KR100753621B1 - 광학 장치 - Google Patents

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칼 짜이스 에스엠테 아게
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    • G03F7/70891—Temperature

Abstract

광학 장치는, 특히 마이크로리소그래피용 투영 인쇄 장치에서, 특히 슬롯형태의 이미지 필드 또는 회전 비대칭 조명을 가진다. 굴절 광학소자, 예를 들어 렌즈(2)는 광원의 회전 비대칭 방사광(3)에 의해 가열된다. 하나 이상의 전기 가열 소자는 광학소자에 결합되어 있다. 상기 가열 소자는 광학소자에 탑재된 저항성 가열 코팅을 포함한다. 광원의 방사광에 의해 영향을 받는 광학소자의 표면(3) 영역에서, 저항성 가열 코팅은 실질적으로 광학적으로 투명하다. 저항성 가열 코팅은 복수 개의 평행하고 전기적으로 상호 절연된 코팅 스트립들(5 내지 10)을 포함한다. 가열 전류전원(17 내지 19)은 가열 소자의 부가적인 부분이다. 방사광(3)에 의한 광학소자의 가열과 저항성 가열의 결합 덕분에, 대칭적인 및/또는 균질한 온도 및 굴절률 분포를 이용하여, 광학소자의 조명에 의해 야기되는 영상 오차들의 보정이 이루어진다.
광학 장치

Description

광학 장치{OPTICAL ARRANGEMENT}
도 1 은 본 발명에 따른 가열 가능한 렌즈 면의 평면도와 전기적 열공급 회로, 열 제어회로의 블럭 다이어그램.
도 2 는 도 1 의 선 Ⅱ-Ⅱ 을 따라 가열 가능한 렌즈를 관통한 단면도.
※ 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명
1 : 렌즈 2 : 렌즈 본체
3 : 투영광선 단면 4 : 기본 본체
5~10 : 저항스트립 11 : 절연 갭
12 : 자오선 평면 13 : 갭
14~16 : 저항영역 17~19 : 전기적 전력공급부
20 : 가열전류 제어회로 21 : 인쇄 제어회로
22 : CCD 어레이 23 : 반사방지 코팅
본 발명은 광학 장치에 관한 것으로, 특히, 방사광을 방출하는 광원 및 방사광의 작용에 의해 회전 비대칭적으로 가열되는 굴절 광학소자를 포함하고, 적어도 하나의 전기 가열 소자가 상기 광학소자와 결합하는, 특히, 슬롯 모양의 이미지 필드 또는 회전 비대칭적인 조명을 갖는 마이크로리소그래피용 투영 인쇄(projection printing) 장치에 관한 것이다.
광학 장치의 결상 품질은 회전 비대칭적 영상 오차들에 의해 빈번히 저하된다. 예를 들어, 그러한 영상 오차들은 광에 의한 광학소자의 회전 비대칭적인 가열의 결과로서 뿐만 아니라, 광에 의한 다른 효과들, 예컨대 압밀(compaction) 등에 의해서도 발생하며, 이것은 상응하는 광학소자의 회전 비대칭적인 팽창 및/또는 굴절률 분포를 유발한다.
높은 결상 품질이 요구될 때, 특히 마이크로리소그래피용 투영 인쇄 과정에서는, 광에 의해 야기되는 영상 오차들은 용인될 수 없다. 유럽특허 제 0 678 768 A2 호에서는, 대칭적인 및/또는 균질한 온도 분포를 얻기 위해 추가적으로 가열함으로써, 결상 특성들의 향상을 추구하는 것이 알려져 있다. 상기 목적을 위해, 복수의 가열 소자들이 열적으로 렌즈의 주변부와 연결되어 있으므로, 모서리 방향으로부터 렌즈를 가열한다.
