KR20030010135A - manufacturing method of a liquid crystal display - Google Patents

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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An LCD fabricating method is provided to prevent the permeation of etching solution into cell areas by etching substrates after joining the substrates by attaching openings of auxiliary seal patterns with an adhesive agent, thereby preventing the damage of the cell areas. CONSTITUTION: An LCD fabricating method includes the steps of preparing first and second substrates defined with a plurality of cell areas to be a single LCD panel, forming a plurality of main seal patterns(421) on the first substrate to be opened partially and positioned around the cell areas respectively, forming a plurality of auxiliary seal patterns(431) surrounding the main seal patterns and having at least one or more openings(432) for discharging air, joining the first substrate formed with the auxiliary seal patterns with the second substrate, forming an adhesive agent(451) to the openings of the auxiliary seal patterns, and etching surfaces of the substrates by putting the substrates in an etching container, wherein the adhesive agent has viscosity of 5cP to 100cP.

Description

액정 표시 장치의 제조 방법{manufacturing method of a liquid crystal display}Manufacturing method of a liquid crystal display

본 발명은 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는액정 표시 장치를 경량화시키기 위해 기판을 식각하는 공정에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a process of etching a substrate in order to reduce the weight of a liquid crystal display device.

최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 그 중 색 재현성 등이 우수한 액정 표시 장치(liquid crystal display)가 활발하게 개발되고 있다.Recently, with the rapid development of the information society, there is a need for a flat panel display having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption. Among them, a liquid crystal display having excellent color reproducibility, etc. displays are actively being developed.

일반적으로 액정 표시 장치는 일측에 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을, 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device is formed by arranging two substrates having electrodes formed on one side thereof so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, injecting a liquid crystal material between the two substrates, and then applying voltage to the two electrodes. By moving the liquid crystal molecules by the electric field is a device that represents the image by the transmittance of light that varies accordingly.

이러한 액정 표시 장치는 박막트랜지스터와 화소 전극이 배열된 하부의 어레이 기판을 제조하는 공정과 컬러 필터와 공통 전극을 포함하는 상부의 컬러 필터 기판을 제조하는 공정, 그리고 제조된 두 기판의 배치와 액정 물질의 주입 및 봉합, 편광판 부착으로 이루어진 액정 셀(cell) 공정에 의해 형성된다.Such a liquid crystal display includes a process of manufacturing a lower array substrate on which thin film transistors and pixel electrodes are arranged, a process of manufacturing an upper color filter substrate including a color filter and a common electrode, an arrangement of the two substrates manufactured, and a liquid crystal material It is formed by a liquid crystal cell process consisting of implantation and sealing of the film, and adhesion of the polarizing plate.

그런데, 일반적으로 액정 표시 장치는 대면적 기판 상에 다수개의 셀을 한꺼번에 형성하므로, 액정 셀 공정에서 기판을 배치한 다음 각각의 셀로 절단하는 공정이 필요하다.However, in general, since a liquid crystal display device forms a plurality of cells on a large area substrate at a time, a process of arranging the substrates and then cutting them into individual cells is required in the liquid crystal cell process.

이하, 액정 표시 장치의 액정 셀 제조 공정에 대하여 첨부한 도 1을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the liquid crystal cell manufacturing process of the liquid crystal display device will be described in more detail with reference to FIG. 1.

도 1은 일반적인 액정 셀 제조 공정을 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a general liquid crystal cell manufacturing process.

먼저, 박막트랜지스터를 포함하는 하부의 박막트랜지스터 기판과 컬러 필터를 포함하는 상부의 컬러 필터 기판을 준비한다(st1).First, a lower thin film transistor substrate including a thin film transistor and an upper color filter substrate including a color filter are prepared (st1).

박막트랜지스터 기판은 박막을 증착하고 패터닝하는 과정을 여러 회 반복함으로써 형성되며 박막의 패터닝시 사용되는 마스크의 수가 공정수를 대표하는데, 현재 마스크 수를 감소시켜 제조 비용을 줄이기 위한 연구가 활발히 이루어지고 있다.The thin film transistor substrate is formed by repeating the process of depositing and patterning a thin film several times. The number of masks used in patterning of thin films is representative of the number of processes. Currently, research is being actively conducted to reduce manufacturing costs by reducing the number of masks. .

컬러 필터 기판은 각 컬러 필터를 구분하며 화소 영역 이외의 부분에서 발생하는 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스와 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러 필터 및 공통 전극을 순차적으로 형성함으로써 이루어진다. 컬러 필터는 염색법, 인쇄법, 안료 분산법, 전착법 등에 의해 형성되는데, 현재 컬러 필터 형성에 사용되는 보편적인 방법은 안료 분산법이다.The color filter substrate distinguishes each color filter and sequentially forms a black matrix, red (R), green (G), and blue (B) color filters and a common electrode to prevent light leakage occurring in portions other than the pixel region. By doing so. Color filters are formed by dyeing, printing, pigment dispersion, electrodeposition, and the like. A common method currently used for forming color filters is pigment dispersion.

