KR100749490B1 - Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof - Google Patents

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Abstract

An organic light emitting diode display device and a method for fabricating the same are provided to reduce manufacturing cost through the reduction of masks by forming a pixel defined film having a spacer unit through a partial exposure process and a dry etching process using a half tone mask. An organic light emitting diode display device includes a lower structure, a first pixel electrode(22), a pixel defined film(28), an organic film(24), and a second pixel electrode(26). The lower structure is formed on a substrate. The first pixel electrode(22) is formed on the lower structure. The pixel defined film(28) has a first end which is formed on the lower structure to expose a pixel region of the first pixel electrode(22), and a second end which is formed on the first end having a narrower width than the first end. The organic film(24) is formed on the pixel region of the first pixel electrode(22). The second pixel electrode(26) is formed on the organic film(24). The first and second ends of the pixel defined film(28) are formed by a dry etching process, and a partial exposing and developing process using a half tone mask.

Description

유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}Organic electroluminescent display and manufacturing method thereof {ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 개략적인 구성을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에서 하부 구조물 상에 제1 화소 전극을 형성한 상태를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a state in which a first pixel electrode is formed on a lower structure in an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에서 화소 정의막 형성 물질을 도포한 상태를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a state in which a pixel defining layer forming material is coated in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에서 화소 정의막 형성 물질 상에 하프톤 마스크를 배치한 상태를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a state in which a halftone mask is disposed on a pixel defining layer forming material in an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에서 화소 정의막 형성 물질이 부분 노광 및 현상된 상태를 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a state in which a pixel defining layer forming material is partially exposed and developed in an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에서 건식 식각 공정을 실시한 상태를 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a dry etching process in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명은 유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크 수 절감이 가능한 유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an organic light emitting display and a method of manufacturing the same, which can reduce the number of masks.

최근, 음극선관의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치는 액정 표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED: Field Emission Display), 플라즈마 표시장치(PDP: Plasma Display Panel) 및 유기 전계 발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display Device) 등이 있다.Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include Liquid Crystal Display (LCD), Field Emission Display (FED), Plasma Display Panel (PDP) and Organic Light Emitting Diode Display (Organic Light Emitting Diode Display). Device).

이 중에서 상기 유기 전계 발광 표시장치는 유기 화합물을 전기적으로 여기시켜 발광시키는 자발광형 표시 소자로서, N×M 개의 유기 발광 소자들을 전압 구동 또는 전류 구동하여 영상을 표현할 수 있도록 되어 있다.The organic light emitting display device is a self-luminous display device that electrically excites an organic compound to emit light. The organic light emitting display device may display an image by voltage driving or current driving N × M organic light emitting devices.

상기 유기 발광 소자는 다이오드 특성을 가져서 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode)라고도 불리며, 이는 정공 주입 전극인 애노드 전극과 발광층인 유기막과 전자 주입 전극인 캐소드 전극의 구조로 이루어진다.The organic light emitting diode has a diode characteristic and is also called an organic light emitting diode (OLED). The organic light emitting diode includes an anode electrode as a hole injection electrode, an organic layer as a light emitting layer, and a cathode electrode as an electron injection electrode.

이러한 구성의 유기 발광 소자는 상기한 애노드 전극과 캐소드 전극으로부터 각각 정공과 전자가 유기막 내부로 주입되면, 주입된 정공과 전자가 결합한 엑시톤(exiton)이 여기상태로부터 기저상태로 떨어질 때 발광이 이루어진다.The organic light emitting device having such a configuration emits light when holes and electrons are injected into the organic film from the anode electrode and the cathode electrode, respectively, when the exciton in which the injected holes and electrons are combined falls from the excited state to the ground state. .

통상적으로, 상기한 유기 발광 소자를 구비하는 유기 전계 발광 표시장치는 구동 방식에 따라 능동 행렬(active matrix) 방식과 수동 행렬(passive matrix) 방식으로 구분할 수 있다.In general, the organic light emitting display device including the organic light emitting diode may be classified into an active matrix method and a passive matrix method according to a driving method.

이 중에서, 상기한 능동 행렬 방식으로 구동되는 유기 전계 발광 표시장치는 구동 회로 기판을 포함한다. 구동 회로 기판에는 복수의 박막 트랜지스터와 저장 커패시터를 포함하는 구동 회로부가 형성되며, 구동 회로부는 평탄화막에 의해 보호된다.Among these, the organic light emitting display device driven by the active matrix method includes a driving circuit board. A driving circuit portion including a plurality of thin film transistors and a storage capacitor is formed on the driving circuit substrate, and the driving circuit portion is protected by the planarization film.

