KR100727296B1 - Plasma display apparatus and driving method thereof - Google Patents

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Abstract

A plasma display apparatus and a driving method thereof are provided to prevent electrical damage to driving elements in the plasma display apparatus by adjusting applying time of a ramp-up waveform. A plasma display apparatus includes a plasma display panel, a driver, and a driving pulse controller. The plasma display panel includes scan and sustain electrodes(Y,Z), and address electrodes(X) which are formed to cross the scan and sustain electrodes. The driver applies a driving voltage to the electrodes during a reset period, an address period after the reset period, or a sustain period after the address period. The driving pulse controller applies a set-up waveform, which gradually rises to a first voltage(Vsc) with a first slope and a second voltage(Vsc+Vs) with a second slope, to the scan electrodes during a set-up period of the reset period, applies a first bias waveform with positive polarity to the address electrodes, applies a ramp-down waveform with negative polarity to the scan electrodes, and applies a positive polarity waveform to the sustain electrodes.

Description

플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법{Plasma Display Apparatus and Driving Method thereof}Plasma display device and driving method thereof

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 도시한 도.1 is a diagram showing the structure of a typical plasma display panel.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 화상 계조를 구현하는 방법을 나타낸 도.2 is a diagram illustrating a method of implementing image gradation of a conventional plasma display panel.

도 3은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 따른 구동파형을 나타낸 도.3 is a view illustrating a driving waveform according to a driving method of a conventional plasma display panel.

도 4는 방전 개시 전압의 분포를 전극 간의 거리에 따라 나타낸 도.4 is a diagram showing a distribution of a discharge start voltage according to a distance between electrodes.

도 5는 스캔 전극(Y)에 종래의 셋업 파형의 셋업 전압이 인가되었을 때의 셀 전압의 변화과정을 방전 전극 간의 거리에 따라 나타낸 도.5 is a diagram showing a process of changing the cell voltage when the setup voltage of the conventional setup waveform is applied to the scan electrode Y according to the distance between the discharge electrodes.

도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 1 실시예를 설명하기 위한 도.6 is a diagram for explaining a first embodiment of the plasma display device according to the present invention;

도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 일례를 설명하기 위한 도.Fig. 7 is a view for explaining an example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 8은 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하는 이유를 설명하기 위한 도.FIG. 8 is a diagram for explaining the reason why a positive first bias waveform is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y. FIG.

도 9는 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스의 중첩 상태를 설명하기 위한 도.9 is a diagram for explaining the superposition state of the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the sustain period.

도 10은 서스테인 기간에서 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스에 대응하여 어드레스 전극(X)으로 인가되는 정극성 전압에 대해 설명하기 위한 도.FIG. 10 is a diagram for explaining a positive voltage applied to the address electrode X in response to the first sustain pulse applied in the sustain period. FIG.

도 11은 롱 갭 전극구조를 설명하기 위한 도.11 is a view for explaining a long gap electrode structure.

도 12는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 다른 예를 설명하기 위한 도.12 is a diagram for explaining another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention;

도 13은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 또 다른 예를 설명하기 위한 도.Fig. 13 is a view for explaining still another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 14는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 또 다른 예를 설명하기 위한 도.Fig. 14 is a view for explaining still another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 15는 육각 형태의 전압곡선(Vt-Curve)을 이용하여 셋업 기간 동안의 방전셀 내에서의 전압의 변화과정을 나타낸 도.FIG. 15 is a view illustrating a process of voltage change in a discharge cell during a setup period using a hexagonal voltage curve (Vt-Curve). FIG.

도 16a 내지 도 16b는 프레임의 복수의 서브필드 중 선택되 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가하는 방법을 설명하기 위한 도.16A to 16B illustrate a method of applying a first bias waveform only in selected subfields among a plurality of subfields of a frame.

도 17은 프레임의 복수의 서브필드에서 리셋 파형이 전압의 크기를 설명하기 위한 도.FIG. 17 is a diagram for explaining the magnitude of voltage of a reset waveform in a plurality of subfields of a frame; FIG.

도 18은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도.18 is a diagram for explaining a second embodiment of the plasma display device according to the present invention;

도 19a 내지 도 19b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도.19A to 19B are views for explaining a second embodiment of a method of driving a plasma display device of the present invention.

도 20은 셋다운 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 파형을 보다 상세히 설명하기 위한 도.20 is a diagram for explaining in detail the waveform applied to the sustain electrode Z in the set-down period.

도 21은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도.21 is a diagram for explaining a third embodiment of the plasma display device according to the present invention;

도 22a 내지 도 22b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도.22A to 22B are diagrams for explaining a third embodiment of the driving method of the plasma display device of the present invention.

도 23은 셋다운 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 파형을 보다 상세히 설명하기 위한 도.Fig. 23 is a diagram for explaining in detail the waveform applied to the scan electrode Y in the setdown period.

도 24는 종래의 구동 파형에서 스캔 기준 파형의 전압이 급격하게 상승하는 경우를 설명하기 위한 도.24 is a view for explaining the case where the voltage of the scan reference waveform rises sharply in the conventional drive waveform.

도 25는 본 발명의 구동 파형에서 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 경우를 설명하기 위한 도.25 is a diagram for explaining the case where the voltage of the scan reference waveform gradually rises in the drive waveform of the present invention;

도 26은 스캔 전극군의 개념을 설명하기 위한 도.26 is a diagram for explaining a concept of a scan electrode group;

도 27a 내지 도 27b는 도 26의 스캔 전극군에 따라 상승파형의 인가시간을 조절하는 구동방법을 설명하기 위한 도.27A to 27B are views for explaining a driving method of adjusting an application time of a rising waveform in accordance with the scan electrode group of FIG.

도 28a 내지 도 28b는 스캔 전극별로 상승파형의 인가시간을 각각 서로 다르게 조절하는 구동방법을 설명하기 위한 도.28A to 28B are views for explaining a driving method for differently adjusting the application time of the rising waveform for each scan electrode;

도 29는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도.29 is a diagram for explaining a fourth embodiment of the plasma display device according to the present invention;

도 30a 내지 도 30b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도.30A to 30B are views for explaining a fourth embodiment of a method of driving a plasma display device of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

600 ; 플라즈마 디스플레이 패널 601 ; 데이터 구동부600; Plasma display panel 601; Data driver

602 ; 스캔 구동부 603 ; 서스테인 구동부602; Scan driver 603; Sustain drive

604 ; 구동 펄스 제어부604; Driving pulse controller

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 리셋 기간에서 스캔 전극(Y)으로 셋업 파형이 공급되는 동안 어드레스 전극(X)으로 공급되는 구동 파형을 조절하여 오 방전을 방지하며 발광 효율을 향상시키는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to adjust a driving waveform supplied to an address electrode (X) while a setup waveform is supplied to a scan electrode (Y) in a reset period. The present invention relates to a plasma display device and a driving method thereof for preventing the light emission efficiency and improving the luminous efficiency.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널과 후면 패널 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.In general, a plasma display panel is a partition wall formed between a front panel and a rear panel to form one unit cell, and each cell includes neon (Ne), helium (He), or a mixture of neon and helium (Ne + He) and An inert gas containing the same main discharge gas and a small amount of xenon is filled. When discharged by a high frequency voltage, the inert gas generates vacuum ultraviolet rays and emits phosphors formed between the partition walls to realize an image. Such a plasma display panel has a spotlight as a next generation display device because of its thin and light configuration.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.1 illustrates a structure of a general plasma display panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 기판(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지 전극이 배열된 전면 패널(100) 및 배면을 이루는 후면 기판(111) 상에 전술한 복수의 유지 전극과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면 패널(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.As shown in FIG. 1, a plasma display panel includes a front panel including a plurality of sustain electrodes formed by pairing a scan electrode 102 and a sustain electrode 103 on a front substrate 101, which is a display surface on which an image is displayed. The rear panel 110 on which the plurality of address electrodes 113 are arranged so as to intersect the plurality of storage electrodes described above on the back substrate 111 forming the back surface 100 and the rear surface is coupled in parallel with a predetermined distance therebetween.

전면 패널(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 유전체층(104)에 의해 덮혀지고, 상부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.The front panel 100 is made of a scan electrode 102 and a sustain electrode 103, that is, a transparent electrode (a) formed of a transparent ITO material and a metal material to mutually discharge and maintain light emission of the cells in one discharge cell. The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 provided as the bus electrode b are included in pairs. The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 are covered by one or more upper dielectric layers 104 that limit the discharge current and insulate the electrode pairs, and to facilitate the discharge conditions on the upper dielectric layer 104 top surface. A protective layer 105 on which magnesium oxide (MgO) is deposited is formed.

후면 패널(110)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면 패널(110)의 상측면에는 어드레스 방전 시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.The rear panel 110 is arranged such that a plurality of discharge spaces, that is, barrier ribs 112 of a stripe type (or well type) for forming discharge cells are maintained in parallel. In addition, a plurality of address electrodes 113 which perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition wall 112. On the upper side of the rear panel 110, R, G, and B phosphors 114 which emit visible light for image display during address discharge are coated. A lower dielectric layer 115 is formed between the address electrode 113 and the phosphor 114 to protect the address electrode 113.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에서 화상 계조를 구현하는 방법은 다음 도 2와 같다.A method of implementing image gradation in such a plasma display panel is shown in FIG. 2.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 화상 계조를 구현하는 방법을 나타낸 도이다.2 is a diagram illustrating a method of implementing image grayscale of a conventional plasma display panel.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 화상 계조(Gray Level) 표현 방법은 한 프레임을 발광횟수가 다른 여러 서브필드로 나누고, 각 서브필드는 다시 모든 셀들을 초기화시키기 위한 리셋 기간(RPD), 방전될 셀을 선택하기 위한 어드레스 기간(APD) 및 방전횟수에 따라 계조를 구현하는 서스테인 기간(SPD)으로 나누어진다. 예를 들어, 256 계조로 화상을 표시하고자 하는 경우에 1/60 초에 해당하는 프레임기간(16.67ms)은 도 2와 같이 8개의 서브필드들(SF1 내지 SF8)로 나누어지고, 8개의 서브 필드들(SF1 내지 SF8) 각각은 리셋 기간, 어드레스 기간 및 서스테인 기간으로 다시 나누어지게 된다.As shown in FIG. 2, in the conventional method of expressing a gray level of a plasma display panel, a frame is divided into several subfields having different number of emission times, and each subfield is a reset period (RPD) for initializing all cells again. ) Is divided into an address period APD for selecting a cell to be discharged and a sustain period SPD for implementing gradation according to the number of discharges. For example, when displaying an image with 256 gray levels, a frame period (16.67 ms) corresponding to 1/60 second is divided into eight subfields SF1 to SF8 as shown in FIG. 2, and eight subfields. Each of the SFs SF1 to SF8 is divided into a reset period, an address period, and a sustain period.

각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 각 서브필드마다 동일하다. 방전될 셀을 선택하기 위한 어드레스방전은 어드레스 전극과 스캔 전극인 투명전극 사이의 전압 차에 의해 일어난다. 서스테인 기간은 각 서브필드에서 2n(단, n = 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7)의 비율로 증가된다. 이와 같이 각 서브필드에서 서스테인 기간이 달라져 각 서브필드의 서스테인 기간 즉, 서스테인 방전 횟수를 조절하여 화상의 계조를 표현하게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 따른 구동파형을 살펴보면 다음 도 3과 같다.The reset period and the address period of each subfield are the same for each subfield. The address discharge for selecting the cell to be discharged is caused by the voltage difference between the address electrode and the transparent electrode which is the scan electrode. The sustain period is increased at a rate of 2 n ( where n = 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7) in each subfield. In this way, the sustain period is different in each subfield, so that the gray scale of the image is expressed by adjusting the sustain period of each subfield, that is, the number of sustain discharges. The driving waveforms according to the driving method of the plasma display panel are shown in FIG. 3.

도 3은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 따른 구동파형을 나타 낸 도면이다.3 is a diagram illustrating a driving waveform according to a driving method of a conventional plasma display panel.

도 3에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 모든 셀들을 초기화시키기 위한 리셋 기간, 방전할 셀을 선택하기 위한 어드레스 기간 및 선택된 셀의 방전을 유지시키기 위한 서스테인 기간으로 나뉘어 구동된다. 또한, 방전된 셀 내의 벽전하를 소거하기 위한 소거 기간이 부가적으로 더 포함되어 구동될 수도 있다.As shown in FIG. 3, the plasma display panel is driven by being divided into a reset period for initializing all cells, an address period for selecting a cell to be discharged, and a sustain period for maintaining discharge of the selected cell. In addition, an erase period for erasing wall charge in the discharged cell may be additionally included and driven.

리셋 기간에 있어서, 셋업 기간에는 모든 스캔 전극들에 상승 램프(Ramp-up) 파형이 동시에 인가된다. 이 상승 램프 파형에 의해 전화면의 방전셀들 내에는 약한 암방전(Dark Discharge)이 일어난다. 이 셋업 방전에 의해 어드레스 전극과 서스테인 전극 상에는 정극성 벽전하가 쌓이게 되며, 스캔 전극 상에는 부극성의 벽전하가 쌓이게 된다.In the reset period, a ramp-up waveform is simultaneously applied to all scan electrodes. This rising ramp waveform causes weak dark discharge within the full discharge cells. By this setup discharge, positive wall charges are accumulated on the address electrode and the sustain electrode, and negative wall charges are accumulated on the scan electrode.

셋다운 기간에는 상승 램프 파형이 공급된 후, 상승 램프 파형의 피크(Peak)전압보다 낮은 정극성 전압에서 떨어지기 시작하여 그라운드(GND)레벨 전압 이하의 특정 전압레벨까지 떨어지는 하강 램프파형(Ramp-down)이 셀들 내에 미약한 소거방전을 일으킴으로써 스캔 전극에 과도하게 형성된 벽 전하를 충분히 소거시키게 된다. 이 셋 다운 방전에 의해 어드레스 방전이 안정되게 일어날 수 있을 정도의 벽전하가 셀들 내에 균일하게 잔류된다.During the set-down period, after the rising ramp waveform is supplied, the ramp ramp begins to fall from the positive voltage lower than the peak voltage of the rising ramp waveform and then falls to a specific voltage level below the ground level voltage. ) Generates a weak erase discharge in the cells, thereby sufficiently erasing wall charges excessively formed in the scan electrode. By this set-down discharge, wall charges such that the address discharge can stably occur remain uniformly in the cells.

어드레스 기간에는 스캔 전극(Y)으로 스캔 기준 전압(Vsc)의 스캔 기준 파형이 인가되고, 이러한 스캔 기준 파형의 스캔 기준 전압(Vsc)으로 부터 하강하는 부극성 스캔 전압(-Vy)이 스캔 전극(Y)들에 순차적으로 인가됨과 동시에 스캔 전압에 대응되어 어드레스 전극에 정극성의 데이터 전압이 인가된다. 이 스캔 전압과 데이터 전압의 전압 차와 리셋 기간에 생성된 벽 전압이 더해지면서 데이터 전압이 인가되는 방전셀 내에는 어드레스 방전이 발생된다. 어드레스 방전에 의해 선택된 셀들 내에는 서스테인 전압(Vs)의 서스테인 펄스(SUS)가 인가될 때 방전이 일어날 수 있게 하는 정도의 벽전하가 형성된다. 서스테인 전극(Z)에는 셋다운 기간과 어드레스 기간 동안에 스캔 전극(Y)과의 전압차를 줄여 스캔 전극(Z)과의 오방전이 일어나지 않도록 서스테인 바이어스 전압(Vz)이 공급된다.In the address period, a scan reference waveform of the scan reference voltage Vsc is applied to the scan electrode Y, and a negative scan voltage (-Vy) falling from the scan reference voltage Vsc of the scan reference waveform is applied to the scan electrode ( At the same time, the positive data voltage is applied to the address electrode in correspondence with the scan voltage. As the voltage difference between the scan voltage and the data voltage and the wall voltage generated in the reset period are added, address discharge is generated in the discharge cell to which the data voltage is applied. In the cells selected by the address discharge, wall charges such that a discharge can occur when a sustain pulse SUS of the sustain voltage Vs is applied are formed. The sustain bias voltage Vz is supplied to the sustain electrode Z so that the voltage difference with the scan electrode Y is reduced during the set down period and the address period so that erroneous discharge with the scan electrode Z does not occur.

서스테인 기간에는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)들에 교번적으로 서스테인 전압(Vs)의 서스테인 펄스(Sus)가 인가된다. 어드레스 방전에 의해 선택된 셀은 셀 내의 벽 전압과 서스테인 펄스의 서스테인 전압이 더해지면서 매 서스테인 펄스가 인가될 때 마다 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 사이에 서스테인 방전 즉, 표시방전이 일어나게 된다.In the sustain period, a sustain pulse Su of the sustain voltage Vs is applied to the scan electrode Y and the sustain electrodes Z alternately. In the cell selected by the address discharge, the sustain voltage, that is, the display discharge, is generated between the scan electrode Y and the sustain electrode Z every time the sustain pulse is applied as the wall voltage in the cell and the sustain voltage of the sustain pulse are added. .

서스테인 방전이 완료된 후, 소거 기간에서는 펄스폭과 전압레벨이 작은 소거 램프(Ramp-ers) 파형의 전압이 서스테인 전극에 공급되어 전화면의 셀들 내에 잔류하는 벽 전하를 소거시키게 된다.After the sustain discharge is completed, in the erase period, a voltage of an erase ramp (Ramp-ers) waveform having a small pulse width and a low voltage level is supplied to the sustain electrode to erase the wall charge remaining in the cells of the full screen.

한편, 최근에는 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 향상시키기 위하여 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 간격을 넓게 하고 있다.On the other hand, in recent years, the interval between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) is widened to improve the luminance of the plasma display panel.

이와 같이, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 증가하면 양 광주 영역이 확대됨으로써 발광 효율이 향상되지만, 이러한 전극 간의 간격의 증가는 구동 전압의 상승을 야기하게 된다. 이에 따라 리셋 과정 중의 휘점 발생 확률을 증 가시켜 오 방전을 야기하는 한편, 소모 전력량을 증가시켜 구동효율을 저하하는 원인으로 작용한다.As such, when the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z increases, the light emission efficiency is improved by enlarging both photonic regions, but the increase of the distance between the electrodes causes an increase in the driving voltage. Accordingly, the probability of occurrence of bright spots during the reset process is increased to cause false discharge, and the power consumption is increased to decrease driving efficiency.

이러한 문제점들을 플라즈마 디스플레이 패널의 방전발생원리 및 전압 마진의 측정 등에 사용되는 육각 형태의 전압곡선(Vt-Curve)을 활용하여 보다 상세히 살펴보면 다음 도 4와 같다.These problems will be described in more detail by using a hexagonal voltage curve (Vt-Curve) used for the discharge generation principle and the voltage margin of the plasma display panel.

도 4는 방전 개시 전압의 분포를 전극 간의 거리에 따라 나타낸 도이다.4 is a diagram showing the distribution of discharge start voltages according to the distance between electrodes.

도 4를 살펴보면, 수평축은 서스테인 전극(Z)과 스캔 전극(Y) 간의 상대적인 전압 차를 나타내고, 수직축은 어드레스 전극(X)과 스캔 전극(Y) 간의 상대적인 전압 차를 나타낸다.Referring to FIG. 4, the horizontal axis represents the relative voltage difference between the sustain electrode Z and the scan electrode Y, and the vertical axis represents the relative voltage difference between the address electrode X and the scan electrode Y.

이러한 도 4의 육각 형태의 전압곡선 내부의 영역은 방전 셀 내부의 벽 전하들이 분포하는 지역으로 이 지역에서는 방전이 발생하지 않는다.The region inside the hexagonal voltage curve of FIG. 4 is a region where wall charges are distributed in the discharge cell, and no discharge occurs in this region.

전압곡선의 3 사분면 면 방전 영역에 표시되는 Vf1은 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리가 상대적으로 짧은 경우 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간에 방전이 개시되는 전압을 나타낸다. Vf2 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리가 상대적으로 긴 경우 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간에 방전이 개시되는 전압을 나타낸다.Vf1 displayed in the three-quadrant discharge region of the voltage curve indicates a voltage at which discharge starts between the scan electrode Y and the sustain electrode Z when the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively short. . When the distance between the Vf2 scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively long, the voltage at which discharge starts between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is shown.

도 4를 통하여 알 수 있는 바와 같이, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리의 차이에 비례하여 방전 개시 전압이 상승한다. 이를 수학식으로 표현하면 다음 수학식 1과 같다.As can be seen from FIG. 4, the discharge start voltage increases in proportion to the difference in distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z. FIG. This may be expressed as Equation 1 below.

ΔV = Vf2 - Vf1ΔV = Vf2-Vf1

수학식 1 및 도 4를 통하여 알 수 있는 바와 같이, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리에 따라 방전 개시 전압의 차이(ΔV)가 발생하는 것을 알 수 있다.As can be seen from Equation 1 and FIG. 4, it can be seen that a difference ΔV of the discharge start voltage occurs depending on the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

이러한 육각 형태의 전압 곡선을 이용하여 도 3의 종래의 구동 파형의 리셋 기간의 셋업 기간에서 인가되는 셋업 파형의 셋업 전압에 의한 방전을 살펴보면 다음 도 5와 같다.The discharge by the setup voltage of the setup waveform applied in the setup period of the reset period of the conventional driving waveform of FIG. 3 using the hexagonal voltage curve is as follows.

도 5는 스캔 전극(Y)에 종래의 셋업 파형의 셋업 전압이 인가되었을 때의 셀 전압의 변화과정을 방전 전극 간의 거리에 따라 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating a process of changing the cell voltage when the setup voltage of the conventional setup waveform is applied to the scan electrode Y according to the distance between the discharge electrodes.

도 5를 살펴보면, 도 5의 점 A는 서스테인 전극(Z)에 마지막 서스테인 펄스의 서스테인 전압(Vs)이 인가된 직후의 벽 전압을 나타낸다.Referring to FIG. 5, point A of FIG. 5 represents a wall voltage immediately after the sustain voltage Vs of the last sustain pulse is applied to the sustain electrode Z.

여기서, 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극(Y)에 종래의 구동 방법에 따른 상승 램프(Ramp-Up) 파형이 공급되면, 방전셀 전압은 점 A로부터 도시된 화살표의 방향을 따라 3 사분면의 면 방전 영역을 경유하여 이동한다. 여기서, 방전셀 전압이 3 사분면의 면 방전영역의 경계치에 도달하게 되면 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 사이에서는 면 방전이 발생한다.Here, when the ramp-up waveform according to the conventional driving method is supplied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period, the discharge cell voltage is the plane of three quadrants along the direction of the arrow shown from the point A. It moves through the discharge area. Here, when the discharge cell voltage reaches the boundary value of the surface discharge region in the three quadrants, surface discharge occurs between the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

이때, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리가 상대적으로 짧은 경우 점 A'에서 면 방전이 발생한다.At this time, when the distance between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) is relatively short, surface discharge occurs at the point A '.

반면, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 거리가 상대적으로 긴 경우 점 A"에서 면 방전이 발생한다.On the other hand, when the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively long, surface discharge occurs at the point A ".