이어, 각 기판에 액정 분자의 초기 배향 방향을 결정하기 위한 배향막을 형성한다(st2).Next, an alignment film for determining the initial alignment direction of the liquid crystal molecules is formed on each substrate (st2).

배향막의 형성은 고분자 박막을 도포하고 배향막을 일정한 방향으로 배열시키는 공정으로 이루어진다. 일반적으로 배향막에는 폴리이미드(polyimide) 계열의 유기물질이 주로 사용되고, 배향막을 배열시키는 방법으로는 러빙 방법이 이용된다. 러빙 방법은 러빙포를 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러주는 것으로, 배향 처리가 용이하여 대량 생산에 적합하고 배향이 안정하며 프리틸트각(pretilt angle)의 제어가 용이한 장점이 있다.Formation of the alignment film consists of applying a polymer thin film and arranging the alignment film in a constant direction. In general, a polyimide-based organic material is mainly used for the alignment layer, and a rubbing method is used as a method of arranging the alignment layer. The rubbing method is to rub the alignment film in a certain direction by using a rubbing cloth, and has an advantage of easy alignment treatment, suitable for mass production, stable orientation, and easy control of the pretilt angle.

다음, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 씰 패턴(seal pattern)을형성하는데(st3), 씰 패턴은 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정의 누설을 방지하는 역할을 한다.Next, a seal pattern is formed on one of the two substrates (st3), and the seal pattern forms a gap for injecting the liquid crystal and prevents leakage of the injected liquid crystal.

씰 패턴은 열경화성 수지를 일정한 패턴으로 형성함으로써 이루어지며, 씰 패턴 형성 방법으로는 스크린 마스크(screen mask)를 이용한 스크린 인쇄법과 디스펜서를 이용한 씰 디스펜서(dispenser)법이 있다. 현재 공정의 편의성이 큰 스크린 인쇄법이 주로 사용되고 있으나, 마스크와 배향막의 접촉에 의한 불량 유발과 기판의 크기가 커짐에 따라 스크린 마스크의 대응이 어려운 단점이 있어 점차 씰 디스펜서법으로 변경이 이루어지고 있다.The seal pattern is formed by forming a thermosetting resin in a predetermined pattern, and a seal pattern forming method includes a screen printing method using a screen mask and a seal dispenser method using a dispenser. Currently, screen printing, which has a large process convenience, is mainly used. However, the screen mask is difficult to cope with defects caused by the contact between the mask and the alignment layer and the size of the substrate increases. .

이어, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 액정 표시 장치의 상부 기판과 하부 기판 사이의 간격을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서를 산포한다(st4). 스페이서의 산포 방식은 알코올 등에 스페이서를 혼합하여 분사하는 습식 산포법과 스페이서만을 산포하는 건식 산포법으로 나눌 수 있으며, 건식 산포는 정전기를 이용하는 정전 산포법과 기체의 압력을 이용하는 제전 산포법으로 나뉘는데, 액정 표시 장치는 정전기에 취약한 구조를 가지므로 제전 산포법이 많이 사용된다.Subsequently, in order to maintain a precise and uniform spacing between the upper substrate and the lower substrate of the liquid crystal display device, either one of the two substrates is dispersed (st4). The dispersion method of the spacer can be divided into a wet dispersion method in which the spacer is mixed by spraying alcohol and the like, and a dry dispersion method in which only the spacer is distributed. Since the device has a structure that is vulnerable to static electricity, antistatic scattering is widely used.

다음, 액정 표시 장치의 두 기판 즉, 박막 트랜지스터 기판과 칼라 필터 기판을 배치하고 씰 패턴을 가압경화하여 합착한다(st5).Next, two substrates of the liquid crystal display, that is, the thin film transistor substrate and the color filter substrate, are disposed, and the seal patterns are pressed and cured (st5).

다음, 두 기판을 각각의 셀로 절단하여 분리한다(st6). 셀 절단 공정은 유리 기판 보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜(pen)으로 유리 기판 표면에 절단선을 형성하는 스크라이브(scribe) 공정과 힘을 가하여 절단하는 브레이크(break) 공정으로 이루어진다.Next, the two substrates are cut into respective cells and separated (st6). The cell cutting process includes a scribe process of forming a cutting line on the surface of the glass substrate using a diamond pen having a hardness higher than that of the glass substrate, and a break process of applying a force to cut the glass substrate.

이어, 두 기판 사이에 액정을 주입한다(st7). 액정의 주입은 셀 내외의 압력차를 이용한 진공 주입법이 주로 이용된다. 여기서 셀 내부에 액정이 주입되었을 때, 액정 속의 미세한 공기 방울에 의해 셀 내부에서 기포가 형성되어 불량이 발생할 수 있다. 따라서, 이를 방지하기 위해 액정을 장시간 진공에 방치하여 기포를 제거하는 탈포 과정이 필요하다.Next, a liquid crystal is injected between the two substrates (st7). As the injection of the liquid crystal, a vacuum injection method using a pressure difference inside and outside the cell is mainly used. Here, when the liquid crystal is injected into the cell, bubbles may be formed inside the cell by minute air bubbles in the liquid crystal, which may cause a defect. Therefore, in order to prevent this, a defoaming process of removing bubbles by leaving the liquid crystal in vacuum for a long time is necessary.