그리고, 상기 평탄화막 상에는 유기 발광 소자가 형성된다. 상기 유기 발광 소자는 위에서 설명한 바와 같이 제1 화소 전극 및 제2 화소 전극과, 이 전극들 사이에 배치되는 유기막을 포함한다.An organic light emitting device is formed on the planarization film. As described above, the organic light emitting diode includes a first pixel electrode and a second pixel electrode, and an organic film disposed between the electrodes.

여기에서, 통상적으로는 하측의 제1 화소 전극이 애노드 전극으로 사용되고, 상측의 제2 화소 전극이 캐소드 전극으로 사용되며, 하측의 제1 화소 전극은 구동 회로부의 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다.Here, a lower first pixel electrode is typically used as an anode electrode, an upper second pixel electrode is used as a cathode electrode, and a lower first pixel electrode is electrically connected to a thin film transistor of a driving circuit unit.

그리고, 상기한 구성의 유기 발광 소자는 각각의 소자 사이에 형성되는 화소 정의막에 의해 인접 소자와 분리된다.The organic light emitting element having the above-described configuration is separated from the adjacent element by the pixel defining layer formed between each element.

한편, 근래에는 상기한 구성의 유기 전계 발광 표시장치를 구성함에 있어서, 내충격성을 향상시키기 위한 스페이서를 화소 정의막 상에 형성하고 있다.Meanwhile, in the organic electroluminescent display of the above-described structure, spacers for improving impact resistance have been formed on the pixel defining layer.

이에, 종래에는 상기한 화소 정의막 및 스페이서를 형성할 때, 화소 정의막 형성 물질을 코팅한 후 마스크를 이용한 사진 공정을 실시하여 화소 정의막을 형성하고, 이후, 스페이서 형성 물질을 코팅한 다음 마스크를 이용한 사진 공정을 실시하여 스페이서를 형성하고 있다.Therefore, when forming the pixel defining layer and the spacer, the pixel defining layer is formed by coating the pixel defining layer and then performing a photo process using a mask, and then coating the spacer forming material and then applying the mask. The used photo process is performed to form a spacer.

이와 같이, 종래에는 2번의 사진 공정을 이용하여 화소 정의막 및 스페이서를 각각 형성하고 있으므로, 마스크 수가 증가하여 제조 원가가 증가하는 문제점이 있다.As described above, since the pixel defining layer and the spacer are respectively formed by using the two photolithography processes, there is a problem that the manufacturing cost increases due to the increase in the number of masks.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 마스크 수 절감이 가능한 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an organic light emitting display device capable of reducing the number of masks.

본 발명의 다른 기술적 과제는 스페이서부가 일체로 형성된 화소 정의막을 구비하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an organic light emitting display device including a pixel defining layer in which a spacer part is integrally formed.

상기한 기술적 과제는,The technical problem mentioned above,

제1 화소 전극의 화소 영역을 노출시키도록 기판 상의 하부 구조물 상에 형성되는 화소 정의막이 부분 노광 및 현상 공정과 건식 식각 공정에 의해 형성된 서로 다른 폭의 2단부로 이루어지는 유기 전계 발광 표시장치에 의해 달성될 수 있다.A pixel defining layer formed on the lower structure on the substrate to expose the pixel region of the first pixel electrode is achieved by an organic electroluminescent display device consisting of two stages of different widths formed by a partial exposure and development process and a dry etching process. Can be.

이러한 구성의 실시예에 의하면, 상측의 2단부를 스페이서로 사용할 수 있으므로, 스페이서를 형성하기 위한 마스크수를 절감할 수 있다.According to the embodiment of this structure, since the upper two ends can be used as a spacer, the number of masks for forming a spacer can be reduced.

본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 하부 구조물은 구동 회로부 및 이 회로부를 덮는 평탄화막을 포함할 수 있으며, 제1 화소 전극 및 화소 정의막을 상기 평탄화막 상에 형성할 수 있다.In example embodiments, the lower structure may include a driving circuit unit and a planarization layer covering the circuit unit, and a first pixel electrode and a pixel defining layer may be formed on the planarization layer.

