KR100710747B1 - 난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된난방사 광학소자 - Google Patents

난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된난방사 광학소자 Download PDF

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Abstract

본 발명은 난반사 광학소자를 제공하기 위한 것으로, 회전속도는 50rpm 내지 6,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 연속 회전식 코팅기에서 자외선 경화성수지, 실리카 입자, 경화제, 광중합개시제, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 난반사층 코팅 조성물 100중량%에 있어서, ⅰ) 상기 실리카 입자는 굴절율은 1.4 내지 1.5이며, 함량은 0.5중량% 내지 18중량% ⅱ) 상기 경화제는 0.5중량% 내지 15중량% ⅲ) 상기 광중합개시제는 0.1중량% 내지 10중량% ⅳ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 난반사층 코팅 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 액정셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되, 상기 분산제의 함량은 난반사층 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 180중량부의 비로 혼합하여 난반사층 코팅하고 건조, 자외선 경화하여 난반사층을 형성함으로써 이루어진다.

Description

난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 난방사 광학소자{Method for Manufacturing Anti-Reflective Optical Devices and Anti-Reflective Optical Devices Using the Same}
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 난반사 광학소자의 구조도,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예 3에서 얻어진 광학소자의 파장에 따른 투과율 그래프,
도 3은 비교예 1에서 얻어진 광학소자의 파장에 따른 투과율 그래프이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100: 난반사층 200: 편광필름
300:점착제 400: 액정셀
본 발명은 난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 난반사 광학소자에 관한 것으로, 특히 자외선 경화성 수지와 실리카 입자를 포함하여 이루어지는 난반사 코팅층 조성물을 용액의 형태로 제조하여 연속식 회전 코팅기에서 소정크기로 절단된 편광필름 위에 코팅하여 형성하는 난반사 광학소자의 제조 방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 난반사 광학소자에 관한 것이다.
일반적으로 난반사 광학소자는 외부로부터 입사되는 빛을 산란시킴으로써, 반사광에 의한 눈부심을 방지하는 기능을 갖는다. 상기와 같은 난반사 광학소자는 주로 액정표시장치 전면에 놓여져 사용된다.
종래 난반사 처리방법은 기재시트 표면에 요철을 부여하여 난반사효과를 내는 방법, 무기화합물의 박층 코팅으로 만든 가공물을 이용하는 방법 등이 있다.
그러나 종래의 난반사 처리방법은 기재시트 표면에 요철을 부여하는 방법은 내스크래치성이 떨어지는 단점이 있고, 무기화합물의 박층 코팅으로 만든 가공물을 이용하는 방법은 기재 시트 표면에 박층의 단층 또는 다층의 무기물 박층을 광선의 파장에 맞춰 형성한 것으로서, 사용할 수 있는 기재 시트의 범위가 제한되고 무기물을 박막화 하는 공정이 필요함으로써 추가 장치가 필요함과 아울러 제조공정이 복잡해지는 문제점이 있었다. 또한, 상기의 방법들은 전체적으로 균일하게 난반사 특성이 나타나지 못하는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 박막을 유지하면서도 전체적으로 균일하게 난반사 특성을 나타낼 수 있도록 자외선 경화성 수지와 실리카 입자를 포함하여 이루어지는 난반사 코팅층 조성물을 용액의 형태로 제조하여 연속식 회전 코팅기에서 소정크기로 절단된 편광필름 위에 코팅하여 형성하는 고해상 난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 고해상 난반사 광학소자를 제공하는데 있다.
이하, 기술적 사상을 중심으로 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 고해상 난반사 광학소자는 액정셀 크기에 맞게 소정크기로 절단되어 LCD셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 난반사층을 코팅하는 단계와 건조 및 경화하는 단계를 거쳐 제조된다.
이하, 각 단계에 대해서 상세히 설명하면 다음과 같다.
(1) 난반사층 코팅단계
난반사층은 경화성 수지, 실리카 입자, 경화제, 레벨링제, 중합개시제를 포함하여 구성되는 난반사층 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 용액의 형태로 제조한 다음 소정크기로 절단되어 액정셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 통해 코팅함으로써 수행된다. 본 발명에서 사용되는 편광필름은 통상의 방법으로 제작된 것을 소정크기로 절단하여 사용한다.
