KR100747050B1 - 3-dimensional measuring device - Google Patents

3-dimensional measuring device Download PDF

Info

Publication number
KR100747050B1
KR100747050B1 KR1020040075029A KR20040075029A KR100747050B1 KR 100747050 B1 KR100747050 B1 KR 100747050B1 KR 1020040075029 A KR1020040075029 A KR 1020040075029A KR 20040075029 A KR20040075029 A KR 20040075029A KR 100747050 B1 KR100747050 B1 KR 100747050B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
height
light
substrate
wavelength
film
Prior art date
Application number
KR1020040075029A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20050043611A (en
Inventor
우메무라노부유키
자이마나오히로
야마자키코헤이
Original Assignee
시케이디 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시케이디 가부시키가이샤 filed Critical 시케이디 가부시키가이샤
Publication of KR20050043611A publication Critical patent/KR20050043611A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100747050B1 publication Critical patent/KR100747050B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/024Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of diode-array scanning
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/97Determining parameters from multiple pictures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

대상물의 3차원 형상을 계측할 때에, 상기 대상물 내에 높이 기준을 적정하게 설정하는 것 등에 의해, 보다 정확하게 계측할 수 있는 3차원 계측 장치를 제공한다.When measuring the three-dimensional shape of an object, the three-dimensional measuring apparatus which can measure more accurately by setting a height reference suitably in the said object is provided.

크림 솔더가 인쇄 형성된 프린트 기판(1)에 대해, 조명 장치(10)에 의해 복수의 광 패턴이 조사된다. 조명 장치(10)로부터 조사되는 광은 자외선이고, 프린트 기판(1)의 크림 솔더, 레지스트막 등의 표면에서 반사된다. 이 반사광의 자외선이 CCD 카메라(11)에 의해 촬상되는 것으로 화상 데이터가 얻어진다. 이 화상 데이터는 제어장치(12)에 의해 처리되고, 레지스트막의 표면을 높이 기준으로 하여 크림 솔더의 높이, 양 등을 산출하여, 크림 솔더의 인쇄 상태의 양부가 판정된다.The plurality of light patterns are irradiated to the printed circuit board 1 having the cream solder printed thereon by the illumination device 10. Light irradiated from the illuminating device 10 is an ultraviolet ray and is reflected on the surface of a cream solder, a resist film, etc. of the printed circuit board 1. The ultraviolet light of the reflected light is imaged by the CCD camera 11, thereby obtaining image data. This image data is processed by the control apparatus 12, and the height, quantity, etc. of the cream solder are calculated based on the height of the surface of the resist film, and the quality of the printing of the cream solder is determined.

Description

3차원 계측 장치{3-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE}3-D Measuring Device {3-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE}

도 1은 인쇄 상태 검사 장치의 구성을 모식적으로 도시하는 개략구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows typically the structure of a printing state inspection apparatus.

도 2는 프린트 기판의 부분단면도.2 is a partial cross-sectional view of a printed board.

도 3은 보다 상세한 인쇄 상태 검사 장치의 구성을 모식적으로 도시하는 개략구성도.3 is a schematic configuration diagram schematically showing the configuration of a printing state inspection apparatus in more detail.

도 4는 프린트 기판에 있어서의 조명 장치로부터 조사되는 광의 반사를 설명하기 위한 모식도.4 is a schematic diagram for explaining reflection of light irradiated from an illuminating device on a printed board.

도 5는 다른 실시의 형태로서, 적외선이나 적색광을 조사한 경우의 조사광의 반사를 설명하기 위한 모식도.FIG. 5 is a schematic diagram for explaining reflection of irradiated light when irradiating infrared rays or red light as another embodiment; FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 : 기판으로서의 프린트 기판1: Printed board as a board

2 : 베이스 기판2: base substrate

4 : 피계측물로서의 크림 솔더4: cream solder as a measurement object

5 : 피막으로서의 레지스트막5: resist film as film

8 : 3차원 계측 장치를 구비한 인쇄 상태 검사 장치8: Printing state inspection device equipped with three-dimensional measuring device

10 : 조명 수단으로서의 조명 장치10: lighting device as a lighting means

11 : 촬상 수단으로서의 CCD 카메라11: CCD camera as imaging means

12 : 연산 수단을 구성하는 제어장치12: control device constituting the calculation means

본 발명은 측정 대상물의 3차원 형상 등을 계측하는 3차원 계측 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a three-dimensional measuring device for measuring a three-dimensional shape or the like of a measurement object.

일반적으로, 프린트 기판은 유리 에폭시 수지로 이루어지는 베이스 기판 위에 전극 패턴을 구비하고, 표면이 레지스트막에 의해 보호되어 있다. 상기 프린트 기판 위에 전자 부품을 실장(實裝)하는 경우, 우선 전극 패턴 위의 레지스트막에 의한 보호가 되어 있지 않은 소정 위치에 크림 솔더(cream-solder)가 인쇄된다. 다음에, 이 크림 솔더의 점성에 의거하여 프린트 기판 위에 전자 부품이 가(假)고정된다. 그 후, 상기 프린트 기판이 리플로우 로(爐)에 유도되고, 소정의 리플로우 공정을 거치는 것으로 솔더링(soldering)이 행해진다. 요즈음은, 리플로우 로에 유도되는 전 단계에 있어서 크림 솔더의 인쇄 상태를 검사할 필요가 있으며, 이러한 검사 시에 3차원 계측 장치가 이용되는 일이 있다.Generally, a printed circuit board is provided with the electrode pattern on the base substrate which consists of glass epoxy resin, and the surface is protected by the resist film. When the electronic component is mounted on the printed board, first, a cream solder is printed at a predetermined position that is not protected by the resist film on the electrode pattern. Next, the electronic component is temporarily fixed on the printed circuit board based on the viscosity of the cream solder. Thereafter, the printed board is guided to a reflow furnace, and soldering is performed by passing through a predetermined reflow process. These days, it is necessary to inspect the printing state of the cream solder in all stages guided to the reflow furnace, and a three-dimensional measuring apparatus may be used at such an inspection.

근래, 광을 이용한 이른바 비접촉식의 3차원 계측 장치가 여러가지로 제안되어 있다. 예를 들면, 위상 시프트법을 이용한 3차원 계측 장치에 있어서는, 조사(照射) 수단에 의해 가시광을 광원으로 한 줄무늬 형상의 분포를 가지는 광 패턴을 피(被)측정물(이 경우, 프린트 기판)에 조사한다. 그리고, CCD 카메라에 의해 피측정물을 촬상하고, 얻은 화상으로부터 상기 광 패턴의 줄무늬의 위상차(差)를 해석 하는 것으로, 크림 솔더의 3차원 형상, 특히 높이가 계측된다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).In recent years, various so-called non-contact three-dimensional measuring devices using light have been proposed in various ways. For example, in the three-dimensional measuring apparatus using the phase shift method, a measurement object (in this case, a printed circuit board) having a light pattern having a stripe-shaped distribution using visible light as a light source by means of irradiation. Investigate. And the three-dimensional shape, especially height of a cream solder is measured by analyzing the phase difference of the stripe of the said optical pattern from the image which imaged the to-be-measured object by a CCD camera (for example, a patent document) 1).

특허문헌 1 : 일본 특개평 5-280945호 공보 Patent Document 1 : Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-280945

그런데, 프린트 기판의 레지스트막은 가시광(可視光)에 대한 투과 특성이 불안정하다. 즉, 레지스트막은 조사 수단에 의해 조사되는 가시광을 투과시키거나 투과시키지 않거나 하는 경우가 있다. 가시광은, 레지스트막을 투과하는 경우에는 베이스 기판 등에서 반사되고, 레지스트막을 투과하지 않는 경우에는 레지스트막의 표면에서 반사되게 된다. 이와 같은 경우, CCD 카메라에 의해 얻어지는 화상에 있어서의 레지스트막 영역에서는, 반사면이 레지스트막인지 베이스 기판인지의 판별을 하기 어렵고, 레지스트막 영역의 높이의 계측이 곤란하게 될 우려가 있다. 본래라면 기판 위에 인쇄된 크램 솔더의 높이를 보다 고(高) 정밀도로 계측하기 위해서는, 그 기판 내에 높이 기준을 채택하는 것이 바람직하다. 그러나, 레지스트막 영역을 높이 기준면으로서 적정하게 이용할 수 없기 때문에, 그 기판 내에 높이 기준을 채택할 수가 없다는 바람직하지 못한 일을 일으킬 우려가 있다.By the way, the resist film of a printed board is unstable in the transmission characteristic with respect to visible light. That is, the resist film may or may not transmit visible light irradiated by the irradiation means. Visible light is reflected by the base substrate or the like when it is transmitted through the resist film, and is reflected by the surface of the resist film when it is not transmitted by the resist film. In such a case, it is difficult to determine whether the reflecting surface is a resist film or a base substrate in the resist film area in the image obtained by the CCD camera, and there is a fear that measurement of the height of the resist film area becomes difficult. In order to measure the height of the cram solder printed on the board | substrate with a high precision, it is preferable to adopt a height reference | standard within the board | substrate. However, since the resist film region cannot be appropriately used as the height reference plane, there is a fear that it is undesirable that the height reference cannot be adopted in the substrate.

거기서, 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그 목적은, 대상물의 3차원 형상을 계측할 때에, 상기 대상물 내에 높이 기준을 적정하게 설정하는 것 등에 의해, 보다 정확하게 계측할 수 있는 3차원 계측 장치를 제공하는 것에 있다.Then, this invention was made | formed in order to solve the said problem, The objective is the three-dimensional which can be measured more correctly by setting a height reference in the said object suitably, etc. when measuring the three-dimensional shape of an object. It is providing a measuring device.

이하, 상기 목적 등을 해결하는데 적합한 각 수단에 대해 항목을 분류하여 설명한다. 또, 필요에 따라 대응하는 수단에 특유의 작용 효과 등을 부기한다.In the following, items are classified and described for each of the means suitable for solving the above-mentioned purpose and the like. Moreover, a specific effect and the like are added to the corresponding means as necessary.

수단 1Sudan 1

기판 위의 피계측물에 대해, 청색광 및 자외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 피계측물로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하여, 적어도 상기 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating at least one of blue light and ultraviolet rays to the measurement object on the substrate; imaging means capable of imaging at least the wavelength irradiated by the irradiation means among reflected light from the measurement object irradiated with the light; And calculating means for calculating at least the height of the measurement object based on image data picked up by the imaging means.

수단 1에 의하면, 조사 수단에 의해 청색광이나 자외선이 기판 위의 피계측물에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 짧은 광은, 물체의 표면에서 반사되기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 상기 조사광보다도 파장이 긴 가시광에 대해, 투과 특성이 불안정하고, 투과하거나 투과하지 않거나 하는 것도 존재한다. 이러한 점에서 수단 1에서는, 피계측물의 투과 특성이 불안정하더라도, 보다 확실히 피계측물의 표면에서 반사를 시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 피계측물의 표면을 화상으로서 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해, 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 피계측물의 표면의 위치인 높이를 보다 정확하게 산출할 수 있다. 또, 각 수단에 있어서의 기판이란 프린트 기판, 웨이퍼 기판, 실장 기판 등을 포함하는 취지이다.According to the means 1, blue light or ultraviolet rays are irradiated to the measurement object on the substrate by the irradiation means. Such relatively short wavelength light has a property which is easy to reflect on the surface of an object. For visible light having a wavelength longer than that of the irradiated light, the transmission characteristic is unstable, and there is a case where the transmission characteristic is not transmitted or transmitted. In this sense, in means 1, even if the transmission characteristic of the measurement object is unstable, it is possible to more reliably reflect the surface of the measurement object. For this reason, the imaging means can grasp | ascertain the surface of a to-be-measured object as an image. And calculation is performed based on image data by arithmetic means, and the height which is a position of the surface of a to-be-measured object can be calculated more accurately. In addition, the board | substrate in each means is a meaning containing a printed board, a wafer board | substrate, a mounting board | substrate, etc ..