그리고, 상기 유기막은 화소의 색상과 관계없이 공통적으로 사용되는 공통층과, 화소의 색상에 따라 서로 다른 물질로 형성되는 발광층을 포함할 수 있으며, 상기 공통층은 상기 제1 화소 전극 및 화소 정의막 상에 형성할 수 있다.The organic layer may include a common layer commonly used regardless of the color of the pixel, and a light emitting layer formed of different materials according to the color of the pixel, wherein the common layer includes the first pixel electrode and the pixel defining layer. It can form on a phase.

그리고, 상기 제1 화소 전극은 애노드 전극으로 사용할 수 있고, 제2 화소 전극은 캐소드 전극으로 사용할 수 있다.The first pixel electrode may be used as an anode electrode, and the second pixel electrode may be used as a cathode electrode.

이러한 구성의 유기 전계 발광 표시장치는 기판 상에 하부 구조물을 형성하는 단계, 제1 화소 전극을 형성하는 단계, 상기 하부 구조물 상에 형성되는 1단부 및 상기 1단부에 비해 작은 폭으로 상기 1단부 상에 형성되는 2단부로 이루어지며 상기 제1 화소 전극의 화소 영역을 노출시키는 화소 정의막을 형성하는 단계, 유기막을 형성하는 단계, 및 제2 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다.The organic light emitting display having the above-described structure includes forming a lower structure on a substrate, forming a first pixel electrode, a first end formed on the lower structure, and a smaller width than the first end. And forming a pixel defining layer exposing a pixel region of the first pixel electrode, forming an organic layer, and forming a second pixel electrode. Can be.

여기에서, 상기 화소 정의막은 화소 정의막 형성 물질을 코팅하는 단계, 하프톤 마스크를 상기 기판 상에 배치하는 단계, 상기 하프톤 마스크를 이용한 부분 노광 및 현상 공정을 실시하는 단계, 및 건식 식각 공정을 실시하는 단계에 따라 제조할 수 있다.The pixel defining layer may include coating a pixel defining layer forming material, disposing a halftone mask on the substrate, performing a partial exposure and development process using the halftone mask, and a dry etching process. It may be prepared according to the steps to be performed.

그리고, 상기 하부 구조물은 기판 상에 버퍼막을 형성하는 단계, 상기 버퍼막 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계, 및 상기 박막 트랜지스터를 덮는 평탄화막을 형성하는 단계에 따라 형성할 수 있다.The lower structure may be formed by forming a buffer film on a substrate, forming a thin film transistor on the buffer film, and forming a planarization film covering the thin film transistor.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

이하의 실시예를 설명함에 있어서, 층, 막 등의 부분이 다른 부분의 "상에" 형성된다고 할 때, 이는 다른 부분의 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In describing the following embodiments, when a portion such as a layer, a film, etc. is formed "on" of another portion, it is not only when it is "just above" the other portion but also when there is another portion in the middle. Include.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 개략적인 구성을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

그리고, 도 2 내지 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법을 순차적으로 나타내는 단면도이다.2 to 6 are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 복수의 박막 트랜지스터(10) 및 유기 발광 소자(20)들이 표시 영역에 제공되는 기판(30)과, 상기한 표시 영역을 봉지하도록 씰런트에 의해 기판(30)에 봉착되는 인캡 글라스(미도시함)를 포함한다.According to an exemplary embodiment, an organic electroluminescent display device includes a substrate 30 in which a plurality of thin film transistors 10 and organic light emitting elements 20 are provided in a display area, and a sealant to seal the display area. It includes an encap glass (not shown) sealed to the substrate 30.

여기에서, 상기 기판(30)으로는 투명한 재질의 글라스 기판, 불투명한 재질의 수지재 또는 메탈 기판이 사용될 수 있다.Here, the substrate 30 may be a glass substrate of a transparent material, a resin material of a opaque material or a metal substrate.

상기 기판(30) 위에는 버퍼막(32)이 제공되고, 버퍼막(32) 위의 일부 영역에는 박막 트랜지스터(10)가 제공되며, 박막 트랜지스터(10)의 상부에는 유기 발광 소자(20)가 배치된다.A buffer layer 32 is provided on the substrate 30, a thin film transistor 10 is provided in a portion of the buffer layer 32, and an organic light emitting device 20 is disposed on the thin film transistor 10. do.

이하에서는 상기 박막 트랜지스터(10) 및 유기 발광 소자(20)의 구성을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, configurations of the thin film transistor 10 and the organic light emitting diode 20 will be described in more detail.

