KR100648261B1 - 웨이퍼 퓸을 효과적으로 제거할 수 있는 로드락 모듈 - Google Patents

웨이퍼 퓸을 효과적으로 제거할 수 있는 로드락 모듈 Download PDF

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Abstract

본 발명은 로드락 모듈에 관한 것으로, 웨이퍼를 수용하는 챔버; 상기 챔버 내부로 퍼징 가스를 안내하는 퍼징 가스 공급관; 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구; 및 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버 내부에 수용된 웨이퍼의 전체 표면을 향해 분사하는 퍼징 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 개선된 필터를 이용함으로써 웨이퍼 퓸을 충분히 배출할 수 있게 된다. 따라서, 웨이퍼 퓸에 의한 설비의 부식 문제가 해결됨으로써 설비의 수명 및 가동률을 높일 수 있고, 프론트 엔드 모듈의 청정도를 더욱 더 향상시킬 수 있다.

Description

웨이퍼 퓸을 효과적으로 제거할 수 있는 로드락 모듈{LOAD LOCK MODULE FOR ELIMINATING WAFER FUME EFFICIENTLY}
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제3실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈에 있어서 필터의 퍼징 가스 분사 형태를 도시한 정면도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈을 구비한 반도체 제조 설비를 개략적으로 도시한 구성도이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
100,200,300; 챔버 110,210,310; 퍼징 가스 공급관
120,220,320; 퍼징 가스 분사부 130,230,330; 버퍼
140,240,340; 블레이드 150,250,350; 개구
160,260,360; 배기구
본 발명은 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼 퓸을 효과적으로 제거할 수 있는 로드락 모듈에 관한 것이다.
반도체 제조 설비 중 식각 설비는 프로세스 모듈(Process Module)과 프론트 엔드 모듈(Equipment Front End Module) 사이에 로드락 모듈(Load Lock Module)을 구비하고 있는 것이 일반적이다. 프로세스 모듈에서 식각 공정이 수행된 웨이퍼가 로드락 모듈을 거쳐 프론트 엔드 모듈로 이송되는 경우 웨이퍼에 부착된 반응성 가스들이 프론트 엔드 모듈로 함께 유입된다.
이로 인해 로드락 모듈로 유입된 부식성 가스, 예를 들어, 식각 공정에 이용되는 반응성 가스(HBr, Cl2 가스 등) 또는 웨이퍼로부터 발생되는 가스 퓸(gas fume)이 대기중의 수분과 반응하여 소정의 부산물을 생성하게 되어 설비의 주재료인 써스(SUS)를 부식시키는 문제가 발생되어 설비의 가동률을 저하시키는 원인이 된다.
구체적인 예를 들면, 웨이퍼 상에 증착된 Si3N4 을 HBr 과 Cl2 가스로써 선택적으로 식각하는 경우 이들간의 화학반응식은 다음과 같다.
Si3N4 + Cl2 + HBr → SiCl4 + 부산물
여기서, 부산물로는 약산성의 NH4Cl 이 생성되는데 이것은 공기중의 수분을 흡수하여 스스로 녹는 조해성 특성을 지니고 있다. 따라서, 부산물이 대기중의 수분과 반응하여 고결되는 현상으로 인해 써스(SUS)와 반응하여 써스(SUS)를 부식시키는 것이다.
이에 본 발명은 상기 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 웨이퍼 퓸을 효과적으로 제거할 수 있는 로드락 모듈을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 로드락 모듈은 웨이퍼 전체 표면을 향해 퍼징 가스를 분사하는 필터를 구비한 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 로드락 모듈은, 웨이퍼를 수용하는 챔버; 상기 챔버 내부로 퍼징 가스를 안내하는 퍼징 가스 공급관; 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구; 및 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버 내부에 수용된 웨이퍼의 전체 표면을 향해 분사하는 퍼징 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 1기의 필터를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 복수개의 필터로 이루어진 1군의 필터 그룹을 포함한다. 상기 1군의 필터 그룹은 3개의 필터가 병렬로 결합될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 1기의 원형 필터를 포함한다. 