KR100728889B1 - Device for etching a flexible film - Google Patents

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이수재
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(주)에스엠씨
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Abstract

An apparatus for etching a flexible film is provided to prevent the surface of the flexible film being scratched by using an anti-drooping unit for supporting the flexible film in a non-contact manner. An apparatus for etching film includes a housing, an etching fluid injection unit(120), an etching fluid suction unit(130), and an anti-drooping unit(140). The housing includes a fluid bath which reserves an etching fluid for etching the flexible film. The etching fluid injection unit is positioned over the flexible film and injects the etching fluid towards an upper portion of the flexible film. The upper etching fluid suction units are positioned before and behind the upper etching fluid injection unit with respect to the moving direction of the flexible film to suction etching fluid residues which remain on the upper portion of the flexible film. The anti-drooping unit is positioned under the flexible film to support the flexible film in a non-contact manner to prevent the flexible film from being drooped.

Description

가요성 필름 에칭장치 {Device for etching a flexible film}[0001] The present invention relates to a device for etching a flexible film,

도 1은 종래의 가요성 필름 에칭장치를 나타낸 도면, 1 shows a conventional flexible film etching apparatus,

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가요성 필름 에칭장치를 나타낸 도면, 2 is a view showing a flexible film etching apparatus according to a preferred embodiment of the present invention,

도 3은 도 2에 도시된 가요성 필름 에칭장치의 주요부를 설명하기 위한 도면, FIG. 3 is a view for explaining essential parts of the flexible film etching apparatus shown in FIG. 2,

도 4는 도 3에 도시된 분사 플레이트를 설명하기 위한 도면, FIG. 4 is a view for explaining the injection plate shown in FIG. 3,

도 5는 도 2에 도시된 가요성 필름 에칭장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 5 is a view for explaining the operation of the flexible film etching apparatus shown in FIG. 2. FIG.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 > Description of the Related Art

100 : 에칭장치 110 : 하우징100: etching apparatus 110: housing

111 : 에칭액조 120 : 에칭액 분사유닛111: etching solution tank 120: etching solution spraying unit

121 : 분사노즐 130 : 에칭액 흡입유닛121: injection nozzle 130: etching liquid suction unit

131 : 흡입노즐 140 : 처짐방지유닛131: Suction nozzle 140: Sag prevention unit

141 : 분사 플레이트 141a : 분사공141: injection plate 141a: injection hole

143 : 매니폴드(manifold) 145 : 펌핑유닛143: manifold 145: pumping unit

160a, 160b : 롤(roll)160a, 160b:

본 발명은 가요성 필름을 에칭처리하는 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 가요성 필름의 이송시 발생될 수 있는 스크래치 등과 같은 표면 손상을 최소화하여 양호한 에칭처리 결과를 얻을 수 있는 가요성 필름 에칭장치에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus for etching a flexible film, and more particularly, to a flexible film etching apparatus capable of minimizing surface damage, such as scratches, .

가요성 필름은 여러 공정을 거치도록 이송되면서 노광, 현상 및 에칭 등의 단계를 거치면서 그 표면에 일정 회로패턴을 형성하는 것으로서, 최근에는 리드 간 거리(피치)가 훨씬 미세하고 얇은 필름을 사용할 수 있는 장점이 있는 칩 온 필름(COF : Chip On Film)이 사용된다. The flexible film is formed to have a certain circuit pattern on its surface while being subjected to various steps such as exposure, development and etching, and recently, it is possible to use a thin film having a much smaller lead distance (pitch) Chip on film (COF), which has the advantage of being used, is used.

이러한 가요성 필름은 그 휘어지는 성질상 롤 투 롤(Roll to Roll) 방식으로 일측 롤에서 풀리면서 타측 롤로 감기면서 표면이 처리되는 것이 일반적이다. In general, such a flexible film is processed in a roll-to-roll manner while being unwound from one roll while being rolled into the other roll.

그러나, 이러한 롤 투 롤 방식에 의한 이송은 가요성 필름의 특성상 하부로 처짐이 발생되고 처짐에 의하여 에칭액에 의한 에칭이 표면 전체에 균일하게 발생하지 못하는 문제가 있다. 또한, 에칭액이 그 표면에 고이게 되어 과도한 에칭처리되는 문제도 있었다. However, due to the nature of the flexible film, deflection occurs at the bottom due to the nature of the flexible film, and the etching by the etching solution does not occur uniformly over the entire surface. In addition, there is also a problem that the etching solution becomes excessively high on the surface thereof and is excessively etched.