액정의 주입이 완료되면 셀의 주입구에서 액정이 흘러나오지 않도록 주입구를 봉합한다. 보통 디스펜서를 이용하여 주입구에 열경화 수지를 도포한 후, 경화시킴으로써 주입구를 막아준다.When the injection of the liquid crystal is completed, the injection hole is sealed so that the liquid crystal does not flow out of the injection hole of the cell. In general, a thermosetting resin is applied to the inlet using a dispenser, and then cured to prevent the inlet.

이와 같이 액정 셀을 제조하고 액정 셀의 외측에 각각 편광판을 부착한 후 구동회로를 연결하면 액정 패널이 완성된다.The liquid crystal panel is completed by manufacturing a liquid crystal cell and attaching polarizers to the outside of the liquid crystal cell, and then connecting the driving circuits.

그런데, 최근 액정 패널의 경량화가 요구됨에 따라, 기판의 두께를 줄이기 위해 두 기판을 합착한 후(도 1의 st5) 상부 및 하부 기판의 바깥쪽 노출된 면을 식각하는 공정이 이루어진다.However, as the weight reduction of the liquid crystal panel is required recently, a process of etching the outer exposed surfaces of the upper and lower substrates is performed after bonding two substrates together (st5 in FIG. 1) to reduce the thickness of the substrate.

도 2는 이러한 기판의 식각 과정을 도시한 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating an etching process of such a substrate.

먼저, 합착된 기판의 바깥쪽 면을 식각하기 전에 이전 공정의 단계에서 발생할 수 있는 불순물을 제거한다(st11).First, impurities that may be generated in the steps of the previous process are removed before etching the outer surface of the bonded substrate (st11).

기판의 바깥쪽 면에 불순물이 존재할 경우 불순물 주변에서는 기판이 식각되지 않는 것과 같은 식각 불량이 유발되어 식각된 기판의 표면이 평탄하지 않게 된다. 이에 따라 빛의 난반사 또는 굴절이 발생하게 되므로, 이를 방지하기 위해 세정액인 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol) 또는 초순수(deionized water)를 이용하여 기판의 바깥쪽 면에 존재하는 불순물을 제거한다.When impurities are present on the outer surface of the substrate, etching defects such as the substrate may not be etched around the impurities may cause the surface of the etched substrate to become uneven. Accordingly, since diffuse reflection or refraction of light occurs, impurities are removed from the outer surface of the substrate by using isopropyl alcohol or deionized water, which is a cleaning solution, to prevent this.

다음, 세정된 합착 기판을 식각한다(st12). 일반적으로 액정 표시 장치용 기판으로는 유리 기판이 이용되는데, 유리 기판에는 실리콘 산화물(SiO2)이 약 60% 정도 포함되어 있다. 따라서, 합착 기판을 산화막(SiO2)을 식각하는데 쓰이는 HF 용액에 넣어 액정 표시 장치용 기판을 식각한다.Next, the cleaned bonded substrate is etched (st12). Generally, a glass substrate is used as a substrate for a liquid crystal display, and the glass substrate contains about 60% of silicon oxide (SiO 2 ). Therefore, the bonded substrate is placed in an HF solution used for etching the oxide film (SiO 2 ) to etch the substrate for a liquid crystal display device.

다음, 기판의 표면에 잔존하는 HF 용액을 세정하고 건조 과정을 거친다(st13, st14).Next, the HF solution remaining on the surface of the substrate is washed and dried (st13, st14).

이와 같이, 합착된 기판의 바깥쪽 면을 식각한 후, 각 셀로 절단하는 공정(도 1의 st6) 및 액정 주입 공정(도 1의 st 7)의 과정을 실시한다.As described above, after the outer surface of the bonded substrate is etched, a process of cutting into each cell (st6 of FIG. 1) and a liquid crystal injection process (st 7 of FIG. 1) is performed.

그런데 이러한 방법으로 합착된 기판의 바깥쪽 면을 식각할 때, 두 기판의 사이로 식각액이 침투하여 씰 패턴이 손상되거나, 셀 내부의 패드가 부식되는 문제가 발생할 수 있다.However, when etching the outer surface of the bonded substrate in this way, the etching liquid penetrates between the two substrates may damage the seal pattern, or the pad inside the cell may be a problem.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 액정 표시 장치를 경량화시키며, 식각액의 침투를 방지하여 씰 패턴을 보호하고 불량을 방지할 수 있는 액정 표시 장치의 기판 식각 방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention is to reduce the weight of the liquid crystal display device, to prevent the penetration of the etchant to protect the seal pattern and prevent the defect of the substrate of the liquid crystal display device It is to provide an etching method.

도 1은 일반적인 액정 셀 제조 공정을 도시한 흐름도.1 is a flow chart showing a general liquid crystal cell manufacturing process.