버퍼막(32) 위에는 반도체층(10a)이 제공되며, 반도체층(10a) 및 버퍼막(32) 위에는 게이트 절연막(10b)이 제공된다.The semiconductor layer 10a is provided on the buffer film 32, and the gate insulating film 10b is provided on the semiconductor layer 10a and the buffer film 32.

게이트 절연막(10b) 위에는 게이트 전극(10c)이 제공되고, 게이트 전극(10c) 과 게이트 절연막(10b) 위에는 층간 절연막(10d)이 제공되며, 층간 절연막(10d) 위에는 소스/드레인 전극(10e)이 제공된다. 이때, 상기 소스/드레인 전극(10e)은 층간 절연막(10d)의 접속홀을 통해 반도체층(10a)과 전기적으로 연결된다.A gate electrode 10c is provided on the gate insulating film 10b, an interlayer insulating film 10d is provided on the gate electrode 10c and the gate insulating film 10b, and a source / drain electrode 10e is provided on the interlayer insulating film 10d. Is provided. In this case, the source / drain electrode 10e is electrically connected to the semiconductor layer 10a through a connection hole of the interlayer insulating layer 10d.

그리고, 상기 소스/드레인 전극(10e) 및 층간 절연막(10d) 위에는 평탄화막(10f)이 제공되고, 평탄화막(10f) 위에는 제1 화소 전극(22)이 제공되며, 제1 화소 전극(22)은 평탄화막(10f)의 접속홀을 통해 상기 소스/드레인 전극(10e)과 전기적으로 연결된다.The planarization film 10f is provided on the source / drain electrode 10e and the interlayer insulating film 10d, and the first pixel electrode 22 is provided on the planarization film 10f, and the first pixel electrode 22 is provided. Is electrically connected to the source / drain electrode 10e through a connection hole of the planarization film 10f.

상기 제1 화소 전극(22)은 애노드 전극으로 사용될 수 있으며, 배면 발광 방식의 경우에는 투명 또는 반투명 도전막, 예컨대 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어질 수 있고, 전면 발광 방식의 경우에는 상기 투명 또는 반투명 도전막 외에 금속막을 더욱 포함할 수 있다.The first pixel electrode 22 may be used as an anode electrode, and in the case of a bottom emission method, the first pixel electrode 22 may be made of a transparent or translucent conductive film such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). In the case of the top emission method, a metal film may be further included in addition to the transparent or translucent conductive film.

상기 제1 화소 전극(22)은 평탄화막(10f) 위에 형성되는 화소 정의막(Pixel Defining Layer: 28)에 의해 화소 부분이 노출되며, 노출된 제1 화소 전극(22) 및 화소 정의막(28) 상에는 유기막(24) 및 제2 화소 전극(26)이 순차적으로 적층된다.The pixel portion of the first pixel electrode 22 is exposed by a pixel defining layer 28 formed on the planarization layer 10f, and the exposed first pixel electrode 22 and the pixel defining layer 28 are exposed. ), The organic layer 24 and the second pixel electrode 26 are sequentially stacked.

여기에서, 상기 제2 화소 전극(26)은 캐소드 전극으로 사용될 수 있다.The second pixel electrode 26 may be used as a cathode electrode.

그리고, 상기 유기막(24)은 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 중의 어느 한 색상을 표시할 수 있도록 구성된 것으로, 상기 색상과 관계없이 공통적으로 사용될 수 있는 공통층과, 상기 색상에 따라 별도로 형성되는 발광층을 포함할 수 있다.In addition, the organic layer 24 is configured to display any one of red (R), green (G), and blue (B), and a common layer that can be commonly used regardless of the color, and It may include a light emitting layer formed separately according to the color.

상기 공통층으로는 정공 주입층(Hole Injection Layer), 정공 수송층(Hole Transport Layer), 전자 수송층(Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer)이 사용될수 있다.A hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer (EIL) may be used as the common layer.

도 1에는 상기 유기막(24)이 제2 화소 전극(26)과 동일하게 전면 성막된 것으로 도시하고 있지만, 실질적으로는 유기막(24)의 공통층만 전면 성막되며, 상기 발광층은 화소별로 각각 독립적으로 형성된다.In FIG. 1, the organic layer 24 is formed on the entire surface of the organic layer 24 in the same manner as the second pixel electrode 26. However, only the common layer of the organic layer 24 is formed on the entire surface. It is formed independently.