이를 해결하기 위하여, 즉 가요성 필름의 하방 처짐 및 균일한 에칭처리를 위하여 도 1과 같은 에칭장치가 제안되고 있다. 이하, 도 1을 참조하여 종래의 가요성 필름 에칭장치를 설명한다. To solve this problem, that is, an etching apparatus as shown in FIG. 1 has been proposed for downward deflection of a flexible film and uniform etching treatment. Hereinafter, a conventional flexible film etching apparatus will be described with reference to FIG.

도 1을 참조하면, 가요성 필름 에칭장치(10)는, 가요성 필름(F)의 상부면에 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛(11), 에칭액 분사유닛(11)에 의하여 분사된 에칭액을 흡입하는 에칭액 흡입유닛(13), 이송되는 가요성 필름(F)의 하방처짐을 방지하는 지지롤러(15)로 구성된다. 1, the flexible film etching apparatus 10 includes an etching liquid injection unit 11 for injecting an etching liquid onto the upper surface of the flexible film F, an etching liquid injection unit 11 for sucking the etching liquid injected by the etching liquid injection unit 11, And a support roller 15 for preventing downward sagging of the flexible film F being conveyed.

에칭액 분사유닛(11)은 펌핑에 의하여 에칭액이 저수되는 에칭액조(미도시)로부터 에칭액을 가요성 필름(F)의 상면에 분사하여 소정의 회로패턴을 형성하도록 한다. The etchant injecting unit 11 injects the etching liquid onto the upper surface of the flexible film F from an etching liquid tank (not shown) in which the etching liquid is stored by pumping to form a predetermined circuit pattern.

에칭액 흡입유닛(13)은 에칭액 분사유닛(11)에 의하여 분사된 에칭액이 가요성 필름(F)의 상면에서 고이게 되는 경우 에칭처리가 과도하게 이루어지거나 표면 전체에 균등한 에칭처리가 되지 않는 문제를 해결하기 위하여, 이송되는 가요성 필름(F)의 표면으로부터 에칭액을 흡입하여 제거한다. The etching liquid sucking unit 13 has a problem that the etching process is excessively performed or the etching process is not uniformly applied to the entire surface when the etching liquid injected by the etching liquid injection unit 11 becomes high on the upper surface of the flexible film F To solve this problem, the etching liquid is sucked and removed from the surface of the flexible film (F) to be transferred.

이러한 에칭액 흡입유닛(13)은 에칭액 분사유닛(11)에 의하여 분사되는 에칭액이 가요성 필름(F)에 부딪혀 그 이송방향의 전후방으로 분기됨에 따라, 분기되는 에칭액을 효과적으로 흡입하도록 에칭액 분사유닛(11)의 필름 이송방향 전방 및 후방에 각각 위치한다. The etching liquid sucking unit 13 sucks the etchant injected by the etchant injecting unit 11 to effectively suck the branched etchant as the etchant injected by the etchant injecting unit 11 bumps against the flexible film F and branches forward and backward in the transfer direction. Respectively, in the film transport direction.

지지롤러(15)는 가요성 필름(F)의 자연적 처짐 및 이송시 상측에서 에칭액 분사유닛(11)에 의하여 분사되는 에칭액의 분사력에 의한 처짐을 방지하도록, 가요성 필름(F)의 하부에서 에칭액 분사유닛(11)과 대향되는 위치에 설치된다. The support roller 15 is provided at the lower portion of the flexible film F so as to prevent sagging due to the jetting force of the etchant injected by the etchant injection unit 11 from the upper side during natural sagging and conveyance of the flexible film F, And is disposed at a position opposite to the injection unit 11.

이러한 지지롤러(15)에 의하여 가요성 필름(F)의 하방처짐을 방지하여, 필름 처짐에 의하여 필름 표면이 고르게 에칭처리되지 않거나 에칭액이 고이게 되어 발생되는 문제를 해결한다. The support roller 15 prevents the flexible film F from being sagged downward, thereby preventing a problem that the film surface is not uniformly etched by film deflection or the etching solution becomes high.

그러나, 상기한 바와 같이 구성되는 종래의 가요성 필름 에칭장치(10)에 의하면, 비록 지지롤러(15)에 의하여 가요성 필름(F)의 하방처짐이 방지된다 하더라도 그 필름(F)의 처짐이 발생될 수 있다. However, even if the downward deflection of the flexible film F is prevented by the support roller 15, the deflection of the film F can be prevented even if the downward deflection of the flexible film F is prevented Lt; / RTI &gt;

즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 지지롤러(15)의 상호 이격거리가 있기 때문에 가요성 필름(F)의 하방처짐이 발생될 수 있으며, 하방 처짐이 발생되는 경우 에칭액 흡입유닛(13)과 가요성 필름(F)이 이격되게 되어 원할하게 에칭액이 흡입되지 않는 문제가 발생할 수 있다. 1, downward deflection of the flexible film F may occur because of the mutual spacing of the support rollers 15, and when the downward deflection occurs, the etchant suction unit 13 The flexible film F may be spaced apart and the etching solution may not be smoothly sucked.

