KR100745350B1 - 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법 - Google Patents

레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법에 관한 것으로, 레이저빔의 빔폭에 따라 기판의 폭, 주마스크의 폭, 보조마스크의 폭간에 일정한 관계를 만족하게 하여, 레이저빔폭의 손실없이 효율적으로 레이저 열전사를 이루는 장치 및 방법을 제공한다.
레이저 열전사, 마스크, 픽셀

Description

레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법{LASER INDUCED THERMAL IMAGING APPARATUS AND LASER INDUCED THERMAL IMAGING METHOD USING IT}
도 1은 종래 기술에 따른 레이저 열전사 장치의 개략적인 단면도,
도 2는 도 1의 장치를 사용한 레이저 열전사 방법을 나타내는 개략적인 사시도,
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 개략적인 단면도,
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 마스크를 나타내는 개략적인 부분사시도,
도 5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 기판 및 마스크와 레이저 열전사 방법이 개략적으로 도시된 부분평면도,
도 6은 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 기판 및 마스크와 레이저 열전사 방법이 개략적으로 도시된 부분평면도.
♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣
200 : 챔버 202 : 레이저 발진부
204 : 기판 208 : 도너필름
220 : 마스크 240 : 보조 마스크
본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 레이저 열전사 공정 시에 패터닝 효율을 증가시킴으로써 제품 생산수율을 증대할 수 있도록 된 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열전사 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 유기전계 발광표시소자는 절연기판 상에 하부전극인 애노드전극이 형성되고, 애노드전극 상에 유기막층이 형성되며, 유기막층 상에 상부전극인 캐소드전극이 형성된다. 유기막층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 정공억제층, 전자수송층, 전자주입층 중 적어도 하나를 포함한다.
유기막층을 형성하는 방법으로는 증착법과 리소그라피법이 있다. 증착법은 섀도우 마스크를 이용하여 유기발광물질을 진공증착하여 유기막층을 형성하는 방법으로, 마스크의 변형 등에 의해 고정세의 미세패턴을 형성하기 어렵고, 대면적 표시장치에 적용하기 어렵다. 리소그라피법은 유기발광물질을 증착한 다음 포토레지스트를 이용해서 패터닝하여 유기막층을 형성하는 방법으로, 고정세의 미세패턴을 형성하는 것은 가능하지만, 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 현상액 또는 유기발광물질의 식각액 등에 의해 유기막층의 특성이 저하되는 문제점이 있다.
증착법과 리소그라피법의 문제점을 해결하기 위하여, 직접 유기막층을 패터닝하는 잉크젯 방식이 제안되었다. 잉크젯 방식은 발광재료를 용매에 용해 또는 분산시켜 토출액으로 잉크젯 프린트 장치의 헤드로부터 토출시켜 유기막층을 형성하는 방법이다. 잉크젯 방식은 공정이 비교적 간단하지만, 수율저하나 막두께의 불균일성이 발생되고, 대면적의 표시장치에 적용하기 어려운 문제점이 있다.
한편, 레이저 열전사 방법을 이용하여 유기막층을 형성하는 방법이 제안되었는데, 레이저 열전사 방법은 전사층의 용해성 특성에 영향을 받지 않는다는 장점이 있다. 레이저 열전사 방법은 레이저에서 나온 빛을 열에너지로 변환하고, 변환된 열에너지에 의해 전사층을 유기 발광표시장치의 기판으로 전사시켜 R, G, B 유기막층을 형성하는 방법이다. 레이저 열전사 방법은 레이저로 유도된 이미징 프로세스로 고해상도의 패턴 형성, 필름 두께의 균일성, 멀티레이어 적층 능력, 대형 마더글래스로의 확장성과 같은 고유한 이점을 가지고 있다.
이러한 레이저 열전사 방법은 액정표시소자용 컬러필터 제조에 이용되기도 하며, 또한 발광물질의 패턴을 형성하기 위하여 이용되는 경우도 있다.(미국특허 제 5,998,085호)
이하에서는 도면을 참조하여 종래의 레이저 열전사 방법을 구체적으로 설명한다.
