KR100948611B1 - Apparatus and method for evacuating bubble - Google Patents
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Abstract
액정 누설 및 셀 갭 불량을 방지한 기포 제거 장치 및 이를 이용한 기포 제거 방법이 개시되어 있다. 기포 제거 장치는 감압 환경을 갖는 감압 챔버, 기포가 포함된 제 1 실런트를 상기 감압 챔버 내부로 공급하는 실런트 공급 유닛 및 감압챔버의 내부에 배치되어 기포가 제거된 제 2 실런트를 수납하는 수납용기를 포함한다. 기포 제거 장치에 의하면, 실런트에 포함된 기포가 외부로 빠져나올 만큼의 압력으로 감압챔버를 압력을 낮춘 상태에서 실런트 공급 유닛에 채워진 실런트를 감압 챔버 쪽으로 토출시켜 실런트 내에 포함된 기포를 단시간 내에 완전히 제거할 수 있다. 실런트에 포함된 기포가 완전히 제거되면, 실라인의 단선 및 실라인의 단선으로 인해 발생하는 셀 갭 불량을 방지할 수 있다.Disclosed are a bubble removing apparatus which prevents liquid crystal leakage and a cell gap defect and a bubble removing method using the same. The bubble removing device may include a decompression chamber having a decompression environment, a sealant supply unit for supplying a first sealant containing bubbles into the decompression chamber, and a storage container for storing a second sealant disposed in the decompression chamber to remove bubbles. Include. According to the bubble removing device, the pressure contained in the sealant is discharged to the decompression chamber while the pressure in the pressure reducing chamber is lowered to a pressure enough to release the bubbles contained in the sealant to the pressure reducing chamber to completely remove bubbles contained in the sealant within a short time. can do. If bubbles contained in the sealant are completely removed, cell gap defects caused by disconnection of the seal line and disconnection of the seal line may be prevented.
Description
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 기포 제거 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a bubble removing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 제 1 실런트 공급 블록의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the first sealant supply block shown in FIG. 1.
도 3은 제 1 실시예에 의한 기포 제거 장치를 이용하여 실런트에 포함된 기포를 제거하는 과정을 설명하기 위한 순서도이다.3 is a flowchart illustrating a process of removing bubbles included in the sealant using the bubble removing apparatus according to the first embodiment.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 기포 제거 장치의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the bubble removing apparatus according to the second embodiment of the present invention.
본 발명은 기포 제거 장치 및 이를 이용한 기포 제거 방법에 관한 것으로, 특히, 실런트(sealant)에 포함된 기포를 단시간 내에 완전히 제거하여 기포로 인한 실라인(seal-line)의 단선을 방지한 기포 제거 장치 및 이를 이용한 기포 제거 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a bubble removing device and a bubble removing method using the same, and in particular, a bubble removing device that completely removes bubbles contained in a sealant within a short time to prevent disconnection of a seal-line due to bubbles. And it relates to a bubble removing method using the same.
최근 개발된 액정(Liquid Crystal, LC)은 전기장의 세기에 대응하여 배열이 변경되는 전기적 특성 및 액정의 배열에 대응하여 광의 투과율을 변경시키는 광학적 특성을 갖는다. Recently developed liquid crystals (Liquid Crystal, LC) has an electrical property that changes the arrangement in response to the intensity of the electric field and an optical property that changes the transmittance of light in response to the arrangement of the liquid crystal.
액정표시장치는 액정의 전기적 특성 및 광학적 특성을 이용하여 영상을 디스플레이 한다. 액정표시장치는 액정을 제어하기 위해 TFT 기판 및 컬러필터 기판으로 이루어진 액정표시패널을 포함한다. 액정은 TFT 기판 및 컬러필터 기판의 사이에 수 ㎛에 불과한 두께로 배치된다.The liquid crystal display displays an image using the electrical and optical characteristics of the liquid crystal. The liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel composed of a TFT substrate and a color filter substrate to control the liquid crystal. The liquid crystal is disposed between the TFT substrate and the color filter substrate with a thickness of only a few mu m.