그러한 렌즈의 가열은 - 결상 특성을 위해 - 주로 관련된 렌즈의 중앙부 표면에서 대칭적 및/또는 균질한 온도분포를 얻기 위해, 일반적으로 렌즈 재료가 낮은 열전도성을 가짐에도 불구하고, 렌즈의 주변부 표면이 상대적으로 높은 수준으로 가열되어야 한다는 점에서 단점이 있다. 그러나, 렌즈 주변부를 강하게 가열하면, 렌즈 및/또는 렌즈 마운팅(mounting)이 열적 스트레스에 의해 손상될 위험이 있다.
또한, 렌즈의 중앙부와 렌즈의 주변부가 상대적으로 큰 거리만큼 떨어져 있기 때문에, 중앙부 근처에서의 온도 분포에 대한 의도하는 구조적 영향력은 실질적으로 불가능하다.
따라서, 본 발명의 목적은, 광학소자에서의 온도분포가 더 대칭적으로 및/또는 균질적으로 될 수 있는 방법으로, 서두에 언급한 형태의 광학 장치를 개발하는데 있다.
상술한 목적은, 본 발명에 따라서 성취되며, 본 발명에서 저항성 가열 소자는 가열 전류전원 뿐만 아니라 저항성 가열 코팅을 구비하며, 저항성 가열 코팅은 광학부재에 장착되고 광원의 방사광이 작용하는 광학소자의 표면영역에서 실질적으로 광학적으로 투명하며, 복수 개의 평행하고 전기적으로 상호 절연체인 코팅 스트립들을 포함한다.
이와 같은 방식으로 배열된 코팅 스트립들을 가지는 가열 소자는, 추가적인 가열로 렌즈 본체에서 발생하는 전체적인 온도분포를 통하여 결상 특성을 적합하게 할 수 있다. 특히, 렌즈 본체의 중앙부 및 그것을 둘러싸는 영역(이러한 영역의 회전 비대칭 가열은 광원의 방사광의 잔류흡수 결과로서 렌즈의 영상 오차의 주요한 원인이다)은 직접적으로 가열될 수 있다. 코팅 스트립들은 광학적으로 투명하므로, 그들은 불필요하게 렌즈의 개구(aperture)를 한정하지 않는다. 그러므로, 광원의 방사광이 작용하는 렌즈 본체의 표면들이 변할 때에도, 동일한 가열 소자가 사용될 수 있다.
특히, 광원의 방사광이 작용하는 표면을 둘러싼 영역에서, 코팅 스트립들은 광학소자를 실질적으로 덮는 막을 형성할 수 있고, 개별적인 코팅 스트립들 사이에는 단지 작은 갭들 만이 유지된다. 그러한 코팅 스트립들의 배열은 특히 광원의 방사광이 작용하는 표면을 둘러싼 영역에서 실질적으로 렌즈 표면을 전체적으로 가열할 수 있게 한다. 따라서, 가열을 통해 조정 가능한 광학소자의 온도 분포 결과로서, 결상 특성들을 바람직하게 제어할 수 있다. 코팅 스트립들 사이의 좁은 갭들은 코팅 스트립들 사이의 전기적 절연체로 이용된다.
코팅 스트립들은 광학소자로부터 떨어진 면에서 반사방지 코팅을 가질 수 있다. 상기 반사방지 코팅은 동시에 코팅 스트립들에 대한 보호막이다. 특히, 코팅 스트립들이 광학소자를 제조하는데 사용되는 재료의 굴절률보다 더 큰 굴절률을 갖는 재료로 만들어진 경우, 광학소자로부터 떨어진 코팅 스트립의 경계막에서는 증가되는 반사 손실을 피할 수 있다.
바람직하게는, 반사방지 코팅은 광학소자 상의 연속적인 막이다. 그러므로, 예컨대 코팅 스트립들과 반사방지 코팅 모두는 2 개의 연속적인 기상증착(vapour deposition) 또는 다른 코팅처리에 의한 간단한 방법을 적용할 수 있다.