수단 2Sudan 2

베이스 기판과 이 베이스 기판의 표면을 피복하고, 평면을 이루는 피막과 피 계측물을 구비한 기판에 대해, 청색광 및 자외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 피막에 의해 형성된 평면을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiation means capable of irradiating at least one of blue light and ultraviolet rays to the substrate provided with the base substrate and the surface of the base substrate and having a planar film and a measurement object, and reflected light from the substrate irradiated with the light Among the calculations, at least the height of the measured object is calculated based on the height of the plane formed by the film based on the imaging means capable of imaging the wavelength irradiated by the irradiation means and the image data captured by the imaging means. A three-dimensional measuring device comprising a means.

수단 2에 의하면, 조사 수단에 의해 청색광이나 자외선이 기판에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 짧은 광은, 물체의 표면에서 반사하기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 예를 들면, 조사 수단에 의해 상기 광보다 파장이 긴 가시광을 조사하면, 기판을 피복하는 피막이, 조사된 가시광을 투과하거나 투과하지 않거나 하는 불안정한 투과 특성을 나타내는 경우가 있다. 이 경우, 광의 반사 위치를 판별하기 어렵고, 피막 영역에 높이 기준을 설정할 수 없게 될 우려가 있다. 이러한 점에서 수단 2에서는, 상기 투과 특성이 불안정한 피막일지라도, 보다 확실히 표면 반사를 시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 피막의 표면 및 피계측물의 표면을 화상으로서 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 피막의 표면을 높이 기준으로 하여 피계측물의 표면의 위치인 높이를 산출할 수 있다. 따라서, 높이 기준을 피계측물이 설치된 기판 내에 적정하게 설정할 수 있기 때문에, 보다 정확하게 피계측물의 높이를 측정할 수가 있다. 또한, 피계측물의 측정과 동시에 피막도 측정할 수 있다. 이 때문에, 별도의 수단에 의해, 피막의 높이나 별도의 높이 기준을 측정할 필요가 없고, 장치의 복잡화의 억제를 도모할 수가 있다.According to the means 2, blue light or ultraviolet rays are irradiated to the substrate by the irradiation means. Such relatively short wavelength light has the property of being easy to reflect on the surface of an object. For example, when the irradiation means irradiates visible light having a wavelength longer than the above light, the coating film covering the substrate may exhibit unstable transmission characteristics such as to transmit or not to irradiate visible light. In this case, it is difficult to determine the reflection position of the light, and there is a fear that the height reference cannot be set in the coating area. In this respect, in the means 2, even if the film has an unstable transmissive property, surface reflection can be more reliably performed. For this reason, the imaging surface can grasp | ascertain the surface of a film and the surface of a to-be-measured object as an image. And calculation is performed based on image data by a calculation means, and the height which is a position of the surface of a to-be-measured object can be computed based on the height of the surface of a film. Therefore, since the height reference can be appropriately set in the substrate on which the measurement object is installed, the height of the measurement object can be measured more accurately. In addition, the film can be measured simultaneously with the measurement of the measurement object. For this reason, it is not necessary to measure the height of a film | membrane and another height reference | standard by another means, and the complexity of an apparatus can be suppressed.

수단 3Sudan 3

베이스 기판과, 그 베이스 기판의 표면을 피복하고 평면을 이루는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 자외선만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 자외선만을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 피막에 의해 형성된 평면을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating only ultraviolet rays to the base substrate, the substrate covering the surface of the base substrate and forming a plane, and the measurement object can image only ultraviolet rays among the irradiation means capable of irradiating only the ultraviolet rays and the reflected light from the substrate irradiated with the light And an arithmetic means for calculating at least the height of the object to be measured based on the height of the plane formed by the film on the basis of the image capturing means and the image data picked up by the image capturing means.

수단 3에 의하면, 조사 수단에 의해 자외선이 기판에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 짧은 광은, 물체의 표면에서 반사되기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 예를 들면, 조사 수단에 의해 상기 자외선보다도 파장이 긴 가시광을 조사하면, 기판을 피복하는 피막이, 조사된 가시광을 투과하거나 투과하지 않거나 하는, 불안정한 투과 특성을 나타내는 경우가 있다 . 이 경우, 광의 반사 위치를 판별하기 어렵고, 피막 영역에 높이 기준을 설정할 수 없게 될 우려가 있다. 이러한 점에서 수단 3에서는, 상기 투과 특성이 불안정한 피막일지라도, 보다 확실히 표면 반사를 시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 피막의 표면 및 피계측물의 표면을 화상으로서 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해 상기 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 피막의 표면을 높이 기준으로 하여 피계측물의 표면의 위치인 높이를 산출할 수 있다. 따라서, 높이 기준을 피계측물이 설치된 기판 내에 설정할 수 있기 때문에, 보다 정확하게 피계측물의 높이를 측정할 수가 있다. 또한, 피계측물의 측정과 동시에 피막도 측정할 수 있다. 이 때문에, 별도의 수단에 의해 피막의 높이나 별도의 높이 기준을 측정할 필요가 없고, 장치의 복잡화의 억제를 도모할 수가 있다. 더욱이, 촬상 수단이 자외선만을 촬상할 수 있기 때문에, 옥내 조명 장치 등의 조명 장치 이외로부터의 가시광이 기판에 닿을 경우에도, 그 가시광에 영향받는 일 없이, 적절한 화상 데이터를 얻을 수 있다. 이에 더하여, 가시광을 조사했을 경우에는 피막의 색에 의해 반사되는 광량이 적어지고, 촬상하여 얻은 화상 데이터를 이용할 수 없거나, 상기 피막의 색에 따라 가시광의 파장을 변경시킬 필요가 있거나 하는 바람직하지 못한 일이 생길 염려가 있다. 이러한 점에서 수단 3에서는, 피막의 색에 관계없이 표면 반사를 시키는 것이 가능하기 때문에 상기 염려를 불식시킬 수 있다. 또, 「자외선만을 조사 가능한 조사 수단」 대신에, 「자외선을 포함하는 광을 조사 가능한 조사 수단」으로 해도 좋다. 이 경우에도, 조사되는 광 중 자외선이 피막의 표면에서 반사되고, 촬상 수단에 의해 자외선만이 촬상된다. 이 때문에, 피막의 표면을 화상으로서 파악할 수가 있다.According to the means 3, ultraviolet rays are irradiated to the substrate by the irradiation means. Such relatively short wavelength light has a property which is easy to reflect on the surface of an object. For example, when the irradiation means irradiates visible light having a wavelength longer than that of the ultraviolet light, the coating film covering the substrate may exhibit unstable transmission characteristics such as to transmit or not to irradiate visible light. In this case, it is difficult to determine the reflection position of the light, and there is a fear that the height reference cannot be set in the coating area. In this respect, in means 3, even if the film is unstable in the transmissive property, surface reflection can be more reliably performed. For this reason, the imaging surface can grasp | ascertain the surface of a film and the surface of a to-be-measured object as an image. And calculation is performed based on the said image data by a calculating means, and the height which is a position of the surface of a to-be-measured object can be calculated based on the height of the surface of a film. Therefore, since a height reference can be set in the board | substrate with which the to-be-measured object was installed, the height of a to-be-measured object can be measured more correctly. Moreover, a film can also be measured simultaneously with the measurement of a to-be-measured object. For this reason, it is not necessary to measure the height of a film | membrane or another height reference | standard by separate means, and the complexity of an apparatus can be suppressed. Moreover, since the imaging means can image only ultraviolet rays, even when visible light from a lighting device such as an indoor lighting device touches the substrate, appropriate image data can be obtained without being affected by the visible light. In addition, when the visible light is irradiated, the amount of light reflected by the color of the film decreases, and image data obtained by imaging is not available, or the wavelength of the visible light needs to be changed according to the color of the film. There is a risk that something will happen. In this regard, in the means 3, since the surface reflection can be performed irrespective of the color of the film, the concern can be eliminated. In addition, it is good also as "irradiation means which can irradiate the light containing an ultraviolet ray" instead of "irradiation means which can irradiate only an ultraviolet ray." Also in this case, ultraviolet rays of the irradiated light are reflected on the surface of the film, and only the ultraviolet rays are picked up by the imaging means. For this reason, the surface of a film can be grasped | ascertained as an image.

수단 4Sudan 4

상기 기판은 프린트 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 레지스트막의 표면을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 크림 솔더의 높이를 연산하는 것이며, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여 그 인쇄 상태의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 수단 2 또는 수단 3에 기재된 3차원 계측 장치.The substrate is a printed board, and the calculating means calculates at least the height of the cream solder as the measurement object based on the height of the surface of the resist film as the coating, and based on the height of the cream solder in the printing state. A three-dimensional measuring device according to the means 2 or 3, wherein judging means for judging quality is provided.

수단 4에 의하면, 프린트 기판의 레지스트막의 표면을 기준으로 하여 크림 솔더의 높이가 연산되고, 그 연산된 높이에 의거하여 양부 판정이 행해진다. 이 때 문에, 크림 솔더를 계측할 때에 상기 효과가 달성되고, 게다가 보다 정확하게 양부 판정을 행할 수가 있다.According to the means 4, the height of the cream solder is calculated on the basis of the surface of the resist film of the printed circuit board, and the acceptance determination is performed based on the calculated height. For this reason, the above-mentioned effect is achieved when measuring the cream solder, and moreover, it is possible to make the quality determination more accurately.

수단 5Sudan 5

상기 기판은 웨이퍼 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 산화막의 표면을 높이 기준으로 하여 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 수단 2 또는 수단 3에 기재된 3차원 계측 장치.The substrate is a wafer substrate, and the calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the height of the surface of the oxide film as the coating, and based on the height of the solder bumps, A three-dimensional measuring apparatus according to the means 2 or 3, wherein a judging means for judging is provided.

수단 5에 의하면, 웨이퍼 기판의 산화막의 표면을 기준으로 하여, 솔더 범프의 높이가 연산되고, 그 연산된 높이에 의거하여 양부 판정이 행해진다. 이 때문에, 솔더 범프를 계측할 때에 상기 효과가 달성되고, 게다가 보다 정확하게 양부 판정을 행할 수가 있다.According to the means 5, the height of the solder bumps is calculated on the basis of the surface of the oxide film of the wafer substrate, and acceptance determination is performed based on the calculated height. For this reason, the said effect is achieved at the time of measuring a solder bump, and also it can carry out a judgment more correctly.

수단 6Sudan 6

상기 연산 수단은 1회의 높이 연산에 복수의 화상 데이터를 이용하는 것이며, 상기 조사 수단은 상기 복수의 화상 데이터를 얻기 위한 촬상 때마다, 동일 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 1 내지 수단 5의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.The calculating means uses a plurality of image data in one height calculation, and the irradiation means irradiates light of the same wavelength every time the imaging for obtaining the plurality of image data is performed. The three-dimensional measuring apparatus in any one of them.