일반적으로, TFT 기판 및 컬러필터 기판의 사이에 액정을 배치하기 위해서는 TFT 기판 또는 컬러필터 기판의 에지를 따라 액정을 수납하기 위한 수납영역이 형성되어야 한다. 수납영역은 띠 형상의 실라인(seal-line)에 의하여 형성된다. 실라인에 의해 형성된 수납영역에 액정을 주입하는 방법으로는 액정 적하 방법(liquid crystal drop filling method) 및 액정 진공 주입 방법(liquid crystal vacuum injection method) 등이 있다.In general, in order to arrange the liquid crystal between the TFT substrate and the color filter substrate, an accommodating area for accommodating the liquid crystal must be formed along the edge of the TFT substrate or the color filter substrate. The receiving area is formed by a strip-shaped seal-line. Liquid crystal is injected into the storage region formed by the seal line, such as a liquid crystal drop filling method and a liquid crystal vacuum injection method.
액정 적하 방법은 폐루프 형상으로 형성된 액정 수납영역의 내부에 매우 정밀하게 부피 조절된 액정을 드롭 한 후, TFT 기판과 컬러필터 기판을 어셈블리 한다.In the liquid crystal dropping method, a liquid crystal having a very precise volume control is dropped into the liquid crystal accommodating area formed in a closed loop shape, and then the TFT substrate and the color filter substrate are assembled.
액정 진공 주입 방법은 액정 주입구를 갖는 실라인을 형성하여 액정 수납영역을 마련하고, TFT 기판과 컬러필터 기판을 어셈블리 한 후에 감압환경에서 외부의 액정을 액정 수납공간으로 빨아올린다.In the liquid crystal vacuum injection method, a seal line having a liquid crystal injection hole is formed to prepare a liquid crystal accommodating area, and after assembling the TFT substrate and the color filter substrate, the external liquid crystal is sucked into the liquid crystal accommodating space in a reduced pressure environment.
상술한 방법에 의해 액정 수납영역에 주입된 액정의 누설을 방지하고, TFT 기판 및 컬러필터 기판 사이의 셀 갭(cell gap)을 균일하게 유지하기 위해서는 TFT 기판 또는 컬러필터 기판에 실라인을 프린팅하기 전에 실라인의 재료가 되는 실런트(sealant)에서 기포를 제거해야 한다. Printing the seal line on the TFT substrate or the color filter substrate in order to prevent leakage of the liquid crystal injected into the liquid crystal accommodating area by the above-described method and to maintain a uniform cell gap between the TFT substrate and the color filter substrate. The air bubbles must be removed from the sealant that is the material of the seal line before.
실런트에 포함된 기포를 제거하기 위해서 종래에는 기포가 포함된 실런트를 비커에 채운 다음 감압상태의 챔버에 비커를 소정 시간동안 놓아둔다. 그러면, 실런트에 포함된 기포가 실런트와 진공챔버 사이의 압력차에 의해 진공챔버 쪽으로 빠져나온다.In order to remove the air bubbles contained in the sealant, a sealant containing air bubbles is conventionally filled in a beaker and the beaker is left in the chamber under reduced pressure for a predetermined time. Then, the bubbles contained in the sealant are released toward the vacuum chamber by the pressure difference between the sealant and the vacuum chamber.
이와 같은 방법에 의해 실런트에 포함된 기포가 제거되면 실라인을 프린팅 하는 디스펜서가 결합된 주입기에 실런트를 부어 디스펜서에 실런트를 공급한다.When the air bubbles contained in the sealant are removed by the above method, the sealant is poured into the dispenser in which the dispenser for printing the seal line is coupled to supply the sealant to the dispenser.
그러나 종래와 같은 방법으로 실런트에 포함된 기포를 제거할 경우, 실런트의 점성에 의해 비커의 바닥 쪽에 위치한 기포들은 제거되지 않고 실런트에 그대로 남아 있게 되고, 실런트에 남아 있는 기포들은 실런트와 함께 디스펜서로 유입된다. However, if the air bubbles contained in the sealant are removed by the conventional method, the bubbles at the bottom of the beaker are not removed but remain in the sealant due to the viscosity of the sealant, and the bubbles remaining in the sealant flow into the dispenser together with the sealant. do.
또한, 기포가 제거된 실런트를 디스펜서에 공급하는 과정에서 공기와 실런트가 혼합되어 실런트를 주입기에 부을 때 실런트에 기포가 다시 발생하게 된다.In addition, in the process of supplying the dispenser with the air bubbles removed, air and the sealant are mixed and bubbles are generated in the sealant when the sealant is poured into the injector.