본 발명의 스핀 코팅방식에서 적용되는 회전속도 및 회전시간은 다음과 같다.
본 발명에서 스핀 코팅의 회전속도 50rpm 내지 6,000rpm에서 난반사층 코팅 조성물을 분산제와 혼합한 용액을 코팅하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 100rpm 내지 4,000rpm이다. 더더욱 바람직한 스핀 코팅의 회전속도는 500rpm 내지 3,000rpm이다.
스핀 코팅의 회전속도가 50rpm보다 작으면, 원하는 소정의 박막을 얻을 수 없음은 물론 액정셀에 부착된 편광필름 표면에 난반사층이 고르게 도포되지 못한다. 또한, 6,000rpm보다 크면 높은 원심력으로 인하여 난반사층의 중앙부와 바깥 부분에서 두께 차이가 발생한다. 또한, 높은 회전속도를 유지하기 위하여 스핀 코팅 장치에 무리가 갈 수 있으며 편광필름 자체의 내구성에 영향을 줄 수 있다.
더불어, 본 발명의 스핀 코팅단계에서 회전시간은 10초 내지 500초인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30초 내지 400초이다. 더더욱 바람직하게는 60초 내지 300초이다. 회전시간은 난반사 코팅 조성물과 분산제가 혼합된 용액의 점도, 코팅시키고자 하는 난반사층의 두께에 따라서 변할 수 있다.
회전시간이 10초 보다 작으면 편광필름에 난반사층을 고르게 도포시키는 충분한 시간을 확보하기 힘들고, 500초 보다 크면 경제성이 떨어진다.
본 발명에서 사용되는 경화성 수지, 실리카 입자, 경화제, 레벨링제, 중합개시제를 포함하여 구성되는 난반사 코팅 조성물의 구성과 상기 조성물과 혼합되는 분산제에 대해 각각 살펴보면 다음과 같다.
① 경화성 수지
본 발명에서 자외선 경화성수지를 사용한다. 자외선 경화성수지로는 불포화 폴리에스테르 수지, 다관능 아크릴레이트 수지, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴 수지, 에폭시 아크릴레이트 수지 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위가 상기 나열된 수지에 한정되지 않음은 물론이다.
본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위 또는 함량은 나열된 수지나 함량에 한정되지 않음은 물론이다.
난반사효과는 물론 고경도 및 투명성 등의 물성도 함께 가지기 위해서는, 본 발명에서 사용하는 광경화성수지는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylolmethane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리아크렐레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane] 등과 같은 다관능기 알콜 유도체, 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate)와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate)와 같은 우레탄 아크릴레이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 우레탄 선행고분자(hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 등이 단독 또는 혼합하여 사용한다.
전술한 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 경화성수지 100중량%에 있어서 10중량% 내지 90중량% 사용하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30중량% 내지 87중량%이다. 더더욱 바람직하게는 50중량% 내지 85중량% 사용하는 것이 바람직하다.
경화성수지 100중량%에 있어서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지가 10중량% 보다 작으면 절대적인 관능기 수가 적어서 관능기의 결합에 따른 고경도를 얻기 힘들고, 90중량% 보다 많을 때는 경도는 높아지지만 후술할 대전방지제와 혼합성이 떨어지는 단점이 있다.
② 실리카 입자
본 발명에서는 난반사효과를 얻기 위하여 실리카 입자를 사용한다. 본 발명에서 사용되는 실리카 입자는 이산화규소(SiO2)로 이루어지며, 비정질, 다공성인 특징을 가진다. 실리카 입자의 모양은 구형인 것이 바람직하다. 그리고 실리카 입자의 크기는 1∼15㎛인 것이 바람직하다.