수단 6에 의하면, 조사 수단에 의해 조사되는 광은 촬상 때마다 광의 파장이 변경되는 일 없이, 동일한 파장의 광이 이용된다. 이 때문에, 상기 촬상 수단이 렌즈를 가지는 경우일지라도, 광의 굴절이 변하지 않는다. 따라서, 조명의 파장에 의해 얻어지는 화상에 어긋남이 생기는 바와 같은 바람직하지 못한 점을 억제할 수 있다. 그 결과, 피계측물의 높이의 산출 정밀도를 향상시킬 수가 있다.According to the means 6, the light irradiated by the irradiating means uses light having the same wavelength without changing the wavelength of the light each time the image is taken. For this reason, even if the imaging means has a lens, the refraction of light does not change. Therefore, it is possible to suppress undesirable points such as deviations in the image obtained by the wavelength of illumination. As a result, the calculation accuracy of the height of the measured object can be improved.

수단 7Sudan 7

상기 조사 수단은 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 1 내지 수단 6의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates light of the wavelength of 250 nm or more and 430 nm or less, The three-dimensional measuring apparatus in any one of means 1 to 6 characterized by the above-mentioned.

수단 7에 의하면, 조사 수단에 의해 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장의 광이 조사된다. 이 때문에, 투과 특성이 불안정한 것에 대해서도, 보다 확실하게 표면 반사를 시킬 수가 있다. 따라서, 촬상 수단에 의해 상기 피막이나 상기 피계측물 등의 표면을 화상으로서 확실히 파악할 수가 있다. 또, 「250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하」 대신에, 「300㎚ 이상이고 또한 380㎚ 이하」 또는 「300㎚ 이상이고 또한 350㎚ 이하」로 해도 좋다. 이 경우, 투과 특성이 불안정한 것에 대해서도 보다 가일층 확실하게 표면 반사시킬 수가 있다. 더욱이, 「250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장의 광」 대신에, 「250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」, 「300㎚ 이상이고 또한 380㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」 또는 「300㎚ 이상이고 또한 350㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」으로 해도 마찬가지의 작용 효과가 얻어진다.According to the means 7, light having a wavelength of 250 nm or more and 430 nm or less is irradiated by the irradiation means. For this reason, surface reflection can be made more reliably also about the instability of a transmission characteristic. Therefore, the surface of the film | membrane, the said measured object, etc. can be grasped | ascertained as an image by an imaging means. Instead of "250 nm or more and 430 nm or less", "300 nm or more and 380 nm or less" or "300 nm or more and 350 nm or less" may be used. In this case, even if the transmission characteristic is unstable, the surface can be reflected more reliably. Furthermore, instead of "light having a wavelength of 250 nm or more and 430 nm or less", "light having a peak of a wavelength within a range of 250 nm or more and 430 nm or less", "300 nm or more and a range of 380 nm or less A similar effect can be obtained even when the light having a peak of a wavelength in the light "or" the light having a peak of a wavelength in the range of 300 nm or more and 350 nm or less "is obtained.

수단 8Sudan 8

상기 조사 수단은 60㎚ 이내의 파장역의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 1 내지 수단 7의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of the wavelength range within 60 nm, The three-dimensional measuring apparatus in any one of means 1 thru | or 7 characterized by the above-mentioned.

수단 8에 의하면, 조사 수단에 의해 조사시키는 광의 파장역은 60㎚ 이내로 비교적 좁게 설정되어 있다. 일반적으로, 렌즈를 투과할 때의 광의 굴절은 파장에 따라 다르고, 파장역이 넓은 경우에는 색수차(色收差)를 일으킬 우려가 있다. 이러한 점에서, 수단 8에서는 조명 장치나 촬상 수단이 렌즈를 가지는 경우에서도, 파장역이 좁고, 조사나 촬상 시에 생기는 색수차를 억제할 수 있다. 즉, 조사되는 광이 번지거나 촬상된 화상 데이터가 흐려지거나 하는 일 없이, 샤프한 화상 데이터가 얻어진다. 따라서, 그 화상 데이터에 의거한 피계측물의 높이의 산출 정밀도의 향상을 도모할 수가 있다. 또, 「60㎚ 이내」 대신에 「30㎚ 이내」로 해도 좋다. 이 경우, 색수차를 더욱 억제할 수가 있고, 그 결과, 화상 데이터에 의거한 피계측물의 높이의 산출 정밀도의 더한층의 향상을 도모할 수가 있다.According to the means 8, the wavelength range of light irradiated by the irradiating means is relatively narrowly set within 60 nm. In general, the refraction of light at the time of passing through the lens depends on the wavelength, and when the wavelength range is wide, there is a fear of causing chromatic aberration. In view of this, even in the case where the lighting device or the imaging means has a lens, the wavelength range is narrow, and chromatic aberration generated during irradiation or imaging can be suppressed. In other words, sharp image data can be obtained without blurring of irradiated light or blurring of the captured image data. Therefore, the calculation accuracy of the height of the measured object based on the image data can be improved. In addition, it is good also as "30 nm or less" instead of "60 nm or less." In this case, chromatic aberration can be further suppressed, and as a result, further improvement of the calculation precision of the height of the measured object based on image data can be aimed at.

수단 9Sudan 9

기판 위의 피계측물에 대해, 적색광 및 적외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 피계측물로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하여, 적어도 상기 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating at least one of red light and infrared ray to the measurement object on the substrate; imaging means capable of imaging at least the wavelength irradiated by the irradiation means among reflected light from the measurement object irradiated with the light; And calculating means for calculating at least the height of the measurement object based on image data picked up by the imaging means.

수단 9에 의하면, 조사 수단에 의해 적색광이나 적외선이 기판 위의 피계측물에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 긴 광은 물체를 투과하기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 상기 조사광보다 파장이 짧은 가시광에 대해, 투과 특성이 불안정하고 투과시키거나 투과시키지 않기도 하는 것도 존재한다. 예를 들면, 피계측물의 투과 특성이 안정되어 있고, 가시광을 표면 반사 가능한 경우일지라도, 기판 위의 피계측물 이외의 것의 투과 특성이 불안정한 경우가 있다. 이러한 점에서, 수단 9 에서는, 조사광이 적색광이나 적외선이기 때문에, 상기 투과 특성이 불안정한 것에 대해, 조사광을 투과시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 확실히 표면 반사 가능한 것(피계측물 등)의 표면만을 보다 확실히 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해, 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 피계측물의 표면의 위치인 높이를 보다 정확하게 산출할 수 있다. 또, 각 수단에 있어서의 기판이란 프린트 기판, 웨이퍼 기판, 실장 기판 등을 포함하는 취지이다.According to the means 9, red light or infrared rays are irradiated to the measurement object on the substrate by the irradiation means. Light having such a relatively long wavelength has a property of easily transmitting an object. For visible light having a wavelength shorter than that of the irradiated light, there is also a case where the transmission characteristic is unstable and not transmitted or transmitted. For example, even when the transmission property of the measurement object is stable and the visible light can be surface-reflected, the transmission property of other than the measurement object on the substrate may be unstable. In this regard, in the means 9, since the irradiation light is red light or infrared light, the irradiation light can be transmitted while the transmission characteristic is unstable. For this reason, only the surface of the thing (surface to be measured) etc. which can be surely reflected by the imaging means can be grasped | ascertained more reliably. And calculation is performed based on image data by arithmetic means, and the height which is a position of the surface of a to-be-measured object can be calculated more accurately. In addition, the board | substrate in each means is a meaning containing a printed board, a wafer board | substrate, a mounting board | substrate, etc ..

수단 1OSudan 1O

베이스 기판과, 이 베이스 기판 위에 형성된 전극 패턴과, 상기 베이스 기판 및 전극 패턴의 표면을 피복하는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 적색광 및 적외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하여, 상기 전극 패턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating only at least one of red light and infrared rays to a substrate having a base substrate, an electrode pattern formed on the base substrate, a film covering the surfaces of the base substrate and the electrode pattern, and a measurement object; Based on the imaging means which can image the wavelength irradiated by the said irradiation means at least among the reflected light from the said light irradiation substrate, and the image data image | photographed by the said imaging means, based on the said electrode pattern or a base substrate, And a calculating means for calculating at least the height of the object to be measured.

수단 10에 의하면, 조사 수단에 의해 적색광이나 적외선이 기판에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 긴 광은 물체를 투과하기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 예를 들면, 조사 수단에 의해 상기 광보다 파장이 짧은 가시광을 조사하면, 기판을 피복하는 피막이, 조사된 가시광을 투과시키거나 투과시키지 않거나 하는, 불안정한 투과 특성을 나타내는 경우가 있다. 이 경우, 광의 반사 위치를 판별하기 어렵고, 피막 영역에 높이 기준을 설정할 수 없게 될 우려가 있다. 이러한 점에서 수단 10에서는 조사광이 적색광이나 적외선이기 때문에, 상기 투과 특성이 불안정한 피막에 대해서, 조사광을 보다 확실히 투과시키고, 피막 아래에 있는 전극 패턴이나 베이스 기판에서 반사시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 피계측물 뿐만이 아니라 전극 패턴이나 베이스 기판을 화상으로서 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 전극 패턴이나 베이스 기판을 높이 기준으로 해서 피계측물의 표면의 위치인 높이를 산출할 수 있다. 따라서, 높이 기준을 피계측물이 설치된 기판 내에 적정하게 설정할 수 있기 때문에, 보다 정확하게 피계측물의 높이를 측정할 수가 있다.According to the means 10, red light or infrared rays are irradiated to the substrate by the irradiation means. Light having such a relatively long wavelength has a property of easily transmitting an object. For example, when the visible means irradiates visible light having a shorter wavelength than the above-mentioned light, the film covering the substrate may exhibit unstable transmissive characteristics such as not transmitting or not transmitting the irradiated visible light. In this case, it is difficult to determine the reflection position of the light, and there is a fear that the height reference cannot be set in the coating area. In this sense, since the irradiated light is red light or infrared light in the means 10, the irradiated light can be transmitted more reliably to the film having unstable transmission properties, and the light can be reflected by the electrode pattern under the film or the base substrate. For this reason, not only an object to be measured but an electrode pattern and a base substrate can be grasped | ascertained by an imaging means as an image. And calculation is performed based on image data by a calculation means, and can calculate the height which is a position of the surface of a to-be-measured object based on an electrode pattern or a base substrate as a height reference | standard. Therefore, since the height reference can be appropriately set in the substrate on which the measurement object is installed, the height of the measurement object can be measured more accurately.

수단 11Sudan 11

베이스 기판과, 이 베이스 기판 위에 형성된 전극 패턴과, 상기 베이스 기판 및 전극 패턴의 표면을 피복하는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 적외선만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적외선만을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 전극 패턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiation means capable of irradiating only infrared rays to a substrate provided with a base substrate, an electrode pattern formed on the base substrate, a film covering the surfaces of the base substrate and the electrode pattern, and a measurement object, and a substrate irradiated with the light Image pickup means capable of picking up only infrared rays, and calculation means for calculating at least the height of the measured object based on the height of the electrode pattern or the base substrate based on the image data picked up by the image pickup means. Three-dimensional measuring device characterized in that.