코팅 스트립들은 바람직하게는 방사광의 파장영역에서 실질적으로 광학소자의 재료와 동일한 굴절률을 가지는 재료로 이루어져 있다. 상기 수단들에 의해, 코팅 스트립들과 렌즈 본체 사이의 경계막에서 반사손실들을 피할 수 있다.
적어도 2 개의 코팅 스트립들은 서로 다른 단위길이당 전기적 저항을 가질 수 있다. 주어진 가열전류에서 열출력은 가열저항에 따라 증가한다. 단위길이당 저항의 적당한 사전 선택(preselection)을 함으로써, 렌즈 본체에서 우수한 대칭적인 및/또는 균질한 온도 분포를 가능하게 하는 렌즈 표면에 걸친 열출력 분포를 획득하는 것도, 일정한 가열 전류가 주어지면, 가능하다. 그러므로, 가열전류의 전류제어를 필요없게 하는 것도 가능하다.
코팅 스트립들이 단위길이당 전기적 저항을 달리하는 복수 개의 영역을 포함할 때는, 상기 목적을 위해 요구되는 가열전류의 변동없이, 렌즈 본체의 표면에 걸친 열출력 분포 채택에 대한 추가적인 자유도(degree of freedom)가 제공된다.
단위길이당 전기적 저항의 연속적인 변화가 코팅 스트립들을 따라 만들어 질 수 있다. 그러한 연속적인 변화는, 코팅 스트립의 길이를 따라 전달된 가열 에너지에 대응하는 연속적인 변화를 일으킨다. 그러므로, 온도분포의 바람직하지 않은 불연속성을 피할 수 있다.
구성의 바람직한 형태에서는, 코팅 스트립들은 코팅 스트립에 대해 평행하게 놓인 대칭 자오선 평면에 대해 거울대칭(mirror symmetry)으로 위치한다. 그 결과, 마찬가지로 거울대칭을 갖는, 광원에 의한 작용의 방사광 파워 분포가 주어지면, 대칭적인 및/또는 균질한 온도분포를 이루기 위한 열출력의 적합화가 쉬워진다.
대칭 자오선 평면에 의해 거울대칭으로 서로 관련되는 코팅 스트립들이 동일한 전기적 저항을 가질 때, 가열 소자의 제작은 단순화된다.
본 발명의 구성의 바람직한 형태에서, 가열 전류전원은 적어도 2 개의 전력장치들을 포함하고, 대칭 자오선 평면에 의해 거울대칭으로 서로 관련되는 코팅 스트립들은 동일한 전기 공급장치에 의해 가열된다. 이것은 가열 소자의 제어를 간단히 한다.
가열 전류전원은 가열전류 제어회로에 통신링크를 가질 수 있으며, 가열전류 제어회로는 전기 공급장치들에 의해 전달될 출력을 사전선택한다. 이것은 열출력 분포를 자동적으로 투영 인쇄 장치의 외부 동작변수들의 변화에 적합하도록 할 수 있게 한다.
가열전류 제어회로는 바람직하게는 센서와 통신링크를 가지고, 센서는 광학소자 및/또는 광학 장치의 결상 특성들을 측정하며, 전기 공급장치들에 전달된 출력들의 사전선택은 센서의 측정결과에 의존하여 영향을 받는다. 그러한 배열은, 센서에 의해 획득되는 광학소자 및/또는 전체 광학 장치의 결상 특성들을 최적화하기 위해, 열출력 분포를 자동적으로 적합화 할 수 있게 한다.
상기 센서들은 위치감광(position-sensitive) 센서일 수 있으며, 이러한 센서는 광학소자 및/또는 광학 장치의 초점평면에 위치한다. 그러한 센서를 가지고, 광학소자 및/또는 광학 장치의 결상 특성들을 정확하게 얻을 수 있다. 위치감광 센서는 CCD 검출기일 수 있다. 그러한 센서는 높은 광학적 감광도와 좋은 선형성을 가진다.