그리고, 상술한 종래의 방법으로 실런트에 포함된 기포를 제거할 경우 6시간 정도의 시간이 소요된다.And, when removing the bubbles contained in the sealant by the conventional method described above takes about 6 hours.
기포를 포함하는 실런트로 TFT 기판 또는 컬러필터 기판에 실라인을 형성할 경우, 실라인에 포함된 기포는 실라인의 외부로 빠져나오면서 실라인을 단선 시키게 된다. 기포로 인한 실라인의 단선은 액정 진공 주입 방법에서 더욱 빈번하게 나타나는데 이는 액정을 주입하는 챔버가 감압 될 때 압력차로 인해 실라인에 포함된 기포가 실라인의 외부로 빠져나오기 때문이다.When the seal line is formed on the TFT substrate or the color filter substrate with the sealant including the bubbles, bubbles included in the seal line break out of the seal line and disconnect the seal line. Disconnection of the seal line due to bubbles occurs more frequently in the liquid crystal vacuum injection method because bubbles contained in the seal line are released to the outside of the seal line due to the pressure difference when the chamber for injecting the liquid crystal is decompressed.
실라인이 단선 되면 TFT 기판 및 컬러필터 기판 사이에 주입된 액정이 액정 수납영역의 외부로 누설되고, 셀 갭의 높이가 불균일한 셀 갭 불량이 발생되어 제품의 신뢰성 및 생산성을 저하시키는 문제점이 있다.If the seal line is disconnected, the liquid crystal injected between the TFT substrate and the color filter substrate leaks to the outside of the liquid crystal accommodating area, and a cell gap defect with an uneven height of the cell gap occurs, which causes a problem of lowering the reliability and productivity of the product. .
따라서, 본 발명의 제 1 목적은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 실런트에 포함된 기포들을 단시간 내에 완전히 제거하여 실라인의 단선을 방지하는 기포 제거 장치를 제공한다.Accordingly, the first object of the present invention is to provide a bubble removing apparatus for preventing the disconnection of the seal line by completely removing bubbles contained in the sealant within a short time in view of such a conventional problem.
또한 본 발명의 제 2 목적은 본 발명의 기포 제거 장치를 이용한 기포 제거 방법을 제공한다.Moreover, the 2nd objective of this invention provides the bubble removal method using the bubble removal apparatus of this invention.
이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위해 본 발명은 감압 환경을 갖는 감압 챔버, 기포가 포함된 제 1 실런트를 감압 챔버 내부로 공급하는 실런트 공급 유닛 및 감압 챔버의 내부에 배치되어 기포가 제거된 제 2 실런트를 수납하는 수납용기를 포함하는 기포 제거 장치를 제공한다.In order to realize the first object of the present invention, the present invention provides a decompression chamber having a decompression environment, a sealant supply unit for supplying a first sealant including bubbles into the decompression chamber, and a bubble disposed in the decompression chamber to remove bubbles. Provided is a bubble removing device including a storage container for storing a second sealant.
또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위해 본 발명은 감압 환경을 갖는 공간에 기포가 포함된 제 1 실런트를 공급하는 단계 및 공간의 내부에 배치되어 상기 감압 환경에 의하여 기포가 제거된 제 2 실런트를 수납하는 단계를 포함하는 기포 제거 방법을 제공한다.In addition, in order to implement the second object of the present invention, the present invention provides a step of supplying a first sealant containing bubbles to a space having a decompression environment and a second bubble disposed in the interior of the space is removed by the decompression environment Provided is a bubble removing method comprising the step of receiving a sealant.
본 발명에 의하면, 실런트에 포함된 기포가 외부로 빠져나올 만큼의 압력으로 감압챔버를 압력을 낮춘 상태에서 실런트 공급 유닛에 채워진 실런트를 감압 챔버 쪽으로 토출시켜 실런트 내에 포함된 기포를 단시간 내에 완전히 제거함으로써, 기포로 인한 실라인의 단선을 방지한다.According to the present invention, by discharging the sealant filled in the sealant supply unit toward the decompression chamber while the pressure in the pressure reducing chamber is lowered to a pressure enough for the bubbles contained in the sealant to escape to the outside to completely remove the bubbles contained in the sealant within a short time. This prevents disconnection of the seal line due to air bubbles.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.
Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
기포 제거 장치의 실시예들Embodiments of the bubble removing device
실시예 1Example 1
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 기포 제거 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a bubble removing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기포 제거 장치는 감압 챔버(110), 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the bubble removing apparatus includes a
감압 챔버(110)는 챔버 몸체(120), 진공펌프(130), 받침대(140), 압력계(150) 및 제 1 실런트 트레이(160)를 포함한다.The
받침대(140), 제 1 실런트 트레이(160) 및 수납용기(300)들은 챔버 몸체(120)의 내부에 수납되고, 챔버 몸체(120)는 소정 압력의 진공압 환경이 조성되는 감압 공간(122)이 소정크기로 형성된다. 챔버 몸체(120)의 소정 부분에는 감압 공간(122)과 연결되는 삽입공이 형성되고, 삽입공의 내측면에는 제 1 나사산(124)이 형성된다.The
진공 펌프(130)는 감압 공간(122)과 연결되어 감압 공간(122)을 제 1 실런트(10)에 포함된 기포(12)가 감압 공간(122)으로 빠져나올 정도의 압력이 될 때까지 감압 한다.The
받침대(140)는 삽입공과 대응되는 감압 공간(122)의 바닥면에 착탈 가능하도 록 설치된다. 받침대(140)는 실런트 공급 유닛과 마주보며 높이조절부(도시 안됨)가 설치된 제 1 면(142), 감압 공간(122)의 바닥면과 마주보며 표면이 평평한 제 2 면(144) 및 제 1 면(142)과 제 2 면(144)을 연결시키는 측면(146)으로 구성된다. 받침대(140)는 수납용기(300)가 안착되고, 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이의 갭(G)을 조절해 준다. 즉, 수납용기(300)의 높이가 높아 받침대(140) 위에 수납용기(300)가 놓여진 상태에서 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이의 갭(G)이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 완전히 빠져나오기 충분하지 않을 경우, 챔버 몸체(120)로부터 받침대(140)를 제거하여 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이의 갭(G)을 넓힌다. 반면, 수납용기(300)의 높이가 너무 낮아 받침대 위에 수납용기가 놓여진 상태에서 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이의 갭(G)이 실런트 공급 유닛(200)으로부터 토출된 제 1 실런트(10)가 수납용기(300)의 주입구 면적보다 넓게 퍼지는 정도로 넓으면 받침대(140)의 높이 조절부를 조작하여 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이의 갭(G)을 줄인다.
압력계(150)는 감압 공간(122)과 연결되어 감압 공간(122)의 압력을 측정한다.The
제 1 실런트 트레이(160)는 감압 공간(122) 중 실런트 공급 유닛(200) 및 수납용기(300) 사이에 설치된다. 제 1 실런트 트레이(160)는 실런트 공급 유닛(200)과 마주보며 제 1 실런트(10)를 수용할 수 있는 수납공간(164)이 형성된 제 1 면(162), 수납용기(300)와 마주보는 제 2 면(166) 및 제 1 면(162)과 제 2 면(166) 을 연결시키는 측면(168)으로 구성된다. 제 1 실런트 트레이(160)의 제 2 면(166)에는 제 1 실런트 트레이(160)를 감압 챔버(110)의 제 1 방향으로 이동시키는 이송장치(170)가 설치된다. 제 1 실런트 트레이(170)는 감압 공간(122)의 압력이 제 1 실런트(10)에 포함된 기포(12)가 감압 공간(122)으로 빠져나올 때까지 실런트 공급 유닛(200)과 대응되는 부분에 위치한다. 이는 진공압에 의해 실런트 공급 유닛(200)에서 누설된 제 1 실런트(10)를 받아 제 1 실런트(10)가 수납용기(300)로 공급되는 것을 방지하기 위해서이다. 그리고, 제 1 실런트(10)에 포함된 기포(12)가 감압 공간(122)으로 빠져나올 정도의 압력에 도달하면 기포(12)가 제거된 제 2 실런트(20)가 수납용기(300)에 공급될 수 있도록 제 1 실런트 트레이(160)는 실런트 공급 유닛(200)과 수납용기(300)가 위치하는 않는 부분으로 이동한다.The
여기서, 진공펌프(130), 압력계(150) 및 제 1 실런트 트레이(160)는 기포 제거 장치(100)를 전반적으로 제어하는 제어부(도시 안됨)에 의해 전기적으로 연결된다.Here, the