도 2는 합착된 기판의 가공 공정을 도시한 흐름도.2 is a flowchart illustrating a processing process of a bonded substrate.

도 3은 본 발명에 따른 씰 패턴을 도시한 평면도.3 is a plan view showing a seal pattern according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 유리기판 식각장치를 나타낸 도면.4 is a view showing a glass substrate etching apparatus according to the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 구조를 도시한 도면.5 is a view showing the structure of a substrate according to an embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 기판을 식각한 후 식각액의 침투 정도를 도시한 도면.6 is a view showing the penetration of the etchant after etching the substrate of FIG.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판의 구조를 도시한 도면.7 is a view showing the structure of a substrate according to another embodiment of the present invention.

도 8은 도 7에서 Ⅷ-Ⅷ선을 따라 자른 단면을 도시한 도면.FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 7. FIG.

도 9는 도 7의 기판을 식각한 후 식각액의 침투 정도를 도시한 도면.9 is a view illustrating the penetration of the etchant after etching the substrate of FIG.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서는 하나의 액정 패널이 되는 셀 영역이 다수 개 정의되는 제 1 및 제 2 기판을 구비한 다음, 제 1 기판 상에 일부가 개방되고 셀 영역의 둘레에 각각 위치하도록 다수의 주 씰 패턴을 형성한다. 이어, 다수의 주 씰 패턴을 둘러싸고, 적어도 하나 이상의 개구부를 가지는 보조 씰 패턴을 형성한다. 다음, 보조 씰 패턴이 형성된 제 1 기판을 제 2 기판과 합착하고, 보조 씰 패턴의 개구부에 접착제를 형성한다. 다음, 접착제가 형성된 제 1 및 제 2 기판을 식각용기에 담가 기판의 표면을 식각한다. 여기서, 접착제는 5 센티푸아즈(cP) 내지 100 센티푸아즈의 점도를 가진다.In the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object is provided with a first substrate and a second substrate is defined a plurality of cell regions to be one liquid crystal panel, and then partially opened on the first substrate And form a plurality of main seal patterns each positioned around the cell area. Subsequently, an auxiliary seal pattern having a plurality of main seal patterns and having at least one opening is formed. Next, the first substrate on which the auxiliary seal pattern is formed is bonded to the second substrate, and an adhesive is formed in the opening of the auxiliary seal pattern. Next, the surface of the substrate is etched by dipping the first and second substrates having the adhesive formed into the etching vessel. Here, the adhesive has a viscosity of 5 centipoise (cP) to 100 centipoise.

이때, 접착제는 40 센티푸아즈 내지 45 센티푸아즈의 점도를 가지는 것이 바람직하며, 접착제는 시아노아크릴레이트 계열의 물질로 이루어질 수 있다.In this case, the adhesive may preferably have a viscosity of 40 centipoise to 45 centipoise, and the adhesive may be made of a cyanoacrylate-based material.

본 발명에서, 기판의 표면을 식각하는 단계는 HF 용액을 이용하여 이루어질 수도 있다.In the present invention, etching the surface of the substrate may be performed using an HF solution.

이와 같이, 본 발명에서는 액정 표시 장치를 경량화하기 위해 기판의 표면을 식각하는데 있어서, 셀 영역을 정의하는 주 씰 패턴 둘레에 개구부를 가지는 보조 씰 패턴을 형성하고 기판을 합착한 다음, 보조 씰 패턴의 개구부를 접착제로 봉합하고 기판을 식각함으로써, 셀 내부의 공기를 원활하게 제거할 수 있으며, 식각액이 셀 영역으로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 셀 영역의 손상을 방지할 수 있다.As described above, in the present invention, in the etching of the surface of the substrate in order to reduce the weight of the liquid crystal display, an auxiliary seal pattern having an opening is formed around the main seal pattern defining the cell region, and the substrate is bonded to each other. By sealing the opening with an adhesive and etching the substrate, it is possible to smoothly remove the air inside the cell, and to prevent the etching solution from penetrating into the cell region. Therefore, damage to the cell region can be prevented.

최근, 합착된 기판을 식각할 때 두 기판의 사이로 식각액이 침투하여 씰 패턴이 손상되는 것을 방지하기 위해, 씰 패턴을 이중으로 형성하는 방법이 제기되었다.Recently, in order to prevent the etching pattern from penetrating between the two substrates and damaging the seal pattern when etching the bonded substrate, a method of forming a double seal pattern has been proposed.

이는 유리 기판 상에 다수의 셀을 형성할 때, 각 셀에 주 씰 패턴을 형성하고, 기판의 가장자리와 주 씰 패턴 사이에 보조 씰 패턴을 형성하는 것으로, 보조 씰 패턴이 각 셀의 주 씰 패턴을 둘러싸고 있다. 여기서, 각각의 주 씰 패턴은 이후 액정을 주입하기 위한 액정 주입구를 가지며, 보조 씰 패턴은 기판의 식각 용액으로부터 주 씰 패턴이 손상되는 것을 방지한다.This is when forming a plurality of cells on the glass substrate, forming a main seal pattern in each cell, and an auxiliary seal pattern between the edge of the substrate and the main seal pattern, the auxiliary seal pattern is the main seal pattern of each cell Surrounds. Here, each main seal pattern has a liquid crystal inlet for injecting liquid crystal thereafter, and the auxiliary seal pattern prevents the main seal pattern from being damaged from the etching solution of the substrate.