또한, 이를 방지하기 위하여 지지롤러(15)의 상호 이격거리를 줄이게 되면 다수의 지지롤러(15)를 설치하여야 하나, 이 경우 지지롤러(15)에 의하여 가요성 필름(F)의 하부 표면에 스크래치가 발생될 수 있으며, 롤 투 롤 방식에서 에칭처리된 가요성 필름(F)이 롤링되면서 하부표면에 발생된 스크래칭에 의하여 에칭표면도 손상될 수 있는 문제가 발생할 수 있다. In order to prevent this, a plurality of support rollers 15 should be provided if the mutual separation distance of the support rollers 15 is reduced. In this case, And the flexible film F which has been etched in the roll-to-roll process may be rolled and the etched surface may be damaged due to scratches generated on the lower surface.

또한, 지지롤러(15)가 가요성 필름(F)을 상측으로 지지하고 에칭액 흡입유닛(13)에 의하여 하측으로 지지하기 때문에, 가요성 필름(F)이 리플(ripple)이 발생하여 표면처리가 균일하게 발생하지 못하는 문제가 발생할 수 있다. Since the support roller 15 supports the flexible film F on the upper side and is supported on the lower side by the etching liquid suction unit 13, ripple is generated in the flexible film F, A problem that uniformity can not be generated may occur.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 가요성 필름의 표면 에칭처리를 최대한 균일하게 할 수 있는 가요성 필름 에칭장치를 제공하는데 그 목적이 있다. It is an object of the present invention to provide a flexible film etching apparatus capable of making the surface etching treatment of a flexible film as uniform as possible.

또한, 가요성 필름의 에칭처리를 위한 이송시 불필요한 이면 손상을 최소화하여 에칭면의 손상을 방지할 수 있는 가요성 필름 에칭장치를 제공하는데 다른 목적이 있다. Another object of the present invention is to provide a flexible film etching apparatus capable of minimizing unnecessary surface damage during transport for etching processing of a flexible film, thereby preventing damage to the etching surface.

본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가요성 필름 에칭장치는, 이송되는 가요성 필름(flexible film)이 에칭처리되며, 에칭액이 저수되는 액조를 포함하는 하우징과; 상기 하우징내에서 상기 가요성 필름의 상측에 위치하여 상기 가요성 필름의 상부로 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛과; 상기 에칭액 분사유닛의 상기 이송방향 전후에 위치하여, 상기 에칭액 분사유닛에 의하여 분사된 후 상기 가요성 필름의 상부면에 고이는 에칭액을 흡입하는 에칭액 흡입유닛; 및 상기 가요성 필름의 하방처짐을 방지하도록, 상기 가요성 필름을 하부에서 비접촉 지지하는 처짐방지유닛;을 포함한다. According to a preferred embodiment of the present invention, there is provided a flexible film etching apparatus comprising: a housing including a liquid tank on which a flexible film to be transferred is etched and an etchant is stored; An etchant ejection unit positioned above the flexible film in the housing to eject an etchant onto the flexible film; An etching liquid sucking unit positioned in front of and behind the transfer direction of the etchant injection unit and sucking the etchant leached on the upper surface of the flexible film after being injected by the etchant injection unit; And a sag prevention unit for supporting the flexible film in a non-contact manner at a lower portion thereof so as to prevent the flexible film from sagging downward.

여기서, 상기 처짐방지유닛은, 상기 가요성 필름의 하측에 위치하며, 상면에는 다수의 분사공이 형성되는 분사 플레이트와; 상기 분사 플레이트와 연통되는 매니폴드(manifold); 및 상기 분사 플레이트 및 매니폴드와 연통되는 펌핑 유닛;을 포함한다. Here, the droop prevention unit may include an injection plate positioned below the flexible film and having a plurality of injection holes formed on an upper surface thereof; A manifold communicating with the injection plate; And a pumping unit in communication with the injection plate and the manifold.