실런트 공급 유닛(200)은 수납몸체(210), 제 1 실런트 공급 블록(230), 불활성 가스 공급 유닛(240) 및 제 1 실런트 감지 유닛(250)을 포함한다.The
수납몸체(210)는 튜브 형상으로 형성되며, 제 1 실런트 수납공간(212), 제 2 나사산(214), 제 3 나사산(216) 및 제 1 이탈 방지 돌기(218)가 형성된다. 제 1 실런트 수납공간(212)은 수납용기(300)와 마주보는 제 1면으로부터 이와 대향되는 제 2 면까지 관통되어 형성된다. 제 2 나사산(214)은 수납몸체(210)의 외측면 중 제 1 면과 접하는 부분에서부터 제 2 면 방향으로 제 1 나사산(124)과 대응되는 부분까 지 형성된다. 제 2 나사산(214)은 감압 챔버(110)의 관통공에 형성된 제 1 나사산(124)과 나사 결합되어 실런트 공급 유닛(200)을 감압 챔버(110)에 결합시킨다. 제 3 나사산(216)은 수납몸체(210)의 내측면에 위치하며 제 2 나사산(214)과 대응하여 형성된다. 제 1 이탈 방지 돌기(218)는 제 2 나사선(214)에서 제 2 면 쪽으로 소정간격 이격된 부분에 형성되며, 수납몸체(210)의 외측면으로부터 돌출 된다. 여기서, 감압 챔버(110)에 수납몸체(210)가 결합되었을 때 챔버 몸체(120)와 제 1 이탈 방지 돌기(218) 사이에는 갭이 발생된다. 챔버 몸체(120)와 제 1 이탈 방지 돌기(218) 사이에 발생된 갭에는 진공 누설을 방지하기 위한 제 1 밀봉링(220)이 삽입된다.The
도 2는 도 1에 도시된 제 1 실런트 공급 블록의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the first sealant supply block shown in FIG. 1.
도 1 및 도 2를 참조하면, 제 1 실런트 공급 블록(230)은 제 1 실런트 수납공간과 대응되는 형상으로 형성된다. 제 1 실런트 공급 블록(230)에는 관통공(232), 제 4 나사산(234) 및 제 2 이탈 방지 돌기(236)가 형성된다. 관통공(232)은 수납용기(300)와 마주보는 제 1 면으로부터 이와 대향되는 제 2 면까지 관통하여 복수개 형성된다. 관통공(232)들은 수납몸체(210)의 내부로 공급된 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110) 내부로 토출시킨다. 본 실시예에 의하면, 관통공(232)은 0.1㎜ ∼ 0.3㎜의 사이의 직경을 갖고, 1개 ∼ 100개 정도가 형성된다. 제 4 나사선(234)은 제 1 실런트 공급 블록(230)의 측면 중 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 2 면과 접하는 부분에서부터 수납용기(300) 쪽으로 제 3 나사산(216)과 대응하는 부분까지 형성된다. 제 4 나사산(234)은 수납몸체(210)의 내측면에 형성된 제 3 나사산(216)과 나사 결합되어 수납몸체(210)의 내부에 제 1 실런트 공급 블록(230)을 결합시킨다. 제 2 이탈 방지 돌기(236)는 제 1 실런트 공급 블록(230)의 측면 중 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 1 면과 접하는 부분으로부터 돌출 된다. 제 1 실런트 공급 블록(230)이 수납몸체(210)에 결합되면 챔버 몸체(120)와 제 2 이탈 방지 돌기(236) 사이에는 갭이 발생된다. 챔버 몸체(120)와 제 2 이탈 방지 돌기(236) 사이에 발생된 갭에는 진공 누설을 방지하기 위한 제 2 밀봉링(225)이 삽입된다. 1 and 2, the first
불활성가스 공급 유닛(240)은 불활성가스 저장 탱크(242), 커버(244), 가스 공급 배관(246) 및 차단 밸브(248)로 구성된다. 불활성가스 저장 탱크(242)에는 제 1 실런트 수납공간(212)에 채워진 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110) 쪽으로 밀어내기 위한 불활성 가스가 저장된다. 커버(244)는 수납몸체(210) 중 제 1 실런트 공급 블록(230)이 결합되지 않은 수납몸체(210)의 제 2 면에 결합된다. 커버(244)에는 제 1 실런트 수납공간(212)과 연결되도록 불활성가스 주입구(245)가 형성된다. 커버(244)는 제 1 실런트 수납공간(212)으로 공급되는 불활성가스가 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110) 쪽으로 밀어낼 수 있도록 제 1 실런트 수납공간(212)을 밀폐시킨다. 가스 공급 배관(246)은 불활성가스 저장 탱크(242)와 커버(244) 사이에 설치되어 불활성가스 저장 탱크(242)와 불활성 가스 주입구(245)를 상호 연결시킨다. 차단 밸브(248)는 가스 공급 배관(246)에 설치되어 불활성 가스를 제 1 실런트 수납공간(212)으로 공급하거나 또는 제 1 실런트 수납공간(212)으로 불활성 가스가 공급되는 것을 차단한다.