한편, 보조 씰 패턴은 식각액의 침투를 막아야 할 뿐만 아니라, 합착된 상부와 하부 기판 사이의 공기 배출이 용이하도록 해야 하므로, 보조 씰 패턴은 일정 영역에 공기를 배출하기 위한 개구부를 가지도록 하는데, 이러한 경우 개구부를 통해 식각액이 여전히 셀 내부에 침투하게 되므로, 전극의 패드 부분이 부식되고 기판이 파손되는 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, the auxiliary seal pattern should not only prevent the penetration of the etchant, but also to facilitate the discharge of air between the bonded upper and lower substrates, the auxiliary seal pattern has an opening for discharging air in a predetermined area, such a In this case, since the etchant still penetrates into the cell through the opening, the pad portion of the electrode may be corroded and the substrate may be damaged.

따라서, 본 발명에서는 씰 패턴을 이중으로 형성하여 기판을 합착한 후, 보조 씰 패턴의 개구부를 접착제로 접착하여 기판을 식각한다.Therefore, in the present invention, after forming the seal pattern in a double manner to bond the substrate, the substrate is etched by adhering the opening of the auxiliary seal pattern with an adhesive.

이러한 본 발명의 실시예에 따른 씰 패턴 구조에 대해 도면을 참조하여 상세히 설명한다.This seal pattern structure according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정 셀의 씰 패턴을 도시한 평면도로서, 590×670 (센티미터×센티미터) 크기의 유리 기판에 13.3 인치 크기의 셀을 형성하기 위해 기판 상의 영역을 6개로 나눈 경우에 대한 씰 패턴을 도시한다.3 is a plan view illustrating a seal pattern of a liquid crystal cell according to an exemplary embodiment of the present invention, in which a region on the substrate is divided into six areas to form a 13.3 inch size cell on a 590 × 670 (cm × cm) glass substrate. The seal pattern for the case is shown.

도 3에 도시한 바와 같이, 기판(110) 상에 A, B, C, D, E, F의 6개 셀이 형성되어 있고, 각 셀에는 주 씰 패턴(121)이 형성되어 있는데, 각각의 주 씰 패턴(121)의 좌측면 중앙부에는 이후 액정을 주입하기 위한 액정 주입구(122)가 형성되어 있다. 기판(110)의 가장자리와 주 씰 패턴(121) 사이에는 보조 씰 패턴(131)이 형성되어 있으며, 보조 씰 패턴(131)은 각 셀의 주 씰 패턴(121)을 둘러싸고 있다. 여기서, 보조 씰 패턴(131)은 식각 용액으로부터 주 씰 패턴(121)의 손상을 방지하기 위한 것이다.As shown in FIG. 3, six cells of A, B, C, D, E, and F are formed on the substrate 110, and a main seal pattern 121 is formed in each cell. A liquid crystal injection hole 122 for injecting liquid crystal is formed in the center of the left side surface of the main seal pattern 121. An auxiliary seal pattern 131 is formed between the edge of the substrate 110 and the main seal pattern 121, and the auxiliary seal pattern 131 surrounds the main seal pattern 121 of each cell. Here, the auxiliary seal pattern 131 is for preventing the damage of the main seal pattern 121 from the etching solution.

한편, 보조 씰 패턴(131)은 식각액의 침투를 막아야 할 뿐만 아니라, 합착된 상부와 하부 기판 사이의 공기 배출이 용이하도록 해야 하므로, 보조 씰 패턴(131)은 공기 배출을 위한 개구부(132)를 가진다.On the other hand, the auxiliary seal pattern 131 should not only prevent the penetration of the etchant, but also facilitate the discharge of air between the bonded upper and lower substrates, and thus, the auxiliary seal pattern 131 opens the opening 132 for air discharge. Have

이와 같은 씰 패턴을 가지는 제 1 기판을 제 2 기판과 합착하고, 보조 씰 패턴(131)의 개구부(132)를 접착제로 접착시킨 다음, 합착된 기판 20매 정도를 한꺼번에 식각장치에 넣고, 식각액에 담가 기판 표면을 식각한다.The first substrate having such a seal pattern is bonded to the second substrate, and the opening 132 of the auxiliary seal pattern 131 is bonded with an adhesive, and then about 20 bonded substrates are placed in an etching apparatus at once. Immerse the substrate surface.