본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 분사공은, 상기 가요성 필름의 하방처짐을 균등하게 지지하도록, 상기 가요성 필름의 폭방향으로는, 상호 균등하 게 이격되어 형성되며, 상기 가요성 필름의 이송방향으로는, 상호 이격되어 형성된다. According to a preferred embodiment of the present invention, the injection holes are formed so as to be evenly spaced apart from each other in the width direction of the flexible film so as to evenly support the downward deflection of the flexible film, Are spaced apart from each other in the conveying direction of the sheet.

보다 바람직하게는, 상기 분사공은, 상기 가요성 필름의 이송방향으로의 상호 이격거리는, 상기 에칭액 흡입유닛측에서는 넓으며 상기 에칭액 분사유닛측에서는 좁게 형성된다. More preferably, the mutual spacing of the injection holes in the transport direction of the injection film is wide on the side of the etching liquid sucking unit and narrow on the side of the etchant injection unit.

한편, 상기 펌핑 유닛은, 상기 매니폴드 및 상기 분사 플레이트를 거쳐 상기 분사공을 통하여 에어(air)를 분사하여 상기 가요성 필름을 지지하거나, 상기 액조와 연통되어, 상기 매니폴드 및 상기 분사 플레이트를 거쳐 상기 분사공을 통하여 에칭액을 분사하여 상기 가요성 필름을 지지하는 것이 바람직하다. The pumping unit may be configured to support the flexible film by spraying air through the injection hole through the manifold and the injection plate, or may communicate with the liquid tank to inject the manifold and the injection plate And spraying an etchant through the injection hole to support the flexible film.

본 발명의 상기와 같은 목적 및 다른 장점들은 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명함으로써 더욱 명백해질 것이다. These and other advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가요성 필름 에칭장치를 설명하기 위한 개략적인 시스템을 나타낸 도면, 도 3은 도 2에 도시된 주요부에 대하여 설명하기 위한 도면, 도 4는 도 3에 도시된 분사 플레이트를 설명하기 위한 도면, 도 5는 본 발명에 의한 가요성 필름 에칭장치의 작동을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 2 is a schematic view of a system for explaining a flexible film etching apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 3 is a view for explaining a main part shown in FIG. Fig. 5 is a view for explaining the operation of the flexible film etching apparatus according to the present invention. Fig.

도 2를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가요성 필름 에칭장치(100)는, 하우징(110), 에칭액 분사유닛(120), 에칭액 흡입유닛(130) 및 처짐방지유닛(140)을 포함한다. 2, a flexible film etching apparatus 100 according to a preferred embodiment of the present invention includes a housing 110, an etchant injection unit 120, an etchant suction unit 130, and a slack prevention unit 140 .

하우징(110)은 이송되는 가요성 필름(F)이 에칭처리되는 공간을 구비하며, 하부에는 에칭액이 저수되는 에칭액조(111)가 구비된다. 에칭액조(111)는 에칭액 분사유닛(120)으로 에칭액을 공급하고 에칭액 흡입유닛(130)에 의하여 필름(F) 표면으로부터 흡입되는 에칭액이 회수된다. The housing 110 is provided with a space through which the flexible film F to be transferred is etched and an etchant bath 111 for storing the etchant is provided at the bottom. The etchant tank 111 supplies the etchant to the etchant injection unit 120 and the etchant sucked from the surface of the film F by the etchant suction unit 130 is recovered.

에칭액 분사유닛(120)은 하우징(110) 내부에 가요성 필름(F)의 에칭표면 상부에 위치하여, 에칭액을 분사하여 가요성 필름(F)의 에칭표면을 에칭처리하여 소정의 회로패턴이 형성되게 한다. The etchant injecting unit 120 is located above the etched surface of the flexible film F in the housing 110 and etches the etched surface of the flexible film F by spraying an etchant to form a predetermined circuit pattern .

이러한 에칭액 분사유닛(120)은 펌프(P1)와 연통되어, 가요성 필름(F)이 이송되면 펌프(P1)가 가동되고 그 펌핑에 의하여 에칭액조(111)의 에칭액이 에칭액 분사유닛(120)의 분사노즐(121)로부터 가요성 필름(F)의 표면으로 분사된다. This etchant injection unit 120 communicates with the pump P1 so that when the flexible film F is fed, the pump P1 is operated and the etchant of the etchant tank 111 is pumped by the pumping, To the surface of the flexible film (F).

에칭액 흡입유닛(130)은 에칭액 분사유닛(120)으로부터 분사되어 가요성 필름(F)을 에칭처리한 후 표면상을 흐르는 에칭액을 흡입제거하는 것으로서, 이에 의하여 필름(F) 표면에 잔존하는 에칭액을 최소화하여 표면처리가 균일하게 되도록 한다. The etching liquid sucking unit 130 injects from the etchant injecting unit 120 to etch the flexible film F and then sucks and removes the etching liquid flowing on the surface thereof to thereby remove the etchant remaining on the surface of the film F So that the surface treatment is made uniform.