수단 11에 의하면, 조사 수단에 의해 적외선이 기판에 조사된다. 이와 같은 비교적 파장이 긴 광은, 물체의 표면을 투과하기 쉬운 성질을 구비하고 있다. 예를 들면, 조사 수단에 의해 상기 적외선보다 파장이 짧은 가시광을 조사하면, 기판을 피복하는 피막이, 조사된 가시광을 투과시키거나 투과시키지 않거나 하는, 불안정한 투과 특성을 나타내는 경우가 있다. 이 경우, 광의 반사 위치를 판별하기 어렵 고, 피막 영역에 높이 기준을 설정할 수 없게 될 우려가 있다. 이러한 점에서 수단 11에서는, 조사광이 적색광이나 적외선이기 때문에, 상기 투과 특성이 불안정한 피막에 대해 조사광을 보다 확실히 투과시키고, 피막 아래에 있는 전극 패턴이나 베이스 기판에서 반사시킬 수가 있다. 이 때문에, 촬상 수단에 의해 피계측물 뿐만이 아니라 전극 패턴이나 베이스 기판을 화상으로서 파악할 수가 있다. 그리고, 연산 수단에 의해 화상 데이터에 의거하여 연산이 행해지는 것으로, 전극 패턴이나 베이스 기판을 높이 기준으로 하여 피계측물의 표면의 위치인 높이를 산출할 수 있다. 따라서, 높이 기준을 피계측물이 설치된 기판 내에 적정하게 설정할 수 있기 때문에, 보다 정확하게 피계측물의 높이를 측정할 수가 있다. 더욱이, 촬상 수단이 적외선 만을 촬상 가능하기 때문에, 옥내 조명 장치 등 조명 장치 이외로부터의 가시광이 기판에 닿는 경우일지라도, 그 가시광에 영향받는 일 없이, 적절한 화상 데이터를 얻을 수가 있다. 이에 더하여, 가시광을 조사한 경우에는, 피막의 색에 의해 반사되는 광량이 적어지고, 촬상하여 얻은 화상 데이터를 이용할 수 없거나, 상기 피막의 색에 따라서 가시광의 파장을 변경할 필요가 있거나 하는 바람직하지 못한 일을 일으킬 염려가 있다. 이러한 점에서 수단 11에서는, 피막의 색에 관계없이 조사광을 피막에 대해서 투과시키고, 피막 아래의 전극 패턴이나 베이스 기판에서 반사시키는 것이 가능하기 때문에, 상기 염려를 불식시킬 수 있다. 또, 「적외선만을 조사 가능한 조사 수단」 대신에 「적외선을 포함하는 광을 조사 가능한 조사 수단」이라고 해도 좋다. 이 경우일지라도, 조사되는 광 중 적외선이 피막의 표면을 투과하여 전극 패턴이나 베이스 기판에 의해 반사되고, 촬상 수단에 의해 적외선만이 촬상된다. 이 때문에, 피막이 화상으로 되는 일 없이, 높이 기준으로 되는 전극 패턴이나 베이스 기판을 화상으로서 파악할 수가 있다.According to the means 11, infrared rays are irradiated onto the substrate by the irradiation means. Light having such a relatively long wavelength has a property of easily transmitting the surface of an object. For example, when irradiating visible light with a wavelength shorter than the said infrared rays by an irradiation means, the film which coat | covers a board | substrate may exhibit unstable transmissive property which transmits or does not transmit irradiated visible light. In this case, it is difficult to determine the reflection position of the light, and there is a fear that the height reference cannot be set in the coating area. In this regard, in the means 11, since the irradiation light is red light or infrared light, the irradiation light can be transmitted more reliably to the film having unstable transmission properties, and can be reflected by the electrode pattern and the base substrate under the film. For this reason, not only an object to be measured but an electrode pattern and a base substrate can be grasped | ascertained by an imaging means as an image. And calculation is performed based on image data by a calculation means, and can calculate the height which is a position of the surface of a to-be-measured object based on an electrode pattern and a base substrate as a height reference | standard. Therefore, since the height reference can be appropriately set in the substrate on which the measurement object is installed, the height of the measurement object can be measured more accurately. Furthermore, since the imaging means can image only infrared rays, even when visible light from a lighting device such as an indoor lighting device touches the substrate, appropriate image data can be obtained without being affected by the visible light. In addition, when the visible light is irradiated, the amount of light reflected by the color of the film decreases, and image data obtained by imaging cannot be used, or the wavelength of the visible light needs to be changed according to the color of the film. There is a risk of causing it. In view of this, the means 11 can irradiate the light irrespective of the color of the film and reflect it on the electrode pattern under the film or the base substrate. In addition, it is good also as "irradiation means which can irradiate the light containing infrared rays" instead of "irradiation means which can irradiate only infrared rays." Even in this case, infrared rays of the irradiated light pass through the surface of the coating film and are reflected by the electrode pattern or the base substrate, and only the infrared rays are picked up by the imaging means. For this reason, the electrode pattern and base substrate which become a height reference | standard can be grasped | ascertained as an image, without a film becoming an image.

수단 12.Sudan 12.

상기 기판은 프린트 기판이며, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 레지스트막 아래의 전극 패턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여 적어도 상기 피계측물로서의 크림 솔더의 높이를 연산하는 것이고, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여 그 인쇄 상태의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 수단 10 또는 수단 11에 기재된 3차원 계측 장치.The substrate is a printed substrate, and the calculating means calculates at least the height of the cream solder as the measurement object based on the height of the electrode pattern under the resist film or the base substrate as the coating, based on the height of the cream solder. And a judging means for judging the quality of the printing state. A three-dimensional measuring apparatus according to the means 10 or the means 11.

수단 12에 의하면, 프린트 기판의 레지스트막 아래의 전극 패턴 또는 베이스 기판을 기준으로 하여 크림 솔더의 높이가 연산되고, 그 연산된 높이에 의거하여 양부 판정이 행해진다. 그 때문에, 크림 솔더를 계측할 때에 상기 효과가 달성되고, 게다가 보다 정확하게 양부 판정을 행할 수가 있다.According to the means 12, the height of the cream solder is calculated on the basis of the electrode pattern under the resist film of the printed board or the base substrate, and the quality determination is performed based on the calculated height. Therefore, when measuring a cream solder, the said effect is achieved, and also it can carry out a judgment more correctly.

수단 13.Sudan 13.

상기 기판은 웨이퍼 기판이며, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 산화막 아래의 웨이퍼면을 기준으로 하여 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 수단 10 또는 수단 11에 기재된 3차원 계측 장치.The substrate is a wafer substrate, and the calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the wafer surface under the oxide film as the coating film, and the shape of the shape is based on the height of the solder bumps. 3. A three-dimensional measuring apparatus according to the means 10 or 11, wherein judging means for judging is provided.

수단 13에 의하면, 웨이퍼 기판의 산화막 아래의 웨이퍼면을 기준으로 하여 솔더 범프의 높이가 연산되고, 그 연산된 높이에 의거하여 양부 판정이 행해진다. 그 때문에, 솔더 범프를 계측할 때 상기 효과가 달성되고, 게다가 보다 정확하게 양부 판정을 행할 수가 있다.According to the means 13, the height of the solder bumps is calculated on the basis of the wafer surface under the oxide film of the wafer substrate, and the acceptance judgment is performed based on the calculated height. Therefore, when measuring a solder bump, the said effect is achieved, and also it can carry out a judgment of more correctly.

수단 14.Sudan 14.

상기 연산 수단은 1회의 높이 연산에 복수의 화상 데이터를 이용하는 것이며, 상기 조사 수단은 상기 복수의 화상 데이터를 얻기 위한 촬상 때마다, 동일 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 9 내지 수단 13의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.The calculating means uses a plurality of image data in one height calculation, and the irradiation means irradiates light of the same wavelength every time the imaging for obtaining the plurality of image data is performed. The three-dimensional measuring apparatus in any one of them.

수단 14에 의하면, 조사 수단에 의해 조사되는 광은 촬상 때마다 광의 파장이 변경되는 일 없이 동일한 파장의 광이 이용된다. 이 때문에, 상기 촬상 수단이 렌즈를 가지는 경우일지라도 광의 굴절이 변하지 않는다. 따라서, 조명의 파장에 의해 얻어지는 화상에 어긋남이 생긴다고 하는 바람직하지 못한 점을 억제할 수 있다. 그 결과, 피계측물의 높이의 산출 정밀도를 향상시킬 수가 있다.According to the means 14, the light irradiated by the irradiating means uses light having the same wavelength without changing the wavelength of the light each time the image is taken. For this reason, even if the imaging means has a lens, the refraction of light does not change. Therefore, it is possible to suppress the undesirable point that a deviation occurs in the image obtained by the wavelength of illumination. As a result, the calculation accuracy of the height of the measured object can be improved.

수단 15.Sudan 15.

상기 조사 수단은 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 9 내지 수단 14의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.Said irradiation means irradiates light of wavelength 680 nm or more and 1500 nm or less, The three-dimensional measuring apparatus in any one of means 9-14.

수단 15에 의하면, 조사 수단에 의해 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장의 광이 조사된다. 이 때문에, 투과 특성이 불안정한 것에 대해서도 보다 확실히 표면 반사를 시킬 수가 있다. 따라서, 촬상 수단에 의해 상기 피막이나 상기 피계측물 등의 표면을 화상으로서 확실히 파악할 수가 있다. 또, 「680㎚ 이상이고 또 한 1500㎚ 이하」 대신에 「680㎚ 이상이고 또한 1000㎚ 이하」 또는 「1000㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하」라고 해도 좋고, 더욱이 「780㎚ 이상이고 또한 900㎚ 이하」 또는 「1100㎚ 이상이고 또한 1400㎚ 이하」로 해도 좋다. 아울러, 「680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장의 광」 대신에 「680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」, 「680㎚ 이상이고 또한 1000㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」 또는 「1000㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」으로 해도 좋고, 더욱이 「780㎚ 이상이고 또한 900㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」 또는 「1100㎚ 이상이고 또한 1400㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광」으로 해도 좋다.According to the means 15, light of a wavelength of 680 nm or more and 1500 nm or less is irradiated by the irradiation means. For this reason, surface reflection can be made more reliably even if the transmission characteristic is unstable. Therefore, the surface of the film | membrane, the said measured object, etc. can be grasped | ascertained as an image by an imaging means. Instead of "680 nm or more and 1500 nm or less", "680 nm or more and 1000 nm or less" or "1000 nm or more and 1500 nm or less" may also be referred to as "780 nm or more and 900 nm or less." Or 1100 nm or more and 1400 nm or less. In addition, instead of "light of the wavelength of 680 nm or more and 1500 nm or less", "light which has a peak of a wavelength in the range of 680 nm or more and 1500 nm or less", "in the range of 680 nm or more and 1000 nm or less Light having a peak of a wavelength ”or“ light having a peak of a wavelength within a range of 1000 nm or more and 1500 nm or less ”may be referred to as“ light having a peak of a wavelength within a range of 780 nm or more and 900 nm or less. Or "light having a peak of a wavelength within the range of 1100 nm or more and 1400 nm or less".

수단 16Sudan 16

상기 조사 수단은 60㎚ 이내의 파장역의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 수단 9 내지 수단 15의 어느 것인가에 기재된 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of the wavelength range within 60 nm, The three-dimensional measuring apparatus in any one of means 9 thru | or 15 characterized by the above-mentioned.