The inert
실런트 감지 유닛(250)은 감지 센서(252), 신호 처리 유닛(254) 및 알람 모듈(256)을 포함한다. 감지 센서(252)는 수납몸체(210) 중 제 1 이탈 방지 돌기(218) 부근에 설치되며, 제 1 실런트 수납공간(212)과 연결되어 제 1 실런트 수납공간(212)에 채워진 제 1 실런트(10)의 수위를 감지한다. 신호 처리 유닛(254)은 와이어(253)에 의해 감지센서(252)와 전기적으로 연결되며, 감지 센서(252)에서 발생된 감지 신호를 처리하여 제 1 실런트(10)의 공급 여부를 결정한다. 알람 모듈(256)은 신호 처리 유닛(254)과 전기적으로 연결되어 제 1 실런트(10)의 보충이 필요한 경우 작업자가 알 수 있도록 알람신호를 발생시킨다.The
수납용기(300)는 기포가 제거된 제 2 실런트(20)를 토출시켜 TFT 기판 또는 컬러필터 기판에 띠 형상의 실라인을 프린팅 하는 디스펜서이다.The
본 실시예에 의한 기포 제거 장치를 이용하여 실런트 내에 포함된 기포를 제거하는 과정에 대해 설명하기로 한다.A process of removing bubbles contained in the sealant by using the bubble removing apparatus according to the present embodiment will be described.
도 3은 제 1 실시예에 의한 기포 제거 장치를 이용하여 실런트에 포함된 기포를 제거하는 과정을 설명하기 위한 순서도이다.3 is a flowchart illustrating a process of removing bubbles included in the sealant using the bubble removing apparatus according to the first embodiment.
도 3을 참조하면, 실런트 공급 유닛(200) 중 수납몸체(210)에 기포(12)가 포함된 제 1 실런트(10)를 공급하여 소정 높이까지 제 1 실런트(10)를 채운다(S400).Referring to FIG. 3, the
이후, 진공 펌프(130)를 구동시켜 감압 챔버(110)의 내부를 감압 상태로 만든다. 이때, 압력계(150)는 감압 챔버(110) 내부의 압력을 계속적으로 감지하고 이를 표시한다. 그러면, 작업자 또는 제어부는 압력계(150)로부터 출력된 디지털 압력신호를 통해 기포(12)가 제 1 실런트(10)의 외부로 빠져나올 정도까지 감압 챔버(110) 내부의 압력이 감압 되었는지를 판단한다(S410).Thereafter, the
판단 결과 감압 챔버(110)의 내부 압력이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 빠져나갈 수 있는 압력에 미치지 못하면, 제 1 실런트 트레이(160)를 수납 몸체(210)와 대응되는 위치로 이동시킨다(S420). 그러면, 감압 챔버(110)에 형성된 진공압에 의해 제 1 실런트 공급 블록(140)의 외부로 누설된 제 1 실런트(10)가 제 1 실런트 트레이(160)의 수납공간(164)에 떨어진다.If the internal pressure of the
판단 결과 감압 챔버(110)의 내부 압력이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 빠져나갈 수 있는 압력에 도달했으면, 제 1 실런트 트레이(160)를 수납몸체(210) 및 수납용기(300)가 위치하는 않는 부분으로 이동시킨다(S430).When the internal pressure of the
이와 같이 감압 챔버(110)의 내부 압력이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 빠져나갈 수 있을 정도로 감압 되면, 제 1 실런트(10)에 포함된 기포(12)를 제거하기 위해 수납몸체(210)에 채워진 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110)의 내부로 공급한다(S440). 수납몸체(210)에 채워진 제 1 실런트(10)를 단시간 내에 감압 챔버(110)의 내부로 공급하기 위해서 불활성가스 공급 유닛(240)의 차단 밸브(248)를 열어 불활성가스를 수납몸체(210)의 내부로 유입시킨다. 그러면, 불활성 가스가 누르는 압력에 의해 제 1 실런트(10)가 제 1 실런트 공급 블록(230)의 외부로 밀려 나간다. 이때, 제 1 실런트(10)는 제 1 실런트 공급 블록(230)에 형성된 복수개의 관통공(232)에 의해 여러 개로 분할되어 감압 챔버(110)의 내부로 토출된다. As such, when the internal pressure of the
상술한 바와 같이 제 1 실런트(10)가 여러 개로 분할되어 가늘게 토출되면, 기포(12)가 제 1 실런트(10)에서 압력이 낮은 감압 챔버(300) 쪽으로 빠져나감으로 제 1 실런트(10)에서 기포(12)가 완전히 제거된다.As described above, when the
기포가 제거된 제 2 실런트(20)는 수납몸체(210)와 소정간격 이격 되어 수납몸체(210)의 하부에 설치된 수납용기(300)의 내부에 수납된다(S450).The