이때, 사용되는 본 발명의 실시예에 따른 기판 식각장치(200)를 도 4에 나타내었다(도 2의 st12에 해당됨). 도시한 바와 같이, 용기(211)와, 용기(211) 상부에 설치된 덮개(212)와, 용기(211) 내부에 설치된 버블판(213)으로 구성된다. 용기(211)와 덮개(212)는 봉합액(water sealant)(215)에 의해 봉합된다. 버블판(213)의 좌우에는 가스통(도시 안함)으로부터 질소(N2) 또는 산소(O2)를 공급하는 공기공급관(216)이 연결된다.At this time, the substrate etching apparatus 200 according to the embodiment of the present invention used is shown in Figure 4 (corresponds to st12 of Figure 2). As shown in the drawing, the container 211 is formed of a cover 212 provided above the container 211 and a bubble plate 213 provided inside the container 211. The container 211 and the lid 212 are sealed by a water sealant 215. The air supply pipe 216 for supplying nitrogen (N 2 ) or oxygen (O 2 ) from a gas cylinder (not shown) is connected to the left and right of the bubble plate 213.

용기(211) 하부에는 화합물 혼합탱크(217)로부터 식각액을 공급하는 식각액공급관(218)이 연결된다.The etching liquid supply pipe 218 for supplying the etching liquid from the compound mixing tank 217 is connected to the lower portion of the container 211.

유리기판(221)의 식각에 사용된 식각액은 식각액 배출관(228)을 통해 필터(219)로 배출되고, 필터(219)에 의해 불순물이 제거된 후 버퍼탱크(222)에 저장된다. 버퍼탱크(222)에 저장되어 정화된 식각액은 화합물 혼합탱크(217)에 공급되며, 식각액 화합물을 공급하는 DI공급부(112)와 HF공급부(224)로부터 제공된 DI(증류수, Distilled water) 및 HF와 혼합된다. 화합물 혼합탱크(217)에 설치된 농도측정장치(225)는 혼합탱크(217) 내의 혼합액의 농도를 측정하며, 이미 설정된 기준농도에 도달하면 DI와 HF의 공급이 중단된다. 이때, 기준농도는 1∼50%의 범위 내에서 설정한다. 또한 혼합탱크(217) 내부의 혼합액을 일정한 온도로 유지하기 위하여, 혼합탱크 내부에는 PCW(냉각수) 관(도시하지 않음)이 설치된다. 혼합탱크(217) 내에서 혼합된 식각액은 펌프(227)에 의해 용기 내로 제공된다.The etching liquid used for etching the glass substrate 221 is discharged to the filter 219 through the etching liquid discharge pipe 228, and is stored in the buffer tank 222 after impurities are removed by the filter 219. The etchant stored and purified in the buffer tank 222 is supplied to the compound mixing tank 217, and DI (distilled water) and HF provided from the DI supply unit 112 and the HF supply unit 224 supplying the etchant compound. Are mixed. The concentration measuring device 225 installed in the compound mixing tank 217 measures the concentration of the mixed liquid in the mixing tank 217, and when the reference concentration is already set, the supply of DI and HF is stopped. At this time, the reference concentration is set within the range of 1 to 50%. In addition, in order to maintain the mixed liquid in the mixing tank 217 at a constant temperature, a PCW (cooling water) pipe (not shown) is installed inside the mixing tank. The etchant mixed in the mixing tank 217 is provided into the container by the pump 227.

용기(211)에서 일어나는 기판과 식각액의 발열반응으로 생기는 온도변화를 측정하기 위하여, 용기(211) 내부에는 온도측정장치(229)가 설치된다. 이 온도변화에 따라 기판이 식각되게 된다. 이와 같은 방법으로, 현재 시판되고 있는 1.4 ㎜ 두께의 기판을 0.5 ㎜까지 식각할 수 있다. 온도설정은 다음 식으로 결정하며, 최종 온도가 되면 자동적으로 식각을 중단한다.In order to measure the temperature change caused by the exothermic reaction between the substrate and the etchant in the vessel 211, a temperature measuring device 229 is installed inside the vessel 211. The substrate is etched according to this temperature change. In this way, a 1.4 mm thick substrate currently on the market can be etched down to 0.5 mm. The temperature setting is determined by the following equation, which automatically stops etching when the final temperature is reached.

Tt= Ti+ (Kr·N ·Δt2) / m, T t = T i + (K r · N · Δt 2) / m,

(Tt: 최종온도, Ti: 초기온도, Kr: 반응상수, N : 기판의 수, Δt2: 식각하고자 하는 두께)(T t : final temperature, T i : initial temperature, K r : reaction constant, N: number of substrates, Δt 2 : thickness to be etched)

따라서, 본 발명에서와 같이 보조 씰 패턴의 개구부를 접착제로 접착한 후 기판을 식각할 경우, 식각액이 보조 씰 패턴(도 3의 131)의 내부로 침투하지 못하므로 불량을 방지할 수 있다.Therefore, when the substrate is etched after the opening of the auxiliary seal pattern is adhered with the adhesive as in the present invention, the etching solution does not penetrate into the auxiliary seal pattern (131 of FIG. 3), thereby preventing a defect.

