KR100661745B1 - 플라즈마 처리장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 진공 분위기의 챔버 내에 플라즈마를 형성시켜 피처리물에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서,상기 챔버 내 상하측에서 서로 이격된 상태로 각각 구비되는 상, 하부전극;상기 상, 하부전극 중 적어도 어느 하나의 둘레면과 가장자리 수평면을 각각 감싸 플라즈마로부터 보호할 수 있도록 다수 분할한 상태에서 서로 밀착하여 마련되는 다수개의 수직, 수평 차폐부재;상기 수직 차폐부재를 전극 방향으로 가압하면서 간접적으로 전극에 고정시키는 고정부재; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 고정부재는,그 폭이, 이웃한 수직 차폐부재의 배치 간격보다 좁게 형성되어 수직 차폐부재에 부분적으로 접하되, 양측에 이격 공간이 형성되어 상기 수직 차폐부재의 열 변형량이 상기 이격 공간내에서 수용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 2항에 있어서, 상기 고정부재는,직립된 판상으로 그 내측 양단에 수직 방향의 단차부가 각각 형성되고, 상기 단차부가 이웃한 수직 차폐부재의 대향된 가장자리부를 가압하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 3항에 있어서, 상기 고정부재는,직립된 판상으로 그 내측 양단에 수직 방향의 단차부가 각각 형성되고 상기 단차부의 하단이 좌우 외측 방향으로 돌출되는 이탈 방지부가 일체로 더 형성되어 상기 이탈 방지부에 이웃한 수직 차폐부재의 하단 모서리부가 위치되게 하여 상기 수직 차폐부재의 위치를 한정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 3항 또는 제 4항에 있어서,상기 고정부재의 단차부가 수직 차폐부재를 고정시킬 때 그 고정부재의 단차부와 대응되는 단차부가 수직 차폐부재의 양단에 수직 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 5항에 있어서, 상기 수직 차폐부재는,절곡 형태의 모서리 부분과 그 모서리 부분을 제외한 직선 형태의 세분화된 변 부분으로 나눠지도록 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 6항에 있어서, 상기 차폐부재 및 상기 고정부재는,내플라즈마성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제 7항에 있어서, 상기 내플라즈마성 재료는,세라믹(Ceramic)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
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2005
- 2005-07-25 KR KR1020050067328A patent/KR100661745B1/ko active IP Right Grant
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