상기 원형 필터는 웨이퍼의 직경과 동일한 직경을 가진다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스 분사부는 상기 퍼징 가스를 웨이퍼 표면을 향해 수직하는 방향과 경사진 방향으로 분사한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소 가스이다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 다른 실시예에 따른 로드락 모듈은, 웨이퍼를 좌우 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버; 상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관; 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구; 및 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 각 1기의 필터가 좌우로 분기된 퍼징 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소이다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 로드락 모듈은, 웨이퍼를 좌우 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버; 상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관; 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구; 및 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 복수개의 필터로 이루어진 1군의 필터군이 좌우로 분기된 퍼징 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소이다. 상기 1군의 필터 그룹은 3개의 필터가 병렬로 결합될 수 있다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 로드락 모듈은, 웨이퍼를 좌우 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버; 상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관; 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구; 및 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 원형의 필터가 좌우로 분기된 퍼징 가스 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 상기 원형의 필터는 웨이퍼의 직경과 동일한 직경을 가진다. 상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소이다.
본 발명에 의하면, 개선된 필터를 이용함으로써 웨이퍼 퓸을 충분히 배출할 수 있게 된다. 따라서, 웨이퍼 퓸에 의한 설비의 부식 문제가 해결됨으로써 설비의 수명 및 가동률을 높일 수 있는 효과가 있다. 게다가, 프론트 엔드 모듈의 청정도를 더욱 더 향상시킬 수 있는 효과도 아울러 가지고 있다.
이하, 본 발명에 따른 로드락 모듈을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명에 따른 로드락 모듈은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명에 로드락 모듈은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 제3실시예에 따른 로드락 모듈을 도시한 사시도이다. 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈에 있어서 필터의 퍼징 가스 분사 형태를 도시한 정면도이고, 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈을 구비한 반도체 제조 설비를 개략적으로 도시한 구성도이다.
(제1실시예)
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 로드락 모듈(Load Lock Module)은 웨이퍼가 놓여지는 블레이드(140;Blade)와 버퍼(130;Buffer)가 장착된 챔버(100;Chamber), 챔버(100) 내로 퍼징 가스(Purging gas)를 공급하는 공급관(110;Supply tube), 퍼징 가스를 웨이퍼를 향해 분사하는 분사부(120;Injection member)를 포함한다.
도 5를 참조하면, 로드락 모듈(LLM:Load Lock Module)은 식각과 같은 반도체 제조 공정이 실제로 진행되는 프로세스 모듈(PM:Process Module)과 웨이퍼 핸들링 시스템 등이 마련되는 프론트 엔드 모듈(EFEM:Equipment Front End Module) 사이에 위치한다. 로드 포트(LP:Load Port)에는 웨이퍼가 적재된 카세트(Cassette) 내지는 푸프(FOUP)가 놓여진다.
도 1을 다시 참조하면, 챔버(100) 하부에 마련된 개구(150)는 챔버(100) 내부를 진공 환경으로 만들기 위한 것으로, 펌프의 펌핑 작용에 의해 챔버(100) 내의 공기가 개구(150)를 통해 흡입됨으로써 진공 환경이 제공된다. 한편, 챔버(100) 하부에는 또 다른 개구(160)가 마련되는 바, 이 개구(160)는 퍼징 가스와 웨이퍼 퓸을 외부로 배출하기 위한 배기구이다.
블레이드(140)는 프로세스 모듈(PM:Process module)에서 소정의 공정(예:식각 공정)이 완료된 웨이퍼를 로드락 모듈(LLM:Load lock module)의 챔버(100)로 이송시키기 위한 것이다. 그리고, 버퍼(130)는 좌우 양쪽에 각각 1기씩 설치되어 있는 바, 버퍼(130)도 역시 웨이퍼가 놓여지는 장소를 제공한다. 버퍼(130)는 승강 동작이 가능하여 로드락 모듈의 블레이드(140)와, 프론트 엔드 모듈(EFEM)의 블레이드에 웨이퍼를 건네준다.
퍼징 가스 공급관(110)은 챔버(100) 외부로부터 챔버(100) 내부로 퍼징 가스를 안내하는 것이다. 퍼징 가스로는 화학적으로 안정한 가스, 예를 들어, 헬륨(He)이나 아르곤(Ar)과 같은 영족 기체(Inert gas), 또는 질소(N2)를 이용할 수 있다. 여기서, 퍼징 가스로는 상온의 가스를 이용할 수 있지만 가열된 가스, 예를 들어, 가열된 질소(Hot N2)를 이용할 수 있다. 가열된 가스를 퍼징 가스로 이용하면 챔버 (100) 내부는 온도가 상승된 상태가 되므로 웨이퍼 퓸의 확산에 도움이 될 것이다.