도 1은 종래 기술에 따른 레이저 열전사 장치(1)의 개략적인 단면도이다. 도 1을 참조하면, 종래의 레이저 열전사 장치(1)는 챔버(100) 내부에 레이저 발진부(102)가 설치되어 있으며, 레이저 발진부(102)와 대향하도록 레이저 발진부(102)의 하부에 설치된 기판받침대(101)가 있다. 레이저 발진부(102)와 기판받침대(101) 사이에는 도너필름(108)이 삽입되며, 도너필름(108)과 대향하도록 도너필름 (108)의 하부에 기판(104)이 삽입되어 있다. 도너필름(108)은 기재기판(107), 광-열 변환층(106), 유기막층(105)으로 구성되어 있다.
또한, 기판(104)의 하부에는 플레이트(103)가 형성되어 있는데, 고온 플레이트(hot plate) 또는 저온 플레이트(cool plate)가 형성될 수 있다. 고온 플레이트는 도너필름(108)과 기판(104)을 라미네이션 하기 전에 접착력을 향상시켜 주며, 저온 플레이트는 레이저 조사시 유기막층(105)이 열에 의해 손상되는 것을 방지하는 역할을 한다.
이와 같이 구성된 종래의 레이저 열전사 장치(1)를 이용한 레이저 열전사 방법은 도 2에 도시된 바와 같이, 레이저 발진부(102)에서 발진된 레이저(L)가 도너필름(108) 상에 조사되어 도너필름(108)의 유기막층(105)이 기판(104)의 해당 픽셀(본 도면에서는 R 픽셀)에 전사되도록 이루어진다.
이와 같은 종래의 레이저 열전사 방법은, 개개의 픽셀(R, G, B)에 대하여 각각의 유기막층(105)이 전사되도록 스팟(spot)형의 레이저(L)를 사용함으로써 공정시간이 오래걸리게 되는 단점이 있다.
즉, 스팟형의 레이저(L)로써 각각의 픽셀에 해당하는 부분만을 조사하여 이로 인하여 레이저(L) 스캔 횟수 및 시간이 늘어나게 되어 생산수율이 저하되게 되며, 특히 점차 요구되어지는 대면적 기판(104)의 제조 시에 이러한 수율은 더욱 저하되게 되는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 전술한 종래의 문제점들을 해결하기 위해 고안된 발명으 로, 본 발명의 목적은 브로드(broad)형 레이저가 마스크를 통과하도록 조사시키고, 이 레이저의 빔폭을 최대로 활용하도록 하는 마스크와, 최종 스캔에 필요한 폭을 가지는 보조 마스크를 사용함으로써 레이저 열전사 공정시간을 줄이고 생산효율을 극대화할 수 있도록 된 레이저 열전사 장치 및 그 장치를 사용하는 레이저 열전사 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 일측면은 소정의 공간이 형성된 챔버 내부에, 폭방향으로 픽셀이 N개 구비되고 픽셀간 피치가 p로서 폭이 N*p인 기판; 상기 기판 상에 배치되는 도너필름; 상기 도너필름 상에 배치되며 개구된 패턴을 구비하고, 선택적으로 사용되는 m1의 폭을 가진 주마스크와 m2의 폭을 가진 보조마스크를 포함하는 마스크; 상기 마스크로부터 소정 간격을 두고 이격되어 상기 마스크에 상기 주마스크의 폭과 동일한 빔폭(m1)을 가지는 레이저를 조사하도록 구성되는 레이저 발진부; 및 상기 레이저 발진부에서 발진되는 레이저를 균질화하도록 상기 마스크와 상기 레이저 발진부 사이에 배치되는 균질기;를 포함하여 구성되어, 상기 m1, m2 및 N*p사이에는 k*m1 + m2 = N*p(k는 자연수)인 관계가 성립하는 것을 특징으로 한다.