이러한 구성의 유기 전계 발광 표시장치에 있어서, 상기 화소 정의막(28)은 하측의 1단부(28a)와 상측의 2단부(28b)를 포함하는 2단 형상으로 형성된다.In the organic light emitting display device having such a configuration, the pixel defining layer 28 is formed in a two-stage shape including a lower one end 28a and an upper two end 28b.

상기한 1단부(28a) 및 2단부(28b)는 서로 다른 폭으로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 2단부(28b)는 1단부(28a)에 비해 작은 폭으로 형성될 수 있다.The first end 28a and the second end 28b may have different widths. For example, the second end 28b may have a smaller width than the first end 28a.

그리고, 상기 2단부(28b)는 유기 발광 소자의 내충격성을 향상시키기 위한 스페이서로 작용한다.The second end 28b serves as a spacer for improving the impact resistance of the organic light emitting device.

이하, 상기한 구성의 유기 전계 발광 표시장치를 제조하는 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the organic light emitting display device having the above configuration will be described.

먼저, 기판(30)에 하부 구조물을 형성한다. 상기 하부 구조물은 소자의 구동 방식 및 발광 방식에 따라 여러 가지 형태로 표시될 수 있지만, 본 발명의 실시예에서는 전면 발광 방식의 능동형 유기 전계 발광 표시장치를 예로 들어 설명하고 있으므로, 본 실시예에서의 하부 구조물은 평탄화막(10f) 및 이 막(10f)의 하층에 제공된 구성 요소들, 예컨대 박막 트랜지스터(10)를 포함한다.First, a lower structure is formed on the substrate 30. Although the lower structure may be displayed in various forms according to the driving method and the light emitting method of the device, since the active light emitting display of the top emission type is described as an example in the embodiment of the present invention, The lower structure includes a planarization film 10f and components provided under the film 10f, such as the thin film transistor 10.

하부 구조물을 형성한 후에는 증착 챔버의 내부에서 전극 형성 물질(인듐-틴-옥사이드)을 이용하여 평탄화막(10f) 상에 제1 화소 전극(22)을 형성하고, 화소 정의막(28)을 형성하기 위한 화소 정의막 형성 물질(28')을 전면 코팅한다.After the lower structure is formed, the first pixel electrode 22 is formed on the planarization film 10f by using an electrode forming material (indium-tin-oxide) in the deposition chamber, and the pixel defining layer 28 is formed. The entire pixel defining layer forming material 28 ′ is formed to be coated.

이어서, 도 4에 도시한 바와 같이 하프톤 마스크(half tone mask)(40)를 기판(30)의 상측에 배치한다.Subsequently, as shown in FIG. 4, a half tone mask 40 is disposed above the substrate 30.

여기에서, 상기 하프톤 마스크는 광원(미도시함)의 빛을 차단하는 차단 영역과, 상기 빛을 투과시키는 투과 영역을 구비할 수 있다.The halftone mask may include a blocking region that blocks light of a light source (not shown) and a transmission region that transmits the light.

하프톤 마스크(40)를 기판(30)의 상측에 배치한 후에는 광원(미도시함)에서 발생된 빛을 이용하여 부분 노광 및 현상 공정을 실시한다.After the halftone mask 40 is disposed above the substrate 30, partial exposure and development processes are performed using light generated from a light source (not shown).

도 5는 부분 노광 및 현상 공정을 실시한 후의 상태를 도시한 것으로, 상기 부분 노광 및 현상 공정 후에는 상기 화소 정의막 형성 물질(28')이 일부 두께만큼 잔류되며, 2단부(28b)를 구비하는 화소 정의막(28)이 일차적으로 형성된다.FIG. 5 illustrates a state after performing the partial exposure and development process, wherein the pixel defining layer forming material 28 ′ remains a part of thickness after the partial exposure and development process, and includes two end portions 28b. The pixel defining layer 28 is formed first.

이후, 건식 식각 공정을 실시하여 화소 정의막 형성 물질(28')이 잔류하고 있는 부분을 선택적으로 제거하면, 도 6에 도시한 바와 같이 1단부(28a) 및 2단부(28b)로 이루어진 화소 정의막(28)을 형성할 수 있다.Subsequently, a dry etching process is performed to selectively remove a portion of the pixel defining layer forming material 28 ′ remaining therein. As illustrated in FIG. 6, the pixel definition including the first and second ends 28a and 28b is illustrated. The film 28 can be formed.