이러한 에칭액 흡입유닛(130)은 에칭액을 흡입하는 흡입노즐(131a)이 형성되는 흡입부(131)와, 흡입부(131)의 필름이송방향 전후방으로 위치하는 저지롤(132)을 포함한다. The etching liquid sucking unit 130 includes a suction unit 131 in which a suction nozzle 131a for sucking an etching liquid is formed and a blocking roll 132 located in front of and behind the suction unit 131 in the film transport direction.

흡입부(131)는 펌프(P2)와 연통되며, 가요성 필름(F)이 이송되면 펌프(P2)가 가동되고 그 펌핑에 의하여 흡입부(131)의 흡입노즐(131a)에 흡입력이 발생하여 가요성 필름(F) 표면의 잔존 에칭액을 흡입한다. 보다 자세히 설명하면, 펌프(P2)가 가동되면 그 펌핑에 의하여 벤츄리 노즐(170)에 부압이 발생되고 이와 연통되는 흡입노즐(131a)에도 부압이 발생됨으로써 에칭액이 흡입된다. The suction part 131 communicates with the pump P2. When the flexible film F is conveyed, the pump P2 is operated, and a suction force is generated in the suction nozzle 131a of the suction part 131 by the pumping The remaining etching solution on the surface of the flexible film (F) is sucked. More specifically, when the pump P2 is operated, a negative pressure is generated in the venturi nozzle 170 by the pumping thereof, and a negative pressure is also generated in the suction nozzle 131a communicating therewith, thereby sucking the etching liquid.

흡입부(131)의 양측에 설치되는 저지롤(132)은, 가요성 필름(F)이 흡입노즐(131a)의 흡입력에 의하여 흡입노즐(131a)에 부착되어 흡입노즐(131a)이 막힘으로써 에칭액이 흡입되지 못하는 문제를 방지하는 것으로서, 가요성 필름(F)과 흡입부(131)의 흡입노즐(131a)간 일정한 간격을 유지하게 함으로써 에칭액이 원활하게 흡입되도록 한다. The blocking roll 132 provided on both sides of the suction part 131 is attached to the suction nozzle 131a by the suction force of the suction nozzle 131a to block the suction nozzle 131a, The flexible film F and the suction nozzle 131a of the suction unit 131 are kept at a constant interval to allow the etching liquid to be sucked smoothly.

이러한 저지롤(132)은 자유회전되게 설치함으로써 가요성 필름(F)의 이송에 따라 회전하게 되어 필름(F) 표면의 손상을 최소화하는 것이 바람직하다. It is preferable that the blocking roll 132 is rotated so as to rotate in accordance with the feeding of the flexible film F so as to minimize damage to the surface of the film F. [

처짐방지유닛(140)은 도 1에 도시된 지지롤러(15)에 의한 가요성 필름(F)의 처짐방지와 같은 기능을 하는 것으로서, 종래에는 접촉식 처짐 방지였으나 본 발명에 의한 처짐방지유닛(140)은 가요성 필름(F)의 하측과 이격되게 위치하여 필름(F)과 비접촉되어 그 처짐을 방지하는 것이다. The sagging prevention unit 140 functions to prevent sagging of the flexible film F by the support roller 15 shown in FIG. 1 and is conventionally designed to prevent contact sagging, but the sag prevention unit 140 are spaced apart from the lower side of the flexible film (F) to contact the film (F) to prevent sagging thereof.

본 발명의 바람직한 실시예에 의한 처짐방지유닛(140)은, 분사 플레이트(141), 매니폴드(143) 및 펌핑유닛(145)을 포함한다. The deflection prevention unit 140 according to the preferred embodiment of the present invention includes an injection plate 141, a manifold 143, and a pumping unit 145.

분사 플레이트(141)는 가요성 필름(F)의 이송방향 및 그 폭방향으로 연장형성되며, 매니폴드(143) 및 펌핑유닛(145)과 연통된다. 분사 플레이트(141)의 상면에는 다수의 분사공(141a)이 형성된다. The injection plate 141 extends in the conveying direction of the flexible film F and in the width direction thereof and communicates with the manifold 143 and the pumping unit 145. On the upper surface of the spray plate 141, a plurality of spray holes 141a are formed.