한편 이때, 도시된 바와 같이 점 A"는 면 방전과 대향 방전이 공존할 확률이 높은 영역이다.In this case, as illustrated, point A ″ is a region where the surface discharge and the counter discharge have a high probability of coexisting.

이상에서 설명한 도 4 내지 도 5를 종합하면, 발광 효율을 높이기 위해 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격을 증가시키면 리셋 기간의 셋업 기간에서 의도하지 않은 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 대향 방전이 발생할 확률이 상대적으로 높아진다. 여기서, 리셋 기간의 셋업 기간에서 의도하지 않은 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 대향 방전이 발생하게 되면 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 저하하는 한편, 오 방전을 유발하여 전체 구동이 불안정해지는 문제점이 있다.4 to 5 described above, if the interval between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) is increased to increase the luminous efficiency, the scan electrode (Y) and the address electrode unintentionally during the setup period of the reset period The probability of occurrence of opposite discharge between (X) is relatively high. In this case, when unintentional discharge between the scan electrode (Y) and the address electrode (X) occurs in the setup period of the reset period, the luminance of the plasma display panel is lowered, and an incorrect discharge is caused to cause the entire drive to become unstable. There is this.

이러한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은, 리셋 기간에서 스캔 전극(Y)으로 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)으로 인가되는 구동 파형을 조절하여 셋업 기간에서의 오 방전을 방지하고, 구동 시 발광 효율을 높이기 위한 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve this problem, the present invention adjusts the driving waveform applied to the address electrode (X) while the setup waveform is applied to the scan electrode (Y) in the reset period to prevent the mis-discharge during the setup period, SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a plasma display device and a driving method thereof for improving luminous efficiency.

또한, 본 발명의 다른 목적은 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 구동 파형에 발생하는 노이즈를 감소시켜 플라즈마 디스플레이 패널용 소자의 전기적 손상을 방지하는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a plasma display device and a method of driving the same, which reduce noise generated in driving waveforms applied to the scan electrode Y in a period to prevent electrical damage of the device for the plasma display panel. There is this.

상기한 목적을 이루기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부 및 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 스캔 전극에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하는 구동 펄스 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Plasma display device of the present invention for achieving the above object is a plasma display panel including a scan electrode and a sustain electrode, the address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode and a reset period, an address period, a sustain period Controlling a driver and a driver for applying a driving voltage to the electrodes in at least one of the at least one of the plurality of subfields of the frame to the first voltage at the first slope to the scan electrode in the setup period of the reset period. And a driving pulse control unit configured to apply a setup waveform that gradually rises to a second voltage at a second slope and gradually apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode. Characterized in that.

또한, 전술한 제 1 바이어스 파형의 피크(Peak) 전압은 어드레스 기간에서 어드레스 전극에 인가되는 데이터 전압의 1배 이상 1.5배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the peak voltage of the above-described first bias waveform may be 1 to 1.5 times the data voltage applied to the address electrode in the address period.

또한, 전술한 제 1 바이어스 파형은 구형 파형 또는 램프 파형인 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described first bias waveform is characterized in that the rectangular waveform or ramp waveform.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형보다 먼저 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller is characterized in that the first bias waveform is applied before the setup waveform.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기되어 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller is characterized in that the first bias waveform is applied in synchronization with the setup waveform.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형이 프레임의 하나 이상의 서브필드에서 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller is characterized in that the first bias waveform is applied in one or more subfields of the frame.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드에서 가장 넓도록 하는 것을 특징으로 한다.The driving pulse controller may be configured such that the pulse width of the first bias waveform is widest in the subfield having the lowest gray scale weight among the plurality of subfields of the frame.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형이 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브필드에서 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.The driving pulse controller may be configured to apply the first bias waveform to a low gray level subfield having a low gray scale weight among a plurality of subfields of the frame.

또한, 전술한 저 계조 서브필드는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드 중 하나 이상인 것을 특징으로 한다.The low gray level subfield may be one or more of the subfields from the first subfield to the third subfield in the order of low gray scale weight among the plurality of subfields of the frame.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 프레임의 저 계조 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드에서 가장 넓도록 하는 것을 특징으로 한다.The driving pulse controller may be configured such that the pulse width of the first bias waveform is widest in the subfield having the lowest gray scale weight among the low gray subfields of the frame.

또한, 전술한 제 1 기울기는 제 2 기울기보다 더 큰 것을 특징으로 한다.In addition, the aforementioned first slope is larger than the second slope.

또한, 전술한 제 1 전압의 크기는 리셋 기간 이후의 어드레스 기간에서 스캔 전극으로 인가되는 스캔 기준 파형의 전압의 크기와 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the magnitude of the aforementioned first voltage may be equal to the magnitude of the voltage of the scan reference waveform applied to the scan electrode in the address period after the reset period.

또한, 전술한 제 1 전압의 크기는 100V이상 150V이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the magnitude of the above-described first voltage is characterized in that the 100V or more and 150V or less.

또한, 전술한 제 2 전압의 크기는 230V이상 350V이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the magnitude of the above-described second voltage is characterized in that the 230V or more and 350V or less.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 프레임의 복수의 서브필드 중 어느 하나의 서브필드에서의 상기 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드와 다르도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller is characterized in that the magnitude of the second voltage in any one of the plurality of subfields of the frame is different from the other subfields.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 계조 가중치가 서로 다른 임의의 두 개의 서브필드 중 계조 가중치가 더 낮은 서브필드에서의 상기 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드보다 더 크도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller may be configured such that the magnitude of the second voltage in a subfield having a lower gray scale weight is greater than another subfield among any two subfields having different gray weights.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 어드레스 기간에서 서스테인 전극으로 80V이상 120V이하의 전압 크기를 갖는 서스테인 바이어스 파형이 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the aforementioned drive pulse controller is characterized in that the sustain bias waveform having a voltage magnitude of 80V or more and 120V or less is applied to the sustain electrode in the address period.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 서스테인 기간에서 스캔 전극으로 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스와 서스테인 전극으로 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스는 중첩(Overlap)되지 않도록 하고, 서스테인 기간에서 스캔 전극으로 인가되는 마지막 서스테인 펄스와 서스테인 전극으로 인가되는 마지막 서스테인 펄스도 중첩(Overlap)되지 않도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the driving pulse controller described above does not overlap the first sustain pulse applied to the scan electrode in the sustain period and the first sustain pulse applied to the scan electrode, and the last sustain pulse applied to the scan electrode in the sustain period. Also, the last sustain pulse applied to the sustain electrode may not be overlapped.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 서스테인 기간에서 스캔 전극 또는 서스테인 전극으로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가되는 동안, 어드레스 전극으로는 정극성의 제 2 바이어스 파형이 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse controller is characterized in that the second bias waveform of positive polarity is applied to the address electrode while the first sustain pulse is applied to the scan electrode or the sustain electrode in the sustain period.

또한, 전술한 제 2 바이어스 파형의 전압은 제 1 바이어스 파형의 전압 또는 어드레스 전극에 인가되는 데이터 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the voltage of the above-described second bias waveform is the same as the voltage of the data pulse applied to the voltage of the first bias waveform or the address electrode.

또한, 전술한 스캔 전극과 서스테인 전극간의 간격은 90㎛(마이크로 미터) 이상 200㎛(마이크로 미터) 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the above-mentioned interval between the scan electrode and the sustain electrode is characterized by being 90 µm (micrometer) or more and 200 µm (micrometer) or less.

또한, 전술한 스캔 전극과 서스테인 전극은 각각 투명 전극과 버스 전극을 포함하고, 스캔 전극과 서스테인 전극간의 간격은 스캔 전극의 투명 전극과 서스테인 전극의 투명 전극간의 간격인 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described scan electrode and the sustain electrode each include a transparent electrode and a bus electrode, the interval between the scan electrode and the sustain electrode is characterized in that the interval between the transparent electrode of the scan electrode and the transparent electrode of the sustain electrode.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 프레임의 복수의 서브필드 중 첫 번째 서브필드의 리셋 기간 이전에 스캔 전극에는 전압이 점진적으로 하강하는 하강 램프 파형을 포함하는 부극성 파형이 인가되고, 서스테인 전극에는 정극성 파형이 인가되도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the driving pulse controller described above is applied to the scan electrode a negative waveform including a falling ramp waveform in which the voltage gradually falls before the reset period of the first subfield of the plurality of subfields, and the positive electrode to the sustain electrode. It is characterized in that the polarity waveform is applied.

또한, 전술한 부극성 파형은 최저 전압이 어드레스 기간에서 스캔 전극으로 인가되는 스캔 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described negative waveform is characterized in that the lowest voltage is the same as the voltage of the scan pulse applied to the scan electrode in the address period.

또한, 전술한 정극성 파형은 그 전압이 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the above-mentioned positive waveform is characterized in that the voltage is equal to the voltage of the sustain pulse applied in the sustain period.

또한, 전술한 제 1 전압과 제 2 전압의 전압 차이는 서스테인 기간에서 스캔 전극 또는 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 펄스의 전압의 크기와 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the above-mentioned voltage difference between the first voltage and the second voltage is characterized in that the same as the magnitude of the voltage of the sustain pulse applied to the scan electrode or the sustain electrode in the sustain period.

또한, 상기한 목적을 이루기 위한 또 다른 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부 및 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 스캔 전극에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 셋업 기간 이후부터 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서 서스테인 전극으로 인가되는 전압의 크기는 어드레스 기간에서 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮도록 하는 구동 펄스 제어부를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, another plasma display device of the present invention for achieving the above object is a plasma display panel including a scan electrode and a sustain electrode, the address electrode formed in a direction intersecting the scan electrode and the sustain electrode and a reset period, the address A driving part for applying a driving voltage to the electrodes in one or more of a period, a sustain period, and a driving part, so that at least one subfield of the plurality of subfields of the frame has a first slope to the scan electrode in the setup period of the reset period. Apply a setup waveform that gradually rises up to the first voltage and then gradually rises up to the second voltage with a second slope, and applies a first bias waveform of positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode, First with scan electrode after setup period Scan pulse is supplied to the size of the voltage applied to the sustain electrodes in the period between the previous preferably includes a driving pulse control section to be lower than that of the sustain bias voltage waveform applied to the sustain electrode in the address period.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 셋업 기간 이후부터 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서는, 서스테인 전극으로 인가되는 전압을 셋업 기간에서 서스테인 전극으로 인가되는 전압과 동일하게 유지하다가, 셋다운 기간의 끝단에서는 셋업 기간에서 서스테인 전극으로 인가되는 전압 보다는 크고 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압으로 상승시키도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described driving pulse control unit is within a period from after the setup period until before the first scan pulse is supplied to the scan electrode, The voltage applied to the sustain electrode is kept equal to the voltage applied to the sustain electrode in the setup period, and at the end of the set-down period, the voltage is raised to a voltage that is greater than the voltage applied to the sustain electrode in the setup period and lower than the voltage of the sustain bias waveform. Characterized in that.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 셋업 기간 이후부터 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서는 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압을 그라운드 레벨(GND)의 전압으로 유지하다가, 상기 셋다운 기간의 끝단에서는 상기 그라운드 레벨의 전압 보다는 크고 상기 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압으로 상승시키도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the driving pulse control unit maintains the voltage applied to the sustain electrode at the ground level GND within the period after the setup period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode. At the end of is characterized in that to increase to a voltage greater than the voltage of the ground level and lower than the voltage of the sustain bias waveform.

또한, 상기한 목적을 이루기 위한 또 다른 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부 및 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 상기 스캔 전극에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 상기 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 상기 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되도록 하는 구동 펄스 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, another plasma display apparatus of the present invention for achieving the above object is a plasma display panel including a scan electrode and a sustain electrode, the address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode and a reset period, A driver and a driver for applying a driving voltage to the electrodes in one or more of an address period and a sustain period are controlled, so that at least one subfield of a plurality of subfields of a frame is provided to the scan electrode in a setup period of the reset period. Apply a setup waveform that gradually rises to a first voltage at one slope and then gradually rises to a second voltage at a second slope, and applies a positive first bias to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode. Allow the waveform to be applied and set up In the set-down period after the period, a falling waveform falling to a third voltage is applied to the scan electrode, and after a rising waveform rising to a predetermined slope from the third voltage to a fourth voltage is applied, And a driving pulse control unit configured to apply a scan pulse falling to 5 voltages.

또한, 전술한 상승파형의 소정의 기울기는 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 기울기보다 작은 것을 특징으로 한다.In addition, the predetermined slope of the rising waveform described above is smaller than the slope of the sustain pulse applied in the sustain period.

또한, 전술한 상승파형은 상기 제 4 전압에서 소정기간 동안 유지되는 것을 특징으로 한다.The rising waveform may be maintained at the fourth voltage for a predetermined period of time.

또한, 전술한 상승파형은 상기 스캔 전극에 인가되는 스캔 펄스 중 첫 번째 스캔 펄스가 인가되기 전까지 인가되는 것을 특징으로 한다.In addition, the aforementioned rising waveform may be applied until the first scan pulse of the scan pulses applied to the scan electrode is applied.

또한, 전술한 상승파형의 인가시간은 0㎲(마이크로 초)초과 20㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것을 특징으로 한다.In addition, the application time of the above-mentioned rising waveform is characterized in that it is within the range of 0 ms (microsecond) and 20 ms (microsecond) or less.

또한, 전술한 상승파형의 인가시간은 6㎲(마이크로 초)이상 10㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것을 특징으로 한다.In addition, the application time of the above-mentioned rising waveform is characterized in that it is in the range of 6 ms (microsecond) or more and 10 ms (microsecond) or less.

또한, 전술한 제 3 전압과 상기 제 5 전압은 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the third voltage and the fifth voltage described above are the same.

또한, 전술한 구동 펄스 제어부는 상기 스캔 전극 중 적어도 하나 이상의 스캔 전극에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간이 적어도 하나 이상의 다른 스캔 전극에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간과 다르도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the driving pulse controller may be configured so that the application time of the rising waveform applied to at least one scan electrode of the scan electrodes is different from the application time of the rising waveform applied to at least one other scan electrode. .

또한, 전술한 스캔 전극들은 적어도 하나 이상의 스캔 전극을 포함하는 2개 이상의 스캔 전극군으로 분할되고, 상기 구동 펄스 제어부는 적어도 하나 이상의 상기 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간이 적어도 하나 이상의 다른 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간과 다르도록 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the above-described scan electrodes are divided into two or more scan electrode groups including at least one scan electrode, and the driving pulse controller has at least one or more application times of the rising waveform applied to the at least one scan electrode group. It is characterized in that it is different from the application time of the rising waveform applied to the other scan electrode group.

또한, 전술한 2개 이상의 스캔 전극군은 모두 동일한 개수의 상기 스캔 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the aforementioned two or more scan electrode groups are characterized by including the same number of the scan electrodes.

또한, 전술한 2개 이상의 스캔 전극군 중 적어도 하나 이상의 스캔 전극군은 나머지 다른 스캔 전극군이 포함하는 스캔 전극의 개수와 다른 개수의 스캔 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.The scan electrode group may include at least one scan electrode group different from the number of scan electrodes included in the other scan electrode groups.

또한, 전술한 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극들에는 상기 상승파형의 인가시간이 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, all the scan electrodes included in the above-described scan electrode group may have the same application time of the rising waveform.

또한, 전술한 적어도 하나 이상의 스캔 전극을 포함하는 2이상의 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간의 차이는 동일하거나 상이한 것을 특징으 로 한다.In addition, the difference in the application time of the rising waveform is applied to the two or more scan electrode group including at least one scan electrode is characterized in that the same or different.

또한, 상기한 목적을 이루기 위한 또 다른 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부 및 상기 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 상기 스캔 전극에 제 3 전압까지 점진적으로 하강하는 하강파형이 인가되고, 상기 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 점진적으로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 상기 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되도록 하고, 셋업 기간 이후부터 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서는, 서스테인 전극으로 어드레스 기간에서 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압이 인가되도록 하는 구동 펄스 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, another plasma display apparatus of the present invention for achieving the above object is a plasma display panel including a scan electrode and a sustain electrode, the address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode and a reset period, A driving unit for applying a driving voltage to the electrodes in at least one of an address period and a sustain period and the driving unit are controlled so that at least one of the plurality of subfields of the frame is connected to the scan electrode in the setup period of the reset period. Apply a setup waveform that gradually rises to a first voltage with a first slope and then gradually rises to a second voltage with a second slope, and applies a first positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode. A bias waveform is applied, and In the set-down period after the setup period, a falling waveform gradually descending to the third voltage is applied to the scan electrode, and after the rising waveform gradually rising with a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage is applied, Sustain is applied to the sustain electrode in the address period to the sustain electrode within the period from which the scan pulse falling from the fourth voltage to the fifth voltage is applied and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode. And a driving pulse controller for applying a voltage lower than the voltage of the bias waveform.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법의 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a plasma display device and a driving method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<제 1 실시예><First Embodiment>

도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 1 실시예를 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining a first embodiment of the plasma display device according to the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(600), 데이터 구동부(601), 스캔 구동부(602), 서스테인 구동부(603) 및 구동 펄스 제어부(604)를 포함한다.As shown in FIG. 6, the plasma display apparatus of the present invention includes a plasma display panel 600, a data driver 601, a scan driver 602, a sustain driver 603, and a driving pulse controller 604.

여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(600)은 전면 패널(미도시)과 후면 패널(미도시)이 일정한 간격을 두고 합착되고, 다수의 전극들 예를 들어, 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)이 쌍을 이뤄 형성되고, 또한 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)과 교차되게 어드레스 전극들(X)이 형성된다.Here, the above-described plasma display panel 600 is bonded to the front panel (not shown) and the rear panel (not shown) at regular intervals, a plurality of electrodes, for example, the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) Are formed in pairs, and the address electrodes X are formed to intersect the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

데이터 구동부(601)에는 도시하지 않은 역감마 보정회로, 오차확산회로 등에 의해 역감마(Reverse Gamma) 보정 및 하프톤(Half Tone) 보정된 후, 서브필드 맵핑회로에 의해 각 서브필드에 맵핑된 데이터가 공급된다. 이러한 데이터 구동부(601)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 어드레스 전극(X)에 인가한다. 예를 들면, 이러한 데이터 구동부(601)는 구동 펄스 제어부(604)의 제어에 따라 어드레스 기간에서 공급된 데이터를 어드레스 전극(X)에 인가한다.In the data driver 601, reverse gamma correction and half tone correction are performed by an inverse gamma correction circuit, an error diffusion circuit, and the like, and then data mapped to each subfield by a subfield mapping circuit. Is supplied. The data driver 601 applies a predetermined driving voltage to the address electrode X in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period. For example, the data driver 601 applies data supplied in the address period to the address electrode X under the control of the drive pulse controller 604.

스캔 구동부(602)는 구동 펄스 제어부(604)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 스캔 전극(Y)에 인 가한다. 예를 들면, 리셋기간 동안 리셋 펄스, 예컨대 상승 램프 파형(Ramp-up)과 하강 램프 파형(Ramp-down)을 포함하는 리셋 파형을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 또한, 스캔 구동부(602)는 어드레스 기간 동안 부극성 스캔 전압(-Vy)의 스캔 펄스(Sp)를 스캔 전극(Y)에 순차적으로 인가하고, 서스테인 기간 동안에는 서스테인 펄스(SUS)를 스캔 전극(Y)에 인가한다.The scan driver 602 applies a predetermined driving voltage to the scan electrode Y in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 604. For example, a reset waveform including a reset pulse, for example, a rising ramp waveform Ramp-up and a falling ramp waveform Ramp-down, is applied to the scan electrode Y during the reset period. In addition, the scan driver 602 sequentially applies the scan pulse Sp of the negative scan voltage (-Vy) to the scan electrode Y during the address period, and applies the sustain pulse SUS to the scan electrode Y during the sustain period. ) Is applied.

서스테인 구동부(603)는 구동 펄스 제어부(604)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 서스테인 전극(Z)으로 인가한다. 예를 들면, 어드레스 기간 동안 정극성의 서스테인 바이어스 파형(Vzb)을 서스테인 전극(Z)에 공급하고 서스테인 기간 동안 스캔 구동부(602)와 교대로 동작하여 서스테인 펄스(SUS)를 서스테인 전극(Z)에 공급한다.The sustain driver 603 applies a predetermined driving voltage to the sustain electrode Z in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 604. For example, the positive sustain bias waveform Vzb is supplied to the sustain electrode Z during the address period, and is alternately operated with the scan driver 602 during the sustain period to supply the sustain pulse SUS to the sustain electrode Z. do.

구동 펄스 제어부(604)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간에서 데이터 구동부(601), 스캔 구동부(602) 및 서스테인 구동부(603)의 동작 타이밍과 동기화를 제어하기 위한 소정의 제어신호(CTRX, CTRY, CTRZ)를 발생하고, 그 제어신호를 각각 데이터 구동부(601), 스캔 구동부(602) 및 서스테인 구동부(603)에 공급함으로써 데이터 구동부(601), 스캔 구동부(602) 및 서스테인 구동부(603)를 제어한다.The drive pulse control unit 604 controls predetermined control signals CTRX and CTRY for controlling the operation timing and synchronization of the data driver 601, the scan driver 602 and the sustain driver 603 in the reset period, the address period, and the sustain period. , CTRZ, and the control signal is supplied to the data driver 601, the scan driver 602, and the sustain driver 603, respectively, to supply the data driver 601, the scan driver 602, and the sustain driver 603. To control.

특히, 구동 펄스 제어부(604)는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 아울러 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극 성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 한다. 즉, 구동 펄스 제어부(604)는 소정의 제어 신호를 스캔 구동부(602)로 공급하여, 스캔 구동부(602)로 하여금 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형을 인가하도록 하고, 또한 구동 펄스 제어부(604)는 소정의 제어 신호를 데이터 구동부(601)로 공급하여, 데이터 구동부(601)로 하여금 전술한 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하도록 하도록 하는 것이다.In particular, the driving pulse controller 604 increases the first voltage to the first voltage to the scan electrode Y in the one or more subfields of the plurality of subfields of the frame in the setup period of the reset period, and then to the second voltage to the second slope. The rising setup waveform is applied to the first waveform, and the first bias waveform of the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y. That is, the driving pulse controller 604 supplies a predetermined control signal to the scan driver 602, causing the scan driver 602 to scan electrodes in one or more of the plurality of subfields of the frame in the setup period of the reset period. Apply a setup waveform that rises to the first voltage at a first slope and then rises to a second voltage at a second slope to (Y), and the drive pulse controller 604 sends a predetermined control signal to the data driver 601. The data driver 601 causes the data driver 601 to apply a positive first bias waveform to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y described above.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 제 1 실시예의 구성 및 동작은 이후의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 설명을 통해 보다 명확히 될 것이다.The configuration and operation of the first embodiment of the plasma display device of the present invention will be more clearly understood through the description of the first embodiment of the method of driving the plasma display device.

도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 일례를 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining an example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 7을 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예에서는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되고, 이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가된다.Referring to FIG. 7, in the first exemplary embodiment of the method of driving the plasma display device, the first slope is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period in one or more of the plurality of subfields of the frame. A setup waveform that gradually rises up to the voltage and then gradually rises up to the second voltage with the second slope is applied, and the first bias waveform of the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y as described above. Is applied.