본 실시예에 의한 기포 제거 장치를 이용하여 제 1 실런트에 포함된 기포를 제거할 경우 기포를 완전히 제거할 수 있고, 기포를 제거하는 시간이 20분 정도로 짧아진다.
When the bubble contained in the first sealant is removed using the bubble removing apparatus according to the present embodiment, bubbles can be completely removed, and the time for removing bubbles is shortened to about 20 minutes.
실시예 2Example 2
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 기포 제거 장치의 단면도이다. 본 발명의 제 2 실시예에 의한 기포 제거 장치는 실시예 1의 제 1 실런트 공급 블록을 제외하면 실시예 1의 기포 제거 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 부재에 대하여는 실시예 1에서와 동일한 참조 번호로 나타내고 그 중복된 설명은 생략하기로 한다.4 is a cross-sectional view of the bubble removing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The bubble removing device according to the second embodiment of the present invention is the same as the bubble removing device of Example 1 except for the first sealant supply block of the first embodiment. Therefore, the same members are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment, and duplicated descriptions thereof will be omitted.
도 3을 참조하면, 본 실시예에 의한 제 1 실런트 고정 블록(230)에는 관통공(232), 제 4 나사산(234) 및 제 2 이탈 방지 돌기(236)가 형성되고, 솔레노이드 밸브가 설치된다. 관통공(232)은 수납용기(300)와 마주보는 제 1 면으로부터 이와 대향되는 제 2 면까지 관통하여 복수개 형성된다. 관통공(232)들은 수납몸체(210)의 내부로 공급된 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110) 내부로 토출시킨다. 본 실시예에 의하면, 관통공(232)은 0.1㎜ ∼ 0.3㎜의 사이의 직경을 갖고, 1개 ∼ 100개 정도가 형성된다. 제 4 나사선(234)은 제 1 실런트 공급 블록(230)의 측면 중 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 2 면과 접하는 부분에서부터 수납용기(300) 쪽으로 제 3 나사산(216)과 대응하는 부분까지 형성된다. 제 4 나사산(234)은 수납몸체(210)의 내측면에 형성된 제 3 나사산(216)과 나사 결합되어 수납몸체(210)의 내부에 제 1 실런트 공급 블록(230)을 결합시킨다. 제 2 이탈 방지 돌기(236)는 제 1 실런트 공급 블록(230)의 측면 중 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 1 면과 접하는 부분으로부터 돌출 된다.Referring to FIG. 3, the first
솔레노이드 밸브(160)는 각 관통공(232)들의 소정부분에 설치되며 전기적 신호에 의해 각 관통공(232)들을 개방 또는 폐쇄시킨다. 본 실시예에서는 솔레노이드 밸브(260)가 각 관통공(232)의 중앙에 설치되었다. 이 경우 솔레노이드 밸브(260)와 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 1면 사이의 관통공(232) 내에 잔류해 있는 제 1 실런트(10)가 진공압에 의해 토출되어 수납용기(300)에 수납될 수 있다. 따라서, 감압 챔버(110)의 내부에 실시예 1에서 설명한 제 1 실런트 트레이(160)가 설치된다.The
도시되지는 않았지만, 제 1 실런트 공급 블록(230)의 제 1면과 관통공(232)이 접하는 부분에 솔레노이드 밸브(260)를 설치하면, 감압 챔버(110)를 진공상태로 만드는 과정에서 제 1 실런트(10)가 제 1 실런트 공급 블록(230)의 외부로 토출되지 않는다. 따라서, 감압 챔버(110)의 내부에 제 1 실런트 트레이(160)를 설치하지 않아도 된다.Although not shown, when the
한편, 진공 펌프(130), 압력계(150), 제 1 실런트 트레이(160) 및 솔레노이드 밸브(260)는 제어부에 의해 전기적으로 연결된다.Meanwhile, the
