. Since the pressure range is wide, one gauge does not know all the pressure inside the chamber 210. . Therefore, the vacuum gauges 230 and 240 which measure the vacuum degree for the low-electron area | region of 100 pascal or more and the vacuum degree for the high vacuum area of 1 pascal or less are used, respectively. The gauge for measuring the low vacuum area includes a thermocouple gauge (TC gauge) and a pirani gauge, and the gauge for specifying the high vacuum area is an ionization gauge.

챔버(210)의 배출구(212)는 배기계(pumping system)(250)와 연결되어 있으며, 배출구(212)의 중간에는 자동 압력 콘트롤러(auto pressure controller)(260)가 위치한다. The outlet 212 of the chamber 210 is connected to a pumping system 250, and an auto pressure controller 260 is positioned in the middle of the outlet 212.

여기서, 배기계(250)는 펌프로 이루어지는데, 펌프는 작동 범위에 따라 러핑 펌프(roughing pump)와 고진공 펌프(high vacuum pump), 그리고 초고진공 펌프(ultra high vacuum pump)로 나눌 수 있다. 러빙 펌프는 1기압(101,325 파스칼) 내지 약 0.1 파스칼의 작동 범위가 요구될 때 이용되는 것으로, 메카니컬 펌프(mechanical pump)와 부스터 펌프(booster pump), 그리고 드라이 진공 펌프(dry vacuum pump) 등이 있고, 고진공 펌프는 0.1 파스칼 내지 1×10-6 파스칼 범위가 요구될 경우에 이용되는 것으로, 메카니컬 크라이오 펌프(mechanical cryopump), 터보 분자 펌프(turbomolecular pump), 그리고 오일 확산 펌프(oil diffusion pump) 등이 있으며, 초고진공 펌프는 1×10-6 파스칼 이하의 범위가 요구될 때 이용되는 것으로, 이온 펌프(ion pump)와 게터 펌프(getter pump) 등이 있다. 일반적으로 하나의 펌프로는 필요로 하는 진공도를 만들 수 없기 때문에 이와 같은 각 진공 범위의 펌프를 조합하여 원하는 진공도를 만든다. Here, the exhaust system 250 is composed of a pump, which may be divided into a roughing pump, a high vacuum pump, and an ultra high vacuum pump according to an operating range. The rubbing pump is used when an operating range of 1 atm (101,325 pascals) to about 0.1 pascals is required, such as a mechanical pump, a booster pump, and a dry vacuum pump. High vacuum pumps are used when a range of 0.1 Pascals to 1 × 10 -6 Pascals is required, such as mechanical cryopumps, turbomolecular pumps, and oil diffusion pumps. The ultra-high vacuum pump is used when a range of 1 × 10 −6 Pascal or less is required, and includes an ion pump and a getter pump. In general, a single pump cannot produce the required vacuum, so a combination of pumps in each of these vacuum ranges will produce the desired vacuum.

한편, 자동 압력 콘트롤러(260)는 배출구(212)의 개폐율을 조절하는 것으로, 밸브를 포함하고 있다. 이러한 자동 압력 콘트롤러(260)는 진공 게이지(230, 240)와 연결되어 있으며, 액정의 탈포시 챔버(210) 내부의 압력 변동에 따라 밸브의 열린 정도를 자동으로 조절하도록 되어 있다. 따라서, 챔버(210) 내부의 압력이 40 파스칼 정도까지 도달하는 탈포 시간의 조절이 정확하게 이루어지므로, 액정 내부의 기포가 적게 발생하고 액정이 액정 쟁반(220) 밖으로 흘러내리는 것을 방지할 수 있다. 더욱이, 점도가 낮은 고속 응답형의 액정을 탈포하더라도 불량이 발생하는 것을 막을 수 있다.On the other hand, the automatic pressure controller 260 to adjust the opening and closing rate of the outlet 212, and includes a valve. The automatic pressure controller 260 is connected to the vacuum gauges 230 and 240, and is configured to automatically adjust the opening degree of the valve according to the pressure variation inside the chamber 210 when defoaming the liquid crystal. Therefore, since the control of the degassing time which the pressure inside the chamber 210 reaches to about 40 pascals is precisely performed, less bubbles are generated inside the liquid crystal and the liquid crystal can be prevented from flowing out of the liquid crystal tray 220. Moreover, even if defoaming of the high-speed response liquid crystal having a low viscosity can prevent defects from occurring.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.
The present invention is not limited to the above embodiments, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명에 따른 액정 탈포 장치에서는 챔버 내부의 공기를 배출 정도를 자동 압력 콘트롤러에 의해 조절함으로써, 액정의 탈포 공정을 정확하게 제어할 수 있다.In the liquid crystal defoaming apparatus according to the present invention, by controlling the discharge degree of the air in the chamber by the automatic pressure controller, it is possible to accurately control the defoaming process of the liquid crystal.

또한, 액정의 탈포시 액정 기포의 발생을 감소시키고 액정의 유출을 방지함으로써, 불량을 막을 수 있다.
In addition, defects can be prevented by reducing the occurrence of liquid crystal bubbles during the defoaming of the liquid crystal and preventing the outflow of the liquid crystal.

Claims (4)

액정쟁반의 출입구와, 내부의 공기가 배출되는 배출구를 가진 챔버와;A chamber having an entrance and exit port of the liquid crystal tray and an outlet port through which air is discharged; 상기 챔버 내부의 진공도를 측정하는 진공 게이지와;A vacuum gauge for measuring the degree of vacuum inside the chamber; 상기 배출구와 연결되어 있으며, 상기 챔버 내부의 진공도를 유지하는 배기계와;An exhaust system connected to the discharge port and maintaining a degree of vacuum in the chamber; 상기 챔버 내부의 진공도에 따라 대기압에서 탈포 기준압력까지의 저진공 상태에서와 상기 기준압력 미만의 고진공 상태에서의 상기 배출구의 개폐 정도를 2단계로 자동으로 조절함으로써 상기 액정 쟁반내의 액정의 흘러내림을 방지하는 것을 특징으로 하는 자동 압력 콘트롤러The flow of the liquid crystal in the liquid crystal tray is controlled by automatically adjusting the opening and closing degree of the outlet in two stages in a low vacuum state from atmospheric pressure to a defoaming reference pressure and in a high vacuum state below the reference pressure according to the degree of vacuum in the chamber. Automatic pressure controller characterized in that 를 포함하는 액정의 탈포 장치.Defoaming device of the liquid crystal comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 진공 게이지는 100 파스칼 이상의 저진공도를 측정하는 저진공 게이지와, 1 파스칼 이하의 고진공도를 측정하는 고진공 게이지로 이루어지는 액정의 탈포 장치.The vacuum gauge is a defoaming device for a liquid crystal comprising a low vacuum gauge for measuring a low vacuum of 100 Pascal or higher, and a high vacuum gauge for measuring a high vacuum of 1 pascal or lower. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탈포 기준압력은 40파스칼인 것이 특징인 액정의 탈포 장치.And a defoaming reference pressure of 40 pascals. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배출구의 2단계의 개폐정도는 상기 저진공 및 고진공 상태에 따라 각각 제 1 개폐정도 및 제 2 개폐정도로 나뉘며, 상기 제 1 개폐정도보다는 상기 제 2 개폐정도가 큰 것이 특징인 액정의 탈포 장치.The opening and closing degree of the second stage of the discharge port is divided into a first opening and closing degree and a second opening and closing degree, respectively, according to the low and high vacuum state, wherein the second opening and closing degree is greater than the first opening and closing degree.
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