여기서, 전술한 셋업 파형의 제 1 기울기의 절대 값은 제 2 기울기의 절대 값보다 더 큰 것이 바람직하다. 즉 제 1 기울기가 제 2 기울기보다 더 가파르다.Here, the absolute value of the first slope of the above-described setup waveform is preferably larger than the absolute value of the second slope. That is, the first slope is steeper than the second slope.

또한, 전술한 제 1 전압은 그 크기가 리셋 기간 이후의 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 스캔 기준 파형의 스캔 기준 전압(Vsc)의 크기와 동일한 것이 바람직하다. 예를 들어, 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 스캔 기준 파형의 전압이 -Vsc인 경우에는 제 1 전압의 크기는 |-Vsc|인 Vsc이다. 이러한 제 1 전압의 크기는 100V이상 150V이하인 것이 또한 바람직하다.In addition, the above-described first voltage is preferably equal in magnitude to the scan reference voltage Vsc of the scan reference waveform applied to the scan electrode Y in the address period after the reset period. For example, when the voltage of the scan reference waveform applied to the scan electrode Y in the address period is -Vsc, the magnitude of the first voltage is Vsc of | -Vsc |. It is also preferable that the magnitude of this first voltage is 100 V or more and 150 V or less.

또한, 전술한 제 2 전압은 그 크기가 스캔 기준 파형의 전압, 즉 스캔 기준 전압(Vsc)과 서스테인 기간에서 인가되는 서스테인 전압(Vs)의 합인 것이 바람직하다. 이러한 제 2 전압의 크기는 230V이상 350V이하인 것이 또한 바람직하다.In addition, it is preferable that the above-mentioned second voltage is the sum of the voltage of the scan reference waveform, that is, the scan reference voltage Vsc and the sustain voltage Vs applied in the sustain period. It is also preferable that the magnitude of this second voltage is 230 V or more and 350 V or less.

이러한, 제 1 전압과 제 2 전압의 전압 차이는 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스의 전압(Vs)의 크기와 동일한 것이 바람직하다.Such, my The voltage difference between the first voltage and the second voltage is preferably equal to the magnitude of the voltage Vs of the sustain pulse applied to the scan electrode Y or the sustain electrode Z in the sustain period.

이와 같은 제 1 전압과 제 2 전압의 크기는 도 3의 종래의 구동 파형과 비교할 때 상대적으로 작다. 이렇게 제 1 전압과 제 2 전압의 크기, 즉 리셋 펄스의 전압의 크기를 상대적으로 작게 할 수 있는 이유는 리셋 기간 이전에 프리 리셋(Pre-Reset) 기간이 더 포함되기 때문이다. 이러한 프리 리셋 기간에 대해서 보다 상세히 살펴보면 다음과 같다.The magnitudes of the first voltage and the second voltage are relatively small compared with the conventional driving waveform of FIG. 3. The reason why the magnitudes of the first voltage and the second voltage, that is, the voltages of the reset pulses can be made relatively small is that the pre-reset period is further included before the reset period. Looking at the pre-reset period in more detail as follows.

이러한 프리 리셋 기간은 전술한 프레임의 복수의 서브필드 중 첫 번째 서브필드의 리셋 기간 이전에 포함된다. 예를 들어, 하나의 프레임이 계조 가중치의 크기 순서로 제 1 서브필드부터 제 12 서브필드까지 총 12개의 서브필드로 이루어지 는 구조라고 가정할 때, 이러한 총 12개의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드인 제 1 서브필드의 리셋 기간 이전에 프리 리셋 기간이 더 포함되는 것이다.This pre-reset period is included before the reset period of the first subfield of the plurality of subfields of the above-described frame. For example, assuming that one frame is composed of a total of 12 subfields from the first subfield to the twelfth subfield in order of magnitude of the gray scale weight, the gray scale weight of the total 12 subfields is the most. The pre-reset period is further included before the reset period of the first subfield, which is the low subfield.

이러한 프리 리셋 기간에서는 스캔 전극(Y)에는 전압이 점진적으로 하강하는 하강 램프 파형을 포함하는 부극성 파형이 인가되고, 서스테인 전극(Z)에는 정극성 파형이 인가된다.In this pre-reset period, a negative waveform including a falling ramp waveform in which voltage gradually falls is applied to the scan electrode Y, and a positive waveform is applied to the sustain electrode Z.

여기서, 전술한 부극성 파형은 최저 전압이 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 스캔 펄스(SP)의 전압(-Vy)과 동일한 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the above-mentioned negative waveform is equal to the voltage (-Vy) of the scan pulse SP to which the lowest voltage is applied to the scan electrode Y in the address period.

또한, 정극성 파형은 그 전압이 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 전압(Vs)과 동일한 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the positive waveform is equal to the voltage Vs of the sustain pulse applied in the sustain period.

이러한 프리 리셋 기간에서는 스캔 전극(Y)으로 인가되는 부극성 파형에 의해 방전셀 내에서 스캔 전극(Y)상에 정극성의 벽전하(Wall Charge)들이 쌓이게 된다. 또한 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 정극성 파형에 의해 방전셀 내에서 서스테인 전극(Z)상에 부극성의 벽전하들이 쌓이게 된다. 이렇게 프리 리셋 기간에 방전셀 내에서 형성된 벽전하의 분포가 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간까지 유지되고, 이에 따라 제 1 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 셋업 파형의 전압이 스캔 기준 전압(Vsc)과 서스테인 전압(Vs)의 합으로 설정되더라도, 다르게 표현하면 제 1 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 셋업 파형의 전압이 종래에 비해 상대적으로 낮은 전압으로 설정되더라도 효과적인 리셋을 수행할 수 있게 되는 것이다.In this pre-reset period, positive wall charges are accumulated on the scan electrode Y in the discharge cell by the negative waveform applied to the scan electrode Y. In addition, negative wall charges are accumulated on the sustain electrode Z in the discharge cell by the positive waveform applied to the sustain electrode Z. Thus, the distribution of the wall charges formed in the discharge cells in the pre-reset period is maintained until the reset period of the first subfield having the lowest gray scale weight, so that the voltage of the setup waveform applied in the reset period of the first subfield is determined by the scan reference. Even if the voltage is set to the sum of the voltage Vsc and the sustain voltage Vs, in other words, an effective reset can be performed even if the voltage of the setup waveform applied in the reset period of the first subfield is set to a relatively low voltage. Will be.

한편, 전술한 어드레스 전극(X)으로 인가되는 제 1 바이어스 파형의 구형 파형으로, 피크(Peak) 전압(Vxb1)은 어드레스 기간에서 어드레스 전극(X)에 인가되는 데이터 펄스의 데이터 전압(Vd)의 1배 이상 1.5배 이하인 것이 바람직하다. 예를 들어, 데이터 펄스의 데이터 전압(Vd)이 100V라고 가정할 때, 전술한 제 1 바이어스 파형의 피크 전압은 100V이상 150V이하의 범위를 갖는다.On the other hand, the rectangular waveform of the first bias waveform applied to the above-described address electrode X, the peak voltage (Vxb1) of the data voltage of the data pulse applied to the address electrode (Xd) in the address period (Vd) It is preferable that they are 1 or more and 1.5 times or less. For example, assuming that the data voltage Vd of the data pulse is 100V, the peak voltage of the above-described first bias waveform has a range of 100V or more and 150V or less.

이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하는 이유는, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X) 간의 이격 거리가 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 이격 거리보다 상대적으로 짧은 점을 고려하기 위해서이다.The reason why the first bias waveform having the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y as described above is that the separation distance between the scan electrode Y and the address electrode X is determined by the scan electrode ( This is to consider the point that is relatively shorter than the separation distance between Y) and the sustain electrode (Z).

이와 같이, 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하는 이유에 대해 도 8을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.As described above, a reason for applying the first bias waveform having the positive polarity to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y will be described with reference to FIG. 8.

도 8은 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하는 이유를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 8 is a diagram for explaining the reason why the first bias waveform having the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y. FIG.

도 8을 살펴보면, (a)에는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 큰 롱 갭(Long Gap) 구조에서 제 1 바이어스 파형이 생략된 경우 방전셀 내에서의 셋업 방전 형태가 나타나 있고, (b)에는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 큰 롱갭 구조에서 제 1 바이어스 파형이 어드레스 전극(X)으로 인가되는 경우 방전셀 내에서의 셋업 방전 형태가 나타나 있다.Referring to FIG. 8, (a) shows a setup discharge form in a discharge cell when the first bias waveform is omitted in a long gap structure in which the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively large. (B) shows the setup discharge form in the discharge cell when the first bias waveform is applied to the address electrode X in the long gap structure in which the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively large. Is shown.

(a)를 살펴보면, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 크고, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 간격은 상대적으로 작기 때문에, 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)으로 셋업 파형이 인가될 시에 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간에 발생하는 면 방전 보다 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간에 발생하는 대향 방전의 세기가 더 크게 된다. 이에 따라, 리셋 방전이 불안정해지고, 또한 휘점이 발생하는 등의 문제점이 발생한다.Referring to (a), since the interval between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively large, and the interval between the scan electrode Y and the address electrode X is relatively small, scanning is performed in the setup period of the reset period. When the setup waveform is applied to the electrode Y, the intensity of the counter discharge generated between the scan electrode Y and the address electrode X is greater than the surface discharge generated between the scan electrode Y and the sustain electrode Z. do. This causes problems such as unstable reset discharge and bright spots.

(b)를 살펴보면, 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하면, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 크고 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 간격은 상대적으로 작더라도, 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)으로 셋업 파형이 인가될 시에 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 전압 차이를 줄여 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전을 강하게 하고 반면에, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 대향 방전을 상대적으로 약하게 함으로써, 리셋 방전을 안정시키고, 또한 휘점 발생을 억제하는 것이다.Referring to (b), when the first bias waveform having the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y, the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively small. Although large and the distance between the scan electrode Y and the address electrode X is relatively small, the scan electrode Y and the address electrode X when the setup waveform is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period. By reducing the voltage difference therebetween, the surface discharge between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) is strengthened, while the counter discharge between the scan electrode (Y) and the address electrode (X) is relatively weak, whereby the reset discharge is stabilized. In addition, it is to suppress the occurrence of bright spots.

한편, 전술한 제 1 바이어스 파형은 셋업 파형, 즉 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형과 동기 되어 인가되거나 또는 셋업 파형보다 먼저 인가되는 것이 바람직하다. 여기 도 7에서는 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형보다 먼저 인가되는 것만이 도시되어 있고, 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기 되어 인가되는 것은 이후의 다른 도면에서 설명하기로 한다.On the other hand, the first bias waveform described above is applied in synchronization with the setup waveform, that is, the setup waveform gradually rising up to the first voltage with the first slope and then gradually rising up to the second voltage with the second slope, or applied before the setup waveform. It is preferable to be. Here, in FIG. 7, only the first bias waveform is applied before the setup waveform, and the first bias waveform is applied in synchronization with the setup waveform will be described later in other drawings.

한편, 리셋 기간 이후의 셋다운 기간과 어드레스 기간에서는 스캔 전극(Y)으 로 스캔 기준 전압(Vs)을 갖는 스캔 기준 파형과, 이러한 스캔 기준 전압(Vsc)으로부터 하강하는 스캔 펄스(SP)가 인가되고, 서스테인 전극(Z)으로는 셋다운 기간에 인가되었던 서스테인 바이어스 전압(Vzb)의 서스테인 바이어스 파형이 계속 인가되고, 이에 따라 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전의 발생을 억제한다.On the other hand, in the set down period and the address period after the reset period, a scan reference waveform having a scan reference voltage Vs is applied to the scan electrode Y, and a scan pulse SP falling from the scan reference voltage Vsc is applied. The sustain bias waveform of the sustain bias voltage Vzb applied in the set down period is continuously applied to the sustain electrode Z, thereby generating surface discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the address period. Suppress

이러한 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)은 80V이상 120V이하의 범위 내에서 설정되는 것이 바람직하다.It is preferable that the voltage Vzb of the sustain bias waveform is set within a range of 80V or more and 120V or less.

여기서, 전술한 스캔 기준 파형의 전압의 레벨은 마이너스(-) 레벨인 것이 바람직하다. 다르게 표현하면, 스캔 기준 파형의 전압의 크기는 Vsc이지만, 그 전압 레벨은 마이너스 레벨인 것이다. 즉, 그라운드 레벨(GND)을 기준으로 하여 스캔 기준 파형의 전압 레벨은 -Vsc인 것이다.Here, it is preferable that the level of the voltage of the above-mentioned scan reference waveform is a negative level. In other words, the magnitude of the voltage of the scan reference waveform is Vsc, but the voltage level is a negative level. That is, the voltage level of the scan reference waveform is -Vsc based on the ground level GND.

이와 같이, 스캔 기준 파형의 전압 레벨을 그라운드 레벨(GND) 이하의 마이너스 레벨로 함으로써, 스캔 기준 파형의 전압의 크기를 상대적으로 작게 하여도 이러한 스캔 기준 전압으로부터 -Vy의 전압까지 하강하는 스캔 펄스(SP)와 어드레스 전극(X)으로 인가되는 데이터 펄스 간의 전압 차이를 충분히 확보할 수 있게 된다. 이에 따라, 구동 회로의 전기적 부담을 줄일 수 있게 되는 것이다.Thus, by setting the voltage level of the scan reference waveform to a negative level equal to or less than the ground level GND, the scan pulse falling from the scan reference voltage to the voltage of -Vy even when the magnitude of the voltage of the scan reference waveform is relatively small ( The voltage difference between the SP and the data pulse applied to the address electrode X can be sufficiently secured. Accordingly, the electrical burden of the driving circuit can be reduced.

이러한 어드레스 기간 이후의 서스테인 기간에서는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)에 교대로 서스테인 전압(Vs)의 서스테인 펄스가 인가된다.In the sustain period after the address period, a sustain pulse of the sustain voltage Vs is applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z alternately.

이러한 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스 중 첫 번째 서스테인 펄스와 마지막 서스테인 펄스는 중첩(Overlap)되지 않도록 설정되는 것이 바람직한데, 이를 도 9를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.It is preferable that the first sustain pulse and the last sustain pulse among the sustain pulses applied in the sustain period are set not to overlap, which will be described with reference to FIG. 9.

도 9는 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스의 중첩 상태를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 9 is a view for explaining an overlap state of a sustain pulse applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the sustain period.

도 9를 살펴보면, (a)에는 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스 중 첫 번째 서스테인 펄스쌍과 마지막 서스테인 펄스쌍을 제외한 나머지 서스테인 펄스쌍의 중첩상태가 나타나 있고, (b)에는 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스 중 첫 번째 서스테인 펄스쌍과 마지막 서스테인 펄스쌍의 중첩상태가 나타나 있다.Referring to FIG. 9, (a) shows an overlapping state of the remaining sustain pulse pairs except for the first sustain pulse pair and the last sustain pulse pair among the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the sustain period. (B) shows an overlapping state of the first sustain pulse pair and the last sustain pulse pair among the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the sustain period.

(a)를 살펴보면, 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스 중 첫 번째 서스테인 펄스와 마지막 서스테인 펄스쌍을 제외한 나머지 서스테인 펄스쌍은 간격 d 만큼 서로 중첩된다. 즉, 첫 번째와 마지막 서스테인 펄스쌍을 제외한 나머지 서스테인 펄스쌍들은 스캔 전극(Y)으로 인가되는 서스테인 펄스와 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스가 서로 중첩된다. 이에 따라, 한정된 서스테인 기간에서 보다 많은 개수의 서스테인 펄스를 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)에 인가할 수 있게 되고, 또한 서스테인 방전을 안정시키며 서스테인 방전에 의한 발광의 효율을 높인다.Referring to (a), in the sustain period, the remaining sustain pulse pairs except the first sustain pulse pair and the last sustain pulse pair among the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z overlap each other by the interval d. That is, in the remaining sustain pulse pairs except for the first and last sustain pulse pairs, the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain pulses applied to the sustain electrode Z overlap each other. As a result, a larger number of sustain pulses can be applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in a limited sustain period, and the sustain discharge is stabilized and the efficiency of light emission due to the sustain discharge is increased.

(b)를 살펴보면, 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 펄스 중 첫 번째 서스테인 펄스쌍과 마지막 서스테인 펄스쌍은 서로 중첩되지 않는다. 이에 따라, 상대적으로 불안정한 첫 번째 서스테인 펄스의 의한 서스테인 방전을 안정시킨다. 또한, 마지막 서스테인 펄스쌍이 중첩되지 않게 됨으로써, 전술한 마지막 서스테인 펄스쌍에 의한 방전셀 내에서의 벽전하의 분포를 연속된 이후의 다른 서브필드의 리셋 기간에서 발생하는 리셋 방전에 유리하도록 한다.Referring to (b), the first sustain pulse pair and the last sustain pulse pair of the sustain pulses applied to the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the sustain period do not overlap each other. This stabilizes the sustain discharge caused by the relatively unstable first sustain pulse. Further, since the last sustain pulse pair does not overlap, the distribution of the wall charges in the discharge cells by the last sustain pulse pair described above is advantageous to the reset discharge occurring in the reset period of the other subfields after successive.

또한, 이러한 서스테인 기간에서는 첫 번째 서스테인 펄스가 인가될 때, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전이 어드레스 전극(X)의 간섭에 의해 불안정해질 가능성이 크다. 이에 따라, 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가될 때 어드레스 전극(X)으로 소정의 전압을 인가하여 서스테인 방전을 안정시키는데, 이를 첨부도 도 10을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.In this sustain period, when the first sustain pulse is applied, the surface discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is likely to become unstable due to the interference of the address electrode X. Accordingly, when the first sustain pulse is applied to either the scan electrode Y or the sustain electrode Z, a predetermined voltage is applied to the address electrode X to stabilize the sustain discharge. See FIG. 10. Looking at it as follows.

도 10은 서스테인 기간에서 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스에 대응하여 어드레스 전극(X)으로 인가되는 정극성 전압에 대해 설명하기 위한 도면이다.FIG. 10 is a diagram for describing a positive voltage applied to the address electrode X in response to the first sustain pulse applied in the sustain period.

도 10을 살펴보면, (a)에는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법에 따른 구동 파형 중 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가될 때, 어드레스 전극(X)으로 정극성 전압(Vxb2)의 제 2 바이어스 파형이 인가되는 것이 나타나 있다. 또한 (b)에는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법에 따른 구동 파형 중 서스테인 기간에서 인가되는 서스테인 펄스 중 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스를 제외한 나머지 서스테인 펄스가 나타나 있다.Referring to FIG. 10, (a) shows an address when the first sustain pulse is applied to either the scan electrode Y or the sustain electrode Z in the sustain period of the driving waveform according to the driving method of the plasma display apparatus of the present invention. It is shown that the second bias waveform of the positive voltage Vxb2 is applied to the electrode X. In addition, (b) except for the first sustain pulse applied to any one of the scan electrode (Y) or the sustain electrode (Z) of the sustain pulses applied in the sustain period of the driving waveform according to the driving method of the plasma display device of the present invention. Sustain pulses are shown.

(a)를 살펴보면, 서스테인 기간에서 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가될 때, 어드레스 전극(X)으로 정극성 전압(Vxb2)의 제 2 바이어스 파형이 인가된다. 이는 서스테인 기간에 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가될 때, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간에 발생하는 면 방전 보다 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간에 발생하는 대향 방전의 세기가 더 크게 되어 서스테인 방전이 불안정해질 가능성이 크기 때문에, 이를 방지하게 위해 첫 번째 서스테인 펄스가 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 어느 하나로 인가될 때 어드레스 전극으로 정극성 전압(Vxb2)의 제 2 바이어스 파형을 인가하여 스캔 전극(Y) 또는 서스테인 전극(Z) 중 첫 번째 서스테인 펄스가 인가되는 전극과 어드레스 전극(X)간의 전압 차이를 줄여 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전을 강하게 하고 반면에, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 대향 방전을 상대적으로 약하게 함으로써, 서스테인 방전을 안정시키는 것이다.Referring to (a), when the first sustain pulse is applied to either the scan electrode Y or the sustain electrode Z in the sustain period, the second bias waveform of the positive voltage Vxb2 is applied to the address electrode X. Is approved. This is because when the first sustain pulse is applied to either the scan electrode (Y) or the sustain electrode (Z) in the sustain period, the scan electrode (Y) and the surface discharge generated between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z) are different. Since the intensity of the opposing discharge generated between the address electrodes X is greater and the sustain discharge is likely to be unstable, the first sustain pulse is applied to either the scan electrode Y or the sustain electrode Z to prevent this. When the second bias waveform of the positive voltage (Vxb2) is applied to the address electrode to reduce the voltage difference between the first electrode of the scan electrode (Y) or the sustain electrode (Z) to which the first sustain pulse is applied and the address electrode (X) By intensifying the surface discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z, while the counter discharge between the scan electrode Y and the address electrode X is relatively weak, It is to stabilize the discharge stain.

(a)와 같이, 첫 번째 서스테인 펄스에 의한 서스테인 방전이 안정되면, 이후의 서스테인 방전은 첫 번째 서스테인 펄스에 의해 형성된 방전셀 내의 벽전하의 분포에 의존해서 발생하기 때문에, (b)와 같이 이후의 서스테인 펄스가 공급될 시에는 제 2 바이어스 파형을 생략하여도 관계없다.As shown in (a), when the sustain discharge by the first sustain pulse is stabilized, subsequent sustain discharges are generated depending on the distribution of wall charges in the discharge cells formed by the first sustain pulse. When the sustain pulse of is supplied, the second bias waveform may be omitted.

이러한 제 2 바이어스 파형의 전압(Vxb2)은 전술한 리셋 기간의 셋업 기간에서의 제 1 바이어스 파형의 전압(Vxb1)과 동일하거나 또는 어드레스 기간에서 어드레스 전극(X)에 인가되는 데이터 펄스의 전압(Vd)과 동일한 것이 바람직하다.The voltage Vxb2 of the second bias waveform is the same as the voltage Vxb1 of the first bias waveform in the setup period of the above-described reset period or the voltage Vd of the data pulse applied to the address electrode X in the address period. It is preferable that the same as).

이상에서 설명한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법은 방전셀 내에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 넓은 롱 갭(Long Gap)구조에 적용되는 것이 보다 효과적이다. 그 이유는 이미 전술한 바와 같이 롱 랩 구조에서는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 상대적으로 크고, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 간격은 상대적으로 작기 때문에, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간에 면 방전이 발생할 때, 어드레스 전극(X)의 전압에 의한 간섭으로 인해 이러한 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전이 불안정해질 가능성이 더욱 증가하기 때문이다.The plasma display device and the driving method thereof according to the present invention described above are more effectively applied to a long gap structure having a relatively large distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the discharge cell. The reason for this is that as described above, in the long wrap structure, the interval between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is relatively large, and the interval between the scan electrode Y and the address electrode X is relatively small. When surface discharge occurs between the electrode Y and the sustain electrode Z, the surface discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is more likely to become unstable due to the interference by the voltage of the address electrode X. Because it increases.