이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도면에 도시된 가열 가능한 렌즈(1)는 마이크로리소그래픽 투영 인쇄 장치의 광학 장치의 부분으로, 다른 구성요소들은 도면에 도시되어 있지 않다. 이 경우, 렌즈 본체(2)는, 예를 들어, 아르곤-불소(argon-fluoride) 엑시머 레이저의 UV 광선과 같은 광원의 투영광선에 의해 영향을 받는다. 렌즈 본체(2)를 관통하는 지점에서, 투영광선은 도 1 의 점선 사각형(3)에 의해 표시된 바와 같이 사각형의 단면을 나타낸다. 그러한 인쇄 형상은 투영 인쇄 장치의 슬롯형 이미지 필드가 된다.
렌즈 본체(2)는 둥글고, 양면 볼록한(biconvex)(도 2 참조) 기본 본체(4)를 포함하며, 본체의 위쪽 방향 표면은 총 6 개의 저항스트립들(5 내지 10)로 코팅되어 있다. 기본 본체(4)는 투영광선에 대해서 매우 투명한 재료로 만들어 지는데, UV 광선의 경우 석영유리 또는 CaF2 로 만들어진다.
저항스트립들(5 내지 10)은, 3 개의 저항스트립들(5, 6, 7 및 8, 9,10)을 각각 포함하는 2 개의 그룹에서 서로 평행하게 배치되며, 하나의 그룹(5, 6, 7 또는 8, 9, 10) 내부의 개별적인 저항스트립들 사이에는 각각 좁은 절연 갭(11)이 유지된다.
2 개의 저항스트립들(5, 6, 7 및 8, 9, 10)의 그룹들은 그들 사이에서 평행하게 뻗은 렌즈 본체(2)의 자오선 평면(12)에 대해 대칭적으로 배치된다. 절연 갭들(11) 보다 더 크며, 거기에서는 기본 본체(4)가 가열코팅을 가지지 않는 갭(13)은 자오선 평면(12)에 인접한 저항스트립들(7, 8) 사이에 위치한다.
저항스트립들(5 내지 10)은 광원의 파장(아르곤-불소 엑시머 레이저의 경우는 193.3nm)에 대해 실질적으로 손실없이 광학적으로 투명하고 전기적으로 도전체인 매질로 형성된다. 그들의 세로 방향의 길이는 렌즈 본체(2)의 둥근 모양에 의해 한정되고, 그 결과, 가장 내부에 있는 스트립들(7, 8)이 가장 길고 가장 바깥에 있는 스트립들(5, 19)은 가장 짧다.
2 개의 가장 내부의 저항스트립들(7, 8)은, 그들의 길이 방향에 각각 직각으로 3 개의 저항 영역들(14 내지 16)로 나뉘어져 있다. 중앙부의 저항 영역(15)은, 그것을 둘러싸고 있는 외부의 저항 영역(14 및 16)에 비해, 저항스트립들(7, 8)을 따라 더 낮은 단위길이당 전기 저항을 갖는다.
저항 영역(15)에 비해, 저항 영역들(14 및 16)의 더 낮은 단위길이당 저항은, 저항 영역(15)에서의 저항 스트립(7)의 층 두께를 저항 영역들(14 및 16) 보다 작게 하여 얻어질 수 있다. 다른 방법으로는, 저항 영역들(14 내지 16)에서의 적당한 재료의 선택에 의해(예를 들어, 영역(15)에서 보다 저항 영역(14 및 15)에서 도전적 물질을 더 많이 도핑함으로써) 이러한 것을 달성할 수 있다. 저항스트립들(5, 6 및 9, 10)의 단위길이당 저항은 저항 영역들(14, 16)의 저항에 상응한다.