본 실시예에 의한 기포 제거 장치를 이용하여 기포를 제거하는 방법은 실시 예 1에서 설명한 기포 제거 방법에서 S420과, S430을 제외하면 실시예 1에서 설명한 기포 제거 방법과 동일하다. 따라서, 그 중복된 설명은 생략하기로 한다.The method for removing bubbles using the bubble removing apparatus according to the present embodiment is the same as the bubble removing method described in Example 1 except for S420 and S430 in the bubble removing method described in Example 1. Therefore, duplicate description thereof will be omitted.
감압 챔버(110)의 내부 압력이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 빠져나갈 수 있는 압력에 미치지 못하면 각각의 솔레노이드 밸브에 전기적 신호를 인가하여 각각의 관통공을 폐쇄시킨다. 그리고, 제 1 실런트 트레이(160)를 수납 몸체(210)와 대응되는 위치로 이동시킨다(S420). 그러면, 감압 챔버(110)의 내부가 진공상태이더라도 수납몸체(210)의 내부에 채워진 제 1 실런트(10)가 감압 챔버(110) 쪽으로 토출되지 못하고, 제 1 실런트 공급 블록(230)의 관통공(232) 내에 잔류하는 제 1 실런트(10)는 제 1 실런트 트레이(160)의 수납공간(164)에 떨어진다.If the pressure inside the
한편, 감압 챔버(110)의 내부 압력이 제 1 실런트(10)로부터 기포(12)가 빠져나갈 수 있는 압력에 도달하면, 각각의 솔레노이드 밸브에 전기적 신호를 인가하여 각각의 관통공을 개방시킨다. 그리고, 제 1 실런트 트레이(160)를 수납몸체(210) 및 수납용기(300)가 위치하는 않는 부분으로 이동시킨다(S430).On the other hand, when the internal pressure of the
이후, 수납몸체(210)에 채워진 제 1 실런트(10)를 감압 챔버(110)의 내부로 공급하여 제 1 실런트(10)에 포함된 기포(12)를 제거하고, 기포(12)가 제거된 제 2 실런트(20)는 수납용기(300)에 수납한다.Thereafter, the
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 실런트에 포함된 기포가 외부로 빠져나올 만큼의 압력으로 감압챔버를 압력을 낮춘 상태에서 실런트 공급 유닛에 채워진 실런트를 감압 챔버 쪽으로 토출시켜 실런트 내에 포함된 기포를 단시간 내에 완전히 제거할 수 있다. 또한, 실런트에 포함된 기포가 완전히 제거되면, 실라인의 단선 및 실라인의 단선으로 인해 발생하는 셀 갭 불량을 방지할 수 있다.As described above in detail, the bubbles contained in the sealant are discharged to the decompression chamber by discharging the sealant filled in the sealant supply unit to the decompression chamber while the pressure in the pressure reducing chamber is lowered to a pressure enough to cause bubbles contained in the sealant to escape to the outside. Can be removed completely In addition, when the bubbles included in the sealant are completely removed, cell gap defects caused by disconnection of the seal line and disconnection of the seal line may be prevented.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the invention described in the claims to be described later It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.
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KR20020089014A (en) * | 2001-05-22 | 2002-11-29 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | apparatus for removing bubbles in liquid crystal |
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2003
- 2003-09-16 KR KR1020030064188A patent/KR100948611B1/en active IP Right Grant
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