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본 발명의 다른 측면은 소정의 공간이 형성된 챔버 내부에 폭방향으로 픽셀이 N개 구비되고 픽셀간 피치가 p로서 폭이 N*p인 기판을 제공하는 기판제공단계; 상기 기판 상에 도너필름을 위치시키는 도너필름 제공단계; 상기 도너필름의 일 영역상에, 패턴이 형성되고 폭이 m1인 주마스크로, 영역의 다른 구간을 순차적으로 k회 마스킹하면서, 상기 주마스크에 주마스크의 폭과 동일한 빔폭을 가진 레이저로 k회 조사하는 제1조사단계; 상기 제1조사단계 이후에 레이저가 조사되지 않은 기판상의 타 영역에, 패턴이 형성된 폭이 m2인 보조 마스크를 도입하는 보조 마스크 제공단계; 상기 보조 마스크 상에 형성된 패턴에 레이저를 조사하는 제2조사단계;를 포함하여, 상기 m1, m2 및 N*p사이에는 k*m1 + m2 = N*p(k는 자연수)인 관계가 성립하는 것을 특징으로 한다.
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이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치 및 이를 이용 한 레이저 열전사 방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 개략적인 단면도이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치(2)는, 소정의 공간이 형성된 챔버(200) 내부에 적재되는 기판(204), 기판(204) 상에 배치되는 도너필름(208), 도너필름(208) 상에 배치되며 패턴을 구비하는 마스크(220), 마스크(220)로 부터 소정 간격을 두고 이격되어 마스크(220)에 마스크(220)의 패턴 폭보다 더 큰 폭을 가지는 레이저를 조사하도록 구성되는 레이저 발진부(202) 및 레이저 발진부(202)에서 발진되는 레이저를 균질화하도록 마스크(220)와 레이저 발진부(202) 사이에 배치되는 균질기(240)를 포함하여 이루어진다.
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도 3을 참조하면, 그 내부에 소정의 공간이 형성된 챔버(200) 내부에는 기판(204)이 기판 받침대(201) 상에 적재된다. 이때의 기판(204)은 유기 발광 표시소자 제작을 위한 기판(204)이며, 유기발광층이 미형성된 상태이다.
기판(204)의 상부에는 기판(204)과 대향되도록 도너필름(208)이 배치되며, 이 도너필름(208) 상에는 마스크(220)가 준비된다.
레이저 발진부(202)는 마스크(220)로부터 소정 간격 이격되어 구성되며, 레이저 발진부(202)와 마스크(220) 사이에는 균질기(240)가 구성된다.
미설명 도면부호 203은 플레이트이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 마스크를 나타내는 개략적인 부분사시도이다.
마스크(220)에는 패턴(221)이 형성된다. 즉, 마스크(220) 상에는 패턴(221) 상에 해당되는 기판(204)의 픽셀에, 이를 통하여 레이저를 조사할 수 있도록 픽셀 홀(223)이 형성된다. 레이저 발진부(202)는 이를 통하여 레이저(L)를 조사하여 원하는 기판(204)의 픽셀 상에 레이저 열전사 공정이 가능하도록 한다.
이때, 레이저 발진부(202)에서 발진되는 레이저(L)는 마스크(220) 상에 형성된 패턴(221)의 폭보다 크도록 브로드(broad)하게 이루어지며, 이를 위하여 레이저 발진부(202)와 마스크(220) 사이에 균질기(240; homogenizer)가 구성된다. 이 때, 레이저의 빔폭은 클수록 스캔횟수를 줄일 수 있으므로 공정상 유리하지만, 균질기를 사용하더라도 균일한 강도를 유지할 수 있는 유효 빔폭은 한정되어 있으므로, 마스크의 폭을 레이저빔의 유효 빔폭과 동일하게 하는 것이 가장 효율적으로 레이저를 스캔하는 것이 된다.

브로드한 폭을 가지는 레이저(L)는 도 4a에 도시된 바와 같이 일련의 픽셀 홀(223)이 형성된 방향에 대하여 수직으로 스캔가능하고, 도 4b에 도시된 바와 같이 일련의 픽셀 홀(223)이 형성된 방향을 따라 스캔가능하다.