또한, 전술한 롱 갭은 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격으로 정의되는데, 이를 첨부된 도 11을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.In addition, the above-described long gap is defined as the interval between the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z), which will be described with reference to FIG.

도 11은 롱 갭 전극구조를 설명하기 위한 도면이다.11 is a view for explaining a long gap electrode structure.

도 11을 살펴보면, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 90um(마이크로 미터)이상인 경우에 롱 갭 전극구조로 취급한다. 즉, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법은 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 90um(마이크로 미터)이상인 경우에 적용되는 것이 보다 효과적이다. 더욱 바람직하게는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법은 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격이 90um(마이크로 미터)이상 200um(마이크로 미터)이하인 경우에 적용된다.Referring to FIG. 11, the gap between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is treated as a long gap electrode structure when the gap is greater than 90 um (micrometer). That is, the plasma display device and the driving method thereof of the present invention are more effectively applied when the distance between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is 90 um (micrometer) or more. More preferably, the plasma display device and the driving method thereof according to the present invention are applied when the interval between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is 90 um (micrometer) or more and 200 um (micrometer) or less.

여기 도 11에는 전술한 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)이 각각 투명 전극(a)과 버스 전극(b)을 포함하는 경우이다. 이러한 경우에는 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 간격은 스캔 전극(Y)의 투명 전극(a)과 서스테인 전극(Z)의 투명 전극(a)간의 간격으로 설정되는 것이 바람직하다.11 illustrates a case in which the aforementioned scan electrode Y and the sustain electrode Z each include a transparent electrode a and a bus electrode b. In this case, the interval between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is preferably set to the interval between the transparent electrode a of the scan electrode Y and the transparent electrode a of the sustain electrode Z.

이상에서 설명한 도 7에서는 제 1 바이어스 파형은 셋업 파형, 즉 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 파형 보다 먼저 인가되는 것만을 도시하고 설명하였지만, 이와는 다르게 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기 되어 인가되는 것도 가능하다. 이를 도 12를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.In FIG. 7 described above, the first bias waveform is only illustrated and described before being applied to the setup waveform, that is, the waveform which gradually rises to the first voltage with the first slope and then gradually rises to the second voltage with the second slope. Alternatively, the first bias waveform may be applied in synchronization with the setup waveform. This will be described with reference to FIG. 12.

도 12는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.12 is a view for explaining another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 12를 살펴보면, 도 7과는 다르게 제 1 바이어스 파형은 셋업 파형, 즉 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 파형과 동기 되어 인가된다. 이러한 도 12의 제 1 바이어스 파형은 전술한 도 7과 동일한 구형 파형이다.Referring to FIG. 12, unlike FIG. 7, the first bias waveform is applied in synchronization with a setup waveform, that is, a waveform gradually rising up to a first voltage with a first slope and gradually rising up to a second voltage with a second slope. The first bias waveform of FIG. 12 is the same rectangular waveform as in FIG. 7 described above.

이러한 도 12의 구동 파형은 전술한 도 7의 구동 파형과 비교하여 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기 되어 인가된다는 것만이 다를 뿐 실질적으로 도 7의 구동 파형과 동일하여 중복되는 설명은 생략한다.The driving waveform of FIG. 12 differs from the above-described driving waveform of FIG. 7 except that the first bias waveform is applied in synchronization with the setup waveform, and is substantially the same as the driving waveform of FIG.

이상에서 설명한 도 7 내지 도 12의 구동 파형에서는 제 1 바이어스 파형은 구동 파형인 것만을 도시하고 설명하였지만, 이와는 다르게 제 1 바이어스 파형을 전압이 점진적으로 상승하는 램프 파형으로 설정하는 것도 가능한데, 이를 13을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.In the driving waveforms of FIGS. 7 to 12 described above, only the first bias waveform is a driving waveform. However, the first bias waveform may be set to a ramp waveform in which the voltage gradually rises. Looking at it as follows.

도 13은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.13 is a view for explaining still another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 13을 살펴보면, 도 7 내지 도 12와는 다르게 제 1 바이어스 파형은 전압이 점진적으로 상승하는 램프 파형이다.Referring to FIG. 13, unlike FIG. 7 to FIG. 12, the first bias waveform is a ramp waveform in which the voltage gradually rises.

이는, 셋업 기간 동안 스캔 전극(Y)에 그라운드에서 시작하여 제 1 기울기를 갖고 제 1 전압(Vsc)까지 상승한 후 제 2 기울기를 갖고 제 2 전압(Vsc+Vs)으로 상승하는 셋업 파형이 인가되는 점을 고려하여 어드레스 전극(X)에도 스캔 전극(Y)에 인가되는 셋업 파형의 기울기에 상응하는 기울기를 가진 램프 파형을 인가함으로써 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X)간의 대향 방전을 보다 효율적으로 방지하기 위해서이다.This is because, during the setup period, a setup waveform is applied to the scan electrode Y starting from the ground, rising to the first voltage Vsc with the first slope, and then rising to the second voltage Vsc + Vs with the second slope. In consideration of this point, a ramp waveform having a slope corresponding to the slope of the setup waveform applied to the scan electrode Y is also applied to the address electrode X more efficiently to counter discharge discharge between the scan electrode Y and the address electrode X. To prevent that.

이러한 도 13의 구동 파형은 전술한 도 7 내지 도 12의 구동 파형과 비교하여 제 1 바이어스 파형이 전압이 점진적으로 상승하는 램프 파형이라는 것만이 다를 뿐 실질적으로 도 7 내지 도 12의 구동 파형과 동일하여 중복되는 설명은 생략한다.The driving waveform of FIG. 13 is substantially the same as the driving waveform of FIGS. 7 to 12 except that the first bias waveform is a ramp waveform in which the voltage gradually increases as compared with the driving waveform of FIGS. 7 to 12. Duplicate description will be omitted.

이상에서 설명한 도 13에서는 제 1 바이어스 파형은 셋업 파형, 즉 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 파형 보다 먼저 인가되는 것만을 도시하고 설명하였지만, 이와는 다르게 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기 되어 인가되는 것도 가능하다. 이를 도 14를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.In FIG. 13 described above, the first bias waveform is only illustrated and explained before being applied to the setup waveform, that is, the waveform which gradually rises to the first voltage with the first slope and then gradually rises to the second voltage with the second slope. Alternatively, the first bias waveform may be applied in synchronization with the setup waveform. This will be described with reference to FIG. 14.

도 14는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예의 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.14 is a view for explaining still another example of the first embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

도 14를 살펴보면, 도 13과는 다르게 제 1 바이어스 파형은 셋업 파형, 즉 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 파형과 동기 되어 인가된다. 이러한 도 14의 제 1 바이어스 파형은 전술한 도 13과 동일한 램프 파형이다.Referring to FIG. 14, unlike FIG. 13, the first bias waveform is applied in synchronization with a setup waveform, that is, a waveform gradually rising up to a first voltage with a first slope and gradually rising up to a second voltage with a second slope. The first bias waveform of FIG. 14 is the same ramp waveform as FIG. 13 described above.

이러한 도 14의 구동 파형은 전술한 도 13의 구동 파형과 비교하여 제 1 바이어스 파형이 셋업 파형과 동기 되어 인가된다는 것만이 다를 뿐 실질적으로 도 13의 구동 파형과 동일하여 중복되는 설명은 생략한다.The driving waveform of FIG. 14 differs from the driving waveform of FIG. 13 described above only in that the first bias waveform is applied in synchronization with the setup waveform, and is substantially the same as the driving waveform of FIG.

이상에서 상세히 설명한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 1 실시예에 따른 구동 파형에 의한 방전셀 내에서의 전압을 플라즈마 디스플레이 패널의 방전발생원리 및 전압 마진의 측정 등에 사용되는 육각 형태의 전압곡선(Vt-Curve)을 활용하여 보다 상세히 살펴보면 다음 도 15와 같다.Hexagonal voltage used for the discharge generation principle of the plasma display panel and the measurement of the voltage margin of the voltage in the discharge cell according to the driving waveform according to the first embodiment of the driving method of the plasma display device of the present invention described in detail above. Looking in more detail by using the curve (Vt-Curve) as shown in Figure 15.

도 15는 육각 형태의 전압곡선(Vt-Curve)을 이용하여 셋업 기간 동안의 방전셀 내에서의 전압의 변화과정을 나타낸 도면이다.FIG. 15 is a view illustrating a process of changing a voltage in a discharge cell during a setup period using a hexagonal voltage curve Vt-Curve.

도 15를 살펴보면, A1 지점은 서스테인 전극(Z)에 마지막 서스테인 펄스가 인가된 직후의 방전셀 내에서의 벽전압의 상태를 나타낸다.Referring to FIG. 15, the point A1 represents the state of the wall voltage in the discharge cell immediately after the last sustain pulse is applied to the sustain electrode Z.

이후 셋업 기간에는 스캔 전극(Y)에 그라운드(GND)에서 시작하여 제 1 기울기를 갖고 제 1 전압(Vsc)까지 상승한 후 제 2 기울기를 갖고 제 2 전압(Vsc+Vs)까지 상승하는 셋업 파형이 인가되는데, 이때 어드레스 전극(X)에 정극성의 전압(Vxb1)의 제 1 바이어스 파형을 인가하면, 방전셀 내에서의 전압은 점 A2로 이동한다.Thereafter, in the setup period, the setup waveform starting from the ground GND to the scan electrode Y and rising to the first voltage Vsc with the first slope and then rising to the second voltage Vsc + Vs with the second slope is shown. In this case, when the first bias waveform of the positive voltage Vxb1 is applied to the address electrode X, the voltage in the discharge cell moves to the point A2.

즉, 점 A1에서의 벽전압과 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 외부 인가 전압(Vx), 즉 제 1 바이어스 파형의 전압을 더하여 점 A2로 이동하는 것이다.That is, it moves to the point A2 by adding the wall voltage at the point A1 and the externally applied voltage Vx applied to the address electrode X, that is, the voltage of the first bias waveform.

이후 스캔 전극(Y)에 그라운드 레벨(GND)에서 시작하여 제 1 기울기를 갖고 제 1 전압(Vsc)까지 상승한 후 제 2 기울기를 갖고 제 2 전압(Vsc+Vs)까지 상승하는 셋업 파형 인가되면 셀 전압은 도시된 실선 화살표의 방향을 따라 이동한다.When the scan waveform Y is applied to the setup waveform starting at the ground level GND and rising to the first voltage Vsc with the first slope and then rising to the second voltage Vsc + Vs with the second slope, the cell The voltage moves along the direction of the solid arrow shown.

점 A2에서의 벽 전압(Vw)과 외부에서 인가되는 셋업 파형의 전압(Vsc+Vs)의 합이 방전개시전압(Vw+V2')을 초과하는 순간 즉, 도 15의 A22 지점에서 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 면 방전 형태의 셋업 방전이 안정적으로 발생한다.The scan electrode at the moment when the sum of the wall voltage Vw at the point A2 and the voltage Vsc + Vs of the setup waveform applied externally exceeds the discharge start voltage Vw + V 2 ′, that is, the point A22 in FIG. 15. The setup discharge in the form of surface discharge between (Y) and the sustain electrode Z is generated stably.

만약 셋업 기간 동안 어드레스 전극(X)이 그라운드 레벨(GND)로 유지된다면, 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가될 때 방전셀 내에서의 전압은 도시된 점선 화살표의 방향을 따라 이동한다.If the address electrode X is maintained at the ground level GND during the setup period, when the setup waveform is applied to the scan electrode Y, the voltage in the discharge cell moves along the direction of the dotted line arrow shown.

A1 지점에서의 벽 전압(Vw)과 외부에서 인가되는 셋업 파형의 전압(Vsc+Vs)의 합이 방전개시전압(Vw+V2)을 초과하는 순간 즉, 도 15의 A11 지점에서 스캔 전극과 서스테인 전극 간의 면 방전이 발생한다.The scan electrode and the sustain at the moment when the sum of the wall voltage Vw at the point A1 and the voltage Vsc + Vs of the setup waveform applied from the outside exceeds the discharge start voltage Vw + V2, that is, at the point A11 of FIG. 15. Surface discharge between the electrodes occurs.

그런데, A11 지점은 도 15에 도시된 바와 같이, 대향 방전 영역에 인접해 있기 때문에 셋업 과정 중에 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X) 간의 의도하지 않은 대향 방전이 발생할 확률이 높은 지역이다.However, as illustrated in FIG. 15, the A11 point is adjacent to the counter discharge region, and thus, a region where the unintentional counter discharge between the scan electrode Y and the address electrode X is likely to occur during the setup process is high.

일반적으로 대향 방전이 발광 량이 높은 강 방전의 성질을 띠고 있는 점을 고려하면 이러한 의도하지 않은 대향 방전의 발생은 플라즈마 표시장치의 휘도를 저하시키는 주요한 요인으로 작용하는 것이다.In general, considering that the opposite discharge has the characteristics of a strong discharge having a high light emission amount, the unintentional generation of the undesired opposite discharge serves as a major factor for lowering the luminance of the plasma display device.

따라서 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법에 있어서는 앞서 설명한 바와 같이 셋업 파형이 인가되기 전 또는 셋업 파형이 인가되는 시점에 어드레스 전극(X)에 정극성의 전압(Vx)인 제 1 바이어스 파형을 인가함으로써 셋업 과정 중의 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(X) 간의 의도하지 않은 대향 방전의 발생을 방지한다.Therefore, in the plasma display device and the driving method thereof according to the present invention, as described above, the first bias waveform having the positive voltage Vx is applied to the address electrode X before the setup waveform is applied or when the setup waveform is applied. This prevents the occurrence of unintentional counter discharge between the scan electrode Y and the address electrode X during the setup process.

즉, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 면 방전 발생 지점을 A11 지점에서 A22 지점으로 이동시킴으로써, 스캔 전극(Y)과 어드레스 전극(Z) 간의 의도하지 않은 대향 방전의 발생을 방지하는 것이다.That is, the surface discharge occurrence point between the scan electrode Y and the sustain electrode Z is moved from the A11 point to the A22 point, thereby preventing the occurrence of unintentional counter discharge between the scan electrode Y and the address electrode Z. will be.

또한 도 15에 도시된 바와 같이, 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 면 방전 발생 지점을 A11 지점에서 A22 지점으로 이동시킴으로써 셋업 방전을 발생시키기 위해 스캔 전극(Y)에 인가되는 셋업 전압의 크기를 감소시킬 수 있다.In addition, as shown in FIG. 15, the setup voltage applied to the scan electrode Y to generate the setup discharge by moving the surface discharge occurrence point between the scan electrode Y and the sustain electrode Z from the A11 point to the A22 point. Can reduce the size.

이를 표현하면 다음 수학식 2와 같다.This is expressed as in Equation 2 below.

ΔV2 = V2 - V2'ΔV 2 = V 2 -V 2 '

V2 는 A11 지점에서 셋업 방전을 위해 스캔 전극(Y)에 요구되는 셋업 파형의 전압 최소치, V2'는 A22 지점에서 셋업 방전을 위해 스캔 전극(Y)에 요구되는 셋업 파형의 전압 최소치이다.V 2 is the voltage minimum of the setup waveform required for the scan electrode Y for setup discharge at the point A11, and V2 'is the voltage minimum of the setup waveform required for the scan electrode Y for setup discharge at the point A22.

전술한 수학식 2와 도 15의 설명을 통하여 알 수 있는 바와 같이, 셋업 파형이 인가되기 전 또는 셋업 파형과 동기 되게 어드레스 전극(X)에 제 1 바이어스 파형을 인가하여 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z) 간의 면 방전 발생 지점을 A11 지점에서 A22 지점으로 이동시킴으로써, 셋업 방전을 발생시키기 위해 스캔 전극(Y)에 요구되는 셋업 파형의 전압 최소치를 ΔV2 만큼 낮출 수 있다.As can be seen from the description of Equation 2 and FIG. 15, the first bias waveform is applied to the address electrode X before the setup waveform is applied or in synchronization with the setup waveform, thereby maintaining the scan electrode Y and the sustain. By moving the surface discharge generation point between the electrodes Z from the A11 point to the A22 point, the voltage minimum value of the setup waveform required for the scan electrode Y to generate the setup discharge can be lowered by ΔV2.

이상의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법의 설명에서는 하나의 서브필드, 더욱 자세하게는 프레임의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에서 적용되는 경우만을 도시하고 설명하였다. 그러나 프레임에 포함된 복수의 서브필드 중에서 소정 개수의 서브필드에서만 어드레스 전극(X)에 제 1 바이어스 파형을 인가하는 등 서브필드별로 구동 파형을 다르게 하는 것도 가능하다. 이를 살펴보면 다음과 같다.In the above description of the plasma display device and the driving method thereof, only the case where the gray scale weight is applied to the first subfield having the lowest gray scale weight among the subfields of the frame has been described. However, the driving waveform may be different for each subfield, such as applying a first bias waveform to the address electrode X only in a predetermined number of subfields among the plurality of subfields included in the frame. This is as follows.

도 16a 내지 도 16b는 프레임의 복수의 서브필드 중 선택되 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.16A to 16B are diagrams for describing a method of applying a first bias waveform only in selected subfields among a plurality of subfields of a frame.

먼저, 도 16a를 살펴보면 프레임의 복수의 서브필드 모두에서 각각 제 1 바이어스 파형이 인가된다.First, referring to FIG. 16A, a first bias waveform is applied to all of a plurality of subfields of a frame.

즉, 프레임에 포함된 모든 서브필드에서 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되고, 이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인 가된다.That is, in all the subfields included in the frame, a setup waveform is gradually applied to the scan electrode Y to the first voltage and then gradually rises to the second voltage at the second slope in the setup period of the reset period. In this way, the first bias waveform having the positive polarity is applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y.

여기서, 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 제 1 바이어스 파형은 다른 서브필드보다 더 넓다. 즉, 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓은 것이다.Here, the first bias of the positive polarity applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period of the first subfield having the lowest gray scale weight among the plurality of subfields of the frame The waveform is wider than the other subfields. That is, the pulse width of the first bias waveform of the first subfield is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfields.

이와 같이 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓게 하는 이유는, 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에서는 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 개수가 가장 적기 때문에 방전이 불안정해질 가능성이 가장 크기 때문에, 이러한 제 1 서브필드에서의 스캔 전극(Y)과 서스테인 전극(Z)간의 면 방전을 더욱 안정시키기 위해서이다.As such, the reason why the pulse width of the first bias waveform of the first subfield having the lowest gray scale weight among the plurality of subfields of the frame is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfields is the lowest. Since the discharge is most likely to be unstable in the first subfield because the number of sustain pulses applied in the sustain period is smallest, the surface discharge between the scan electrode Y and the sustain electrode Z in the first subfield is reduced. To make it more stable.

다음, 도 16b를 살펴보면 전술한 도 16a와는 다르게 프레임에 포함된 복수의 서브필드 중 선택된 소정 개수의 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가한다. 더욱 바람직하게는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브필드에서 제 1 바이어스 파형이 인가된다.Next, referring to FIG. 16B, unlike FIG. 16A, the first bias waveform is applied only to a predetermined number of subfields selected from among a plurality of subfields included in a frame. More preferably, the first bias waveform is applied in the low gray level subfield among the plurality of subfields of the frame.

여기서, 전술한 저 계조 서브필드는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드인 것이 바람직하다. 예를 들면, 하나의 프레임이 계조 가중치의 크기 순서로 제 1 서브필드부터 제 12 서브필드까지 총 12개의 서브필드로 이루어지는 경우에, 계조 가중치 가 가장 낮은 제 1 서브필드와 그 다음 계조 가중치가 낮은 제 2 서브필드 및 그 다음 계조 가중치가 낮은 제 3 서브필드를 저 계조 서브필드로 설정한다.Here, the above-described low gray level subfield is preferably a subfield from the first subfield to the third subfield in the order of low gray scale weight among the plurality of subfields of the frame. For example, when one frame includes a total of 12 subfields from the first subfield to the twelfth subfield in the order of the gray scale weight, the first subfield having the lowest gray scale weight and the next gray scale weight are the lowest. The second subfield and the third subfield having the next low gray scale weight are set as the low gray subfield.

이러한 도 16b에서도, 프레임의 저 계조 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 제 1 바이어스 파형은 다른 서브필드보다 더 넓다. 즉, 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓은 것이다.Also in FIG. 16B, the positive polarity applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period of the first subfield having the lowest gray scale weight among the low gray subfields of the frame is shown. The first bias waveform is wider than the other subfields. That is, the pulse width of the first bias waveform of the first subfield is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfields.

이와 같이, 프레임의 서브필드 중 저 계조 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가하는 이유는, 이러한 저 계조 서브필드를 제외한 나머지 서브필드, 즉 고 계조 서브필드에서는 이전 서브필드에서 형성된 방전셀 내의 벽전하를 이용하여 충분히 안정된 리셋을 수행할 수 있기 때문에 제 1 바이어스 파형을 생략하는게 가능하기 때문이다.The reason why the first bias waveform is applied only to the low gray level subfield among the subfields of the frame is that the wall charges in the discharge cells formed in the previous subfield in the remaining subfields except the low gray level subfield, that is, the high gray level subfield. This is because it is possible to omit the first bias waveform because a sufficiently stable reset can be performed by using.

한편, 이러한 구조의 프레임에서 어느 하나의 서브필드의 리셋 기간에 스캔 전극(Y)으로 인가되는 리셋 파형의 전압의 크기가 다른 서브필드와 다르도록 설정하는 것도 가능한데, 이를 도 17을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.Meanwhile, it is also possible to set the voltage of the reset waveform applied to the scan electrode Y to be different from other subfields in the reset period of any one subfield in the frame of such a structure. Same as

도 17은 프레임의 복수의 서브필드에서 리셋 파형이 전압의 크기를 설명하기 위한 도면이다.17 is a diagram for explaining the magnitude of a voltage of a reset waveform in a plurality of subfields of a frame.

도 17을 살펴보면, 프레임의 복수의 서브필드 중 어느 하나의 서브필드에서의 리셋 파형의 전압의 크기가 다른 서브필드와 다르다. 보다 상세히 설명하면, 프레임의 복수의 서브필드 중 어느 하나의 서브필드에서의 리셋 기간의 셋업 기간에 서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 셋업 파형의 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드와 다르다.17, the magnitude of the voltage of the reset waveform in any one of the plurality of subfields of the frame is different from the other subfields. More specifically, the magnitude of the second voltage of the setup waveform applied to the scan electrode Y is different from the other subfields in the setup period of the reset period in any one of the plurality of subfields of the frame.

예를 들어, 프레임의 서브필드 중 제 1 서브필드에서의 리셋 파형의 전압의 크기는 V1이고, 제 2 서브필드에서의 리셋 파형의 전압의 크기는 V2이고, 제 3 서브필드에서의 리셋 파형의 전압의 크기는 V3이고, 제 4 서브필드에서의 리셋 파형의 전압의 크기는 V4이다. 이와 같이 리셋 파형의 전압의 크기를 다른 것은 셋업 파형의 제 2 전압의 크기가 다르기 때문이다. 즉, 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 서로 다른 임의의 두 개의 서브필드 중 계조 가중치가 더 낮은 서브필드에서의 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드보다 더 큰 것이다.For example, the magnitude of the voltage of the reset waveform in the first subfield of the frame subfield is V1, the magnitude of the voltage of the reset waveform in the second subfield is V2, and the magnitude of the reset waveform in the third subfield is The magnitude of the voltage is V3, and the magnitude of the voltage of the reset waveform in the fourth subfield is V4. The reason why the voltage of the reset waveform is different in this way is because the magnitude of the second voltage of the setup waveform is different. That is, the magnitude of the second voltage in the subfield having the lower gray scale weight among the two subfields having different gray scale weights among the plurality of subfields of the frame is larger than the other subfields.