수단 16에 의하면, 조사 수단에 의해 조사시키는 광의 파장역은 60㎚ 이내로 비교적 좁게 설정되어 있다. 일반적으로, 렌즈를 투과할 때의 광의 굴절은 파장에 따라 다르고, 파장역이 넓은 경우에는 색수차를 일으킬 우려가 있다. 이러한 점에서 수단 16에서는, 조명 장치나 촬상 수단이 렌즈를 가지는 경우일지라도 파장역이 좁고, 조사나 촬상 시에 생기는 색수차를 억제할 수 있다. 즉, 조사되는 광이 번지거나 촬상된 화상 데이터가 흐려지거나 하는 일 없이 샤프한 화상 데이터를 얻을 수 있다. 따라서, 그 화상 데이터에 의거한 피계측물의 높이의 산출 정밀도의 향상을 도모할 수가 있다. 또, 「60㎚ 이내」 대신에 「30㎚ 이내」로 해도 좋다. 이 경우, 색수차를 더욱 억제할 수가 있으며, 그 결과, 화상 데이터에 의거한 피계측물의 높이의 산출 정밀도가 가일층 향상되도록 도모할 수가 있다.According to the means 16, the wavelength range of the light irradiated by the irradiating means is relatively narrowly set within 60 nm. In general, the refraction of light when passing through a lens depends on the wavelength, and there is a fear that chromatic aberration occurs when the wavelength range is wide. In this regard, in the means 16, even when the illuminating device or the imaging means has a lens, the wavelength range is narrow, and chromatic aberration generated during irradiation or imaging can be suppressed. In other words, sharp image data can be obtained without blurring of irradiated light or blurring of the captured image data. Therefore, the calculation accuracy of the height of the measured object based on the image data can be improved. In addition, it is good also as "30 nm or less" instead of "60 nm or less." In this case, chromatic aberration can be further suppressed, and as a result, the calculation accuracy of the height of the measured object based on the image data can be further improved.

(실시예)(Example)

이하, 하나의 실시의 형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 기판으로서의 프린트 기판(1)은 평판 형상을 이루고(평면을 구비하고), 유리 에폭시 등으로 이루어지는 베이스 기판(2)에 동박(銅箔)으로 이루어지는 전극 패턴(3)이 설치되어 있다. 더욱이, 상기 전극 패턴(3) 위에는 피계측물로서의 크림 솔더(4)가 인쇄 형성되어 있다. 또한, 프린트 기판(1)은 전극 패턴(3)의 소정 배선 부분 이외에 크림 솔더(4)가 실리지 않도록, 피막으로서의 반투명의 레지스트막(5)에 의해 코팅되어 있다. 또, 레지스트막(5)의 표면은 대략 일정 높이의 평면을 이루고 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment is described, referring drawings. As shown in FIG. 2, the printed circuit board 1 as a board | substrate forms a flat plate shape (it has a flat surface), and the electrode pattern 3 which consists of copper foil on the base board | substrate 2 which consists of glass epoxy etc. Is installed. Furthermore, a cream solder 4 as a measurement object is printed on the electrode pattern 3. In addition, the printed circuit board 1 is coated with the translucent resist film 5 as a film so that the cream solder 4 may not be loaded other than the predetermined wiring portion of the electrode pattern 3. Moreover, the surface of the resist film 5 has comprised the plane of substantially constant height.

도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 3차원 계측 장치를 구비하는 인쇄 상태 검사 장치(8)를 모식적으로 도시하는 개략구성도이다. 동 도면에 도시하는 바와 같이, 인쇄 상태 검사 장치(8)는 프린트 기판(1)을 재치(載置)하기 위한 데이블(9)과, 프린트 기판(1)의 표면에 대해 비스듬한 상방으로부터 소정의 광 성분 패턴을 조사하기 위한 조사 수단을 구성하는 조명 장치(10)와, 프린트 기판(1) 위의 상기 조사된 부분을 촬상하기 위한 촬상 수단을 구성하는 CCD 카메라(11)와, 인쇄 상태 검사 장치(8) 내에 있어서의 각종 제어나 화상 처리, 연산 처리를 실시하기 위한 제어장치(12)를 구비하고 있다.FIG. 1: is a schematic block diagram which shows typically the printing state inspection apparatus 8 provided with the three-dimensional measuring apparatus in this embodiment. As shown in the figure, the printing state inspection apparatus 8 includes a table 9 for mounting the printed board 1 and predetermined light from an oblique upper side with respect to the surface of the printed board 1. The illumination device 10 constituting the irradiation means for irradiating the component pattern, the CCD camera 11 constituting the imaging means for imaging the irradiated portion on the printed board 1, and the printing state inspection apparatus ( The control apparatus 12 for performing various control, image processing, and arithmetic process in 8) is provided.

상기 테이블(9)에는 모터(15), (16)가 설치되고 있으며, 이 모터(15), (16) 가 제어장치(12)에 의해 구동 제어되는 것에 의해, 테이블(9) 위에 재치된 프린트 기판(1)이 임의의 방향((X축 방향 및 Y축 방향)으로 슬라이드 되도록 되어 있다.The table 9 is provided with motors 15 and 16, and the prints placed on the table 9 by driving the motors 15 and 16 by the control device 12 are controlled. The board | substrate 1 is made to slide in arbitrary directions (X-axis direction and Y-axis direction).

또한, 도 3에 도시하는 바와 같이 상기 조명 장치(10)는 광원(17)과, 이 광원(17)으로부터의 광을 모으는 집광렌즈(18)와, 조사 렌즈(19)와, 양 렌즈(18), (19) 사이에 배설된 액정 광학 셔터(21)를 구비하고 있다. 광원(17)으로부터의 광은 액정 광학 셔터(21)를 개재하여 프린트 기판(1) 위에 조사되는 것으로, 특히 프린트 기판(1)에 대해 조도가 정현파 형상으로 변화하는 줄무늬 형상의 광 패턴이 조사된다. 또한, 액정 광학 셔터(21)는 상기 광 패턴의 위상이 소정 피치씩 변화되도록 되어 있다.As shown in FIG. 3, the illumination device 10 includes a light source 17, a condenser lens 18 for collecting light from the light source 17, an irradiation lens 19, and both lenses 18. ) And liquid crystal optical shutter 21 disposed between 19. The light from the light source 17 is irradiated onto the printed circuit board 1 via the liquid crystal optical shutter 21, and in particular, the light pattern of a stripe shape in which illuminance changes to a sine wave shape is irradiated to the printed circuit board 1. . In the liquid crystal optical shutter 21, the phase of the light pattern is changed by a predetermined pitch.

더욱이, 상기 광원(17)으로부터 조사되는 광은, 도 4에 도시하는 바와 같이 크림 솔더(4)의 표면 뿐만이 아니라, 레지스트막(5)의 표면에서도 반사되도록 그 파장이 설정되어 있다. 단, 본 실시의 형태에서는, 광원(17)은 자외선을 조사하는 것이며, 예를 들면 LED, UV 램프 등이 이용된다. 자외선과 같은 비교적 짧은 파장의 광은 표면 반사되기 쉬우므로, 레지스트막(5)과 같은 반투명인 것에 대해서도 보다 확실히 그 표면에서 반사시키는 것이 가능해진다. 또한, 집광 렌즈(18) 및 조사 렌즈(19)는 상기 파장의 광을 투과 가능하며, CCD 카메라(11)는 자외선만을 촬상 가능하게 되어 있다.In addition, the wavelength is set so that the light irradiated from the light source 17 is reflected not only on the surface of the cream solder 4 but also on the surface of the resist film 5 as shown in FIG. 4. However, in this embodiment, the light source 17 irradiates an ultraviolet-ray, for example, LED, a UV lamp, etc. are used. Since light of a relatively short wavelength, such as ultraviolet rays, is easily reflected on the surface, it is possible to more certainly reflect on the surface of a semi-transparent material such as the resist film 5. In addition, the condenser lens 18 and the irradiation lens 19 can transmit light having the wavelength, and the CCD camera 11 is capable of imaging only ultraviolet rays.

특히, 상기 조사시키는 광의 파장역은 비교적 좁게 설정되어 있다. 일반적으로, 렌즈를 투과할 때의 광의 굴절은 파장에 따라 다르며, 파장역이 넓은 경우에는 색수차를 일으킬 우려가 있다. 이러한 점에서 본 실시의 형태에서는, 파장역을 좁 게 하는 것으로, 조사나 촬상 시에 생기는 색수차를 억제할 수 있어, 샤프한 화상을 얻을 수 있도록 되어 있다.In particular, the wavelength range of the light to be irradiated is set relatively narrow. In general, the refraction of light when passing through a lens depends on the wavelength, and there is a fear that chromatic aberration occurs when the wavelength range is wide. From this point of view, by narrowing the wavelength range, the chromatic aberration generated at the time of irradiation or imaging can be suppressed, and a sharp image can be obtained.

여기서, 인쇄 상태 검사 장치(8)에 있어서의 검사 순서에 대해 설명한다. 우선, 프린트 기판(1)이 테이블(9) 위에 재치되면, 제어장치(12)는 모터(15), (16)을 구동 제어하여 소정의 위치에 이동시키고, 프린트 기판(1)을 초기 위치로 이동시킨다. 이 초기 위치는 예를 들면 CCD 카메라(11)의 시야의 크기를 1단위로서 프린트 기판(1)의 표면을 미리 분할해 둔 것 중의 1개의 위치이다.Here, the inspection procedure in the print state inspection apparatus 8 will be described. First, when the printed board 1 is placed on the table 9, the control device 12 drives and controls the motors 15 and 16 to move to a predetermined position, and moves the printed board 1 to the initial position. Move it. This initial position is one position in which the surface of the printed circuit board 1 was divided | divided previously, for example with the magnitude | size of the visual field of the CCD camera 11 as a unit.

그리고, 제어장치(12)는 조명 장치(10)를 구동 제어하여 광 패턴의 조사를 개시한다. 조사된 광은, 크림 솔더(4)나 레지스트막(5) 등의 프린트 기판(1)의 표면에서 반사되고, 그 반사광이 CCD 카메라(11)에 의해 촬상된다. 또한, 이 때 광 패턴의 위상을 예를 들면 4분의 1 피치씩 시프트시켜 4종류의 광 패턴을 순차 전환 제어한다. 더욱이, 이와 같이 해서 각 광 패턴의 조사가 행해지고 있는 동안에, 제어장치(12)는 CCD 카메라(11)를 구동 제어하고, 이들 광 패턴마다 검사 에리어 부분을 촬상하여, 각각 4화면 분량의 화상 데이터를 얻는다.And the control apparatus 12 drive-controls the lighting apparatus 10, and starts irradiation of a light pattern. The irradiated light is reflected on the surface of the printed board 1 such as the cream solder 4 or the resist film 5, and the reflected light is captured by the CCD camera 11. At this time, the phases of the light patterns are shifted by a quarter pitch, for example, to control the switching of the four types of light patterns sequentially. In addition, while the irradiation of each light pattern is performed in this way, the control device 12 drives and controls the CCD camera 11, and captures an inspection area portion for each of these light patterns, and respectively displays four screens of image data. Get

그런데, 제어장치(12)는 화상 메모리를 구비하고 있고, 화상 데이터를 순차 기억한다. 이 기억한 화상 데이터에 의거하여, 제어장치(12)는 각종 화상 처리를 행한다. 이러한 화상 처리가 행해지고 있는 동안에, 제어장치(12)는 모터(15), (16)를 구동 제어하여 테이블(9)을 다음의 검사 에리어로 이동시킨다. 제어장치 (12)는 여기서의 화상 데이터에 대해서도 화상 메모리에 격납한다. 한편, 화상 메모리에서의 화상 처리가 일단 종료된 경우, 이미 화상 메모리에는 다음의 화상 데 이터가 기억되어 있기 때문에, 신속하게 제어장치(12)는 다음의 화상 처리를 행할 수가 있다. 즉, 검사는, 한쪽에서 다음의 검사 에리어(m+1번째)로의 이동 및 화상 입력을 행하고, 다른 쪽에서는 m번째의 화상 처리 및 비교 판정을 행한다. 이후, 모든 검사 에리어에서의 검사가 완료될 때까지, 교대로 마찬가지의 상기 병행 처리가 반복 실행된다. 이와 같이, 본 실시의 형태의 인쇄 상태 검사 장치(8)에 있어서는, 제어장치(12)의 제어에 의해 검사 에리어를 이동하면서 순차 화상 처리를 행하는 것에 의해, 프린트 기판(1) 위의 크림 솔더(4)의 인쇄 상태를 고속이고도 확실하게 검사할 수가 있도록 되어 있다.By the way, the control apparatus 12 is equipped with the image memory, and stores image data one by one. Based on the stored image data, the control apparatus 12 performs various image processing. While such image processing is being performed, the control apparatus 12 drives and controls the motors 15 and 16 to move the table 9 to the next inspection area. The control apparatus 12 also stores the image data here in the image memory. On the other hand, when the image processing in the image memory is finished once, since the next image data is already stored in the image memory, the control device 12 can quickly perform the next image processing. That is, the inspection performs the movement and image input from one side to the next inspection area (m + 1st), and the other side performs the mth image processing and comparison determination. Thereafter, the same parallel processing is repeatedly performed alternately until the inspection in all the inspection areas is completed. Thus, in the printing state inspection apparatus 8 of this embodiment, the cream solder on the printed circuit board 1 is performed by performing image processing sequentially, moving the inspection area by control of the control apparatus 12. The printing state of 4) can be inspected at high speed and reliably.