레이저 발진부(202)에서 발진된 레이저(L)는 마스크(220) 상의 픽셀 홀(223)을 통하여 도면 상의 마스크(220) 배면에 위치된 도너필름(208; 지면 방향으로 은폐됨)에 조사되어 도너필름(208)의 유기막층(205)이 도너필름(208) 배면에 위치되 는 기판(204; 이 역시 지면 방향으로 은폐됨)의 해당 픽셀에 전사되도록 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에서는 마스크(220)는 전술한 도면에서 편의상 마스크(220)라고 도시한 주마스크(220)이외에 보조 마스크(230)가 더 사용되는데, 이의 구성 및 사용방법은 하기 서술될 바람직한 일 실시예 및 다른 일 실시예에서 서술될 것이다.
이하, 본 발명의 바람직한 일 실시예를 도 5를 참조하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 기판 및 마스크와 레이저 열전사 방법이 개략적으로 도시된 부분평면도이다.
기판(204)은 도 3과 같은 챔버(200) 내부에 적재된다. 이후, 기판(204) 상에 도너필름(208)이 준비되며, 도너필름(208) 상에는 주마스크(220)가 도입된다. 주마스크(220)의 패턴을 통하여 레이저(L)가 조사되어 전사공정이 이루어진 후, 보조 마스크(230)가 도입되고, 다시 레이저(L)로써 전사공정이 이루어진다.
본 실시예에서 레이저의 유효빔폭은 100이고, 기판(204)은 640×480의 사이즈를 가지는 VGA급 유기 발광 표시소자 기판(204)이다. 이때, 주마스크(220)는 480 픽셀에 해당되는 길이를 가지고, 640 픽셀에 대하여 100 픽셀의 폭을 가지도록 구성된다. 즉, 본 실시예에 사용되는 주마스크는 100×480의 사이즈를 가지게 된다.
또한, 주마스크(220)에 대하여 여분의 픽셀에 대하여 즉, 여기서는 100 픽셀의 폭을 가지는 주마스크(220)가 6 회 사용된 후에 남겨지는 40 픽셀에 대하여, 보조 마스크(230)가 사용된다. 이 보조 마스크(230)는 480 픽셀에 해당되는 길이를 가지고, 640 픽셀에 대하여 40 픽셀의 폭을 가지도록 구성된다. 즉, 본 실시예에 사용되는 보조마스크는 40×480의 사이즈를 가지게 된다.
결과적으로, 주마스크(220)를 사용한 6 회의 레이저(L) 스캔과 보조 마스크(230)를 사용한 1 회의 레이저 스캔으로써 640 픽셀에 해당하는 기판(204)의 전 영역을 스캔하여 열전사 공정이 이루어질 수 있다. 이를 일반화 하면, 주마스크, 보조마스크, 및 기판의 폭 사이에 관계는 이러한 관계는 하기 식 1을 만족한다.
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[식 1]
k*m1 + m2 = N*p
여기서, m1은 주마스크(220)의 폭, m2은 보조 마스크(230)의 폭, N은 상기 기판의 픽셀 갯수, p는 상기 기판의 픽셀피치이며, k는 자연수, 더 정확하게는 기판(204)에 대하여 주마스크(220)를 사용하여 레이저(L)를 스캔하는 횟수 또는 주마스크(220)의 사용 횟수이다.
이 식이 의미하는 바는 m1의 빔폭을 가진 레이저를 사용할 경우, m1의 폭을 가지는 마스크를 k번 사용하고, m2의 폭을 가지는 보조마스크를 1번 사용하여, 기판의 폭 전영역을 마스킹한다는 것이다.
즉, 도 5에서와 같이 100의 빔폭을 가진 레이저빔을 사용할 경우, VGA급 기판(204)에서의 100의 폭을 가지는 마스크를 6번사용하고, 40의 폭을 가지는 보조마스크를 1번 사용하여, 640의 폭을 가지는 기판 전영역을 마스킹한다는 것이다.