자오선 평면(12)에 대한 상기 저항스트립들(5 내지 10)의 상술한 배열은 저항스트립들의 3 개의 쌍들(7, 8)(6, 9)(5, 10)을 이루고, 각각의 쌍은 서로에 대해 대칭적으로 배치된 2 개의 저항스트립을 포함한다. 저항스트립들(5 내지 10)은 렌즈 본체(2)의 모서리에 인접한 좁은 측면들에서 접촉점들을 가지며, 상기 접촉점들을 통해 전기적 배선들이 저항스트립들(5 내지 10)에 연결된다. 그러한 쌍들(7, 8)(6, 9)(5, 10)은 평행하게 전기적으로 접속된다. 각각의 쌍(7, 8)(6, 9)(5, 10)은 별개의 전기적 전력공급부(17, 18, 19)에 접속된다. 전기 전력공급부는 가열목적으로 전기 에너지를 적절한 저항스트립들(5 내지 10)에 공급한다.
전력공급부(17 내지 19)의 전기적 전력출력은 상기 전력공급부들에 통신 링크를 갖는 가열전류 제어회로(20)에 의해 제어할 수 있다. 전력공급부(17 내지 19)에 대한 설정값(setpoint)의 출력은 가열전류 제어회로(20)에 통신 링크를 가지는 인쇄 제어회로(21)에 의해 가열전류 제어회로(20) 내부로 인가된다. 2차원 CCD 어레이(22)는 인쇄 제어신호(21)에 차례대로 연결되고, 투영 인쇄 장치의 광학 장치의 초점평면은 적절한 광학소자(도시되지 않음)에 의해 CCD 어레이(22) 상에 결상된다.
도 2 로부터, 렌즈 본체(2)의 기본 본체(4)는 저항스트립(5 내지 10)들을 장착한 면이 반사방지 코팅(23)으로 코팅되는 것은 명확하다. 반사방지 코팅은, 무엇보다도 저항스트립들(5 내지 10)의 상면에서의 두께와 절연 갭들(11) 및 갭(13) 영역에서의 두께에 관한 한, 오직 개략적으로만 표현되어 있다. 또한, 저항스트립들(5 내지 10)로부터 떨어진 렌즈 본체(2)의 면은 반사방지 코팅을 가진다(도시되지 않음).
가열 가능한 렌즈들은 다음과 같이 동작한다.
렌즈 본체(2)의 재료가 투영광선의 파장 영역에서 일으키는 잔류(residual)흡수 때문에 투영 광선은 렌즈 본체(2)를 가열한다. 상기 초기 가열은 렌즈 본체(2)에서 투영광선의 광경로 대칭성을 가진다. 그러한 가열은 굴절률의 변화 뿐만 아니라 재료의 열팽창도 유발하고, 따라서 렌즈 본체(2)의 결상 특성들을 변화시킨다.
렌즈 본체(2)를 저항스트립들(5 내지 10)로 가열하는 목적은, 렌즈 본체(2)의 온도분포를 대칭적으로 하거나 미리 설정된 형태의 온도 분포를 획득하는 데 있다. 그 결과, 렌즈 본체(2)에서의 공간적으로 일정한 굴절률 뿐만 아니라 정해진 열팽창 분포가 결상 특성들을 제어가능 하게 한다.
제 1 단계에서는, 전력공급부(17 내지 19)들에 의한 저항스트립들(5 내지 10)로의 전력출력을 제어하기 위해 가열전류 제어회로(20)가 사용된다. 저항스트립들은 렌즈 본체(2), 특히 기본 본체(4)를 투영 광선에 의한 가열이 일어나지 않는 지점들에서 특히 많이 가열한다. 도 1 에 도시된 상황에서, 투영광선의 단면(3)이 오직 저항스트립들(7, 8)을 부분적으로 관통하는 경우, 상기 지점들은 저항스트립들(5, 6 및 9, 10)이다.