다음에, 제어장치(12)가 행하는 화상 처리 및 연산 처리, 및 비교 판정 처리에 대해 설명한다. 제어장치(12)는 얻어진 4화면의 화상 데이터를 이용하여 검사 에리어 내의 높이를 산출한다. 검사 에리어에 투영된 광 패턴에 관하여, 높이의 상위에 의거한 위상의 차이가 생긴다. 거기서, 제어장치(12)에서는 각 광 패턴의 화상 데이터를 이용하고, 위상 시프트법(줄무늬 주사법)의 원리에 의거하여 반사면의 높이를 산출하는 것이다. 이와 같이 해서 얻어진 높이 데이터는, 촬상 화면의 화소 단위로 연산되고, 제어장치(12)의 메모리에 격납된다.Next, the image processing and arithmetic processing which the control apparatus 12 performs, and the comparison determination process are demonstrated. The control apparatus 12 calculates the height in an inspection area using the obtained 4-screen image data. With respect to the light pattern projected on the inspection area, a phase difference based on the height difference occurs. The control device 12 uses the image data of each light pattern to calculate the height of the reflection surface based on the principle of the phase shift method (stripe scanning method). The height data thus obtained is calculated in the pixel unit of the imaging screen and stored in the memory of the control device 12.

얻어진 높이 데이터 중, 평면을 이루는 레지스트막(5) 영역의 높이를 프린터 기판(1)의 높이 기준으로 하여, 그 프린트 기판(1)에 대한 인쇄된 크림 솔더(4)의 높이가 산출된다. 또한, 상기 크림 솔더(4)의 높이를 적분하는 것에 의해, 인쇄된 크림 솔더(4)의 양이 산출된다. 그리고, 이와 같이 해서 구한 크림 솔더(4)의 높이, 양 등의 데이터가 미리 기억되어 있는 기준 데이터와 비교 판정되고, 이 비교 결과가 허용 범위 내에 있는지 여부에 따라, 그 검사 에리어에 있어서의 크림 솔더(4)의 인쇄 상태의 양부가 판정되는 것이다.The height of the printed cream solder 4 with respect to the printed circuit board 1 is computed based on the height of the printer substrate 1 based on the height of the area | region of the resist film 5 which comprises a plane among the obtained height data. In addition, by integrating the height of the cream solder 4, the amount of the printed cream solder 4 is calculated. And the data, such as the height and quantity of the cream solder 4 calculated | required in this way, is compared with the reference data memorize | stored previously, and the cream solder in the inspection area depends on whether this comparison result exists in an allowable range. Pass or fail of the printing state of (4) is determined.

이상 상세히 설명한 바와 같이, 본 실시의 형태에 의하면 조명 장치(10)에 의해 자외선을 조사하는 것에 의해, 반투명의 레지스트막(5)일지라도 확실하게 그 표면에서 광을 반사시킬 수가 있다. 이 때문에, 인쇄 상태의 양부를 판정하고자 하는 크림 솔더(4)가 인쇄된 프린트 기판(1) 내의 레지스트막(5)의 표면을 검출할 수가 있음과 동시에, 그 표면을 기준 높이로서 이용할 수 있다. 그 결과, 동일한 프린트 기판(1) 이외에 높이 기준을 채택하는 경우에 비해, 크림 솔더(4)의 높이를 보다 정확히 산출할 수 있다.As described above in detail, according to the present embodiment, by irradiating ultraviolet rays with the illumination device 10, even the translucent resist film 5 can reliably reflect light on its surface. For this reason, the surface of the resist film 5 in the printed circuit board 1 with which the cream solder 4 to which the printing state was to be determined can be detected, and the surface can be used as a reference height. As a result, the height of the cream solder 4 can be calculated more accurately than in the case of adopting the height standard other than the same printed board 1.

또한, 크림 솔더(4)의 높이 측정과 동시에, 레지스트막(5)의 높이도 측정할 수 있다. 이 때문에, 별도의 수단에 의해 레지스트막의 높이나 별도의 높이 기준을 측정할 필요가 없고, 장치의 복잡화의 억제를 도모할 수가 있다.In addition, the height of the resist film 5 can be measured simultaneously with the height measurement of the cream solder 4. For this reason, it is not necessary to measure the height of a resist film and a separate height reference by other means, and the complexity of an apparatus can be suppressed.

더욱이, 인쇄 상태 검사 장치(8)는 옥내 조명 장치가 구비된 옥내에 설치되는 것이 일반적이다. 일반적으로, 이 옥내 조명 장치에 있어서는 가시광의 방사 에너지가 크고, 본 실시의 형태에서 채용하는 짧은 파장의 광의 방사 에너지가 가시광에 비해 충분히 작다. 이 때문에, 옥내 조명 장치로부터의 광이 프린트 기판(1)에 조사되어 버리는 경우일지라도, CCD 카메라(11)에 의해 촬상된 화상을 처리할 수 없게 되는 바와 같은 바람직하지 못한 일이 생기기 어렵다.Moreover, the printing state inspection apparatus 8 is generally installed indoors with the indoor lighting device. Generally, in this indoor lighting device, the radiation energy of visible light is large, and the radiation energy of the light of short wavelength employ | adopted by this embodiment is sufficiently small compared with visible light. For this reason, even if the light from the indoor lighting device is irradiated to the printed board 1, undesirable occurrences such as the inability to process an image captured by the CCD camera 11 are unlikely to occur.

더욱이 또한, 가시광을 조사했을 경우에는, 레지스트막(5)의 색에 의해 반사되는 광량이 적어지고, 촬상해서 얻은 화상 데이터를 이용할 수 없게 되거나, 상기 레지스트막(5)의 색에 따라 가시광의 파장을 변경할 필요가 있거나 하는 등의 바람직하지 못한 일이 생길 염려가 있다. 이러한 점에서 본 실시의 형태에서는, 레지스트막(5)의 색에 관계없이 표면 반사를 시키는 것이 가능하기 때문에, 상기 염려를 불식시킬 수 있다.Furthermore, when the visible light is irradiated, the amount of light reflected by the color of the resist film 5 decreases, and image data obtained by imaging is not available, or the wavelength of the visible light depending on the color of the resist film 5. There is a fear that undesirable things, such as need to change or need to be changed. From this point of view, since the surface reflection can be performed irrespective of the color of the resist film 5, the above concerns can be eliminated.

이에 더하여, 조명 장치(10)로부터 조사되는 광의 파장역이, 상술한 대로 비교적 좁게 설정되어 있다. 이 때문에, 색수차가 생기기 어렵고, 광 패턴이 번지거나 촬상된 화상 데이터가 흐려지거나 하는 일 없이, 샤프한 화상 데이터를 얻을 수 있다. 따라서,이 화상 데이터에 의거한 크림 솔더(4)의 높이, 양 등의 산출 정밀도의 향상을 도모할 수가 있다.In addition, the wavelength range of the light irradiated from the illuminating device 10 is set relatively narrow as mentioned above. Therefore, chromatic aberration hardly occurs, and sharp image data can be obtained without blurring of light patterns or blurring of captured image data. Therefore, the calculation precision of height, quantity, etc. of the cream solder 4 based on this image data can be improved.

아울러 광 패턴은, 광 패턴마다 광의 파장이 변경되는 일 없이, 동일한 파장의 광이 이용된다. 즉, 광 패턴을 변경하더라도 렌즈를 투과할 때의 광의 굴절이 변하지 않도록 되어 있다. 이 때문에, 조명의 파장에 의해 얻어지는 화상에 어긋남이 생기는 바와 같은 바람직하지 못한 점을 억제할 수 있다. 그 결과, 화상 데이터에 의거한 크림 솔더(4)의 높이, 양 등의 산출 정밀도를 향상시킬 수가 있다.In addition, the light of the same wavelength is used for a light pattern, without changing the wavelength of light for every light pattern. That is, even if the light pattern is changed, the refraction of the light when passing through the lens does not change. For this reason, it is possible to suppress undesirable points such as deviations in the image obtained by the wavelength of illumination. As a result, calculation accuracy, such as height and quantity of the cream solder 4 based on image data, can be improved.

이상에서 설명한 실시의 형태에 있어서, 예를 들면, 다음과 같이 구성의 일부를 적절히 변경하여 실시하는 것도 가능하다. 물론, 이하에서 예시하지 않은 다른 변경예도 당연히 가능하다.In embodiment described above, it is also possible to change a part of structure suitably as follows, for example. Of course, other modifications not exemplified below are naturally possible.

(a) 상기 실시의 형태에서는, 조명 장치(10)로부터 자외선이 조사되도록 되어 있지만, 레지스트막(5)의 표면에서 반사시키는 것이 가능하다면, 청색광이어도 좋다. 이 경우, CCD 카메라는 청색광을 촬상 가능한 것으로 할 필요가 있다. 또, 조명 장치(10)에 의해 조사되는 광은 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 300㎚ 이상이고 또한 380㎚ 이하의 파장이고, 더 한층 바람직하게는 3OO㎚ 이상이고 또한 350㎚ 이하의 파장이다. 또, 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장 대신에, 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 300㎚ 이상이고 또한 380㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 또는 300㎚ 이상이고 또한 350㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광으로 해도 마찬가지의 작용 효과가 얻어진다.(a) Although the ultraviolet light is irradiated from the illuminating device 10 in the above embodiment, blue light may be used as long as it can be reflected on the surface of the resist film 5. In this case, the CCD camera needs to be capable of picking up blue light. Moreover, the light irradiated by the illuminating device 10 is 250 nm or more and the wavelength of 430 nm or less is preferable. More preferably, it is a wavelength of 300 nm or more and 380 nm or less, More preferably, it is a wavelength of 30 nm or more and 350 nm or less. Instead of the wavelength of 250 nm or more and 430 nm or less, light having a peak of a wavelength within a range of 250 nm or more and 430 nm or less, and a light having a peak of the wavelength within a range of 300 nm or more and 380 nm or less. Similar effects can be obtained even when the light has a peak of a wavelength within a range of 300 nm or more and 350 nm or less.