퍼징 가스 분사부(120)는 블레이드(140) 또는 버퍼(130)에 로딩된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 필터(filter)로서 좌우 양쪽으로 각각 1기씩 마련된다. 필터(120)의 표면에는 퍼징 가스가 흘러 나올 수 있도록 수많은 홀들이 형성되어 있다.
대면적화된 웨이퍼의 전체를 향해 퍼징 가스가 분사되도록 필터(120)는 웨이퍼의 표면을 향해 수직하는 방향으로 퍼징 가스를 분사하는 것뿐만 아니라, 도 4에 도시된 바와 같이, 경사진 방향으로도 퍼징 가스를 분사하는 것이 바람직하다. 여기서, 웨이퍼(W)의 중앙부에 해당하는 필터(120) 부분은 수직하는 방향으로 퍼징 가스를 분사하여도 상관없으나 필터(120)의 중앙부분에서 양쪽 끝단으로 갈수록 퍼징 가스를 경사진 방향으로 분사하는 것이 바람직하다.
상기와 같이 구성된 로드락 모듈은 다음과 같이 동작한다.
프로세스 모듈에서 소정의 공정(예:식각 공정)이 완료된 웨이퍼를 블레이드(140)가 프로세스 모듈에서 가지고 나와 로드락 모듈로 로딩시켜 버퍼(130)에 놓는다. 버퍼(130)에 놓여진 웨이퍼를 향해 필터(120)는 퍼징 가스를 분사한다. 분사된 퍼징 가스에 의해 웨이퍼 표면에 부착된 웨이퍼 퓸이 챔버(100) 내부로 확산된다. 이때, 퍼징 가스로서 가열된 가스를 사용하면 웨이퍼 퓸의 확산에 도움이 된다는 것은 이미 상술하였다. 또한, 웨이퍼 전체를 향해 퍼징 가스가 골고루 분사될 수 있도록 필터(120)는 퍼징 가스를 경사진 방향으로도 분사할 수 있음을 이미 상술하였다. 웨이퍼 표면으로부터 떨어져 나와 챔버(100) 내부로 확산된 웨이퍼 퓸은 배 기구(160)를 통해 외부로 배출된다.
(제2실시예)
도 2를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 로드락 모듈은 웨이퍼가 놓여지는 블레이드(240;Blade)와 버퍼(230;Buffer)가 장착된 챔버(200;Chamber), 챔버(200) 내로 퍼징 가스(Purging gas)를 공급하는 공급관(210;Supply tube), 퍼징 가스를 웨이퍼를 향해 분사하는 복수개의 필터(220a,220b,220c)를 가진 분사부(220;Injection member)를 포함한다.
본 발명의 제2실시예와 상술한 제1실시예는 퍼징 가스 분사부(220) 구조만이 상이하고 나머지에 대해선 동일하다. 따라서, 본 발명의 제2실시예에 대한 설명에 있어서 동일한 구조에 대한 자세한 기재는 생략하고 퍼징 가스 분사부(220)에 대해서만 기재하기로 한다.
본 발명의 제2실시예에 따른 로드락 모듈의 퍼징 가스 분사부(220)는 웨이퍼 전체를 향해 퍼징 가스를 분사하는 것을 담보하기 위해 웨이퍼 전체면적을 포괄할 수 있도록 복수개, 예를 들어, 3개의 필터(220a,220b,220c)로 이루어진 1군의 필터 그룹이 좌우 각각에 마련된다. 본 제2실시예의 퍼징 가스 분사부(220)의 1군의 필터 그룹은 각각 3개의 필터(220a,220b,220c)로 이루어져 있으므로 제1실시예의 하나뿐인 필터(120)로 이루어진 것에 비해 퍼징 가스를 웨이퍼 전체에 골고루 더 분산시켜 분사할 수 있다.
본 퍼징 가스 분사부(220) 역시 퍼징 가스를 수직하는 방향은 물론 경사진 방향으로도 분사할 수 있고, 가열된 퍼징 가스를 분사하여 웨이퍼 퓸의 확산을 더욱 촉진시킬 수 있다.
(제3실시예)
도 3을 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 로드락 모듈은 웨이퍼가 놓여지는 블레이드(340;Blade)와 버퍼(330;Buffer)가 장착된 챔버(300;Chamber), 챔버(300) 내로 퍼징 가스(Purging gas)를 공급하는 공급관(310;Supply tube), 퍼징 가스를 웨이퍼 전체를 향해 분사하기 위하여 웨이퍼 전체를 포괄할 수 있도록 웨이퍼 직경과 거의 동일한 직경을 가진 원형의 형태를 가진 분사부(320;Injection member)를 포함한다.
상술한 제2실시예에서와 마찬가지로, 본 발명의 제3실시예와 상술한 제1실시예는 퍼징 가스 분사부(320) 구조만이 상이하고 나머지에 대해선 동일하다. 따라서, 본 발명의 제3실시예에 대한 설명에 있어서 동일한 구조에 대한 자세한 기재는 생략하고 퍼징 가스 분사부(320)에 대해서만 기재하기로 한다.
본 발명의 제3실시예에 따른 로드락 모듈의 퍼징 가스 분사부(320)는 웨이퍼 전체를 향해 퍼징 가스를 분사하는 것을 담보하기 위해 웨이퍼 전체면적을 포괄할 수 있도록 웨이퍼와 거의 동일한 직경을 가진 원형의 필터가 좌우 각각에 1기씩 마련된다. 본 제3실시예의 퍼징 가스 분사부(320)는 웨이퍼와 거의 동일한 크기로 이루어져 있으므로 제1실시예의 하나뿐인 필터(120)로 이루어진 것에 비해 퍼징 가스를 웨이퍼 전체에 골고루 더 분산시켜 분사할 수 있다.
본 퍼징 가스 분사부(320) 역시 퍼징 가스를 수직하는 방향은 물론 경사진 방향으로도 분사할 수 있고, 가열된 퍼징 가스를 분사하여 웨이퍼 퓸의 확산을 더욱 촉진시킬 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 개선된 필터를 이용함으로써 웨이퍼 퓸을 충분히 배출할 수 있게 된다. 따라서, 웨이퍼 퓸에 의한 설비의 부식 문제가 해결됨으로써 설비의 수명 및 가동률을 높일 수 있는 효과가 있다. 게다가, 프론트 엔드 모듈의 청정도를 더욱 더 향상시킬 수 있는 효과도 아울러 가지고 있다.