한편으로는 투영광선의 작용에 의한 렌즈 본체(2)의 가열과, 다른 한편으로는 저항스트립들(5, 6, 9, 10)에 의한 전기적 가열의 결합은, 오직 투영광선의 잔류흡수에 의해서만 가열되는 미가열 렌즈 본체(2)의 경우보다, 광축에 대해 회전 대칭에 더 근접한 렌즈 본체(2)의 온도 분포를 가져온다. 상기 향상된 대칭적 온도 분포는 렌즈 본체(2)의 영상 오차를 감소시킨다. 상기 감소된 영상 오차들은 투영 인쇄 장치의 향상된 결상을 유도하는데, 이는 차례로 CCD 어레이(22)에 의해 획득된 후, 공지의 영상 포착 알고리즘을 이용하여 인쇄 제어회로(21)의 도움으로 평가된다.
CCD 어레이(22)에 의해 획득되고 동시에 투영 인쇄 장치에 의해 결상된 구조와 인쇄 제어회로(21) 내에 입력된 설정값 구조의 비교를 통하여, 인쇄 제어회로(21)는 전력공급부들(17 내지 19)의 전력 출력에 대한 새로운 설정값들을 결정하며, 이들은 전력공급부들(17 내지 19)의 제어를 위해 가열전류 제어회로(20)에 인가된다. 그러므로 가열 가능한 렌즈(1)의 표면의 선택적 가열의 결과로서, 광학 장치의 결상 품질은 최소의 영상 오차들을 가진 최적의 조건에 반복적으로 도달한다.
CCD 어레이(22)에 의해 모니터되는 초점평면에 따라, 렌즈(1) 단독 또는 렌즈(1)가 포함되는 렌즈 그룹, 예컨대, 투영렌즈 시스템의 결상 특성들의 최적화가 가능하다. 마지막 두 경우에는, 하나의 가열 가능한 렌즈(1)를 가열하여 그 렌즈의 결과적인 결상 특성들이 렌즈 그룹의 나머지 렌즈들의 영상 오차들을 단지 보정하는 방식으로, 영상 오차들의 과보정이 수행된다.
상기 반복적인 처리 경로에서, 가열전류가 전력공급부(17)에 의해 가열스트립들(7, 8)에 또한 인가되는 경우, 인접한 저항영역들(14, 16)과 비교하여 중앙부의 저항영역들(15)의 더 낮은 단위길이당 저항은, 광축에 인접하며, 일반적으로 광축에서 가장 강한 투영광선에 의해 대부분 가열되는 렌즈 본체(2)의 영역이, 저항성 가열에 의해 추가적으로 더 강한 가열이 일어나지 않도록 보장한다.
도 1의 저항 영역들(14 내지 16)의 배열은 단지 일 예이다. 실질적으로, 저항스트립들(5 내지 10)은 렌즈 본체(2)의 양쪽면에 교대로 배치되거나, 추가적으로, 가열저항을 달리하는 복수 개의 저항영역으로 세분화될 수 있다. 상기 경우에, 열출력을 광접촉면의 형상에 적합하도록 하기 위해 저항스트립들(5 내지 10)의 단위길이당 저항 뿐만 아니라 절대저항 모두가 서로 다를 수 있다. 개별적인 저항영역들 사이의 단위길이당 저항의 변화들은 급격할 필요는 없고, 대신에 유동적일 수 있다.
본 발명에 따라서, 광학소자에서의 온도분포가 더 대칭적인 및/또는 균질적으로 될 수 있는 광학 장치가 가능하며, 코팅 스트립들을 가지는 가열 소자는 추가적인 가열 때문에 렌즈 본체에서 발생하는 전체적인 온도분포를 통하여 우수한 결상 특성들의 적합화를 가능하게 한다. 특히, 렌즈 본체의 중앙부 및 그것을 둘러싸는 영역은 직접적으로 가열될 수 있다. 또한, 코팅 스트립들은 광학적으로 투명하므로, 그들은 불필요하게 렌즈의 개구(aperture)를 한정하지 않는다.