이와 같이, 프레임의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 한 서브필드의 셋업 파형의 제 2 전압의 크기를 계조 가중치가 상대적으로 높은 다른 서브필드의 셋업 파형의 제 2 전압의 크기 보다 더 크게 하는 이유는, 계조 가중치가 낮은 서브필드에서 방전이 불안정해질 가능성이 상대적으로 크기 때문에, 리셋 파형의 전압을 상대적으로 크게 하여 방전을 안정시키기 위해서이다.As such, the reason for making the magnitude of the second voltage of the setup waveform of one subfield having a low gray scale weight among the subfields of the frame larger than the magnitude of the second voltage of the setup waveform of another subfield having a relatively high gray scale weight is as follows. The discharge is more likely to be unstable in a subfield having a low gray scale weight, so that the voltage of the reset waveform is made relatively large to stabilize the discharge.

이상에서 설명한 본 발명의 제 1 실시예에서는 리셋 기간의 셋업 기간 이후의 셋다운 기간부터 서스테인 바이어스 파형이 서스테인 전극(Z)으로 인가되었지만, 방전의 안정 및 빠른 어드레싱(Addressing)을 위해 셋다운 기간에 서스테인 바이어스 파형을 인가하지 않는 것도 가능한데, 이를 살펴보면 다음 제 2 실시예와 같다.In the first embodiment of the present invention described above, although the sustain bias waveform is applied to the sustain electrode Z from the set down period after the setup period of the reset period, the sustain bias is set in the set down period for the stabilization of discharge and the fast addressing. It is also possible not to apply a waveform, which is the same as in the second embodiment.

<제 2 실시예>Second Embodiment

도 18은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도면이다.18 is a view for explaining a second embodiment of the plasma display device according to the present invention.

도 18에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(1800), 데이터 구동부(1801), 스캔 구동부(1802), 서스테인 구동부(1803) 및 구동 펄스 제어부(1804)를 포함한다.As shown in FIG. 18, the plasma display apparatus of the present invention includes a plasma display panel 1800, a data driver 1801, a scan driver 1802, a sustain driver 1803, and a driving pulse controller 1804.

여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(1800)은 전면 패널(미도시)과 후면 패널(미도시)이 일정한 간격을 두고 합착되고, 다수의 전극들 예를 들어, 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)이 쌍을 이뤄 형성되고, 또한 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)과 교차되게 어드레스 전극들(X)이 형성된다.Here, the above-described plasma display panel 1800 is bonded to the front panel (not shown) and the rear panel (not shown) at regular intervals, and a plurality of electrodes, for example, the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z). Are formed in pairs, and the address electrodes X are formed to intersect the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

데이터 구동부(1801)에는 도시하지 않은 역감마 보정회로, 오차확산회로 등에 의해 역감마(Reverse Gamma) 보정 및 하프톤(Half Tone) 보정된 후, 서브필드 맵핑회로에 의해 각 서브필드에 맵핑된 데이터가 공급된다. 이러한 데이터 구동부(1801)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 어드레스 전극(X)에 인가한다. 예를 들면, 이러한 데이터 구동부(1801)는 구동 펄스 제어부(1804)의 제어에 따라 어드레스 기간에서 공급된 데이터를 어드레스 전극(X)에 인가한다.In the data driver 1801, reverse gamma correction and half tone correction are performed by an inverse gamma correction circuit, an error diffusion circuit, and the like, and then data mapped to each subfield by a subfield mapping circuit. Is supplied. The data driver 1801 applies a predetermined driving voltage to the address electrode X in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period. For example, the data driver 1801 applies the data supplied in the address period to the address electrode X under the control of the drive pulse controller 1804.

스캔 구동부(1802)는 구동 펄스 제어부(1804)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 예를 들면, 리셋기간 동안 리셋 펄스, 예컨대 상승 램프 파형(Ramp-up) 과 하강 램프 파형(Ramp-down)을 포함하는 리셋 파형을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 또한, 스캔 구동부(1802)는 어드레스 기간 동안 부극성 스캔 전압(-Vy)의 스캔 펄스(Sp)를 스캔 전극(Y)에 순차적으로 인가하고, 서스테인 기간 동안에는 서스테인 펄스(SUS)를 스캔 전극(Y)에 인가한다.The scan driver 1802 applies a predetermined driving voltage to the scan electrode Y in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 1804. For example, a reset waveform including a reset pulse, for example, a rising ramp waveform Ramp-up and a falling ramp waveform Ramp-down, is applied to the scan electrode Y during the reset period. In addition, the scan driver 1802 sequentially applies the scan pulse Sp of the negative scan voltage (-Vy) to the scan electrode Y during the address period, and applies the sustain pulse SUS to the scan electrode Y during the sustain period. ) Is applied.

서스테인 구동부(1803)는 구동 펄스 제어부(1804)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 서스테인 전극(Z)으로 인가한다. 예를 들면, 어드레스 기간 동안 정극성의 서스테인 바이어스 파형(Vzb)을 서스테인 전극(Z)에 공급하고 서스테인 기간 동안 스캔 구동부(1802)와 교대로 동작하여 서스테인 펄스(SUS)를 서스테인 전극(Z)에 공급한다.The sustain driver 1803 applies a predetermined driving voltage to the sustain electrode Z in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 1804. For example, the positive sustain bias waveform Vzb is supplied to the sustain electrode Z during the address period, and is alternately operated with the scan driver 1802 during the sustain period to supply the sustain pulse SUS to the sustain electrode Z. do.

구동 펄스 제어부(1804)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간에서 데이터 구동부(1801), 스캔 구동부(1802) 및 서스테인 구동부(1803)의 동작 타이밍과 동기화를 제어하기 위한 소정의 제어신호(CTRX, CTRY, CTRZ)를 발생하고, 그 제어신호를 각각 데이터 구동부(1801), 스캔 구동부(1802) 및 서스테인 구동부(1803)에 공급함으로써 데이터 구동부(1801), 스캔 구동부(1802) 및 서스테인 구동부(1803)를 제어한다.The drive pulse control unit 1804 controls predetermined control signals CTRX and CTRY for controlling the operation timing and synchronization of the data driver 1801, the scan driver 1802, and the sustain driver 1803 in the reset period, the address period, and the sustain period. , CTRZ, and supply the control signal to the data driver 1801, the scan driver 1802, and the sustain driver 1803, respectively, to supply the data driver 1801, the scan driver 1802, and the sustain driver 1803. To control.

특히, 구동 펄스 제어부(1804)는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 아울러 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 셋업 기간 이후부터 스캔 전극(Y)으 로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압의 크기는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형(Vzb)의 전압보다 낮도록 한다. 즉, 구동 펄스 제어부(1804)는 소정의 제어 신호를 스캔 구동부(1802)로 공급하여, 스캔 구동부(1802)로 하여금 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형을 인가하도록 하고, 또한 구동 펄스 제어부(1804)는 소정의 제어 신호를 데이터 구동부(1801)로 공급하여, 데이터 구동부(1801)로 하여금 전술한 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하고, 또한 구동 펄스 제어부(1804)는 소정의 제어 신호를 서스테인 구동부(1803)로 공급하여, 서스테인 구동부(1803)로 하여금 전술한 셋업 기간 이후부터 스캔 전극(Y)으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간내에서는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압이 서스테인 전극(Z)으로 인가하도록 하는 것이다.In particular, the driving pulse controller 1804 increases the first voltage to the first voltage to the scan electrode Y in the one or more subfields of the plurality of subfields of the frame in the setup period of the reset period, and then to the second voltage to the second slope. The rising waveform is applied to the scan electrode (Y), and the first bias waveform of the positive polarity is applied to the address electrode (X) while the setup waveform is being applied to the scan electrode (Y). The magnitude of the voltage applied to the sustain electrode Z within the period until the first scan pulse is supplied is lower than the voltage of the sustain bias waveform Vzb applied to the sustain electrode Z in the address period. That is, the drive pulse controller 1804 supplies a predetermined control signal to the scan driver 1802, causing the scan driver 1802 to scan electrodes in the setup period of the reset period in one or more of the subfields of the frame. Apply a setup waveform that rises to the first voltage at a first slope and then rises to a second voltage at a second slope to (Y), and the driving pulse controller 1804 sends a predetermined control signal to the data driver 1801. The first bias waveform is applied to the address electrode X while the data driver 1801 applies the setup waveform to the above-described scan electrode Y, and the drive pulse controller 1804 The control signal is supplied to the sustain driver 1803 to cause the sustain driver 1803 to be supplied after the above-described setup period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode Y. In this case, a voltage lower than the voltage Vzb of the sustain bias waveform applied to the sustain electrode Z is applied to the sustain electrode Z in the address period.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 제 2 실시예의 구성 및 동작은 이후의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 2 실시예의 설명을 통해 보다 명확히 될 것이다.The configuration and operation of the second embodiment of the plasma display device of the present invention will be more clearly understood through the description of the second embodiment of the method of driving the plasma display device.

도 19a 내지 도 19b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도면이다.19A to 19B are views for explaining a second embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

여기 도 19a 내지 도 19b의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방 법의 제 2 실시예의 설명에서는 전술한 제 1 실시예와 동일하여 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Here, in the description of the second embodiment of the driving method of the plasma display device according to the present invention of FIGS. 19A to 19B, the same description as that of the first embodiment described above will be omitted.

도 19a 내지 도 19b를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 2 실시예에서는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되고, 이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 셋업 기간 이후부터 스캔 전극(Y)으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간내에서는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압이 서스테인 전극(Z)으로 인가된다.19A to 19B, in the second exemplary embodiment of the method of driving the plasma display device, the first slope is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period in one or more of the plurality of subfields of the frame. A setup waveform that gradually rises to the first voltage and then gradually rises to the second voltage with a second slope is applied, and thus, while the setup waveform is applied to the scan electrode (Y), the positive polarity is applied to the address electrode (X). One bias waveform is applied and is lower than the voltage Vzb of the sustain bias waveform applied to the sustain electrode Z in the address period within the period after the setup period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode Y. Voltage is applied to the sustain electrode Z.

먼저, 도 19a를 살펴보면 프레임의 복수의 서브필드 모두에서 각각 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 제 1 바이어스 파형은 다른 서브필드보다 더 넓다. 즉, 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓은 경우이다.First, referring to FIG. 19A, a scan electrode (1) is applied to each of a plurality of subfields of a frame, and a scan electrode (eg, a scan electrode) The first bias waveform of the positive polarity applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to Y) is wider than the other subfields. That is, the pulse width of the first bias waveform of the first subfield is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfield.

다음, 도 19b를 살펴보면 전술한 도 19a와는 다르게 프레임에 포함된 복수의 서브필드 중 선택된 소정 개수의 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가한다. 더욱 바람직하게는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브 필드에서 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 저 계조 서브필드는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드인 경우이다.Next, referring to FIG. 19B, unlike FIG. 19A, the first bias waveform is applied only to a predetermined number of subfields selected from among a plurality of subfields included in a frame. More preferably, the first bias waveform is applied in the low gray level subfield of the plurality of subfields of the frame, and the low gray level subfield is the first sub in the order of the low gray level weight of the plurality of subfields of the frame. This is the case of subfields from the field to the third subfield.

이렇게 셋다운 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 보다 상세한 구동 파형을 살펴보면 다음 도 20과 같다.A more detailed driving waveform applied to the sustain electrode Z in the set down period is as shown in FIG. 20.

도 20은 셋다운 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 파형을 보다 상세히 설명하기 위한 도면이다.20 is a view for explaining in detail the waveform applied to the sustain electrode (Z) in the set-down period.

도 20을 살펴보면, 전술한 도 19a의 영역 A이 확대되어 나타나 있다.Referring to FIG. 20, region A of FIG. 19A described above is enlarged.

여기서, 리셋 기간의 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압은 셋업 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압과 동일하게 유지하다가, 이러한 셋다운 기간의 끝단의 일부에서는 셋업 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압 보다는 크고 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압으로 상승한다. 보다 바람직하게는 이러한 셋다운 기간에서는 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압은 그라운드 레벨(GND)의 전압으로 유지하다가, 셋다운 기간의 끝단의 일부에서는 상기 그라운드 레벨의 전압 보다는 크고 상기 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압으로 상승한다.Here, in the set-down period after the setup period of the reset period, the voltage applied to the sustain electrode Z is kept the same as the voltage applied to the sustain electrode Z in the set-up period, but at a part of the end of the set-down period, the set-up period The voltage rises to a voltage greater than the voltage applied to the sustain electrode Z and lower than the voltage Vzb of the sustain bias waveform. More preferably, in this set down period, the voltage applied to the sustain electrode Z is maintained at the voltage of the ground level GND, and at a part of the end of the set down period, it is larger than the ground level voltage and is larger than the voltage of the sustain bias waveform. Rise to low voltage.

이러한 셋다운 기간 이후의 어드레스 기간에서는 서스테인 전극(Z)으로 서스테인 바이어스 전압(Vzb)의 서스테인 바이어스 파형을 인가하고, 이에 따라 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)은 셋다운 기간의 끝단에서 서스테인 바이어스 전압(Vzb)까지 상승한다.In the address period after this set-down period, a sustain bias waveform of the sustain bias voltage Vzb is applied to the sustain electrode Z. Accordingly, in the address period, the sustain electrode Z is sustained at the end of the set-down period. To rise.

이와 같이, 셋다운 기간 대부분에서 서스테인 전극(Z)이 그라운드 레벨(GND)의 전압을 유지함으로써, 셋다운 기간에서의 방전을 안정시키고 이에 따라 어드레스 기간에서의 어드레스 방전을 안정시켜 고속 어드레싱(Addressing)을 가능케 한다.As such, the sustain electrode Z maintains the voltage at the ground level GND during most of the set down period, thereby stabilizing the discharge in the set down period, thereby stabilizing the address discharge in the address period, thereby enabling high-speed addressing. do.

이상에서 설명한 본 발명의 제 1 실시예 및 제 2 실시예에서는 리셋 기간 이후의 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)으로 급상승하는 스캔 기준 파형이 인가되었지만, 방전의 안정을 위해 전압이 점진적으로 상승하는 스캔 기준 파형, 즉 상승파형을 스캔 전극(Y)으로 인가하는 것도 가능한데, 이를 살펴보면 다음 본 발명의 제 3 실시예와 같다.In the first and second embodiments of the present invention described above, although a scan reference waveform rapidly rising to the scan electrode Y is applied in the address period after the reset period, a scan in which the voltage gradually rises to stabilize the discharge It is also possible to apply a reference waveform, that is, a rising waveform to the scan electrode Y, which will be described as follows.

<제 3 실시예>Third Embodiment

도 21은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도면이다.21 is a view for explaining a third embodiment of the plasma display device according to the present invention.

도 21에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(2100), 데이터 구동부(2101), 스캔 구동부(2102), 서스테인 구동부(2103) 및 구동 펄스 제어부(2104)를 포함한다.As shown in FIG. 21, the plasma display apparatus of the present invention includes a plasma display panel 2100, a data driver 2101, a scan driver 2102, a sustain driver 2103, and a driving pulse controller 2104.

여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(2100)은 전면 패널(미도시)과 후면 패널(미도시)이 일정한 간격을 두고 합착되고, 다수의 전극들 예를 들어, 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)이 쌍을 이뤄 형성되고, 또한 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)과 교차되게 어드레스 전극들(X)이 형성된다.Here, the above-described plasma display panel 2100 is bonded to the front panel (not shown) and the rear panel (not shown) at regular intervals, and a plurality of electrodes, for example, the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z). Are formed in pairs, and the address electrodes X are formed to intersect the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

데이터 구동부(2101)에는 도시하지 않은 역감마 보정회로, 오차확산회로 등에 의해 역감마(Reverse Gamma) 보정 및 하프톤(Half Tone) 보정된 후, 서브필드 맵핑회로에 의해 각 서브필드에 맵핑된 데이터가 공급된다. 이러한 데이터 구동부(2101)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 어드레스 전극(X)에 인가한다. 예를 들면, 이러한 데이터 구동부(2101)는 구동 펄스 제어부(2104)의 제어에 따라 어드레스 기간에서 공급된 데이터를 어드레스 전극(X)에 인가한다.In the data driver 2101, reverse gamma correction and half tone correction are performed by an inverse gamma correction circuit, an error diffusion circuit, and the like, and then data mapped to each subfield by a subfield mapping circuit. Is supplied. The data driver 2101 applies a predetermined driving voltage to the address electrode X in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period. For example, the data driver 2101 applies data supplied in the address period to the address electrode X under the control of the drive pulse controller 2104.

스캔 구동부(2102)는 구동 펄스 제어부(2104)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 예를 들면, 리셋기간 동안 리셋 펄스, 예컨대 상승 램프 파형(Ramp-up)과 하강 램프 파형(Ramp-down)을 포함하는 리셋 파형을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 또한, 스캔 구동부(2102)는 어드레스 기간 동안 부극성 스캔 전압(-Vy)의 스캔 펄스(Sp)를 스캔 전극(Y)에 순차적으로 인가하고, 서스테인 기간 동안에는 서스테인 펄스(SUS)를 스캔 전극(Y)에 인가한다.The scan driver 2102 applies a predetermined driving voltage to the scan electrode Y in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 2104. For example, a reset waveform including a reset pulse, for example, a rising ramp waveform Ramp-up and a falling ramp waveform Ramp-down, is applied to the scan electrode Y during the reset period. In addition, the scan driver 2102 sequentially applies the scan pulse Sp of the negative scan voltage (-Vy) to the scan electrode Y during the address period, and applies the sustain pulse SUS to the scan electrode Y during the sustain period. ) Is applied.

서스테인 구동부(2103)는 구동 펄스 제어부(2104)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 서스테인 전극(Z)으로 인가한다. 예를 들면, 어드레스 기간 동안 정극성의 서스테인 바이어스 파형(Vzb)을 서스테인 전극(Z)에 공급하고 서스테인 기간 동안 스캔 구동부(2102)와 교대로 동작하여 서스테인 펄스(SUS)를 서스테인 전극(Z)에 공급한다.The sustain driver 2103 applies a predetermined driving voltage to the sustain electrode Z in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 2104. For example, the positive sustain bias waveform Vzb is supplied to the sustain electrode Z during the address period, and is alternately operated with the scan driver 2102 during the sustain period to supply the sustain pulse SUS to the sustain electrode Z. do.

구동 펄스 제어부(2104)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간에서 데 이터 구동부(2101), 스캔 구동부(2102) 및 서스테인 구동부(2103)의 동작 타이밍과 동기화를 제어하기 위한 소정의 제어신호(CTRX, CTRY, CTRZ)를 발생하고, 그 제어신호를 각각 데이터 구동부(2101), 스캔 구동부(2102) 및 서스테인 구동부(2103)에 공급함으로써 데이터 구동부(2101), 스캔 구동부(2102) 및 서스테인 구동부(2103)를 제어한다.The driving pulse control unit 2104 controls a predetermined control signal CTRX, for controlling the operation timing and synchronization of the data driver 2101, the scan driver 2102, and the sustain driver 2103 in the reset period, the address period, and the sustain period. CTRY and CTRZ are generated, and the control signals are supplied to the data driver 2101, the scan driver 2102 and the sustain driver 2103, respectively, to the data driver 2101, the scan driver 2102 and the sustain driver 2103. To control.

특히, 구동 펄스 제어부(2104)는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 아울러 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되도록 한다.In particular, the driving pulse controller 2104 increases the first voltage to the first voltage to the scan electrode Y in the one or more subfields of the plurality of subfields of the frame in the setup period of the reset period, and then to the second voltage to the second slope. To apply a rising setup waveform to the scan electrode Y and to apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y, and to After the falling waveform falling to the third voltage is applied to the electrode Y, and the rising waveform rising to the predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage is applied, the scan pulse falling from the fourth voltage to the fifth voltage To be applied.

즉, 구동 펄스 제어부(2104)는 소정의 제어 신호를 스캔 구동부(2102)로 공급하여, 스캔 구동부(2102)로 하여금 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형을 인가하도록 하고, 또한 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형을 인가한 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스를 인가하도록 하고, 또한 구동 펄스 제어부(2104)는 소정의 제어 신호를 데이터 구동부(2101)로 공급하여, 데이터 구동부(2101)로 하여금 전술한 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하고, 또한 구동 펄스 제어부(2104)는 소정의 제어 신호를 서스테인 구동부(2103)로 공급하여, 서스테인 구동부(2103)로 하여금 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압이 서스테인 전극(Z)으로 인가하도록 하는 것이다.That is, the drive pulse controller 2104 supplies a predetermined control signal to the scan driver 2102, causing the scan driver 2102 to scan electrodes in a setup period of a reset period in one or more of the plurality of subfields of the frame. In (Y), a setup waveform that rises to the first voltage with the first slope and then rises to the second voltage with the second slope is applied. Also, in the set-down period after the above-described setup period, the third voltage is applied to the scan electrode Y. A falling waveform that falls down to is applied, a rising waveform that rises with a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage is applied, and then a scan pulse that falls from the fourth voltage to the fifth voltage is applied. The control unit 2104 supplies a predetermined control signal to the data driver 2101 to allow the data driver 2101 to apply an address while the setup waveform is applied to the scan electrode Y described above. The first bias waveform of the positive polarity is applied to the electrode X, and the driving pulse control unit 2104 supplies a predetermined control signal to the sustain driving unit 2103 to cause the sustain driving unit 2103 after the above-described setup period. In the set-down period, a voltage lower than the voltage Vzb of the sustain bias waveform applied to the sustain electrode Z is applied to the sustain electrode Z in the address period.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 제 3 실시예의 구성 및 동작은 이후의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 2 실시예의 설명을 통해 보다 명확히 될 것이다.The configuration and operation of the third embodiment of the plasma display device of the present invention will be more clearly understood through the description of the second embodiment of the method of driving the plasma display device.

도 22a 내지 도 22b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도면이다.22A to 22B are views for explaining a third embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention.

여기 도 22a 내지 도 22b의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 3 실시예의 설명에서는 전술한 제 1 실시예 내지 제 2 실시예와 동일하여 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Here, in the description of the third embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention of FIGS. 22A to 22B, the same descriptions as those of the first to second embodiments will be omitted.

도 22a 내지 도 22b를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 3 실시예에서는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형 이 인가되고, 이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가된다.22A to 22B, in a third embodiment of the driving method of the plasma display device according to the present invention, the first slope is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period in one or more subfields of the plurality of subfields of the frame. The setup waveform is gradually applied up to the first voltage and then gradually rises up to the second voltage with the second slope. Thus, while the setup waveform is applied to the scan electrode (Y), the positive polarity is applied to the address electrode (X). One bias waveform is applied, and in the set-down period after the above-described setup period, a falling waveform falling to the third voltage is applied to the scan electrode Y, and the rising waveform rising to a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage. After this is applied, a scan pulse that falls from the fourth voltage to the fifth voltage is applied.