실리카 입자의 크기가 1㎛ 이하인 경우에는 실리카 입자의 체적 대비 표면적이 커지고, 이에 따라 표면 에너지가 커져 쉽게 응집이 일어남과 아울러 일정한 수준의 난반사효과를 얻기 위해서는 실리카 입자의 첨가량을 높여 주어야 한다는 단점이 있다. 반대로 실리카 입자의 크기가 15㎛ 이상으로 커질 때에는 코팅성이 떨어지고 도막의 표면상태도 거칠어지며 선명도가 불량해지는 문제점이 있다. 상기 실리카 입자의 굴절율은 1.4 내지 1.5 정도를 가지는 것이 바람직하다. 상기와 같은 굴절율을 가짐으로 눈부심을 더 효과적으로 줄일 수 있다.
본 발명에서 사용하는 실리카 입자의 함량은 난반사 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.5중량% 내지 18중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 12중량%이다. 실릴카 입자의 함량이 0.5중량% 보다 작으면 광확산에 의한 난반사 효과를 기대하기 어렵고, 18중량% 보다 크면 광확산 효과가 과도하여 투과율을 현저히 감소시킨다.
③ 경화제
본 발명에서 광경화성수지나 실리카 입자 등의 종류에 따라서 하나의 경화제를 선택하거나 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
본 발명에서는 광경화성수지만을 사용하므로 경화제도 광경화성 경화제만을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 사용하는 경화성수지의 종류, 물리화학적 성질 등에 따라서 경화제의 종류, 크기, 함량 등을 조정하여 선택하는 것이 바람직하다.
본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 트리메틸렌 디이소시아네이트(trimethylene diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate), 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
본 발명의 난반사층을 형성하기 위해 사용되는 경화제는 난반사 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.5중량% 내지 15중량% 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1중량% 내지 10중량%이다.
본 발명에서 경화제는 난반사 코팅 조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서, 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상 분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다. 경화제의 함량이 0.5중량% 보다 작으면 경화제 기능을 기대하기 힘들고, 15중량% 보다 크면 경화성 수지의 함량이 상대적으로 낮아 경도를 높이기 어렵다.
④ 중합개시제
광경화성수지를 사용하고 이를 경화하기 위하여 광경화제를 사용를 사용하는 경우, 중합개시제를 첨가하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 광중합개시제는 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐) 프로판-1-온 등의 아세트페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조 인에테르류, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐아황산, 4-벤조일-N, N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류, 2, 4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 또, 촉진제(증감제)로서, N, N-디메틸파라톨루이진, 4, 4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아민계 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.
광중합개시제의 함량은 난반사 코팅 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10중량%의 범위가 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 5중량%이다. 광중합개시제의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 광중합 효과를 얻기 힘들고, 광중합개시제의 함량이 10중량% 보다 크면 광중합개시 효과에 비하여 지나치게 많은 광중합개시제가 투입되어 경제성이 떨어진다.
⑤ 레벨링제
본 발명에서는 난반사층의 표면을 고르게 하기 위하여 레벨링제를 사용한다. 레벨링제는 실리콘계 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
레벨링제의 함량은 난반사 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제 가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 힘들고, 3중량% 보다 클 때는 본 발명에 의한 난반사코팅층의 표면 경도가 약화될 우려가 있다.
또한, 불소계 수지와 실리콘계 수지를 함께 사용할 때 레벨링제의 함량은 불소계 수지만 사용할 때의 레벨링제 함량의 70% 내지 80%만을 사용한다. 실리콘계 수지 자체가 레벨링제 역할을 하기 때문이다.
⑥ 분산제
본 발명에서는 난반사층을 액정셀에 부착된 편광필름에 도포하기 위하여 분산제로 유기용매를 사용한다. 본 발명에서는 실리카 입자가 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다. 난반사층의 도포성, 편광필름과의 부착성, 난반사기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.
본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.
유기용매는 도포되는 난반사층 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 180중량부 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 80중량부 내지 150중량부이다. 유기용매의 함량이 난반사층 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 편광필름과의 도포성, 부착성 등이 떨어지고, 180중량부보다 클 때는 난반사층 코팅 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.
(2) 건조단계
상기 (1)단계의 과정을 거쳐 형성된 난반사층은 건조하는 공정을 거치게 된다.