(b) 광원(12)로부터 자외선이 조사되도록 되어 있지만, 프린트 기판(1)에 도달하는 광의 파장이 소정의 파장 만이면 좋은 것으로서, 반드시 광원(12)으로부터의 광의 파장이 소정의 파장 만이 아니어도 좋다. 예를 들면, 광원이 소정의 파장을 포함하는 파장역이 넓은 광을 조사하는 것으로서, 조명 장치(10)와 프린트 기판 (1)과의 사이, 또는 조명 장치(10) 내에 소정의 파장 만(소정의 좁은 파장역의 파장만)을 투과 가능한 필터를 설치하는 것으로 해도 좋다.(b) Although ultraviolet light is to be irradiated from the light source 12, it is only necessary that the wavelength of the light reaching the printed circuit board 1 is a predetermined wavelength, and the wavelength of the light from the light source 12 is not necessarily the predetermined wavelength. good. For example, as a light source irradiates light with a wide wavelength range including a predetermined wavelength, only a predetermined wavelength between the lighting apparatus 10 and the printed circuit board 1 or in the lighting apparatus 10 (predetermined) It is also possible to provide a filter capable of transmitting only a wavelength in a narrow wavelength range of?).

(c) 상기 실시의 형태에서는, 광의 파장역에 대해 특히 수치적인 언급은 하지 않고 있지만, 바람직하게는 60㎚ 이내이고, 더욱 바람직하게는 30㎚ 이내이다.(c) Although the said embodiment does not specifically mention numerically about the wavelength range of light, Preferably it is within 60 nm, More preferably, it is within 30 nm.

(d) 상기 실시의 형태에서는, 프린트 기판(1)에 조사되는 광을 자외선으로 하고 있지만, 자외선에 더하여 다른 파장의 광을 조사하고, 촬상하는 광을 자외선 만으로 해도 지장이 없다. 이 경우, 물론 CCD 카메라(11)가 자외선 만을 촬상 가능한 것이어도 좋고, CCD 카메라와 프린트 기판(1)과의 사이에 자외선 만을 투과 가능한 필터를 설치하는 것으로 해도 좋다.(d) Although the light irradiated to the printed circuit board 1 is an ultraviolet-ray in the said embodiment, it does not interfere even if it irradiates the light of a different wavelength in addition to an ultraviolet-ray, and only the ultraviolet-ray is imaged. In this case, of course, the CCD camera 11 may be capable of imaging only ultraviolet rays, or may be provided with a filter that can transmit only ultraviolet rays between the CCD camera and the printed circuit board 1.

(e) 상기 실시의 형태에서는, 촬상 회수를 4회로 하였지만, 3회여도 좋고, 5회 이상이어도 좋다.(e) In the above embodiment, the number of times of imaging is performed four times, but may be three times or five or more times.

(f) 상기 실시의 형태에서는, 프린트 기판(1)에 인쇄 형성된 크림 솔더(4)의 높이 등을 계측하는 경우로 구체화하였지만, 웨이퍼 기판이나 실장 기판 등의 검사 장치에도 적용할 수 있다. 예를 들면, 웨이퍼 기판의 경우에는, 산화막의 표면을 기준 높이로 하여 솔더 범프의 높이, 형상, 체적 등이 산출 가능하게 된다.(f) In the above embodiment, the embodiment is specified in the case of measuring the height or the like of the cream solder 4 formed on the printed circuit board 1, but the present invention can also be applied to an inspection apparatus such as a wafer substrate or a mounting substrate. For example, in the case of a wafer substrate, the height, shape, volume, and the like of the solder bumps can be calculated using the surface of the oxide film as the reference height.

(g) 상기 실시의 형태에서는, 3차원 계측 방법으로서 위상 시프트법을 채용하고 있지만, 그 외에도 광 절단법이나, 모아레법, 합초법(合焦法), 공초점법(共焦點法), 공간 코드법, 격자 무늬 투영법 등과 같은 각종 3차원 계측 방법을 채용할 수도 있다.(g) In the above embodiment, the phase shift method is adopted as the three-dimensional measurement method, but in addition, the optical cutting method, the moire method, the in-focus method, the confocal method, and the space Various three-dimensional measurement methods, such as a coding method and a grid pattern projection method, can also be employ | adopted.

(h) 상기 실시의 형태의 조명 장치(10) 대신에, 레지스트막(5)을 투과하고, 크림 솔더(4)나 전극 패턴(3) 등의 표면에서 반사하는 파장의 광을 프린트 기판(1)에 조사하여, 그 파장의 광을 촬상하도록 해도 좋다. 즉, 조사광을 상기 실시의 형태의 자외선 대신에 적외선이나 적색광으로 하고, 적외선이나 적색광을 촬상하도록 해도 좋다. 적외선 및 적색광과 같은 비교적 긴 파장의 광은, 물체를 비교적 투과하기 쉽기 때문에, 레지스트막(5)과 같은 반투명인 것에 대해서는, 투과시키는 것이 가능하게 된다.(h) Instead of the illuminating device 10 of the above embodiment, light having a wavelength that passes through the resist film 5 and reflects from the surface of the cream solder 4, the electrode pattern 3, or the like is printed on the substrate 1. ), And the light of the wavelength may be imaged. That is, the irradiated light may be infrared or red light instead of the ultraviolet light of the above embodiment, and the infrared or red light may be imaged. Since light of relatively long wavelengths, such as infrared rays and red light, is relatively easy to transmit through an object, it becomes possible to transmit about translucent things like the resist film 5.

이와 같이 하는 것으로, 도 5에 도시하는 바와 같이, 적외선은 크림 솔더(4)의 표면에서 반사됨과 동시에 반투명의 레지스트막(5)를 투과하고, 전극 패턴(3) 등에서 반사되게 된다. 이 때문에, 예를 들면 전극 패턴(3)을 높이 기준으로 하여 크림 솔더(4)의 높이를 산출할 수 있다. 또한, 베이스 기판(2)에 대해서도 반사광이 얻어지는 경우에는, 베이스 기판(2)을 높이 기준으로 하는 것도 가능하다.In this manner, as shown in FIG. 5, the infrared rays are reflected on the surface of the cream solder 4, and simultaneously pass through the translucent resist film 5 and are reflected by the electrode pattern 3 and the like. For this reason, the height of the cream solder 4 can be calculated based on the height of the electrode pattern 3, for example. In addition, when reflected light is obtained also about the base substrate 2, it is also possible to make the base substrate 2 a height reference.

이 경우, 조사하는 광은 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장이 바람직하다. 또, 680㎚ 이상이고 또한 1000㎚ 이하의 파장, 또는 1000㎚ 이상이나 150O㎚ 이하의 파장으로 해도 좋고, 더욱이 780㎚ 이상이고 또한 900㎚ 이하의 파장, 또는 1100㎚ 이상이고 또한 1400㎚ 이하의 파장으로 해도 좋다. 또한, 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장 대신에, 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 680㎚ 이상이나 1000㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 1000㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 780㎚ 이상이나 900㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광, 또는 1100㎚ 이상이고 또한 1400㎚ 이하의 범위 내에 파장의 피크를 가지는 광으로 해도, 마찬가지의 작용 효과가 얻어진다.In this case, the light to irradiate is 680 nm or more, and the wavelength of 1500 nm or less is preferable. The wavelength may be 680 nm or more and a wavelength of 1000 nm or less, or a wavelength of 1000 nm or more or 150 nm or less, and a wavelength of 780 nm or more and 900 nm or less, or 1100 nm or more and 1400 nm or less. You may make it. Moreover, instead of the wavelength of 680 nm or more and 1500 nm or less, the light which has a peak of a wavelength in the range of 680 nm or more and 1500 nm or less, the light which has a peak of the wavelength in the range of 680 nm or more and 1000 nm or less, Light having a peak of wavelength within a range of 1000 nm or more and 1500 nm or less, light having a peak of wavelength within a range of 780 nm or more or 900 nm or a peak of a wavelength within a range of 1100 nm or more and 1400 nm or less Even with light having the same effect, the same effect can be obtained.

이에 더하여, 물론 상기 (b), (c), (e), (f), (g)와 같이 적절히 변경하여 실시하는 것도 가능하다.In addition, of course, it is also possible to carry out by changing suitably as said (b), (c), (e), (f), (g).

상술한 바와 같이 본 발명은, 대상물의 3차원 형상을 계측할 때에, 상기 대상물 내에 높이 기준을 적정하게 설정하는 것 등에 의해, 보다 정확하게 계측할 수 있는 3차원 계측 장치를 제공할 수 있는 등의 효과를 가진다. As mentioned above, this invention can provide the three-dimensional measuring apparatus which can measure more accurately by setting a height reference in the said object suitably, etc., when measuring the three-dimensional shape of an object. Has

Claims (20)