먼저, 도 22a를 살펴보면 프레임의 복수의 서브필드 모두에서 각각 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 제 1 바이어스 파형은 다른 서브필드보다 더 넓다. 즉, 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓은 경우이다.First, referring to FIG. 22A, a scan electrode (1) is applied to each of a plurality of subfields of a frame, and a scan electrode (eg, The first bias waveform of the positive polarity applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to Y) is wider than the other subfields. That is, the pulse width of the first bias waveform of the first subfield is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfield.

다음, 도 22b를 살펴보면 전술한 도 22a와는 다르게 프레임에 포함된 복수의 서브필드 중 선택된 소정 개수의 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가한다. 더욱 바람직하게는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브필드에서 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 저 계조 서브필드는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드인 경우이다.Next, referring to FIG. 22B, unlike FIG. 22A, the first bias waveform is applied only to a predetermined number of subfields selected from a plurality of subfields included in a frame. More preferably, the first bias waveform is applied in the low gray level subfield of the plurality of subfields of the frame, and the low gray level subfield is the first sub in the order of the low gray level weight of the plurality of subfields of the frame. This is the case of subfields from the field to the third subfield.

이렇게 셋다운 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 보다 상세한 구동 파형을 살펴보면 다음 도 23과 같다.A more detailed driving waveform applied to the scan electrode Y in the set down period is as shown in FIG. 23.

도 23은 셋다운 기간에서 스캔 전극(Y)으로 인가되는 파형을 보다 상세히 설 명하기 위한 도면이다.FIG. 23 is a diagram for explaining in detail a waveform applied to the scan electrode Y in the setdown period.

도 23을 살펴보면, 전술한 도 22a의 영역 B가 확대되어 나타나 있다.Referring to FIG. 23, region B of FIG. 22A described above is enlarged.

여기서, 리셋 기간의 셋다운 기간에서 전술한 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가, 즉 셋다운 펄스가 인가되고, 이러한 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된다. 즉, 전압이 스캔 기준 전압(Vsc)까지 점진적으로 상승하는 스캔 기준 파형, 즉 전압 상승 시간(S)을 갖는 스캔 기준 파형이 스캔 전극(Y)으로 인가된다.Here, in the set-down period of the reset period, the falling waveform falling to the third voltage is applied to the above-described scan electrode Y, that is, a set-down pulse is applied, and the rising rises by a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage. The waveform is applied. That is, a scan reference waveform in which the voltage gradually rises to the scan reference voltage Vsc, that is, a scan reference waveform having a voltage rise time S, is applied to the scan electrode Y.

이와 같이, 셋다운 기간의 끝단에서 전압이 점진적으로 상승하는 스캔 기준 파형을 스캔 전극(Y)으로 인가하는 이유는 구동 파형에 발생하는 노이즈를 줄이기 위해서인데, 이러한 노이즈 감소의 일례를 첨부된 도 24내지 도 25를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.As such, the reason why the scan reference waveform in which the voltage gradually rises at the end of the set-down period is applied to the scan electrode Y is to reduce noise generated in the driving waveform. An example of such noise reduction is shown in FIGS. Referring to Figure 25 as follows.

먼저, 도 24는 종래의 구동 파형에서 스캔 기준 파형의 전압이 급격하게 상승하는 경우를 설명하기 위한 도면이다.First, FIG. 24 is a diagram for describing a case where a voltage of a scan reference waveform rises rapidly in a conventional driving waveform.

또한, 도 25는 본 발명의 구동 파형에서 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 경우를 설명하기 위한 도면이다.25 is a view for explaining the case where the voltage of the scan reference waveform gradually rises in the driving waveform of the present invention.

먼저, 도 24를 살펴보면, (a)에서는 종래의 구동 파형이 나타나 있다. 이러한 구동파형으로 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널은 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 스캔 기준 파형의 인가시점이 모든 스캔 전극(Y)에서 ts로 동일하고, 또한 그 전압이 급격히 상승하여 인가된다.First, referring to FIG. 24, a conventional driving waveform is shown in (a). In the plasma display panel driven by such a driving waveform, the point of time of applying the scan reference waveform applied to the scan electrode Y in the address period is the same as ts at all the scan electrodes Y, and the voltage is rapidly increased.

이와 같이 동일한 시점에서 스캔 기준 파형이 각각의 스캔 전극(Y)에 인가되 면 스캔 전극(Y)에 인가되는 스캔 기준 파형에 노이즈(Noise)가 발생하게 된다. 이러한 동일한 시점에서 스캔 기준 파형이 각각 스캔 전극(Y)에 인가되는 경우에 발생되는 노이즈가 발생되는 일예가 (b)에 나타나 있다.As such, when the scan reference waveform is applied to each scan electrode Y at the same time, noise is generated in the scan reference waveform applied to the scan electrode Y. An example in which noise generated when the scan reference waveforms are applied to the scan electrodes Y at the same time point is shown in (b).

(b)를 살펴보면, 어드레스 기간에 스캔 기준 파형이 각각 스캔 전극(Y)에 동일한 시점에 급격히 인가되면 스캔 전극에 인가되는 구동파형에 노이즈가 발생한다. 이러한 노이즈는 패널의 정전용량(Capacitance)을 통한 커플링(Coupling)으로 인해 발생되는 것으로, 스캔 기준 파형의 전압이 급상승하는 시점에서는 스캔 전극(Y)에 인가되는 구동파형에 상승노이즈가 발생된다.Referring to (b), when scan reference waveforms are suddenly applied to the scan electrodes Y at the same time in the address period, noise is generated in the driving waveforms applied to the scan electrodes. Such noise is caused by coupling through capacitance of the panel, and rising noise is generated in the driving waveform applied to the scan electrode Y when the voltage of the scan reference waveform rises sharply.

전술한 바와 같이 스캔 전극(Y)에 인가되는 스캔 기준 파형의 동일 인가시점에 의해 스캔 전극(Y)에 인가되는 구동파형에 발생하는 노이즈는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 소자, 예컨대 스캔 전극(Y)에 스캔 펄스를 인가하기 위한 스캔 드라이버 IC(Integrated Circuit)에 전기적 손상을 입히게 된다.As described above, noise generated in the driving waveform applied to the scan electrode Y by the same application time point of the scan reference waveform applied to the scan electrode Y is applied to the driving element of the plasma display panel, for example, the scan electrode Y. Electrical damage will occur to the scan driver integrated circuit (IC) for applying the scan pulse.

다음, 도 25를 살펴보면, (a)에서는 본 발명의 구동 파형이 나타나 있다. 이러한 구동파형으로 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널은 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하여 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달한다.Next, referring to FIG. 25, a driving waveform of the present invention is shown in (a). In the plasma display panel driven by the driving waveform, the voltage of the scan reference waveform applied to the scan electrode Y gradually increases in the address period to reach the scan reference voltage Vsc.

즉, (a)에서는 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 상승파형, 즉 스캔 기준 파형이 소정의 기울기를 갖으며 상승하도록 조절된다. 다르게 표현하면, 어드레스 기간 이전의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극(Y)으로 하강파형이 제 1 전압까지 하강한 이후, 즉 하강 램프(Ramp-Down)의 셋다운 펄스가 끝까지 하 강한 이후에, 이러한 셋다운 펄스의 끝단, 즉 제 1 전압에서부터 제 2 전압까지 상승하는 상승파형이 인가, 즉 전압이 점진적으로 상승하기 시작하여 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가된다.That is, in (a), the rising waveform applied to the scan electrode Y in the address period, that is, the scan reference waveform, is adjusted to rise with a predetermined slope. In other words, after the falling waveform falls to the first voltage to the first voltage in the set-down period of the reset period before the address period, that is, after the set-down pulse of the falling ramp (Ramp-Down) falls to the end. A rising waveform that rises from the end of the set-down pulse, that is, from the first voltage to the second voltage, is applied, that is, a scan reference waveform is applied in which the voltage starts to rise gradually and reaches the scan reference voltage Vsc.

여기서, 전술한 제 1 전압과 제 3 전압은 동일 전압인 것이 바람직하다. 즉 셋다운 펄스의 끝단의 전압과 스캔 펄스의 전압(-Vy)은 동일하다.Here, it is preferable that the above-mentioned first voltage and third voltage are the same voltage. That is, the voltage at the end of the setdown pulse and the voltage (-Vy) of the scan pulse are the same.

여기서, 전술한 상승파형의 기울기는 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 기울기보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 서스테인 펄스의 ER-Up Time 보다 전술한 상승파형의 상승 기울기가 더 작은 것이다.Here, it is preferable that the slope of the rising waveform described above is smaller than the slope of the sustain pulse applied in the sustain period. That is, the rising slope of the rising waveform described above is smaller than the ER-Up Time of the sustain pulse.

또한, 전술한 상승파형은 제 2 전압에서 소정기간 동안 유지, 즉 스캔 기준 파형이 스캔 기준 전압(Vsc)을 소정 시간 유지하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the above-mentioned rising waveform is maintained at the second voltage for a predetermined period, that is, the scan reference waveform maintains the scan reference voltage Vsc for a predetermined time.

이러한, 상승파형은 스캔 전극(Y)들에 인가되는 스캔펄스 중 첫 번째 스캔펄스가 인가되기 전까지 인가되는 것이 바람직하다. 다르게 표현하면, 스캔 기준 파형의 전압은 이전의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 하강 램프(Ramp-Down)의 셋다운 펄스가 끝까지 하강한 시점부터, 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 이내에서 상승한다.This rising waveform is preferably applied until the first scan pulse is applied among the scan pulses applied to the scan electrodes (Y). In other words, the voltage of the scan reference waveform is within the period from when the set-down pulse of the ramp-down falls to the end in the set-down period of the previous reset period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode. Rises from.

이러한, 상승파형의 인가시간은 0㎲(마이크로 초)초과 20㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 이러한 상승파형의 인가시간은 6㎲(마이크로 초)이상 10㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것이 바람직하다.The application time of the rising waveform is preferably in the range of 0 ms (microseconds) and 20 ms (microseconds) or less. More preferably, the application time of such rising waveform is preferably in the range of 6 ms (microsecond) or more and 10 ms (microsecond) or less.

이에 따라, 어드레스 기간에서 스캔 전극에 인가되는 스캔 기준 파형에 의해 발생하는 노이즈의 크기를 저감시킨다.This reduces the amount of noise generated by the scan reference waveform applied to the scan electrodes in the address period.

(b)를 살펴보면, 도 24의 (b)에 비해 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 파형의 노이즈가 상당부분 감소되었다. 이렇게 노이즈가 감소된 이유는 스캔 전극(Y)에 인가되는 상승파형, 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간을 0㎲(마이크로 초)초과 20㎲(마이크로 초)이하의 범위 내에서 조절, 더욱 바람직하게는 이러한 상승파형의 인가시간을 6㎲(마이크로 초)이상 10㎲(마이크로 초)이하의 범위 내에서 조절하여 각 스캔 기준 파형의 인가시점에서 패널의 정전용량(Capacitance)을 통한 커플링(Coupling)을 감소시킴으로써, 스캔 기준 파형의 전압이 급상승하는 시점에서는 스캔 전극에 인가되는 파형에 발생되는 상승노이즈를 감소시킨다. 이에 따라, 플라즈마 디스플레이 패널 구동 소자, 예컨대 스캔 구동부의 스캔 드라이버 IC의 전기적 손상을 방지한다.Referring to (b), the noise of the waveform applied to the scan electrode Y in the address period is considerably reduced in comparison with FIG. 24 (b). The reason why the noise is reduced is to adjust the time when the rising waveform applied to the scan electrode Y and the voltage of the scan reference waveform gradually rise within the range of 0 ms (microsecond) and 20 ms (microsecond) or less. More preferably, the application time of the rising waveform is adjusted within the range of 6 microseconds or more and 10 microseconds or less so that the coupling through the capacitance of the panel at the time of application of each scan reference waveform is performed. By reducing Coupling, the rising noise generated in the waveform applied to the scan electrode is reduced when the voltage of the scan reference waveform rises. This prevents electrical damage of the plasma display panel drive element, for example, the scan driver IC of the scan driver.

한편, 이상의 구동방법에서는 모든 스캔 전극(Y)에 인가되는 스캔 기준 파형의 전압 상승 시간, 즉 상승 파형의 인가시간을 0㎲(마이크로 초)초과 20㎲(마이크로 초)이하, 바람직하게는 6㎲(마이크로 초)이상 10㎲(마이크로 초)이하의 범위 내에서 동일하게 조절하는 것이었지만, 이와는 다르게 스캔 전극(Y)을 복수의 스캔 전극군으로 나누고, 이렇게 나눈 스캔 전극군별로 어드레스 기간에서 인가되는 스캔 기준 파형의 전압 상승시간, 즉 상승펄스의 인가시간을 각각 서로 다르게 하는 것도 가능한데, 이러한 방법을 살펴보면 다음과 같다.On the other hand, in the above driving method, the voltage rise time of the scan reference waveform applied to all the scan electrodes Y, that is, the application time of the rise waveform is less than 0 ms (microseconds) and 20 ms (microseconds) or less, preferably 6 ms. The same adjustment was made within the range of (microseconds) to 10 microseconds (microseconds), but differently, the scan electrode Y was divided into a plurality of scan electrode groups, and the scan electrode groups thus divided were applied in the address period. The voltage rise time of the scan reference waveform, that is, the application time of the rise pulse, may be different from each other. This method is described below.

여기서, 전술한 스캔 전극군별로 상승펄스의 인가시간을 다르게 하는 방법의 이해를 돕기 위해, 전술한 스캔 전극군의 개념에 대해 도 26을 결부하여 살펴보면 다음과 같다.Here, the concept of the above-described scan electrode group will be described with reference to FIG. 26 in order to help understanding the method of changing the application time of the rising pulse for each scan electrode group as described above.

도 26은 스캔 전극군의 개념을 설명하기 위한 도면이다.26 is a diagram for explaining the concept of a scan electrode group.

도 26을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널(2600)의 스캔 전극(Y)들을, 예컨대 Ya전극군(Ya1 ~ Ya(n)/4), Yb전극군(Yb((n/4)+1) ~ Yb(2n)/4), Yc전극군(Yc((2n/4)+1) ~ Yc(3n)/4) 및 Yd전극군(Yd((3n/4)+1) ~ Yd(n))으로 구분한다.Referring to FIG. 26, the scan electrodes Y of the plasma display panel 2600 are, for example, Ya electrode groups Ya 1 to Ya (n) / 4, and Yb electrode groups Yb ((n / 4) +1). Yb (2n) / 4), Yc electrode group (Yc ((2n / 4) +1) to Yc (3n) / 4) and Yd electrode group (Yd ((3n / 4) +1) to Yd (n) Separated by)).

한편, 여기 도 26에서는 각 스캔 전극군(Ya전극군, Yb전극군, Yc전극군, Yd전극군)에 포함된 스캔 전극의 개수를 동일하도록 설정하였지만, 각 스캔 전극군(Ya전극군, Yb전극군, Yc전극군, Yd전극군)에 포함되는 스캔 전극의 개수를 서로 상이하게 설정하는 것도 가능하다. 예를 들면, Ya전극군에는 100개의 스캔 전극, Yb의 전극군에는 200개의 스캔 전극이 포함될 수 있다.Meanwhile, in FIG. 26, the number of scan electrodes included in each scan electrode group (Ya electrode group, Yb electrode group, Yc electrode group, and Yd electrode group) is set to be the same, but each scan electrode group (Ya electrode group, Yb) is set to be the same. It is also possible to set the number of scan electrodes included in the electrode group, the Yc electrode group, and the Yd electrode group differently from each other. For example, 100 scan electrodes may be included in the Ya electrode group, and 200 scan electrodes may be included in the electrode group of Yb.

또한, 스캔 전극군의 개수도 조절 가능하다. 또한, 이러한 스캔 전극군의 개수는 최소 2개 이상부터 최대 스캔 전극의 총 개수보다 작은 범위, 즉 총 스캔 전극의 개수가 n개라고 가정할 때, 2 ≤ N ≤ (n-1)개(N은 스캔 전극군의 개수) 사이에서 설정될 수 있다.The number of scan electrode groups can also be adjusted. Also, assuming that the number of scan electrode groups ranges from at least two to less than the total number of maximum scan electrodes, that is, the number of total scan electrodes is n, 2 ≦ N ≦ (n−1) N Is the number of scan electrode groups).

이상의 도 26을 결부하여 설명한 바와 같은 전극군의 개념을 토대로 하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 3 실시예를 살펴보면 다음과 같다.A third embodiment of a method of driving a plasma display device of the present invention will now be described based on the concept of an electrode group as described above with reference to FIG. 26.

여기서 전술한 상승파형의 인가시간, 즉 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간은 이전의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 하강 램프(Ramp-Down)의 셋다운 펄스가 끝까지 하강한 이후 시점에서부터 첫 번째 스캔 펄스가 인가되기 이 전까지의 기간 내에서 조절된다.Here, the application time of the rising waveform described above, that is, the time when the voltage of the scan reference waveform gradually rises is the first scan from the time after the set-down pulse of the ramp-down falls to the end in the set-down period of the previous reset period. It is regulated within a period before the pulse is applied.

여기서, 전술한 바와 같이, 상승파형의 인가시간을 조절할 시 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극(Y)에는 인가시간이 동일한 상승파형을 인가하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 전술한 도 26에서의 Ya전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Ya1부터 스캔 전극 Ya(n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간, 즉 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간은 5㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yb전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yb((n/4)+1)부터 스캔 전극 Yb(2n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 10㎲(마이크로 초)로 설정한다. 이와 같이, 하나의 스캔 전극군에 속한 스캔 전극들에 인가되는 상승파형의 인가시간은 모두 동일하도록 설정된다.Here, as described above, it is preferable to apply the rising waveform having the same application time to all the scan electrodes (Y) included in the scan electrode group when adjusting the application time of the rising waveform. For example, the application time of the rising waveform applied to all the scan electrodes included in the Ya electrode group in FIG. 26, that is, the scan electrodes Ya 1 to the scan electrodes Ya (n) / 4, that is, the scan reference The time when the voltage of the waveform gradually rises is set to 5 ms (microseconds), and all the scan electrodes included in the Yb electrode group, that is, the scan electrodes Yb ((n / 4) +1) to the scan electrodes Yb (2n) The application time of the rising waveform applied to the scan electrode up to / 4 is set to 10 ms (microsecond). In this way, the application times of the rising waveforms applied to the scan electrodes belonging to one scan electrode group are all set to be the same.

또한, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 동일하게 설정될 수 있다. 예를 들면, 전술한 도 26에서의 Ya전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Ya1부터 스캔 전극 Ya(n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 5㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yb전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yb((n/4)+1)부터 스캔 전극 Yb(2n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 10㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yc전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yc((2n/4)+1)부터 스캔 전극 Yc(3n)/4까지의 모든 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 15㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yd전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yd((3n/4)+1)부터 스캔 전극 Yd(n)까 지의 모든 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 20㎲(마이크로 초)로 설정한다. 즉, Ya 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이는 5㎲(마이크로 초)초 이고, Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이도 5㎲(마이크로 초)이고, Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형과 Yd 스캔 전극군에 인가되는 상승파형과의 차이도 5㎲(마이크로 초)이다.In addition, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times may be set the same. For example, the application time of the rising waveform applied to all the scan electrodes included in the Ya electrode group in FIG. 26 described above, that is, the scan electrodes from scan electrode Ya 1 to scan electrode Ya (n) / 4 is 5 s ( Microseconds) and application of a rising waveform applied to all scan electrodes included in the Yb electrode group, that is, scan electrodes Yb ((n / 4) +1) to scan electrodes Yb (2n) / 4. The time is set to 10 microseconds (microseconds) and is applied to all scan electrodes included in the Yc electrode group, that is, all scan electrodes from scan electrode Yc ((2n / 4) +1) to scan electrode Yc (3n) / 4. The application time of the rising waveform to be applied is set to 15 ms (microseconds), and the scan electrodes Yd ((3n / 4) +1) to the scan electrodes Yd (n) included in the Yd electrode group The application time of the rising waveform applied to all the scan electrodes is set to 20 ms (microseconds). That is, the difference between the application time of the rising waveform applied to the Ya scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group is 5 s (microseconds) seconds, and the rising waveform applied to the Yb scan electrode group is applied. The difference between the application time and the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group is 5 microseconds (microseconds), and the difference between the rising waveform applied to the Yc scan electrode group and the rising waveform applied to the Yd scan electrode group. 5 microseconds.

또한, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 서로 다르게 설정될 수 있다. 예를 들면, 전술한 도 26에서의 Ya전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Ya1부터 스캔 전극 Ya(n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 5㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yb전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yb((n/4)+1)부터 스캔 전극 Yb(2n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 7㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yc전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yc((2n/4)+1)/4부터 스캔 전극 Yc(3n)/4까지의 모든 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 15㎲(마이크로 초)로 설정하고, Yd전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 스캔 전극 Yd((3n/4)+1)부터 스캔 전극 Yd(n)까지의 모든 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간은 20㎲(마이크로 초)로 설정한다. 즉, Ya 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이는 2㎲(마이크로 초)이고, Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간 과의 차이는 8㎲(마이크로 초)이고, Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yd 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이는 5㎲(마이크로 초)이다.In addition, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times may be set differently. For example, the application time of the rising waveform applied to all the scan electrodes included in the Ya electrode group in FIG. 26 described above, that is, the scan electrodes from scan electrode Ya 1 to scan electrode Ya (n) / 4 is 5 s ( Microseconds) and application of a rising waveform applied to all scan electrodes included in the Yb electrode group, that is, scan electrodes Yb ((n / 4) +1) to scan electrodes Yb (2n) / 4. The time is set to 7 ms (microseconds), and all scan electrodes included in the Yc electrode group, that is, all scans from scan electrode Yc ((2n / 4) +1) / 4 to scan electrode Yc (3n) / 4 The application time of the rising waveform applied to the electrode is set to 15 ms (microseconds), and all the scan electrodes included in the Yd electrode group, that is, the scan electrodes Yd ((3n / 4) +1) to the scan electrodes Yd (n) The application time of the rising waveform applied to all the scan electrodes up to 20 microseconds is set. That is, the difference between the application time of the rising waveform applied to the Ya scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group is 2 ms (microseconds), and the application of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group is applied. The difference between the time and the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group is 8 ms (microseconds), and the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group and application of the rising waveform to the Yd scan electrode group are applied. The difference with time is 5 microseconds (microseconds).

이와 같이, 어드레스 기간에서 스캔 전극군별로 인가되는 상승파형의 인가시간을 조절하여 플라즈마 디스플레이 패널을 구동시키는 방법을 살펴보면 다음 도 27a 내지 도 27b와 같다.As described above, a method of driving the plasma display panel by adjusting the application time of the rising waveform applied to each scan electrode group in the address period will be described with reference to FIGS. 27A to 27B.