이는 상기 난반사층 코팅단계에서 편광필름 상에 함유된 용매를 제거하기 위해 수행된다. 건조온도는 20℃ 내지 75℃로 수행하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 25℃ 내지 45℃ 이다. 온도가 20℃ 이하이면 건조가 제대로 이루어지지 않고 건조시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한 건조온도가 75℃ 이상에서는 물성이 변할 여지가 있으며, 그 이상의 온도 상승은 경제성이 떨어진다.
또한, 건조시간은 30초 내지 70초 정도가 바람직하다. 더 바람직하게는 40초 내지 65초이다. 건조시간이 30초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 70초 이상의 건조는 물성에 영향을 줄 수 있다.
(3) 경화단계
본 발명에 의한 경화단계는 통상적으로 사용되는 경화방식을 사용한다.
본 발명에 의한 난반사층 코팅 조성물에서는 광경화성수지가 포함되어 있으므로, 경화단계에서는 UV경화를 수행한다. 본 발명에서 광경화는 UV경화로 진행하고, UV경화는 5mJ 내지 40mJ 에너지 범위에서 UV경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10mJ 내지 20mJ이다. UV경화시 에너지량이 5mJ보다 작을 때는 충분한 광경화효과를 얻을 수 없고, UV경화 에너지량이 40mJ보다 클 때는 지나친 UV경화로 난반사층의 물성에 영향을 줄 수 있다. 상기의 자외선 경화는 초고온 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본아크, 크세논아크, 메탈할라이드 램프 등의 광원으로부터 발하는 자외선 등을 사용한다.
상기의 과정을 거쳐 형성된 난반사층의 두께는 3㎛ 내지 12㎛인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 4㎛ 내지 7㎛이다. 난반사층의 두께가 3㎛ 이하이면 난반사효과를 구현하기가 힘들고, 12㎛ 이상이면 그 두께가 두꺼워진다는 단점이 있다.
상기의 제조과정을 거쳐 제조된 난반사 광학소자의 구성도가 도 1에 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 난반사 광학소자는 편광필름(200)이 액정셀(400)에 점착제(300) 의해 부착된 상태에서, 상기 편광필름(200) 위에 난반사 기능을 수행하는 난반사층(100)이 코팅되어 적층된 형태이다.
본 발명의 보호범위는 본 발명에 의한 난반사 광학소자는 물론 이를 이용한 디스플레이에도 미친다. 또한 본 발명에 의한 디스플레이는 브라운관표시장치(CRT, cathode-ray tube), 액정표시장치(LCD, liquid crystal dispaly), 플라즈마표시장 치(PDP, plasma display pannel) 및 유기전계발광 표시장치(OLED, organic light emitting diode)로 이루어진 그룹 중에서 적어도 하나에 적용가능하다.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예와 이와 비교되는 비교예를 가지고 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
실시예 1
통상적인 방법에 편광필름을 제작한 후, 가로, 세로 500mm으로 자른 뒤 편광필름을 액정셀에 점착제를 이용하여 부착시킨다. 상기 편광필름 투명지지체 면에 난반사층 조성물과 분산제를 혼합하여 용액의 형태로 제조한 혼합용액을 연속식 회전 코팅기에서 200rpm의 회전속도로 20초간 코팅한 후, 건조 및 경화과정을 거쳐 5㎛ 두께의 난반사층을 형성하였다. 상기 혼합용액은 분산제로 자일렌이 55중량%, 자외선 경화성 수지로 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트를 혼합한 것을 40중량%, 실리카 입자로 입자 직경이 3㎛ ~ 4㎛의 SiO2 입자를 3중량%, 그리고 나머지 성분은 광경화제로 헥사메틸렌 디이소시아네이트와 디글리시딜 에테르를 혼합한 것, 레벨링제로는 실시콘 디아크릴레이트, 중합개시제는 벤조인이소부틸에테르를 혼합하여 용액을 제조한 것을 사용하였다.
실시예 2
SiO2 입자를 5중량%를 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 난반사 광학소자를 제조하였다.