또한, 주마스크(220)에 대하여 여분의 픽셀에 대하여 즉, 여기서는 100 픽셀의 폭을 가지는 주마스크(220)가 6 회 사용된 후에 남겨지는 40 픽셀에 대하여, 보조 마스크(230)가 사용된다. 이 보조 마스크(230)는 480 픽셀에 해당되는 길이를 가지고, 640 픽셀에 대하여 40 픽셀의 폭을 가지도록 구성된다.
이하, 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예를 도 6을 참조하여 설명한다.
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도 6은 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 기판 및 마스크와 레이저 열전사 방법이 개략적으로 도시된 부분평면도이다.
기판(204)은 도 3과 같은 챔버(200) 내부에 적재된다. 이후, 기판(204) 상에 도너필름(208)이 준비되며, 도너필름(208) 상에는 주마스크(220)가 도입된다. 주마스크(220)의 패턴을 통하여 레이저(L)가 조사되어 전사공정이 이루어진 후, 보조 마스크(230)가 도입되고, 다시 레이저(L)로써 전사공정이 이루어진다.
기판(204)은 1024×768의 픽셀 사이즈를 가지는 XVGA급 유기 발광 표시소자 기판(204)이다. 이때, 주마스크(220)는 768 픽셀에 해당되는 길이를 가지고, 1024 픽셀에 대하여 140 픽셀의 폭을 가지도록 구성될 수 있다.
마스크가 140의 폭을 가지는 경우, 전영역을 마스킹하기 위해 마스크는 7회가 사용되고, 주마스크(220)가 7 회 사용된 후에 남겨지는 44 픽셀에 대하여는 보조 마스크(230)가 사용된다. 이 보조 마스크(230)는 768 픽셀에 해당되는 길이를 가지고, 1024 픽셀에 대하여 44 픽셀의 폭을 가지도록 구성된다.
도 5 및 도 6을 참조하여 설명된 본 발명의 바람직한 일 실시예 및 다른 일 실시예에서는 각각 빔폭을 100 및 140으로 하여 각각 100 픽셀만큼의 폭을 가지는 주마스크(220) 및 140 픽셀만큼의 폭을 가지는 주마스크(220)가 사용되었지만, 이외의 빔폭에 따라 다른 폭을 가지는 주마스크(220) 또한 사용가능하며, 보조 마스크(230)의 폭도 달라질 수 있다.
즉, 유효 빔폭이 100인 레이저를 사용할 경우, 도 5에서의 100 픽셀만큼의 폭을 가지는 주마스크(220)를 도 6에서의 XVGA급 기판(204)에 사용할 시에, 스캔 횟수(및 마스크 사용 횟수)는 10 회가 되며, 보조 마스크(230)는 24 픽셀만큼의 폭을 가질 수 있다. 그러나, 이러한 경우에는 스캔 횟수가 증가되고, 여분의 24 픽셀을 전사하는 최종 스캔 시에 레이저(L) 빔 폭의 손실(loss)가 클 수 밖에 없다. 따라서, 유효 빔폭이 100인 레이저를 사용할 경우, 도 6을 참조하여 설명된 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에서는 도 5를 참조하여 설명된 본 발명의 바람직한 일 실시예에서의 100 픽셀만큼의 폭을 가지는 주마스크(220) 보다 140 픽셀만큼의 폭을 가지는 주마스크(220)를 사용하는 것이 더 바람직할 것이다.
이와 같이 주마스크(220)를 수 회에 걸쳐 사용하는 이유는, 점차 대형화되어가는 기판(204)의 크기에 따라 사용되어지는 주마스크(220) 또한 대형화가 요구되어지므로, 주마스크(220)의 대형화에 따른 비용 및 공정의 난이도 또한 증가되어 이를 해결하기 위한 것이며, 기판(204)이 대형화되는 추세에 비해 레이저 발진기(202) 및 균질기(240)로써 구현할 수 있는 레이저(L)의 최대 빔 폭이 제한적이므로, 레이저(L) 빔 폭을 최대한으로 활용하면서 효율적인 전사공정이 이루어지도록 할 수 있도록 하기 위한 것이다.