그리고, 화소 정의막(28)을 형성한 후에는 유기막(24) 및 제2 화소 전극(26)을 순차적으로 적층한다.After the pixel defining layer 28 is formed, the organic layer 24 and the second pixel electrode 26 are sequentially stacked.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장 치의 제조 방법은 하프톤 마스크를 이용한 부분 노광 공정과 건식 식각 공정에 의해 스페이서부(2단부)를 갖는 화소 정의막을 형성할 수 있으므로, 마스크 수를 절감할 수 있어 제조 원가를 줄일 수 있다.As described above, in the method of manufacturing the organic light emitting display device according to the exemplary embodiment of the present invention, the pixel defining layer having the spacer part (two ends) may be formed by a partial exposure process using a halftone mask and a dry etching process. In addition, the number of masks can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

Claims (6)

기판 상에 형성되는 하부 구조물;A lower structure formed on the substrate; 상기 하부 구조물 상에 형성되는 제1 화소 전극;A first pixel electrode formed on the lower structure; 상기 제1 화소 전극의 화소 영역을 노출시키도록 상기 하부 구조물 상에 형성되는 1단부와, 1단부에 비해 작은 폭으로 상기 1단부 상에 형성되는 2단부를 구비하는 화소 정의막;A pixel defining layer having a first end formed on the lower structure to expose the pixel region of the first pixel electrode and a second end formed on the first end with a smaller width than the first end; 상기 제1 화소 전극의 화소 영역에 형성되는 유기막; 및An organic layer formed in the pixel region of the first pixel electrode; And 상기 유기막 상에 형성되는 제2 화소 전극A second pixel electrode formed on the organic layer 을 포함하며,Including; 상기 화소 정의막의 상기 1단부 및 2단부는 하프톤 마스크를 이용한 부분 노광 및 현상 공정과, 건식 식각 공정에 의해 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And the first and second ends of the pixel defining layer are formed by a partial exposure and development process using a halftone mask and a dry etching process. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하부 구조물은 구동 회로부 및 이 회로부를 덮는 평탄화막을 포함하는 유기 전계 발광 표시장치.And the lower structure includes a driving circuit portion and a planarization layer covering the circuit portion. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기한 제1 화소 전극 및 화소 정의막이 상기 평탄화막 상에 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.The first pixel electrode and the pixel defining layer are formed on the planarization layer. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 제1 화소 전극이 애노드 전극으로 사용되고, 제2 화소 전극이 캐소드 전극으로 사용되는 유기 전계 발광 표시장치.The first pixel electrode is used as an anode electrode, and the second pixel electrode is used as a cathode electrode. 기판 상에 하부 구조물을 형성하는 단계;Forming a substructure on the substrate; 제1 화소 전극을 형성하는 단계;Forming a first pixel electrode; 상기 하부 구조물 상에 형성되는 1단부 및 상기 1단부에 비해 작은 폭으로 상기 1단부 상에 형성되는 2단부로 이루어지며, 상기 제1 화소 전극의 화소 영역을 노출시키는 화소 정의막을 형성하는 단계;Forming a pixel defining layer having a first end formed on the lower structure and a second end formed on the first end with a smaller width than the first end, and exposing a pixel region of the first pixel electrode; 유기막을 형성하는 단계; 및Forming an organic film; And 제2 화소 전극을 형성하는 단계Forming a second pixel electrode 를 포함하며,Including; 상기 화소 정의막을 형성하는 단계는,Forming the pixel defining layer may include 화소 정의막 형성 물질을 코팅하는 단계;Coating a pixel defining layer forming material; 하프톤 마스크를 상기 기판 상에 배치하는 단계;Disposing a halftone mask on the substrate; 상기 하프톤 마스크를 이용한 부분 노광 및 현상 공정을 실시하는 단계; 및Performing a partial exposure and development process using the halftone mask; And 건식 식각 공정을 실시하는 단계Steps to perform a dry etching process 를 포함하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing an organic electroluminescent display comprising a. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기판 상에 하부 구조물을 형성하는 단계는,Forming a lower structure on the substrate, 상기 기판 상에 버퍼막을 형성하는 단계;Forming a buffer film on the substrate; 상기 버퍼막 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 및Forming a thin film transistor on the buffer film; And 상기 박막 트랜지스터를 덮는 평탄화막을 형성하는 단계Forming a planarization film covering the thin film transistor 를 포함하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing an organic electroluminescent display comprising a.
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