이때, 접착제는 내산성이 높으며, 점도가 5 센티푸아즈(centi-poise : cP) 내지 100 센티푸아즈 정도인 시아노아크릴레이트(cyanoacrylate) 계열의 물질을 이용할 수 있다. 여기서, 센티푸아즈(cP)는 점성도의 단위로서 1 cP는 10-2푸아즈(P)이며, 1 초 사이에 1 그램(g)인 유체가 1 센티미터 이동하는 상태를 1 P라고 한다.In this case, the adhesive may have a high acid resistance, and may use a cyanoacrylate-based material having a viscosity of about 5 centipoise (cP) to about 100 centipoise. Here, centipoise (cP) is a unit of viscosity, and 1 cP is 10 -2 poise (P), and a state in which 1 gram (g) of fluid moves one centimeter between one second is called 1 P.

그런데, 점도가 낮을 경우 접착제가 주 씰 패턴(도 3의 121)까지 침투하게 되고, 접착제의 미경화로 인해 식각액이 접착 영역 내로 침투하여 불량이 발생할 수도 있다.However, when the viscosity is low, the adhesive penetrates to the main seal pattern (121 of FIG. 3), and the etching solution may penetrate into the adhesive region due to the uncured adhesive, thereby causing a defect.

이와 같이 접착제의 점도가 낮을 때 즉, 접착제의 점도가 5 cP 내지 10 cP일 때, 보조 씰 패턴의 개구부에 형성된 접착제 형태를 도 5에 도시하였다.Thus, when the viscosity of the adhesive is low, that is, when the viscosity of the adhesive is 5 cP to 10 cP, the adhesive form formed in the opening of the auxiliary seal pattern is shown in FIG.

도 5에 도시한 바와 같이, 주 씰 패턴(321)을 둘러싸고 있는 보조 씰 패턴(331)의 개구부(332)를 접착제(351)로 봉합하는데, 이때 접착제(351)의 점도가 낮은 경우 접착제(351)의 유동이 쉬워지므로. 접착제(351)가 기판 내의 주 씰 패턴(321)까지 침투하게 될 수 있다. 따라서, 셀 절단 공정(도 1의 st6)에서 셀 분리가 제대로 이루어지지 않을 수 있다. 도면 부호 322는 주 씰 패턴(321)에 형성된 액정 주입구를 나타낸다.As shown in FIG. 5, the opening 332 of the auxiliary seal pattern 331 surrounding the main seal pattern 321 is sealed with the adhesive 351, in which case the adhesive 351 has a low viscosity. ) So that the flow becomes easier. Adhesive 351 may penetrate to the main seal pattern 321 in the substrate. Therefore, cell separation may not be performed properly in the cell cutting process (st6 in FIG. 1). Reference numeral 322 denotes a liquid crystal injection hole formed in the main seal pattern 321.

또한 기판의 백화현상 및 접착제(351)의 미경화로 인해, 기판 식각시 식각액이 접착제(351)가 형성된 영역까지 침투될 수 있는데, 이러한 예를 도 6에 도시하였다.In addition, due to the whitening of the substrate and the uncuring of the adhesive 351, the etching liquid may penetrate to the region where the adhesive 351 is formed when the substrate is etched. This example is illustrated in FIG. 6.

한편, 접착제를 100 cP 정도로 하였을 경우에는, 접착제의 점도가 크기 때문에 접착 영역 내에서 접착제가 잘 퍼지지 않는다. 이에 따라, 부가적으로 접착제를 바르는 과정이 더 필요하므로 작업성이 떨어지게 된다.On the other hand, when the adhesive is about 100 cP, since the viscosity of the adhesive is large, the adhesive does not spread well in the adhesive region. Accordingly, the workability is inferior since additionally applying the adhesive process.

따라서, 접착제는 40 cP 내지 45 cP 정도의 점도를 가지는 것으로 사용하는 것이 좋다.Therefore, it is preferable to use the adhesive as having a viscosity of about 40 cP to 45 cP.

이러한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판의 구조를 도 7에 도시하였는데, 도 7은 도 3의 S 영역에 해당한다.The structure of the substrate according to the preferred embodiment of the present invention is illustrated in FIG. 7, which corresponds to region S of FIG. 3.

도시한 바와 같이, 기판(410) 상에 셀 영역을 정의하며, 일측에 액정 주입구(422)를 가지는 주 씰 패턴(421)이 형성되어 있고, 주 씰 패턴(421)의 둘레에는 보조 씰 패턴(431)이 형성되어 있다. 보조 씰 패턴(431)은 내부의 공기를 배출하기 위한 개구부(432)를 가지며, 개구부(432)는 접착제(451)로 봉합되어 있다. 이때, 도시하지 않았지만 씰 패턴(421, 431)이 형성된 기판(410)은 타 기판과 합착되어 있다.As shown, a main seal pattern 421 is defined on the substrate 410 and has a liquid crystal injection hole 422 on one side, and an auxiliary seal pattern (circumference of the main seal pattern 421 is formed). 431 is formed. The auxiliary seal pattern 431 has an opening 432 for discharging the air therein, and the opening 432 is sealed with the adhesive 451. At this time, although not shown, the substrate 410 on which the seal patterns 421 and 431 are formed is bonded to another substrate.