매니폴드(143)는 펌핑유닛(145)과 분사 플레이트(141)가 연통되게 하는 것으로서, 후술하는 바와 같이 펌핑유닛(145)의 펌핑력에 의하여 에어(air) 또는 에칭액을 분사 플레이트(141)의 분사공(141a)을 통하여 분사되게 한다. The manifold 143 allows the pumping unit 145 and the injection plate 141 to communicate with each other so that air or an etchant is supplied to the injection plate 141 by the pumping force of the pumping unit 145, And is sprayed through the spray hole 141a.

이와 같이 분사공(141a)을 통하여 분사되는 에어 또는 에칭액에 의하여 가요 성 필름(F)의 이면이 지지되어 비접촉식으로 가요성 필름(F)의 처짐이 방지된다. Thus, the back surface of the flexible film F is supported by the air or the etching liquid injected through the injection hole 141a to prevent sagging of the flexible film F in a non-contact manner.

분사공(141a)을 통하여 에어(air)가 분사되는 경우, 펌핑유닛(145)은 외부의 외기를 펌핑하여 매니폴드(143)를 거쳐 분사공(141a)을 통하여 에어가 분사되게 하며, 에칭액이 분사되는 경우, 펌핑유닛(145)은 하우징(110)의 에칭액조(111)와 연통되어 그 에칭액을 펌핑하여 매니폴드(143)를 거쳐 분사공(141a)을 통하여 에칭액이 분사되게 한다. When the air is injected through the injection hole 141a, the pumping unit 145 pumps the outside air through the injection hole 141a through the manifold 143, The pumping unit 145 communicates with the etchant tank 111 of the housing 110 and pumps the etchant through the manifold 143 to spray the etchant through the spray holes 141a.

상기한 바와 같이, 비접촉식으로 가요성 필름(F)의 처짐방지를 위하여 에어 또는 에칭액을 분사하는 어느 구성을 취하여도 무방하며, 이와 다른 매체를 분사하여 비접촉식으로 필름 처짐방지를 하는 구성도 본 발명의 균등범위에 속한다는 것은 당업자라면 알 수 있는 사항이다. As described above, any structure may be adopted in which air or an etching liquid is sprayed in order to prevent sagging of the flexible film (F) in a noncontact manner, and a configuration in which the film is prevented from sagging in a non- It is known to those skilled in the art that it belongs to an equal range.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 도 4에 도시된 바와 같이 분사 플레이트(141)의 상면에 다수개 형성되는 분사공(141a)은, 가요성 필름(F)을 균일하게 처짐방지를 하기 위하여 필름(F)의 폭방향으로는 상호 균등하게 이격되게 다수 형성되며 필름(F)의 이송방향으로는 그 이격거리가 차등되게 형성된다. 4, a plurality of injection holes 141a are formed on the upper surface of the injection plate 141 to prevent the flexible film F from sagging uniformly, as shown in FIG. A plurality of films F are formed to be evenly spaced apart from each other in the width direction of the film F and the spacing distance of the film F is different in the conveying direction.

즉, 에칭액 분사유닛(120)과 대향되는 분사 플레이트(141)의 상면에는 분사공(141a)의 상호 이격거리가 좁게 형성하며, 에칭액 분사유닛(120)을 기준으로 양측으로 진행하면서 분사공(141a)의 이격거리가 넓게 형성되는 것이 바람직하다. That is, the mutual spacing of the spray holes 141a is narrow on the upper surface of the spray plate 141 opposite to the etchant spray unit 120, and the spray holes 141a Is formed to be wide.