이러한 저항 가열에 의해서, 잔류흡수에 기인한 영상 오차들의 보정이 가능할 뿐만 아니라, 다른 영상 오차들(예컨대 비점수차 또는 광학소자들에 있는 물질적 불규칙성에 의해 유발되는 오차들)도 저항스트립들을 통한 적당한 가열에 의해 보정할 수 있다.

Claims (15)

  1. 방사광을 방출하는 광원 및 상기 방사광의 작용에 의해 회전 비대칭적으로 가열되는 굴절 광학소자를 포함하고, 적어도 하나의 전기 가열 소자가 상기 광학소자와 결합되는 것으로, 슬롯 모양의 이미지 필드 또는 회전 비대칭적인 조명을 갖는 마이크로리소그래피 투영 인쇄 장치용 광학 장치에 있어서,
    상기 가열 소자는: 상기 광학소자(4)에 장착되며, 광원의 방사광에 의해 영향을 받는 상기 광학소자(4)의 표면(3) 영역에서 광학적으로 투명한 저항성 가열 코팅을 구비하고, 복수개의 평행하고 전기적으로 상호 절연된 코팅 스트립들(5 내지 10)을 구비하고, 가열 전류전원을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(5 내지 10)은 광원의 방사광에 의해 작용되는 표면(3)을 둘러싼 영역에서 상기 광학소자(4)를 덮는 막을 형성하며, 상기 각 코팅 스트립들(5 내지 10) 사이에는 단지 좁은 갭들(11)만이 존재하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(5 내지 10)은 상기 광학소자(4)로부터 떨어진 면에서 반사방지 코팅(23)을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 반사방지 코팅(23)은 상기 광학소자(4) 상에 연속적으로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(5 내지 10)은 방사광의 파장 영역에서 상기 광학소자(4)의 재료와 동일한 굴절률을 가지는 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    적어도 2 개의 코팅 스트립들(5 내지 10)은 서로 다른 단위길이당 전기 저항을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(7, 8)은 단위길이당 전기 저항을 달리하는 복수 개의 영역들(14, 15, 16)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(5 내지 10)을 따른 영역들(14, 15, 16) 사이에서, 단위길이당 전기 저항은 연속적인 변화를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 코팅 스트립들(5 내지 10)은 상기 코팅 스트립들(5 내지 10)에 평행하게 놓인 대칭 자오선 평면(12)에 대하여 거울대칭으로 위치하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 대칭 자오선 평면(12)의 결과로서 서로 거울대칭으로 관련되는 상기 코팅 스트립들(7, 8, 6, 9, 5, 10)은 동일한 전기 저항들을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 가열 전류전원은 적어도 2 개의 전기 공급장치들(17 내지 19)을 포함하고, 상기 대칭 자오선 평면(12)에 대하여 서로 거울대칭으로 관련된 상기 코팅 스트립들(7, 8, 6, 9, 5, 10)은 동일한 전기 공급장치(17, 18, 19)에 의해 가열되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 가열 전류전원은 적어도 2 개의 전기 공급장치들(17 내지 19)을 포함하고, 상기 가열전류전원은 가열전류 제어회로(20)와 통신링크를 가지며, 상기 가열전류 제어회로(20)는 상기 전기 공급장치(17, 18, 19)에 의해 전달될 출력들을 사전선택하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 가열전류 제어회로(20, 21)는 센서(22)와 통신링크를 가지고, 상기 센서는 상기 광학소자(4) 및/또는 광학 장치의 결상 특성들을 측정하며, 상기 전기 공급장치들(17, 18, 19)에 의해 전달된 상기 출력들의 사전선택은 센서(22)의 측정결과에 의존하여 영향를 받는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 센서(22)는 위치감광 센서이며, 상기 광학소자(4) 및/또는 광학 장치의 초점평면에 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 위치감광 센서(22)는 CCD 검출기인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
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