삭제delete 베이스 기판과, 그 베이스 기판의 표면을 피복하고, 평면을 이루는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 청색광 및 자외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과,Irradiating means capable of irradiating at least one of blue light and ultraviolet rays to the base substrate, the substrate covering the surface of the base substrate, and having a film and a measurement object forming a plane; 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과,Imaging means capable of imaging at least the wavelength irradiated by the irradiation means among the reflected light from the substrate to which the light is irradiated; 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 피막에 의해 형성된 평면을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.And a calculation means for calculating at least the height of the object to be measured, based on the height of the plane formed by the film, based on the image data picked up by the image pickup means. 베이스 기판과, 그 베이스 기판의 표면을 피복하고, 평면을 이루는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 자외선만을 조사 가능한 조사 수단과,Irradiation means which irradiates only a ultraviolet-ray with respect to the base board | substrate, the board | substrate which coat | covers the surface of the base board | substrate, and is equipped with the film | membrane and the to-be-measured object which are planar, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 자외선만을 촬상 가능한 촬상 수단과,Imaging means which can image only an ultraviolet-ray among the reflected light from the board | substrate with which the said light was irradiated, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 피막에 의해 형성된 평면을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.And a calculation means for calculating at least the height of the object to be measured, based on the height of the plane formed by the film, based on the image data picked up by the image pickup means. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 기판은 프린트 기판이고,The substrate is a printed substrate, 상기 연산 수단은, 상기 피막으로서의 레지스트막의 표면을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 크림 솔더(cream-solder)의 높이를 연산하는 것이고,The calculating means calculates at least the height of a cream solder as the measurement object based on the height of the surface of the resist film as the coating film, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여, 그 인쇄 상태의 양부(良否)를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Based on the height of this cream solder, the determination means which determines the quality of the printing state was provided, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 기판은 프린트 기판이고,The substrate is a printed substrate, 상기 연산 수단은, 상기 피막으로서의 레지스트막의 표면을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 크림 솔더의 높이를 연산하는 것이며,The calculating means calculates at least the height of the cream solder as the measurement object based on the height of the surface of the resist film as the coating film, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여, 그 인쇄 상태의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Based on the height of this cream solder, the determination means which determines the quality of the printing state was provided, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 기판은 웨이퍼 기판이고,The substrate is a wafer substrate, 상기 연산 수단은, 상기 피막으로서의 산화막의 표면을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며,The calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the height of the surface of the oxide film as the coating film, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여, 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Based on the height of the solder bumps, a three-dimensional measurement device characterized in that the determination means for determining the quality of the shape is provided. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 기판은 웨이퍼 기판이고,The substrate is a wafer substrate, 상기 연산 수단은, 상기 피막으로서의 산화막의 표면을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며,The calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the height of the surface of the oxide film as the coating film, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여, 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Based on the height of the solder bumps, a three-dimensional measurement device characterized in that the determination means for determining the quality of the shape is provided. 제 2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 7, 상기 연산 수단은, 1회의 높이 연산에 복수의 화상 데이터를 이용하는 것으로서,The calculating means uses a plurality of image data in one height calculation. 상기 조사 수단은, 상기 복수의 화상 데이터를 얻기 위한 촬상 마다, 동일 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of the same wavelength for every imaging for obtaining the said some image data, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 제 2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 7, 상기 조사 수단은, 250㎚ 이상이고 또한 430㎚ 이하의 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of wavelength 250nm or more and 430nm or less, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 제 2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 7, 상기 조사 수단은, 0nm 초과 60㎚ 이하의 파장역의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of the wavelength range exceeding 0 nm and 60 nm or less, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 기판 위의 피계측물에 대해, 적색광 및 적외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 피계측물로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하여, 적어도 상기 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating at least one of red light and infrared ray to the measurement object on the substrate; imaging means capable of imaging at least the wavelength irradiated by the irradiation means among reflected light from the measurement object irradiated with the light; And calculating means for calculating at least the height of the measurement object based on image data picked up by the imaging means. 베이스 기판과, 그 베이스 기판 위에 형성된 전극 패턴과, 상기 베이스 기판 및 전극 패턴의 표면을 피복하는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 적색광 및 적외선 중 적어도 한 쪽만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적어도 상기 조사 수단으로 조사된 파장을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 전극 패턴 또 는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiating means capable of irradiating only at least one of red light and infrared rays to a substrate having a base substrate, an electrode pattern formed on the base substrate, a film covering the surfaces of the base substrate and the electrode pattern, and a measurement object; Based on the image pickup means which can image the wavelength irradiated by the said irradiation means at least among the reflected light from the board | substrate with which the said light was irradiated, and the image data image | photographed by the said image pickup means, and based on the said electrode pattern or a base substrate as a height reference | standard And calculating means for calculating at least the height of the object to be measured. 베이스 기판과, 그 베이스 기판 위에 형성된 전극 패턴과, 상기 베이스 기판 및 전극 패턴의 표면을 피복하는 피막과 피계측물을 구비한 기판에 대해, 적외선만을 조사 가능한 조사 수단과, 상기 광이 조사된 기판으로부터의 반사광 중, 적외선만을 촬상 가능한 촬상 수단과, 그 촬상 수단으로 촬상된 화상 데이터에 의거하고, 상기 전극 패턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 피계측물의 높이를 연산하는 연산 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.Irradiation means capable of irradiating only infrared rays with a base substrate, an electrode pattern formed on the base substrate, a film covering the surfaces of the base substrate and the electrode pattern, and a measurement object; Image pickup means capable of picking up only infrared rays, and calculation means for calculating at least the height of the measured object based on the height of the electrode pattern or the base substrate based on the image data picked up by the image pickup means. Three-dimensional measuring device characterized in that. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 기판은 프린트 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 레지스트막 아래의 전극 패턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 크림 솔더의 높이를 연산하는 것이며, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여, 그 인쇄 상태의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The substrate is a printed board, and the calculating means calculates at least the height of the cream solder as the measurement object based on the height of the electrode pattern under the resist film or the base substrate as the coating, and the height of the cream solder. On the basis of this, determination means for determining whether or not the print state is provided is provided. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 기판은 프린트 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 레지스트막 아래의 전극 파턴 또는 베이스 기판을 높이 기준으로 하여, 적어도 상기 피계 측물로서의 크림 솔더의 높이를 연산하는 것이며, 그 크림 솔더의 높이에 의거하여, 그 인쇄 상태의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치The substrate is a printed board, and the calculating means calculates at least the height of the cream solder as the measurement object based on the height of the electrode parton or the base substrate under the resist film as the coating film, based on the height of the cream solder. And a judging means for judging the quality of the printing state is provided. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 기판은 웨이퍼 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 산화막 아래의 웨이퍼 면을 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The substrate is a wafer substrate, and the calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the wafer surface under the oxide film as the coating film, and the shape of the shape is based on the height of the solder bumps. 3. A three-dimensional measuring apparatus characterized by comprising determining means for determining the quality. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 기판은 웨이퍼 기판이고, 상기 연산 수단은 상기 피막으로서의 산화막 아래의 웨이퍼 면을 기준으로 하여, 적어도 상기 피계측물로서의 솔더 범프의 높이를 연산하는 것이며, 그 솔더 범프의 높이에 의거하여 그 형상의 양부를 판정하는 판정 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The substrate is a wafer substrate, and the calculating means calculates at least the height of the solder bumps as the measurement object based on the wafer surface under the oxide film as the coating film, and the shape of the shape is based on the height of the solder bumps. 3. A three-dimensional measuring apparatus characterized by comprising determining means for determining the quality. 제 11항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 11 to 17, 상기 연산 수단은 1회의 높이 연산에 복수의 화상 데이터를 이용하는 것으로서, 상기 조사 수단은 상기 복수의 화상 데이터를 얻기 위한 촬상 마다, 동일 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.And said calculating means uses a plurality of image data in one height calculation, and said irradiating means irradiates light of the same wavelength every imaging for obtaining said plurality of image data. 제 11항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 11 to 17, 상기 조사 수단은 680㎚ 이상이고 또한 1500㎚ 이하의 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of wavelength 680 nm or more and 1500 nm or less, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned. 제 11항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 11 to 17, 상기 조사 수단은 0nm 초과 60㎚ 이하의 파장역의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 3차원 계측 장치.The said irradiation means irradiates the light of the wavelength range exceeding 0 nm and 60 nm or less, The three-dimensional measuring apparatus characterized by the above-mentioned.
KR1020040075029A 2003-11-05 2004-09-20 3-dimensional measuring device KR100747050B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2003-00375724 2003-11-05
JP2003375724A JP3878165B2 (en) 2003-11-05 2003-11-05 3D measuring device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050043611A KR20050043611A (en) 2005-05-11
KR100747050B1 true KR100747050B1 (en) 2007-08-07

Family

ID=34687016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040075029A KR100747050B1 (en) 2003-11-05 2004-09-20 3-dimensional measuring device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP3878165B2 (en)
KR (1) KR100747050B1 (en)
CN (1) CN100447526C (en)
TW (1) TWI237684B (en)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5191089B2 (en) * 2005-06-30 2013-04-24 Ckd株式会社 Board inspection equipment
US20100021050A1 (en) * 2006-09-21 2010-01-28 I-Pulse Kabushiki Kaisha Inspecting apparatus
JP4490468B2 (en) * 2007-10-10 2010-06-23 シーケーディ株式会社 Solder printing inspection device
JP5243936B2 (en) * 2008-12-12 2013-07-24 アンリツ株式会社 Printed solder inspection equipment
JP4744610B2 (en) * 2009-01-20 2011-08-10 シーケーディ株式会社 3D measuring device
JP2011163852A (en) * 2010-02-08 2011-08-25 Kobe Steel Ltd Visual inspection device
JP5290233B2 (en) * 2010-04-13 2013-09-18 Ckd株式会社 Three-dimensional measuring device and substrate inspection device
JP2012032271A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Kobe Steel Ltd Measuring apparatus
JP5818341B2 (en) * 2010-12-13 2015-11-18 国立大学法人 和歌山大学 Shape measuring apparatus and shape measuring method
KR101246350B1 (en) * 2010-12-23 2013-03-21 전자부품연구원 Apparatus and method for measuring surface shape
JP5945386B2 (en) * 2011-02-11 2016-07-05 名古屋電機工業株式会社 Printed solder inspection equipment
JP5400107B2 (en) * 2011-08-16 2014-01-29 Ckd株式会社 Board inspection equipment
JP5997127B2 (en) * 2013-11-18 2016-09-28 Ckd株式会社 Solder printing inspection apparatus and board manufacturing system
KR101816616B1 (en) * 2014-01-08 2018-01-09 야마하하쓰도키 가부시키가이샤 Visual inspection device and visual inspection method
JP2016080534A (en) * 2014-10-17 2016-05-16 株式会社リコー Projection device and parallax acquisition device
CN107576280B (en) * 2017-09-05 2018-06-19 河北工业大学 Fringe projection 3 D measuring method and device based on parallel four Color Channel
KR102062129B1 (en) * 2017-11-29 2020-02-11 주식회사 다윈테크 Dental extraction training system
CN107830815A (en) * 2017-12-01 2018-03-23 天津商业大学 A kind of MULTILAYER COMPOSITE fexible film deformation of surface detection means and detection method
JP7083695B2 (en) * 2018-05-11 2022-06-13 株式会社荏原製作所 Bump height inspection device, substrate processing device, bump height inspection method, storage medium
JP7213876B2 (en) * 2018-06-29 2023-01-27 株式会社荏原製作所 Bump height measuring device, substrate processing device, bump height measuring method, storage medium
KR102040979B1 (en) 2019-05-14 2019-11-06 주식회사 엔스텍 Automation apparatus for calibraion of 3d measuring apparatus
CN114035408A (en) * 2022-01-11 2022-02-11 广州粤芯半导体技术有限公司 Method for optimizing photoetching process window

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001165635A (en) 1999-12-09 2001-06-22 Sony Corp Inspection device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610606B2 (en) * 1985-12-03 1994-02-09 日本電信電話株式会社 Optical measurement method for quartz optical waveguide
JPH02196909A (en) * 1989-01-26 1990-08-03 Matsushita Electric Works Ltd Method for measuring shape of outermost surface of substance having transparent film
US5450207A (en) * 1993-07-16 1995-09-12 Cymer Laser Technologies Method and apparatus for calibrating a laser wavelength control mechanism
JPH0829138A (en) * 1994-07-20 1996-02-02 Fujitsu Ltd Device and method for inspecting pattern
JPH1019532A (en) * 1996-07-04 1998-01-23 Nireco Corp Method for measuring pattern of photoresist
JP2897754B2 (en) * 1997-03-27 1999-05-31 日本電気株式会社 Inspection method for semiconductor device
JP3903889B2 (en) * 2001-09-13 2007-04-11 株式会社日立製作所 Defect inspection method and apparatus, and imaging method and apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001165635A (en) 1999-12-09 2001-06-22 Sony Corp Inspection device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3878165B2 (en) 2007-02-07
TW200519349A (en) 2005-06-16
CN1614351A (en) 2005-05-11
CN100447526C (en) 2008-12-31
JP2005140584A (en) 2005-06-02
KR20050043611A (en) 2005-05-11
TWI237684B (en) 2005-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100747050B1 (en) 3-dimensional measuring device
US10996050B2 (en) Apparatus and method for measuring a three dimensional shape
KR101121691B1 (en) Three-dimensional measurement device
CN100397035C (en) Three-dimensional measuring apparatus, filter lattice moire plate and illuminating means
JP3878033B2 (en) 3D measuring device
JP2711042B2 (en) Cream solder printing condition inspection device
US10126252B2 (en) Enhanced illumination control for three-dimensional imaging
EP3282223A1 (en) Three-dimensional shape measuring apparatus
JP4808072B2 (en) Filter checkered plate, three-dimensional measuring device and illumination means
JP4030726B2 (en) Solder printing inspection device
WO2020241061A1 (en) Three-dimensional measurement apparatus and three-dimensional measurement method
JP3723139B2 (en) 3D measuring device
JP3906990B2 (en) Appearance inspection device and three-dimensional measurement device
JP2002081924A (en) Three-dimensional measuring device
WO2020116052A1 (en) Projecting device and three-dimensional measuring device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Publication of correction
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120724

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130719

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140721

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150716

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160630

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170719

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180718

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190718

Year of fee payment: 13