이러한 분사공(141a)의 형성에 의하여, 에칭액 분사유닛(120)과 가까운 가요성 필름(F)은 분사되는 에칭액에 의하여 하방으로 가압력을 받으며, 에칭액 흡입유닛(130)과 가까운 가요성 필름(F)은 그 흡입력에 의하여 상방으로 가압되기 때문 에, 에칭액 분사유닛(120)측에는 보다 많은 분사공(141a)이 형성되어 보다 큰 상방 지지력을 가지고 에칭액 흡입유닛(130)측에는 보다 적은 분사공(141a)이 형성되어 상대적으로 적은 지지력을 가지도록 하여 가요성 필름(F)이 보다 수평하게 이송되면서 하방처짐을 방지할 수 있다. The flexible film F close to the etchant injection unit 120 is pressed downward by the etchant to be sprayed and the flexible film F close to the etchant suction unit 130 A larger number of spray holes 141a are formed on the side of the etchant injecting unit 120 to have a larger upward supporting force and fewer spray holes 141a are formed on the side of the etchant suction unit 130, So that the flexible film F can be transported more horizontally while preventing the downward sagging.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면 매니폴드(143)의 구성을 변경하여 이와 동일한 효과를 달성할 수 있다. 즉, 도시하지는 않았지만, 에칭액 분사유닛(120)과 대향되는 위치의 분사 플레이트(141)와 연통되는 매니폴드(143) 도관을 펌핑유닛(145)과 가깝게 형성하며 에칭액 흡입유닛(130)과 대향되는 위치의 분사 플레이트(141)와 연통되는 매니폴드(143) 도관을 펑핑유닛(145)과 멀게 형성함으로써, 그 펌핑력이 차등되게 함으로써 최종적으로 에칭액 흡입유닛(130)측 분사공(141a)을 통하여 분사되는 에칭액 또는 에어의 분사력은 상대적으로 작고 에칭액 분사유닛(120)측 분사공(141a)을 통하여 분사되는 에칭액 또는 에어의 분사력은 상대적으로 크게 할 수 있어 가요성 필름(F)이 보다 수평하게 이송되면서 하방처짐을 방지할 수 있다. In addition, according to the preferred embodiment of the present invention, the same effect can be achieved by changing the configuration of the manifold 143. [ That is, although not shown, the manifold 143 communicating with the jetting plate 141 at a position opposed to the etchant injecting unit 120 forms the conduit close to the pumping unit 145, and is opposed to the etchant sucking unit 130 The manifold 143 communicating with the injection plate 141 at a position spaced apart from the punching unit 145 may have a pumping force different from that of the pumping unit 145 so as to be finally discharged through the spray hole 141a at the side of the etchant suction unit 130 The jetting force of the etchant or air to be jetted is relatively small and the jetting force of the etchant or air jetted through the jetting hole 141a on the side of the etchant jetting unit 120 can be made relatively large so that the flexible film F is transported more horizontally It is possible to prevent downward deflection.

이하, 도 2 및 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가요성 필름 에칭장치(100)의 동작을 설명한다. Hereinafter, the operation of the flexible film etching apparatus 100 according to the preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 5. FIG.

가요성 필름(F)이 롤(160a)(160b)의 회전에 의하여 롤(160a)에서 풀리고 롤(160b)에 감기면서 이송되면 펌프(P1)가 작동되면서 에칭액조(111)의 에칭액이 에칭액 분사유닛(120)의 노즐(121)을 통하여 분사되면서 필름(F)의 표면이 에칭처리된다. 분사되는 에칭액은 가요성 필름(F)과 부딪히면서 그 이송방향 전후방으로 분기되어 흐르게 된다. When the flexible film F is transported while being unwound from the roll 160a by the rotation of the rolls 160a and 160b and wound around the roll 160b, the pump P1 is operated and the etchant of the etchant bath 111 is injected into the etchant The surface of the film F is etched while being injected through the nozzle 121 of the unit 120. [ The etchant sprayed is branched and flows forward and backward in the transport direction while bumping against the flexible film (F).

이와 연동하여, 펌프(P2)가 작동하면서 에칭액 흡입유닛(120)의 노즐(121)에 부압이 발생되고 그 부압에 의하여 가요성 필름(F)의 표면에서 분기되어 흐르거나 잔존하는 에칭액이 흡입되어 에칭액조(111)로 회수된다. A negative pressure is generated in the nozzle 121 of the etching liquid suction unit 120 while the pump P2 is operated and the etching liquid which is branched or flows from the surface of the flexible film F due to the negative pressure is sucked And is recovered in the etching liquid tank 111.

또한, 이와 연동하여 펌핑유닛(145)이 작동하면서 에어 또는 에칭액이 매니폴드(143)를 거쳐 분사 플레이트(141)의 분사공(141a)으로부터 분사되면서 가요성 필름(F)이 하방에서 비접촉식으로 지지되어 하방처짐이 방지된다. The pumping unit 145 is operated so that the air or the etchant is sprayed from the spray hole 141a of the spray plate 141 through the manifold 143 so that the flexible film F is supported in a non- So that downward deflection is prevented.

이와 같이, 가요성 필름(F)이 균일하게 수평을 유지하면서 이송되면서 분사되는 에칭액에 의하여 그 표면이 균일하게 에칭처리된다. Thus, the surface of the flexible film F is uniformly etched by the etchant sprayed while being fed while being uniformly leveled.

이상, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범위를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Those skilled in the art will readily appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims.

상기한 바와 같이 본 발명에 의하면, 가요성 필름의 하방처짐을 비접촉식으로 방지함으로써 가요성 필름의 이면에 스크래치 등과 같은 표면 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the present invention, it is possible to prevent surface damage such as scratches on the back surface of the flexible film by preventing the downward deflection of the flexible film in a noncontact manner.