Claims (16)

  1. 다수매의 웨이퍼를 수용가능하며, 그 내부가 좌우 공간들로 구분가능한 챔버;
    상기 챔버의 좌우 공간들 각각에 형성되어 상기 웨이퍼를 지지하는 승강 이동가능한 버퍼부;
    상기 챔버 내부로 퍼징 가스를 안내하는 퍼징 가스 공급관;
    상기 좌우 공간들 중 일측의 하단에 형성되어, 상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구;
    상기 좌우 공간들 중 타측의 하단에 형성되어, 상기 챔버 내부를 진공환경으로 만들기 위해 상기 챔버 내부의 공기를 흡입하여 배출하는 개구; 및
    상기 퍼징 가스 공급관으로부터 상기 좌우 공간들 각각으로 분기되고, 상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버 내부에 수용된 웨이퍼의 전체 표면을 향해 분사하는 고정된 퍼징 가스 분사부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 1기의 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 복수개의 필터로 이루어진 1군의 필터 그룹을 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 1군의 필터 그룹은 3개의 필터가 병렬로 결합된 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 퍼징 가스 분사부는 상기 챔버의 좌우 각각에 1기의 원형 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 원형 필터는 웨이퍼의 직경과 동일한 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 퍼징 가스 분사부는 상기 퍼징 가스를 웨이퍼 표면을 향해 수직하는 방향과 경사진 방향으로 분사하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소 가스인 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  9. 좌우 공간으로 구분되어 웨이퍼를 상기 좌우 공간 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 좌우 공간들 각각에 형성되어 상기 웨이퍼를 지지하는 승강 이동가능한 버퍼부;
    상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관;
    상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구;
    상기 챔버 내부의 공기를 흡입 배출하여 상기 챔버 내부를 진공환경으로 만드는 개구; 및
    상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 공간 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 각 1기의 필터가 상기 좌우 공간 각각으로 분기된 고정된 퍼징 가스 분사부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소인 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  11. 좌우 공간으로 구분되어 웨이퍼를 상기 좌우 공간 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 좌우 공간들 각각에 형성되어 상기 웨이퍼를 지지하는 승강 이동가능한 버퍼부;
    상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관;
    상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구;
    상기 챔버 내부의 공기를 흡입 배출하여 상기 챔버 내부를 진공환경으로 만드는 개구; 및
    상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 공간 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 복수개의 필터로 이루어진 1군의 필터 그룹이 상기 좌우 공간 각각으로 분기된 고정된 퍼징 가스 분사부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소인 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 1군의 필터 그룹은 3개의 필터가 병렬로 결합된 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  14. 좌우 공간으로 구분되어 웨이퍼를 상기 좌우 공간 각각에 수용하고, 수용된 웨이퍼를 향해 퍼징 가스를 분사하는 장소를 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 좌우 공간들 각각에 형성되어 상기 웨이퍼를 지지하는 승강 이동가능한 버퍼붜;
    상기 퍼징 가스를 상기 챔버 내부로 안내하는 퍼징 가스 공급관;
    상기 챔버 내부로 공급된 퍼징 가스를 흡입하여 외부로 배출하는 배기구;
    상기 챔버 내부의 공기를 흡입 배출하여 상기 챔버 내부를 진공환경으로 만드는 개구; 및
    상기 퍼징 가스 공급관으로부터 공급받은 퍼징 가스를 상기 챔버의 좌우 공간 각각에 수용된 웨이퍼 각각을 향해 수직 및 경사진 방향으로 분사하는 원형의 필터가 상기 좌우 공간 각각으로 분기된 고정된 퍼징 가스 분사부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 원형의 필터는 웨이퍼의 직경과 동일한 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 퍼징 가스는 가열된 영족 기체 또는 가열된 질소인 것을 특징으로 하는 로드락 모듈.
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