실시예 3
SiO2 입자를 7중량%를 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 난반사 광학소자를 제조하였다.
실시예 4
SiO2 입자를 9중량%를 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 난반사 광학소자를 제조하였다.
실시예 5
SiO2 입자를 11량%를 첨가한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 난반사 광학소자를 제조하였다.
비교예 1
다이니폰페인트사의 AG25 필름을 사용하여 광학소자를 제작하였다.
[표 1]은 실시예 1 내지 실시예 5를 비교예 1과 비교한 것으로서, 투과도, 편광도, Haze, 투명도, 접착성을 측정한 것을 나타낸 것이다.
투과도 (%) 편광도 (%) Haze (%) 투명도 (%) 접착성
실시예 1 41.72 99.972 3.1 74.0 100/100
실시예 2 39.46 99.923 14.8 55.9 100/100
실시예 3 36.85 99.969 22.8 44.6 100/100
실시예 4 35.08 99.957 30.2 41.0 100/100
실시예 5 32.74 99.971 47.7 30.7 100/100
비교예 1 36.21 99.975 26.5 45.0 100/100
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 투과도가 약 32~41%를 나타내는 이유는 액정셀에 편광필름이 부착된 광학소자를 사용했기에 투과도가 상기의 범위를 형성한 것이다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예 1 내지 실시예 5와 비교예 1을 살펴보면 SiO2의 함량이 늘어날수록 투명도가 저하됨을 알 수 있다. 그리고 편광도나 접착성은 거의 실시예나 비교예나 거의 비슷한 수준이다. 이는 본 발명에 의한 난반사 광학소자가 제조공정이 간단하면서도 동일수준의 광학적 특성을 나타냄을 의미한다.
한편, 도 2는 본 발명의 실시예 3에서 얻어진 광학소자의 파장에 따른 투과율에 대한 그래프이고, 도 3은 비교예 1에서 얻어진 광학소자의 파장에 따른 투과율에 대한 그래프이다. 상기 그래프에 나타난 바와 같이, 거의 투과율 차이는 대략 비슷하다. 이는 실시예와 비교예 모두 비슷한 용도의 광학소자로 이용될 수 있음을 의미한다.
이상, 본 발명을 구성을 중심으로 실시예와 비교예를 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부된 특허청구범위내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기저의 범위 내에 있는 것으로 본다.
또한, 본 발명에서의 바람직한 범위, 더욱 바람직한 범위, 더더욱 바람직한 범위 한정은 그 효과를 더욱 극대화 시키기 위한 것으로서, 한정 범위가 좁혀짐으로써 더욱 만족스러운 기술적 효과를 얻을 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 난반사 광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 난방사 광학소자는 박막을 유지하면서도 전체적으로 균일하게 난반사 특성을 나타낼 수 있다는 장점이 있다.

Claims (6)

  1. 회전속도는 50rpm 내지 6,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 연속 회전식 코팅기에서 자외선 경화성수지, 실리카 입자, 경화제, 광중합개시제, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 난반사층 코팅 조성물 100중량%에 있어서,
    ⅰ) 상기 실리카 입자는 굴절율은 1.4 내지 1.5이며, 함량은 0.5중량% 내지 18중량%
    ⅱ) 상기 경화제는 0.5중량% 내지 15중량%
    ⅲ) 상기 광중합개시제는 0.1중량% 내지 10중량%
    ⅳ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 난반사층 코팅 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 액정셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되, 상기 분산제의 함량은 난반사층 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 180중량부의 비로 혼합하여 난반사층 코팅하고 건조, 자외선 경화하여 난반사층을 형성하는 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 실리카 입자는 그 크기가 1㎛ 내지 15㎛인 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광중합개시제는 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐) 프로판-1-온 등의 아세트페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐아황산, 4-벤조일-N, N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드, 2, 4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤, 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 중에서 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 난반사층의 두께는 3㎛ 내지 12㎛인 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자의 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    실리카 입자는 비결정 다공성인 이산화규소(SiO2)인 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자의 제조방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어는 한 항에 의한 난반사 광학소자의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 난반사 광학소자.
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