또한, 상기한 바와 같이 가요성 필름의 표면 손상을 방지함으로써 롤 투 롤(Roll to Roll) 방식에 의한 이송시 가요성 필름의 에칭표면의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다. In addition, as described above, since the surface of the flexible film is prevented from being damaged, the etching surface of the flexible film can be prevented from being damaged during transportation by the roll-to-roll method.

또한, 가요성 필름의 하부를 균일하게 지지함으로써 가요성 필름이 리플발생현상 없이 안정적으로 평평하게 이송될 수 있어 균일한 에칭처리를 할 수 있는 효과가 있다. Further, by uniformly supporting the lower portion of the flexible film, the flexible film can be transported stably and flatly without occurrence of ripples, thereby achieving a uniform etching process.

Claims (6)

이송되는 가요성 필름(flexible film)이 에칭처리되며, 에칭액이 저수되는 액조를 포함하는 하우징; A housing including a liquid tank in which a transferred flexible film is etched and an etchant is stored; 상기 하우징내에서 상기 가요성 필름의 상측에 위치하여 상기 가요성 필름의 상부로 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛; An etchant ejection unit positioned above the flexible film in the housing to eject an etchant onto the flexible film; 상기 에칭액 분사유닛의 상기 필름 이송방향 전후방에 위치하여, 상기 가요성 필름의 상부면에 잔존하는 에칭액을 흡입하는 에칭액 흡입유닛; 및 An etching liquid sucking unit positioned at front and rear sides of the film transport direction of the etchant injection unit and sucking the etching liquid remaining on the upper surface of the flexible film; And 상기 가요성 필름의 하방처짐을 방지하도록, 상기 가요성 필름을 하부에서 비접촉 지지하는 처짐방지유닛;을 포함하는 가요성 필름 에칭장치. And a sag preventing unit for supporting the flexible film in a non-contact manner at a lower portion thereof so as to prevent the flexible film from sagging downward. 제1항에 있어서, 상기 처짐방지유닛은, The apparatus according to claim 1, wherein the slack prevention unit comprises: 상기 가요성 필름의 하측에 위치하며, 상면에는 다수의 분사공이 형성되는 분사 플레이트; An injection plate positioned below the flexible film and having a plurality of injection holes formed on an upper surface thereof; 상기 분사 플레이트와 연통되는 매니폴드(manifold); 및 A manifold communicating with the injection plate; And 상기 분사 플레이트 및 매니폴드와 연통되는 펌핑 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 필름 에칭장치. And a pumping unit in communication with the ejection plate and the manifold. 제2항에 있어서, 상기 분사공은, [3] The apparatus of claim 2, 상기 가요성 필름의 하방처짐을 균등하게 지지하도록, So as to evenly support the downward deflection of the flexible film, 상기 가요성 필름의 폭방향으로는, 상호 균등하게 이격되어 형성되며, The flexible film is formed uniformly spaced apart from each other in the width direction of the flexible film, 상기 가요성 필름의 이송방향으로는, 상호 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 가요성 필름 에칭장치. Wherein the flexible film is formed so as to be spaced apart from each other in the feeding direction of the flexible film. 제3항에 있어서, 상기 분사공은, [5] The apparatus of claim 3, 상기 가요성 필름의 이송방향으로의 상호 이격거리는, The mutual spacing distance of the flexible film in the transport direction is preferably, 상기 에칭액 흡입유닛측에서는 넓으며 상기 에칭액 분사유닛측에서는 좁은 것을 특징으로 하는 가요성 필름 에칭장치. Wherein the etching liquid injecting unit is wide at the side of the etching liquid sucking unit and narrow at the side of the etching liquid injecting unit. 제2항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 2 to 4, 상기 펌핑 유닛은, The pumping unit includes: 상기 매니폴드 및 상기 분사 플레이트를 거쳐 상기 분사공을 통하여 에어(air)를 분사하여 상기 가요성 필름을 지지하는 것을 특징으로 하는 가요성 필름 에칭장치. Wherein the flexible film is supported by injecting air through the injection hole through the manifold and the injection plate. 제2항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 2 to 4, 상기 펌핑 유닛은, The pumping unit includes: 상기 액조와 연통되어, 상기 매니폴드 및 상기 분사 플레이트를 거쳐 상기 분사공을 통하여 에칭액을 분사하여 상기 가요성 필름을 지지하는 것을 특징으로 하는 가요성 필름 에칭장치. And the flexible film is held in communication with the liquid tank to spray the etching liquid through the injection hole through the manifold and the injection plate to support the flexible film.
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