도 27a 내지 도 27b는 도 26의 스캔 전극군에 따라 상승파형의 인가시간을 조절하는 구동방법을 설명하기 위한 도면이다.27A to 27B are views for explaining a driving method of adjusting an application time of a rising waveform according to the scan electrode group of FIG. 26.

도 27a 내지 도 27b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동방법은 스캔 전극들은 적어도 하나 이상의 스캔 전극을 포함하는 2개 이상의 스캔 전극군으로 분할되고, 적어도 하나 이상의 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간이 적어도 하나 이상의 다른 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 다르다.As shown in FIGS. 27A to 27B, the driving method of the plasma display apparatus of the present invention is divided into two or more scan electrode groups including at least one scan electrode, and applied to at least one scan electrode group. The application time of the rising waveform is different from the application time of the rising waveform applied to at least one other scan electrode group.

예를 들면, 도 27a와 같이, 전술한 도 26에서와 같은 Ya 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t1의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t1-t0인 상승파형이 인가되고, Yb 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t2의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t2-t0인 상승파형이 인가되고, Yc 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t3의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t3-t0인 상승파형이 인가되고, Yd 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t4의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가된다. 즉 인가시간이 t4-t0인 상승파형이 인가된다. 이에 따라, 각각의 스캔 전극군에 인가되는 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간, 즉 상승파형의 인가시간이 서로 다르다.For example, as shown in FIG. 27A, all of the scan electrodes included in the Ya scan electrode group as shown in FIG. 26 are started to rise at the time point t 0 in the address period and then the scan reference voltage Vsc at the time point t 1 . A scan reference waveform reaching to is applied, that is, a rising waveform with an application time of t 1 -t 0 is applied, and all scan electrodes included in the Yb scan electrode group start rising at the time t 0 in the address period and then t A scan reference waveform that reaches the scan reference voltage Vsc at the time of 2 is applied, i.e., a rising waveform with an application time of t 2 -t 0 is applied, and all scan electrodes included in the Yc scan electrode group have an address period. A scan reference waveform that starts rising at the time t 0 and reaches the scan reference voltage Vsc at the time t 3 is applied, that is, a rising waveform with an application time of t 3 -t 0 is applied, and the Yd scan electrode group Before all scans contained in , The scan reference waveform that reaches the scan reference voltage (Vsc) at the time of start to rise at a time point of t 0 to t 4 is applied during the address period. That is, a rising waveform with an application time of t 4 -t 0 is applied. Accordingly, the time when the voltage of the scan reference waveform applied to each scan electrode group gradually rises, that is, the application time of the rising waveform is different from each other.

여기 도 27a에서는 각각의 스캔 전극군별로 각각 서로 다른 전압 상승시간을 갖는 스캔 기준 파형, 즉 인가시간이 서로 다른 상승 파형을 인가하였지만, 이러한 스캔 전극군 중에서 소정 개수의 전극군을 선택하고 이렇게 선택한 스캔 전극군에만 서로 다른 전압 상승시간을 갖는 스캔 기준 파형을 인가하는 것도 가능하다. 예컨대, Ya 스캔 전극군에 포함된 모드 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t1의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t1-t0인 상승파형이 인가되고, Yb, Yc, Yd 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 각각 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t2의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가, 즉 인 가시간이 t2-t0인 상승파형이 인가된다.In FIG. 27A, a scan reference waveform having a different voltage rise time, that is, a rise waveform having a different application time, is applied to each scan electrode group. However, a predetermined number of electrode groups are selected from the scan electrode groups and thus selected scans are performed. It is also possible to apply scan reference waveforms having different voltage rise times only to the electrode group. For example, a scan reference waveform that starts rising at the time point t 0 and reaches the scan reference voltage Vsc at the time point t 1 is applied to the mode scan electrode included in the Ya scan electrode group, that is, the application time is applied. A rising waveform of t 1 -t 0 is applied, and all the scan electrodes included in the Yb, Yc, and Yd scan electrode groups start to rise at the time t 0 in the address period, respectively, and the scan reference voltage (Vsc) at the time t 2 . Is applied, i.e., a rising waveform having an imprint time of t 2 -t 0 is applied.

여기서, 전술한 바와 같이 스캔 전극(Y)을 복수의 전극군으로 나누어 상승파형, 즉 전압이 점진적으로 상승하는 스캔 기준 파형을 인가하는 경우에 전술한 스캔 전극군의 개수는 2개 이상, 스캔 전극의 총 개수이하로 설정하여 구동하는 것이 바람직하다.As described above, when the scan electrode Y is divided into a plurality of electrode groups and a rising waveform, that is, a scan reference waveform in which the voltage gradually increases, the number of the scan electrode groups described above is two or more, and the scan electrodes It is preferable to drive by setting the total number or less.

여기서, 스캔 전극군은 1개 이상의 스캔 전극을 포함하고, 스캔 전극군은 모두 동일한 개수의 스캔 전극을 포함하거나 하나 이상에서 상이한 개수의 스캔 전극을 포함할 수 있다. 예를 들면, 전술한 Ya 스캔 전극군은 100개의 스캔 전극을 포함하고, Yb 스캔 전극군은 200개의 스캔 전극을 포함할 수 있다.Here, the scan electrode group may include one or more scan electrodes, and the scan electrode groups may all include the same number of scan electrodes or may include one or more different numbers of scan electrodes. For example, the aforementioned Ya scan electrode group may include 100 scan electrodes, and the Yb scan electrode group may include 200 scan electrodes.

또한, 여기서 동일한 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극에는 전압의 상승시간이 동일한 스캔 기준 파형, 즉 인가시간이 동일한 상승파형을 인가하는 것이 바람직하다. 즉 전술한 Ya 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극, 즉 Ya1부터 스캔 전극 Ya(n)/4까지의 스캔 전극에 인가되는 스캔 기준 파형의 전압 상승시간, 즉 상승파형의 인가시간은 10㎲(마이크로 초)로 모두 동일하게 설정할 수 있다.In addition, it is preferable to apply a scan reference waveform having the same rise time of the voltage, that is, a rise waveform of the same application time, to all the scan electrodes included in the same scan electrode group. That is, the voltage rise time of the scan reference waveform applied to all the scan electrodes included in the aforementioned Ya scan electrode group, that is, the scan electrodes from Ya 1 to the scan electrode Ya (n) / 4, that is, the rise time of the rising waveform is 10 s. The same can be set for both (microseconds).

또한, 여기 도 27a에서는 또한, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 동일하다. 즉, Ya 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이를 5㎲(마이크로 초)라 할 때 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이와, Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yd 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이는 모두 전술한 바와 같은 5㎲(마이크로 초)로 설정된다.Incidentally, in Fig. 27A, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times is also the same. That is, when the difference between the application time of the rising waveform applied to the Ya scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group is 5 microseconds (microseconds), the rising waveform applied to the Yb scan electrode group The difference between the application time and the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group and the difference between the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yd scan electrode group are both It is set to 5 microseconds (microseconds) as described above.

이와는 다르게, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 상이하도록 설정할 수도 있는데, 이러한 구동파형을 살펴보면 다음 도 27b와 같다.Unlike this, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times may be set to be different. Looking at such a driving waveform, it is shown in FIG. 27B.

도 27b를 살펴보면, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 상이하다. 즉, Ya 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t2와 t1과의 차이를 5㎲(마이크로 초)라 할 때 Yb 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t3과 t2와의 차이는 7㎲(마이크로 초), Yc 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Yd 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t4와 t3과의 차이는 10㎲(마이크로 초)로 설정된다.Looking at Figure 27b, the difference between the application time of the two rising waveforms having different application time is different. That is, the difference between the application time of the rising waveform applied to the Ya scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group, that is, the difference between t 2 and t 1 is 5 ms (microsecond). The difference between the application time of the rising waveform applied to the Yb scan electrode group and the application time of the rising waveform applied to the Yc scan electrode group, that is, the difference between t 3 and t 2 , is 7 μs (microseconds) and is applied to the Yc scan electrode group. The difference between the application time of the rising waveform to be applied and the application time of the rising waveform to be applied to the Yd scan electrode group, that is, the difference between t 4 and t 3 is set to 10 ms (microsecond).

이에 따라, 도 25에서와 같이 어드레스 기간에서 스캔 전극에 인가되는 상승파형에 의해 발생하는 노이즈의 크기를 저감시킨다.As a result, as shown in FIG. 25, the amount of noise generated by the rising waveform applied to the scan electrode in the address period is reduced.

이렇게 노이즈가 감소된 이유는 모든 스캔 전극(Y)에 인가되는 상승파형의 인가시간을 동일하게 하지 않고, 스캔 전극을 복수의 전극군으로 나누고, 어드레스 기간에서 적어도 하나 이상의 상기 스캔 전극군에 인가되는 상승파형의 인가시간을 나머지 스캔 전극군과 서로 다르게 조절하여 각 상승파형의 인가시점에서 패널의 정전용량(Capacitance)을 통한 커플링(Coupling)을 감소시킴으로써, 스캔 기준 파형의 전압이 급상승하는 시점, 즉 상승파형이 인가되는 시점에서는 스캔 전극(Y)에 인가되는 파형에 발생되는 상승노이즈를 감소시킨다. 이에 따라, 플라즈마 디스플레이 패널 구동 소자, 예컨대 스캔 구동부의 스캔 드라이버 IC의 전기적 손상을 방지한다.The reason why the noise is reduced is that the scan electrodes are divided into a plurality of electrode groups without applying the rising time of the rising waveforms applied to all the scan electrodes Y to be applied to at least one of the scan electrode groups in the address period. By adjusting the application time of the rising waveform differently from the rest of the scan electrode group to reduce the coupling through the capacitance of the panel at the time of applying the rising waveform, the time when the voltage of the scan reference waveform rises sharply, That is, when the rising waveform is applied, the rising noise generated in the waveform applied to the scan electrode Y is reduced. This prevents electrical damage of the plasma display panel drive element, for example, the scan driver IC of the scan driver.

한편, 이상의 도 27a 내지 도 27b의 설명에서는 스캔 전극(Y)을 복수의 스캔 전극군으로 나누어 어드레스 기간에 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간을 스캔 전극별로 다르게 하는 것이지만, 이와는 다르게 스캔 전극의 각각에 어드레스 기간에서 인가되는 상승파형의 인가시간을 스캔 전극별로 각각 서로 다르게 하는 것도 가능한데, 이러한 방법을 첨부된 도 28a 내지 도 28b를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.Meanwhile, in the above description of FIGS. 27A to 27B, the application time of the rising waveform applied to the scan electrode in the address period is different for each scan electrode by dividing the scan electrode Y into a plurality of scan electrode groups. The application time of the rising waveform applied to each of the address periods may be different for each scan electrode. This method will be described below with reference to FIGS. 28A to 28B.

도 28a 내지 도 28b는 스캔 전극별로 상승파형의 인가시간을 각각 서로 다르게 조절하는 구동방법을 설명하기 위한 도면이다.28A to 28B are diagrams for describing a driving method of controlling an application time of a rising waveform differently for each scan electrode.

도 28a 내지 도 28b에 도시된 바와 같이, 어드레스 기간에서 스캔 전극(Y)에 인가되는 상승펄스의 인가시간은 스캔 전극(Y)별로 각각 서로 다르도록 조절된다.As shown in FIGS. 28A to 28B, the application time of the rising pulse applied to the scan electrode Y in the address period is adjusted to be different for each scan electrode Y. FIG.

예를 들면, 도 28a와 같이, Y1 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t1의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t1-t0인 상승파형이 인가되고, Y2 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t2의 시점에서 스캔 기준 전압 (Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t2-t0인 상승파형이 인가되고, Y3 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t3의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t3-t0인 상승파형이 인가되고, Y4 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t4의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t4-t0인 상승파형이 인가되고, Ym스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 tm의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가, 즉 인가시간이 tm-t0인 상승파형이 인가된다. 이에 따라, 각각의 스캔 전극에 인가되는 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간, 즉 상승파형의 인가시간이 각각 서로 다르다.For example, as shown in FIG. 28A, a scan reference waveform is applied to the Y 1 scan electrode at the time point t 0 in the address period and reaches the scan reference voltage Vsc at the time point t 1 , that is, the application time. This rising waveform of t 1 -t 0 is applied, and a scan reference waveform is applied to the Y 2 scan electrode at the time point t 0 in the address period and reaches the scan reference voltage Vsc at the time t 2 . In other words, a rising waveform having an application time of t 2 -t 0 is applied, and the scan reference which starts rising at the time t 0 in the address period and reaches the scan reference voltage Vsc at the time t 3 is applied to the Y 3 scan electrode. A waveform is applied, that is, a rising waveform with an application time of t 3 -t 0 is applied, and the Y 4 scan electrode starts to rise at the time point t 0 in the address period and is applied to the scan reference voltage Vsc at the time point t 4 . To reach the scan reference waveform , That is the time t 4 -t 0 is the leading waveform and, Ym scan electrode, a scan reference waveform that reaches the scan reference voltage (Vsc) at the time of t and m begins to rise at a time point of t 0 in the address period This application, i.e., a rising waveform whose application time is t m -t 0 , is applied. Accordingly, the time when the voltage of the scan reference waveform applied to each scan electrode gradually rises, that is, the application time of the rising waveform is different from each other.

여기 도 28a에서는 각각의 스캔 전극별로 각각 서로 다른 인가시간을 갖는 상승파형을 인가하였지만, 이러한 스캔 전극 중에서 소정 개수의 전극을 선택하고 이렇게 선택한 스캔 전극에만 서로 다른 인가시간을 갖는 상승파형을 인가하는 것도 가능하다. 예컨대, Y1 스캔 전극에는 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t1의 시점에서 스캔 기준 전압(Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가되고, 즉 인가시간이 t1-t0인 상승파형이 인가되고, Y2, Y3, Y4, Ym 스캔 전극에는 각각 어드레스 기간에 t0의 시점에서 상승하기 시작하여 t2의 시점에서 스캔 기준 전압 (Vsc)에 도달하는 스캔 기준 파형이 인가, 즉 인가시간이 t2-t0인 상승파형이 인가된다.Here, in FIG. 28A, rising waveforms having different application times are applied to each scan electrode, but a predetermined number of electrodes are selected from these scan electrodes, and a rising waveform having different application times is applied only to the selected scan electrodes. It is possible. For example, a scan reference waveform that starts rising at the time point t 0 and reaches the scan reference voltage Vsc at the time point t 1 is applied to the Y 1 scan electrode, that is, the application time is t 1 -t 0 . A scan reference waveform is applied to the rising waveform, and the Y 2 , Y 3 , Y 4 , and Y m scan electrodes start to rise at the time t 0 in the address period and reach the scan reference voltage Vsc at the time t 2 , respectively. This application, i.e., a rising waveform whose application time is t 2 -t 0 , is applied.

또한, 여기 도 28a에서는 또한, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 동일하다. 즉, Y1 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y2 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이를 5㎲(마이크로 초)라 할 때 Y2 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y3 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이와, Y3 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y4 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이는 모두 전술한 바와 같은 5㎲(마이크로 초)로 설정될 수 있다.Incidentally, in FIG. 28A, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times is also the same. That is, when the difference between the application time of the rising waveform applied to the Y 1 scan electrode and the application time of the rising waveform applied to the Y 2 scan electrode is 5 m (microseconds), the rising waveform applied to the Y 2 scan electrode application time and Y 3 and the difference between the application time of a rising waveform applied to the scan electrodes, Y 3 is a rising waveform applied to the scan electrode hour and Y 4 is the difference between the time of a rising waveform applied to the scan electrode are both It can be set to 5 microseconds (microseconds) as described above.

이와는 다르게, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 상이하도록 설정할 수도 있는데, 이러한 구동파형을 살펴보면 다음 도 28b와 같다.Unlike this, the difference between the application times of two rising waveforms having different application time may be set to be different. Looking at such a driving waveform, it is as shown in FIG. 28B.

도 28b를 살펴보면, 상이한 인가시간을 갖는 두 개의 상승파형의 인가시간간의 차이는 상이하다. 즉, Y1 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y2 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t0와 t1과의 차이를 5㎲(마이크로 초)라 할 때 Y2 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y3 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t0와 t2와의 차이는 7㎲(마이크로 초), Y3 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과 Y4 스캔 전극에 인가되는 상승파형의 인가시간과의 차이, 즉 t0와 t3과의 차이는 10㎲(마이크로 초)로 설정된다.Referring to FIG. 28B, the difference between the application times of two rising waveforms having different application times is different. That is, the difference between the application time of the rising waveform applied to the Y 1 scan electrode and the application time of the rising waveform applied to the Y 2 scan electrode, that is, the difference between t 0 and t 1 is 5 ms (microsecond). The difference between the application time of the rising waveform applied to the Y 2 scan electrode and the application time of the rising waveform applied to the Y 3 scan electrode, that is, the difference between t 0 and t 2 , is 7 ㎲ (microseconds) and is applied to the Y 3 scan electrode. The difference between the application time of the rising waveform applied and the application time of the rising waveform applied to the Y 4 scan electrode, that is, the difference between t 0 and t 3 is set to 10 microseconds (microseconds).

이에 따라, 도 25에서와 같이 어드레스 기간에서 스캔 전극에 인가되는 상승파형에 의해 발생하는 노이즈의 크기를 저감시킨다.As a result, as shown in FIG. 25, the amount of noise generated by the rising waveform applied to the scan electrode in the address period is reduced.

<제 4 실시예>Fourth Embodiment

도 29는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도면이다.29 is a view for explaining a fourth embodiment of the plasma display device according to the present invention.

도 29에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(2900), 데이터 구동부(2901), 스캔 구동부(2902), 서스테인 구동부(2903) 및 구동 펄스 제어부(2904)를 포함한다.As shown in FIG. 29, the plasma display apparatus of the present invention includes a plasma display panel 2900, a data driver 2901, a scan driver 2902, a sustain driver 2907, and a driving pulse controller 2904.

여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(2900)은 전면 패널(미도시)과 후면 패널(미도시)이 일정한 간격을 두고 합착되고, 다수의 전극들 예를 들어, 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)이 쌍을 이뤄 형성되고, 또한 스캔 전극(Y) 및 서스테인 전극(Z)과 교차되게 어드레스 전극들(X)이 형성된다.Here, the above-described plasma display panel 2900 is bonded to the front panel (not shown) and the rear panel (not shown) at regular intervals, and a plurality of electrodes, for example, the scan electrode (Y) and the sustain electrode (Z). Are formed in pairs, and the address electrodes X are formed to intersect the scan electrode Y and the sustain electrode Z.

데이터 구동부(2901)에는 도시하지 않은 역감마 보정회로, 오차확산회로 등에 의해 역감마(Reverse Gamma) 보정 및 하프톤(Half Tone) 보정된 후, 서브필드 맵핑회로에 의해 각 서브필드에 맵핑된 데이터가 공급된다. 이러한 데이터 구동부(2901)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 어드레스 전극(X)에 인가한다. 예를 들면, 이러한 데이터 구동부(2901)는 구동 펄스 제어부(2904)의 제어에 따라 어드레스 기간에서 공급된 데이터를 어드레스 전극(X)에 인가한다.In the data driver 2901, reverse gamma correction and half tone correction are performed by an inverse gamma correction circuit, an error diffusion circuit, and the like, and then data mapped to each subfield by a subfield mapping circuit. Is supplied. The data driver 2901 applies a predetermined driving voltage to the address electrode X in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period. For example, the data driver 2901 applies data supplied in the address period to the address electrode X under the control of the drive pulse controller 2904.

스캔 구동부(2902)는 구동 펄스 제어부(2904)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 예를 들면, 리셋기간 동안 리셋 펄스, 예컨대 상승 램프 파형(Ramp-up)과 하강 램프 파형(Ramp-down)을 포함하는 리셋 파형을 스캔 전극(Y)에 인가한다. 또한, 스캔 구동부(2902)는 어드레스 기간 동안 부극성 스캔 전압(-Vy)의 스캔 펄스(Sp)를 스캔 전극(Y)에 순차적으로 인가하고, 서스테인 기간 동안에는 서스테인 펄스(SUS)를 스캔 전극(Y)에 인가한다.The scan driver 2902 applies a predetermined driving voltage to the scan electrode Y in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 2904. For example, a reset waveform including a reset pulse, for example, a rising ramp waveform Ramp-up and a falling ramp waveform Ramp-down, is applied to the scan electrode Y during the reset period. In addition, the scan driver 2902 sequentially applies the scan pulse Sp of the negative scan voltage (-Vy) to the scan electrode Y during the address period, and applies the sustain pulse SUS to the scan electrode Y during the sustain period. ) Is applied.

서스테인 구동부(2903)는 구동 펄스 제어부(2904)의 제어 하에 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 소정의 구동 전압을 서스테인 전극(Z)으로 인가한다. 예를 들면, 어드레스 기간 동안 정극성의 서스테인 바이어스 파형(Vzb)을 서스테인 전극(Z)에 공급하고 서스테인 기간 동안 스캔 구동부(2902)와 교대로 동작하여 서스테인 펄스(SUS)를 서스테인 전극(Z)에 공급한다.The sustain driver 2907 applies a predetermined driving voltage to the sustain electrode Z in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period under the control of the drive pulse controller 2904. For example, the positive sustain bias waveform Vzb is supplied to the sustain electrode Z during the address period, and is alternately operated with the scan driver 2902 during the sustain period to supply the sustain pulse SUS to the sustain electrode Z. do.

구동 펄스 제어부(2904)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간에서 데이터 구동부(2901), 스캔 구동부(2902) 및 서스테인 구동부(2903)의 동작 타이밍과 동기화를 제어하기 위한 소정의 제어신호(CTRX, CTRY, CTRZ)를 발생하고, 그 제어신호를 각각 데이터 구동부(2901), 스캔 구동부(2902) 및 서스테인 구동부(2903)에 공급함으로써 데이터 구동부(2901), 스캔 구동부(2902) 및 서스테인 구동부(2903) 를 제어한다.The drive pulse control unit 2904 controls predetermined control signals CTRX and CTRY for controlling the operation timing and synchronization of the data driver 2901, the scan driver 2902, and the sustain driver 2907 in the reset period, the address period, and the sustain period. , CTRZ, and supply the control signal to the data driver 2901, the scan driver 2902 and the sustain driver 2907 respectively to supply the data driver 2901, scan driver 2902 and sustain driver 2907 To control.