즉, 도 5에서의 실시예를 예로 들자면, 기판(204)의 크기와 같은 640×480 픽셀만큼의 마스크를 사용하여 레이저(L)를 1 회 스캔하는 것이 가장 이상적인 레이저 열전사 공정이라 할 수 있으나, 레이저 발진기(202) 및 균질기(240)로써 구현될 수 있는 레이저(L)의 최대 빔 폭이, 더 상세하게는, 균일한 강도를 유지할 수 있는 폭이 100 픽셀만큼의 영역이라면 본 발명의 바람직한 일 실시예에서의 방법이 가장 현실적이고 바람직한 레이저 열전사 공정이라 할 수 있다.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 레이저 열전사 장치 및 그 장치를 사용하는 레이저 열전사 방법에 의하여, 브로드(broad)형 레이저가 마스크를 통과하도록 조사시키고, 이 레이저의 빔폭을 최대로 활용하도록 하는 마스크와, 최종 스캔에 필요한 폭을 가지는 보조 마스크를 사용함으로써 레이저 열전사 공정시간을 줄이고 생산효율을 극대화할 수 있다.
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본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 레이저 열전사 장치 및 그 장치를 사용하는 레이저 열전사 방법에 의하여, 브로드(broad)형 레이저가 마스크를 통과하도록 조사시키고, 이 레이저의 빔폭을 최대로 활용하도록 하는 마스크와, 최종 스캔에 필요한 폭을 가지는 보조 마스크를 사용함으로써 레이저 열전사 공정시간을 줄이고 생산효율을 극대화할 수 있다.

Claims (9)

  1. 소정의 공간이 형성된 챔버 내부에, 폭방향으로 픽셀이 N개 구비되고 픽셀간 피치가 p로서 폭이 N*p인 기판;
    상기 기판 상에 배치되는 도너필름;
    상기 도너필름 상에 배치되며 개구된 패턴을 구비하고, 선택적으로 사용되는 m1의 폭을 가진 주마스크 및 m2의 폭을 가진 보조마스크를 포함하는 마스크;
    상기 마스크로부터 소정 간격을 두고 이격되어 상기 마스크에 상기 주마스크의 폭과 동일한 빔폭(m1)을 가지는 레이저를 조사하도록 구성되는 레이저 발진부; 및
    상기 레이저 발진부에서 발진되는 레이저를 균질화하도록 상기 마스크와 상기 레이저 발진부 사이에 배치되는 균질기;를 포함하여 구성되어,
    상기 m1, m2 및 N*p사이에는 k*m1 + m2 = N*p(k는 자연수)인 관계가 성립하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 유기 발광 표시소자용 기판인 레이저 열전사 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 마스크 상의 패턴은 상기 유기 발광 표시소자용 기판의 픽셀에 대응되도록 형성되는 레이저 열전사 장치.
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  7. 소정의 공간이 형성된 챔버 내부에 폭방향으로 화소픽셀이 N개 구비되고 화소픽셀간 피치가 p로서 폭이 N*p인 기판을 제공하는 기판제공단계;
    상기 기판 상에 유기층을 포함한 도너필름을 위치시키는 도너필름 제공단계;
    상기 도너필름의 일 영역상에, 패턴이 형성되고 폭이 m1인 주마스크로, 영역의 다른 구간을 순차적으로 k회 마스킹하면서, 상기 주마스크에 주마스크의 폭과 동일한 빔폭을 가진 레이저로 k회 조사하는 제1조사단계;
    상기 제1조사단계 이후에 레이저가 조사되지 않은 기판상의 타 영역에, 패턴이 형성된 폭이 m2인 보조 마스크를 도입하는 보조 마스크 제공단계;
    상기 보조 마스크 상에 형성된 패턴에 레이저를 조사하는 제2조사단계;를 포함하여,
    상기 m1, m2 및 N*p사이에는 k*m1 + m2 = N*p(k는 자연수)인 관계가 성립하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 방법.
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