여기서, 접착제(451)는 40 cP 내지 45 cP 정도의 점도를 가지므로, 접착제(451)의 퍼짐 정도가 균일하여 개구부(432)에서 일정한 접착 영역을 형성한다.Here, since the adhesive 451 has a viscosity of about 40 cP to about 45 cP, the spreading degree of the adhesive 451 is uniform to form a constant adhesive region in the opening 432.

또한, 도 7에서 Ⅷ-Ⅷ선을 따라 자른 단면을 도 8에 도시하였는데, 도시한 바와 같이 접착제(451)는 두 기판(410, 411) 사이에 빈 공간 없이 형성되어 있다.In addition, a cross-sectional view taken along the line VII-VII in FIG. 7 is illustrated in FIG. 8, and as illustrated, the adhesive 451 is formed without a blank space between the two substrates 410 and 411.

따라서, 본 발명에서는 식각액이 셀 영역으로 침투하는 것을 방지할 수 있는데, 이러한 결과를 도 9에 도시하였다.Therefore, in the present invention, it is possible to prevent the etchant from penetrating into the cell region, which is shown in FIG. 9.

도 9에 도시한 바와 같이, 40 cP 내지 45 cP의 점도를 가지는 접착제를 이용하여 보조 씰 패턴의 개구부를 접착시킨 후 기판을 식각하였을 때, 식각액이 접착 영역 내로 침투하지 못하므로, 주 씰 패턴 및 셀 내부의 패드 손상을 방지할 수 있다. 또한, 접착제의 접착 영역이 일정하게 형성되므로 이후 셀 절단 공정에서도 불량이 발생하지 않는다.As shown in FIG. 9, when the substrate is etched after adhering the opening of the auxiliary seal pattern using an adhesive having a viscosity of 40 cP to 45 cP, the etchant does not penetrate into the adhesive region. Pad damage inside the cell can be prevented. In addition, since the adhesive region of the adhesive is formed uniformly, defects do not occur even in the cell cutting process.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명에서는 액정 표시 장치를 경량화하기 위해 기판을 식각하는데 있어서, 셀 영역을 정의하는 주 씰 패턴 둘레에 개구부를 가지는 보조 씰 패턴을 형성하고 기판을 합착한 다음, 보조 씰 패턴의 개구부를 접착제로 접착 후 기판을 식각함으로써, 식각액이 셀 영역으로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 셀 영역의 손상을 방지할 수 있다.In the present invention, in etching the substrate in order to reduce the weight of the liquid crystal display device, an auxiliary seal pattern having an opening is formed around the main seal pattern defining the cell region, the substrate is bonded to each other, and then the opening of the auxiliary seal pattern is bonded with an adhesive. After etching the substrate, the etching liquid can be prevented from penetrating into the cell region. Therefore, damage to the cell region can be prevented.

Claims (4)

하나의 액정 패널이 되는 셀 영역이 다수 개 정의되는 제 1 및 제 2 기판을 구비하는 단계;Providing first and second substrates having a plurality of cell regions defined as one liquid crystal panel; 상기 제 1 기판 상에, 일부가 개방되고 상기 셀 영역의 둘레에 각각 위치하도록 다수의 주 씰 패턴을 형성하는 단계;Forming a plurality of main seal patterns on the first substrate, the plurality of main seal patterns being partially open and respectively positioned around the cell region; 상기 다수의 주 씰 패턴을 둘러싸고, 적어도 하나 이상의 개구부를 가지는 보조 씰 패턴을 형성하는 단계;Forming an auxiliary seal pattern surrounding the plurality of primary seal patterns and having at least one opening; 상기 보조 씰 패턴이 형성된 제 1 기판을 상기 제 2 기판과 합착하는 단계;Bonding the first substrate on which the auxiliary seal pattern is formed to the second substrate; 상기 보조 씰 패턴의 개구부에 접착제를 형성하는 단계;Forming an adhesive in the opening of the auxiliary seal pattern; 상기 접착제가 형성된 제 1 및 제 2 기판을 식각용기에 담가 기판의 표면을 식각하는 단계Etching the surface of the substrate by immersing the first and second substrates on which the adhesive is formed in an etching container; 를 포함하며,Including; 상기 접착제는 5 센티푸아즈(cP) 내지 100 센티푸아즈의 점도를 가지는 액정 표시 장치의 제조 방법.The adhesive may have a viscosity of 5 centipoise (cP) to 100 centipoise. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 접착제는 40 센티푸아즈 내지 45 센티푸아즈의 점도를 가지는 액정 표시 장치의 제조 방법.The adhesive has a viscosity of 40 centipoises to 45 centipoises. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 접착제는 시아노아크릴레이트 계열의 물질로 이루어지는 액정 표시 장치의 제조 방법.The adhesive is a method of manufacturing a liquid crystal display device made of a cyanoacrylate-based material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판의 표면을 식각하는 단계는 HF 용액을 이용하여 이루어지는 액정 표시 장치의 제조 방법.And etching the surface of the substrate using an HF solution.
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