특히, 구동 펄스 제어부(2904)는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 아울러 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되고, 셋업 기간 이후부터 스캔 전극(Y)으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 전압의 크기는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형(Vzb)의 전압보다 낮도록 한다. 즉, 구동 펄스 제어부(2904)는 소정의 제어 신호를 스캔 구동부(2902)로 공급하여, 스캔 구동부(2902)로 하여금 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압으로 상승하는 셋업 파형을 인가하도록 하고, 또한 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형을 인가한 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스를 인가하도록 하고, 또한 구동 펄스 제어부(2904)는 소정의 제어 신호를 데이터 구동부(2901)로 공급하 여, 데이터 구동부(2901)로 하여금 전술한 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형을 인가하고, 또한 구동 펄스 제어부(2904)는 소정의 제어 신호를 서스테인 구동부(2903)로 공급하여, 서스테인 구동부(2903)로 하여금 전술한 셋업 기간 이후부터 스캔 전극(Y)으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압이 서스테인 전극(Z)으로 인가하도록 하는 것이다.In particular, the driving pulse controller 2904 increases the first voltage to the first voltage to the scan electrode Y in the one or more subfields of the plurality of subfields of the frame in the setup period of the reset period, and then to the second voltage to the second slope. To apply a rising setup waveform to the scan electrode Y and to apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode X while the setup waveform is applied to the scan electrode Y, and to After the falling waveform falling to the third voltage is applied to the electrode Y, and the rising waveform rising to the predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage is applied, the scan pulse falling from the fourth voltage to the fifth voltage Is applied, and the magnitude of the voltage applied to the sustain electrode Z in the period after the setup period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode Y is The voltage is lower than the voltage of the sustain bias waveform Vzb applied to the sustain electrode Z in the address period. That is, the driving pulse control unit 2904 supplies a predetermined control signal to the scan driver 2902, causing the scan driver 2902 to scan electrodes in the setup period of the reset period in one or more of the plurality of subfields of the frame. In (Y), a setup waveform that rises to the first voltage with the first slope and then rises to the second voltage with the second slope is applied. Also, in the set-down period after the above-described setup period, the third voltage is applied to the scan electrode Y. A falling waveform that falls down to is applied, a rising waveform that rises with a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage is applied, and then a scan pulse that falls from the fourth voltage to the fifth voltage is applied. The control unit 2904 supplies a predetermined control signal to the data driver 2901 to allow the data driver 2901 to apply an address while the setup waveform is applied to the scan electrode Y described above. A first bias waveform having a positive polarity is applied to the electrode X, and the driving pulse control unit 2904 supplies a predetermined control signal to the sustain driver 2907 to cause the sustain driver 2907 to perform the above-described setup period. In a period until the first scan pulse is supplied to the scan electrode Y, a voltage lower than the voltage Vzb of the sustain bias waveform applied to the sustain electrode Z in the address period is applied to the sustain electrode Z. It is.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 제 4 실시예의 구성 및 동작은 이후의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 4 실시예의 설명을 통해 보다 명확히 될 것이다.The configuration and operation of the fourth embodiment of the plasma display device of the present invention will be more clearly understood through the description of the fourth embodiment of the method of driving the plasma display device.

도 30a 내지 도 30b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도면이다.30A to 30B are views for explaining a fourth embodiment of a method of driving a plasma display device of the present invention.

여기 도 30a 내지 도 30b의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 4 실시예의 설명에서는 전술한 제 1 실시예, 제 2 실시예 내지 제 3 실시예와 동일하여 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Here, in the description of the fourth embodiment of the method of driving the plasma display device of the present invention of FIGS. 30A to 30B, the same descriptions as those of the first, second and third embodiments described above will be omitted. .

도 30a 내지 도 30b를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 방법의 제 4 실시예에서는 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되고, 이와 같이 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극 (X)에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 전술한 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 스캔 전극(Y)에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되고, 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 어드레스 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압(Vzb)보다 낮은 전압이 서스테인 전극(Z)으로 인가된다.30A to 30B, in the fourth embodiment of the method of driving the plasma display device, the first slope is applied to the scan electrode Y in the setup period of the reset period in one or more of the plurality of subfields of the frame. A setup waveform that gradually rises to the first voltage and then gradually rises to the second voltage with a second slope is applied, and thus, while the setup waveform is applied to the scan electrode (Y), the positive polarity is applied to the address electrode (X). One bias waveform is applied, and in the set-down period after the above-described setup period, a falling waveform falling to the third voltage is applied to the scan electrode Y, and the rising waveform rising to a predetermined slope from the third voltage to the fourth voltage. After this is applied, a scan pulse that falls from the fourth voltage to the fifth voltage is applied, and in the set-down period after the setup period, in the address period. A voltage lower than the voltage (Vzb) of the sustain waveform applied to the bias electrode stain (Z) is applied to the sustain electrode (Z).

먼저, 도 30a를 살펴보면 프레임의 복수의 서브필드 모두에서 각각 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극(Y)에 셋업 파형이 인가되는 동안 어드레스 전극(X)에 인가되는 정극성의 제 1 바이어스 파형은 다른 서브필드보다 더 넓다. 즉, 제 1 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭이 다른 서브필드의 제 1 바이어스 파형의 펄스폭보다 더 넓은 경우이다.First, referring to FIG. 30A, a scan electrode (1) is applied to each of a plurality of subfields of a frame, and a scan electrode (eg, The first bias waveform of the positive polarity applied to the address electrode X while the setup waveform is applied to Y) is wider than the other subfields. That is, the pulse width of the first bias waveform of the first subfield is wider than the pulse width of the first bias waveform of the other subfield.

다음, 도 30b를 살펴보면 전술한 도 30a와는 다르게 프레임에 포함된 복수의 서브필드 중 선택된 소정 개수의 서브필드에서만 제 1 바이어스 파형을 인가한다. 더욱 바람직하게는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브필드에서 제 1 바이어스 파형이 인가되고, 또한 저 계조 서브필드는 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드인 경우이다.Next, referring to FIG. 30B, unlike the above-described FIG. 30A, the first bias waveform is applied only to a predetermined number of subfields selected from a plurality of subfields included in a frame. More preferably, the first bias waveform is applied in the low gray level subfield of the plurality of subfields of the frame, and the low gray level subfield is the first sub in the order of the low gray level weight of the plurality of subfields of the frame. This is the case of subfields from the field to the third subfield.

이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체 적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.As such, the technical configuration of the present invention described above can be understood by those skilled in the art that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the exemplary embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing detailed description, and the meaning and scope of the claims are as follows. And all changes or modifications derived from the equivalent concept should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법은 어드레스 전극(Y)을 셋업 방전에 적극적으로 참여시킴으로써, 오 방전을 방지하여 발광효율을 향상시키는 한편, 소모전력을 절감함으로써 구동효율을 향상시키는 효과가 있다.As described in detail above, the plasma display device and the driving method thereof according to the present invention actively participate in the setup discharge, thereby preventing erroneous discharge, thereby improving luminous efficiency and reducing power consumption. Has the effect of improving.

또한, 어드레스 기간에서 스캔 전극으로 인가되는 스캔 기준 파형의 전압이 점진적으로 상승하는 시간, 즉 상승파형의 인가시간을 조절함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 소자의 전기적 손상을 방지하는 효과가 있다.In addition, by controlling the time when the voltage of the scan reference waveform applied to the scan electrode gradually increases, that is, the application time of the rising waveform, in the address period, there is an effect of preventing electrical damage of the driving element of the plasma display panel.

또한, 리셋 기간의 셋다운 기간에서 서스테인 전극(Z)으로 그라운드 레벨(GND)의 전압을 유지하도록 하여, 어드레스 방전을 안정시킴으로써 고속 어드레싱이 가능하게 되는 효과가 있다.In addition, there is an effect that high-speed addressing is made possible by stabilizing the address discharge by maintaining the voltage of the ground level GND at the sustain electrode Z in the set-down period of the reset period.

Claims (43)

스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널;A plasma display panel having a scan electrode and a sustain electrode formed thereon, the plasma display panel including an address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode; 리셋 기간, 상기 리셋 기간 이후의 어드레스 기간 또는 상기 어드레스 기간 이후의 서스테인 기간에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부;A driver for applying a driving voltage to the electrodes in a reset period, an address period after the reset period, or a sustain period after the address period; 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 프레임의 복수의 서브필드 중 첫 번째 서브필드의 리셋 기간 이전에 상기 스캔 전극에는 전압이 점진적으로 하강하는 하강 램프 파형을 포함하는 부극성 파형이 인가되고, 상기 서스테인 전극에는 정극성 파형이 인가되도록 구동 펄스 제어부;In one or more subfields of the plurality of subfields of the frame, in the setup period of the reset period, the setup waveform gradually rises to the first voltage at the first slope to the first voltage and then gradually rises to the second voltage at the second slope. And apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode, and before the reset period of the first subfield of the plurality of subfields of the frame. A driving pulse controller configured to apply a negative waveform including a falling ramp waveform of gradually decreasing voltage to the sustain electrode, and apply a positive waveform to the sustain electrode; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.Plasma display device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 바이어스 파형의 피크(Peak) 전압은 상기 어드레스 기간에서 상기 어드레스 전극에 인가되는 데이터 전압의 1배 이상 1.5배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a peak voltage of the first bias waveform is one or more and 1.5 times or less than a data voltage applied to the address electrode in the address period. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 바이어스 파형은 구형 파형 또는 램프 파형인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the first bias waveform is a rectangular waveform or a ramp waveform. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형이 상기 셋업 파형보다 먼저 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And causing the first bias waveform to be applied before the setup waveform. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형이 상기 셋업 파형과 동기되어 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the first bias waveform is applied in synchronization with the setup waveform. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형은 상기 프레임의 하나 이상의 서브필드에서 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And wherein the first bias waveform is applied in one or more subfields of the frame. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형의 펄스폭은 상기 프레임의 복수의 서브필드 중 계 조 가중치가 가장 낮은 서브필드에서 가장 넓도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the pulse width of the first bias waveform is widest in a subfield having the lowest gray scale weight among a plurality of subfields of the frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형은 상기 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 저 계조 서브필드에서 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the first bias waveform is applied at a low gray level subfield having a low gray scale weight among a plurality of subfields of the frame. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 저 계조 서브필드는 상기 프레임의 복수의 서브필드 중 계조 가중치가 낮은 순서로 첫 번째 서브필드부터 세 번째 서브필드까지의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the low gray level subfield is one or more of the subfields from the first subfield to the third subfield in the order of low gray level weight among the plurality of subfields of the frame. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 제 1 바이어스 파형의 펄스폭은 상기 프레임의 저 계조 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드에서 가장 넓도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the pulse width of the first bias waveform is widest in the subfield having the lowest gray scale weight among the low gray subfields of the frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 기울기는 상기 제 2 기울기보다 더 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And wherein the first slope is greater than the second slope. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 전압의 크기는The magnitude of the first voltage is 상기 리셋 기간 이후의 상기 어드레스 기간에서 상기 스캔 전극으로 인가되는 스캔 기준 파형의 전압의 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a voltage equal to a voltage of a scan reference waveform applied to the scan electrode in the address period after the reset period. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 제 1 전압의 크기는 100V이상 150V이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the first voltage has a magnitude of 100V or more and 150V or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 전압의 크기는 230V이상 350V이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a magnitude of the second voltage is 230V or more and 350V or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 프레임의 복수의 서브필드 중 어느 하나의 서브필드에서의 상기 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드와 다르도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the magnitude of the second voltage in any one of the plurality of subfields of the frame is different from other subfields. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 계조 가중치가 서로 다른 임의의 두 개의 서브필드 중 계조 가중치가 더 낮은 서브필드에서의 상기 제 2 전압의 크기가 다른 서브필드보다 더 크도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the magnitude of the second voltage in a subfield having a lower gray weight is greater than another subfield among any two subfields having different gray weights. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 구동 펄스 제어부는Driving pulse control unit 상기 어드레스 기간에서 상기 서스테인 전극으로 80V이상 120V이하의 전압 크기를 갖는 서스테인 바이어스 파형이 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a sustain bias waveform having a voltage magnitude of 80 V or more and 120 V or less to the sustain electrode in the address period. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 서스테인 기간에서 상기 스캔 전극으로 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스와 상기 서스테인 전극으로 인가되는 첫 번째 서스테인 펄스는 중첩(Overlap)되 지 않도록 하고,In the sustain period, the first sustain pulse applied to the scan electrode and the first sustain pulse applied to the sustain electrode are not overlapped. 상기 서스테인 기간에서 상기 스캔 전극으로 인가되는 마지막 서스테인 펄스와 상기 서스테인 전극으로 인가되는 마지막 서스테인 펄스도 중첩(Overlap)되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the last sustain pulse applied to the scan electrode and the last sustain pulse applied to the sustain electrode do not overlap in the sustain period. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 서스테인 기간에서 상기 스캔 전극 또는 상기 서스테인 전극으로 첫 번째 서스테인 펄스가 인가되는 동안, 상기 어드레스 전극으로는 정극성의 제 2 바이어스 파형이 인가되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a second bias waveform of positive polarity is applied to the address electrode while the first sustain pulse is applied to the scan electrode or the sustain electrode in the sustain period. 제 19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 제 2 바이어스 파형의 전압은The voltage of the second bias waveform is 제 1 바이어스 파형의 전압 또는 상기 어드레스 전극에 인가되는 데이터 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a voltage of a first bias waveform or a voltage of a data pulse applied to the address electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극간의 간격은 90㎛(마이크로 미터) 이상 200㎛(마이크로 미터) 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a distance between the scan electrode and the sustain electrode is greater than or equal to 90 µm (micrometer) and less than or equal to 200 µm (micrometer). 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극은 각각 투명 전극과 버스 전극을 포함하고,The scan electrode and the sustain electrode each include a transparent electrode and a bus electrode, 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극간의 간격은 상기 스캔 전극의 투명 전극과 상기 서스테인 전극의 투명 전극간의 간격인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a gap between the scan electrode and the sustain electrode is a gap between the transparent electrode of the scan electrode and the transparent electrode of the sustain electrode. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 부극성 파형은 최저 전압이 상기 어드레스 기간에서 상기 스캔 전극으로 인가되는 스캔 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And wherein the negative waveform has a lowest voltage equal to a voltage of a scan pulse applied to the scan electrode in the address period. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 정극성 파형은 그 전압이 상기 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 전압과 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And wherein the positive waveform is equal to the voltage of the sustain pulse applied in the sustain period. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 전압과 상기 제 2 전압의 전압 차이는 상기 서스테인 기간에서 상기 스캔 전극 또는 상기 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 펄스의 전압의 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the voltage difference between the first voltage and the second voltage is equal to the magnitude of the voltage of the sustain pulse applied to the scan electrode or the sustain electrode in the sustain period. 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널;A plasma display panel having a scan electrode and a sustain electrode formed thereon, the plasma display panel including an address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode; 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부;A driving unit for applying a driving voltage to the electrodes in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period; 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후부터 상기 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압의 크기는 상기 어드레스 기간에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮도록 하는 구동 펄스 제어부;In one or more subfields of the plurality of subfields of the frame, in the setup period of the reset period, the setup waveform gradually rises to the first voltage at the first slope to the first voltage and then gradually rises to the second voltage at the second slope. A period of time between the set-up period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode, the first bias waveform being applied to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode. A driving pulse controller configured to reduce a magnitude of a voltage applied to the sustain electrode within the address period in the address period; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.Plasma display device comprising a. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 셋업 기간 이후부터 상기 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서는, 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압을 상기 셋업 기간에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압과 동일하게 유지하다가 상기 셋다운 기간의 끝단에서 상기 셋업 기간에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압 보다는 크고 상기 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압으로 상승시키도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.Within the period after the setup period and before the first scan pulse is supplied to the scan electrode, the voltage applied to the sustain electrode is kept the same as the voltage applied to the sustain electrode in the setup period and then the set down period. And ramping the voltage up to a voltage greater than the voltage applied to the sustain electrode in the setup period at the end of the sustain bias waveform. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 셋다운 기간에서는 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압을 그라운드 레벨(GND)의 전압으로 유지하다가, 상기 셋다운 기간의 끝단의 일부에서는 상기 그라운드 레벨의 전압 보다는 크고 상기 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮은 전압으로 상승시키도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.In the set down period, the voltage applied to the sustain electrode is maintained at the ground level (GND) voltage, and at a part of the end of the set down period, the voltage is raised to a voltage that is greater than the ground level voltage and lower than the voltage of the sustain bias waveform. Plasma display device characterized in that. 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널;A plasma display panel having a scan electrode and a sustain electrode formed thereon, the plasma display panel including an address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode; 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부;A driving unit for applying a driving voltage to the electrodes in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period; 상기 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 상기 스캔 전극에 제 3 전압까지 하강하는 하강파형이 인가되고, 상기 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 상기 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되도록 하는 구동 펄스 제어부;By controlling the driving unit, in one or more of the plurality of subfields of the frame, the scan electrode gradually rises to the first voltage with the first slope and then gradually to the second voltage with the second slope in the setup period of the reset period. To apply a rising setup waveform to the scan electrode, and apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode, and to the scan electrode in a set down period after the setup period. A driving waveform is applied such that a falling waveform falling to the voltage is applied, and a rising pulse rising from the third voltage to the fourth voltage with a predetermined slope is applied, and then a scan pulse falling from the fourth voltage to the fifth voltage is applied. A pulse controller; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.Plasma display device comprising a. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 상승파형의 소정의 기울기는 서스테인 기간에 인가되는 서스테인 펄스의 기울기보다 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the predetermined slope of the rising waveform is smaller than the slope of the sustain pulse applied in the sustain period. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 상승파형은 상기 제 4 전압에서 소정기간 동안 유지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the rising waveform is maintained at the fourth voltage for a predetermined period. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 상승파형은 상기 스캔 전극에 인가되는 스캔 펄스 중 첫 번째 스캔 펄스가 인가되기 전까지 인가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the rising waveform is applied until the first scan pulse of the scan pulses applied to the scan electrodes is applied. 제 33 항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 상승파형의 인가시간은 0㎲(마이크로 초)초과 20㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the application time of the rising waveform is within a range of 0 ms (microseconds) and 20 ms (microseconds) or less. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 상승파형의 인가시간은 6㎲(마이크로 초)이상 10㎲(마이크로 초)이하의 범위 내인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the application time of the rising waveform is within a range of 6 microseconds or more and 10 microseconds or less. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 제 3 전압과 상기 제 5 전압은 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And the third voltage and the fifth voltage are the same. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 상기 스캔 전극 중 적어도 하나 이상의 스캔 전극에 인가되는 상기 상승파형 의 인가시간이 적어도 하나 이상의 다른 스캔 전극에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간과 다르도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And an application time of the rising waveform applied to at least one scan electrode of the scan electrodes is different from an application time of the rising waveform applied to at least one other scan electrode. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 스캔 전극들은 적어도 하나 이상의 스캔 전극을 포함하는 2개 이상의 스캔 전극군으로 분할되고,The scan electrodes are divided into two or more scan electrode groups including at least one scan electrode, 상기 구동 펄스 제어부는The driving pulse controller 적어도 하나 이상의 상기 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간이 적어도 하나 이상의 다른 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간과 다르도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And an application time of the rising waveform applied to at least one scan electrode group is different from an application time of the rising waveform applied to at least one other scan electrode group. 제 38 항에 있어서,The method of claim 38, 상기 2개 이상의 스캔 전극군은 모두 동일한 개수의 상기 스캔 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And said at least two scan electrode groups comprise the same number of scan electrodes. 제 38 항에 있어서,The method of claim 38, 상기 2개 이상의 스캔 전극군 중 적어도 하나 이상의 스캔 전극군은 나머지 다른 스캔 전극군이 포함하는 스캔 전극의 개수와 다른 개수의 스캔 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And at least one scan electrode group of the two or more scan electrode groups includes a different number of scan electrodes than the number of scan electrodes included in the other scan electrode groups. 제 38 항에 있어서,The method of claim 38, 하나의 상기 스캔 전극군에 포함된 모든 스캔 전극들에는 상기 상승파형의 인가시간이 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And an application time of the rising waveform is the same for all scan electrodes included in one scan electrode group. 제 38 항에 있어서,The method of claim 38, 상기 적어도 하나 이상의 스캔 전극을 포함하는 2이상의 스캔 전극군에 인가되는 상기 상승파형의 인가시간의 차이는 동일하거나 상이한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a difference in application time of the rising waveform applied to two or more scan electrode groups including the at least one scan electrode is the same or different. 스캔 전극과 서스테인 전극이 형성되고, 상기 스캔 전극과 서스테인 전극과 교차하는 방향으로 형성된 어드레스 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널;A plasma display panel having a scan electrode and a sustain electrode formed thereon, the plasma display panel including an address electrode formed in a direction crossing the scan electrode and the sustain electrode; 리셋 기간, 어드레스 기간, 서스테인 기간 중 하나 이상에서 상기 전극들에 구동 전압을 인가하기 위한 구동부;A driving unit for applying a driving voltage to the electrodes in at least one of a reset period, an address period, and a sustain period; 상기 구동부를 제어하여, 프레임의 복수의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드에서는 상기 리셋 기간의 셋업 기간에서 상기 스캔 전극에 제 1 기울기로 제 1 전압까지 점진적으로 상승한 후 제 2 기울기로 제 2 전압까지 점진적으로 상승하는 셋업 파형이 인가되도록 하고, 상기 스캔 전극에 상기 셋업 파형이 인가되는 동안 상기 어드레스 전극에 정극성의 제 1 바이어스 파형이 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후의 셋다운 기간에서는 상기 스캔 전극에 제 3 전압까지 점진적으로 하강하는 하강파형이 인가되고, 상기 제 3 전압부터 제 4 전압까지 소정의 기울기로 점 진적으로 상승하는 상승파형이 인가된 후, 상기 제 4 전압으로부터 제 5 전압까지 하강하는 스캔 펄스가 인가되도록 하고, 상기 셋업 기간 이후부터 상기 스캔 전극으로 첫 번째 스캔 펄스가 공급되기 이전까지의 기간 내에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 전압의 크기는 상기 어드레스 기간에서 상기 서스테인 전극으로 인가되는 서스테인 바이어스 파형의 전압보다 낮도록 하는 구동 펄스 제어부;By controlling the driving unit, in one or more of the plurality of subfields of the frame, the scan electrode gradually rises to the first voltage with the first slope and then gradually to the second voltage with the second slope in the setup period of the reset period. To apply a rising setup waveform to the scan electrode, and apply a first bias waveform having a positive polarity to the address electrode while the setup waveform is applied to the scan electrode, and to the scan electrode in a set down period after the setup period. A scan pulse that falls from the fourth voltage to the fifth voltage after a falling waveform gradually descending to the voltage is applied and an rising waveform gradually rising from the third voltage to the fourth voltage with a predetermined slope is applied; Is applied, and the first scan pulse to the scan electrode after the setup period In the period prior to being fed to the magnitude of the voltage applied to the sustain electrode driving pulse control section that to be lower than the bias voltage of the sustain waveform applied to the sustain electrode in the address period; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.Plasma display device comprising a.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242824A (en) * 2000-02-28 2001-09-07 Mitsubishi Electric Corp Driving method for plasma display panel, plasma display device and driving device for the panel
KR100420022B1 (en) * 2001-09-25 2004-02-25 삼성에스디아이 주식회사 Driving method for plasma display panel using variable address voltage
KR100490633B1 (en) * 2003-10-01 2005-05-18 삼성에스디아이 주식회사 A plasma display panel and a driving method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242824A (en) * 2000-02-28 2001-09-07 Mitsubishi Electric Corp Driving method for plasma display panel, plasma display device and driving device for the panel
KR100420022B1 (en) * 2001-09-25 2004-02-25 삼성에스디아이 주식회사 Driving method for plasma display panel using variable address voltage
KR100490633B1 (en) * 2003-10-01 2005-05-18 삼성에스디아이 주식회사 A plasma display panel and a driving method thereof

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1004200220000
1004906330000
13242824

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