KR100638083B1 - 디스플레이 전면판 - Google Patents

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KR100638083B1
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Abstract

본 발명은 디스플레이 전면판에 관한 것으로서, 폴리카보네이트 수지로 된 베이스 수지와 유리비드를 포함하는 기재층으로 이루어진 것을 특징으로 하며, 높은 표면경도, 치수안정성 및 내후성을 보이며, 전광선 투과율 및 광확산성 등이 우수하고 반사율 저하를 이용하여 시인성을 양호하게 하는 효과가 있다.
디스플레이, 전면판, 폴리카보네이트 수지, 유리비드, 유기비드

Description

디스플레이 전면판{Front plate of a display}
본 발명은 디스플레이 전면판에 관한 것으로서, 특히 높은 표면경도, 치수안정성 및 내후성을 보이며, 전광선 투과율 및 광확산성 등이 우수하고 반사율 저하를 이용하여 시인성을 양호하게 하는 디스플레이 전면판에 관한 것이다.
TV, PC 모니터 등의 디스플레이 표시장치에서는 태양광이나 형광등 등의 외광이 표면에 반사되거나 비춰지기 때문에 표시화상이 잘 보이지 않게 되는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해서, 일본특허공개 평12-329905나 일본특허공개 평13-264508에서 제안한 바와 같이 표면에 요철을 형성하여 외광을 난반사시키거나, 저굴절율과 고굴절율의 박막을 교대로 적층해서 빛의 반사를 방지하는 방법이 행해지고 있다.
그러나, 외광을 난반사시키는 방법에서는 디스플레이상의 화상이 부옇게 보이는 문제가 있으며, 일본특허공개 평4-355401, 평11-92750, 평11-174971에 개시되어있는 바와 같이, 표면층에 저굴절율의 함불소 화합물을 형성하는 방법은 불소화합물의 표면경도가 낮아서 내찰과성이 없으므로 디스플레이 조립시 또는 표면의 청 소시에 생기는 스크래치에 의하여 부옇게 보이는 문제가 있었다.
또한, 종래 사용되고 있는 디스플레이 전면판으로 메틸메타아크릴레이트-스티렌 공압출 수지 시트에 표면의 흠집을 방지하기 위하여 가교 피막에 의한 하드 코트층(내찰상성 피막)을 형성시킨 경우, 반사방지기재로써 기재의 표면에 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시켜 반사방지처리를 하는 경우, 표면을 Non-Glare처리를 하는 경우 등이 있다. 그러나 이러한 코팅 처리기법은 후처리 공정이 추가되어 가격 경쟁면에서 불리하다.
본 발명자들은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 높은 표면경도 및 치수안정성을 보이며, 전광선투과율 및 광확산성이 우수하고 반사율 저하를 이용하여 시인성을 양호하게 하고, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮은 디스플레이 전면판을 제공할 수 있음을 실험을 통하여 확인하고 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서 본 발명은 높은 표면경도 및 치수안정성을 보이며, 전광선투과율 및 광확산성이 우수하고 반사율 저하를 이용하여 시인성을 양호하게 하고, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮은 디스플레이 전면판을 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 폴리카보네이트 수지로 된 베이스 수지와 유리비드를 포함하는 기재층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판을 제공한다.
상기 기재층의 베이스 수지는 디하이드록시 페놀과 포스겐을 반응시키거나 디하이드록시 페놀과 카보네이트 전구체의 반응에 의하여 제조된 선형 및 가지달린(branched) 방향족 폴리카보네이트 단일 중합체; 폴리에스터 공중합체; 또는 이들 1종 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 유리비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 유리비드는 상기 베이스 수지 100중량부당 0.1 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 표면이 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 표면의 조도가 1~50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 베이스 수지와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 유기비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 유기비드는 상기 베이스 수지 100 중량부당 0.01 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 유기비드는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계 중합체 입자; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체 입자; 아크릴과 올레핀계의 공중합체 입자, 폴리스티렌계 중합체 입자, 단일중합체의 입자를 형성후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 중합체 입자인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 자외선 흡수제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 산화안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 표면의 일면 또는 양면에 글래어 방지 패턴(non-glare pattern)이 형성된 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 폴리카보네이트 수지로 된 제 1 베이스 수지를 포함하는 기재층과; 상기 기재층의 일면 또는 양면에 형성되고, 폴리카보네이트 수지로 된 제 2 베이스 수지와 유리비드를 포함하는 표면층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판을 제공한다.
상기 기재층 또는 표면층의 제 1 베이스 수지 또는 제 2 베이스 수지는 디하이드록시 페놀과 포스겐을 반응시키거나 디하이드록시 페놀과 카보네이트 전구체의 반응에 의하여 제조된 선형 및 가지달린(branched) 방향족 폴리카보네이트 단일 중합체; 폴리에스터 공중합체; 또는 이들 1종 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층의 유리비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 표면층의 유리비드는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 100중량부당 0.1 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 표면이 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 표면의 조도가 1~50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층은 상기 기재층의 제 1 베이스 수지와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 또는 유리비드와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층 또는 표면층의 유기비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 유기비드는 상기 제 1 베이스 수지 또는 제 2 베이스 수지 100 중량부당 0.01 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 한다.
상기 기재층 또는 표면층의 유기비드는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계 중합체 입자; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체 입자; 아크릴과 올레핀계의 공중합체 입자, 폴리스티렌계 중합체 입자, 단일중합체의 입자를 형성후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 중합체 입자인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층 또는 표면층은 자외선 흡수제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층 또는 표면층은 산화안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 표면의 일면 또는 양면에 글래어 방지 패턴(non-glare pattern)이 형성된 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 디스플레이 전면판은 단층 또는 다층의 형태가 모두 가능한데, 우선 단층의 디스플레이 전면판을 설명한다.
기재층의 베이스 수지로 사용되는 카보네이트 수지는 내충격성이 매우 우수하여 렌즈, 유기유리, 광디스크재료, 헬멧, 보호구, 커버류 등에 사용되며, 광투과율이 비교적 우수하면서 내열성, 내한성 및 전기적 특성이 좋고, 높은 내흡수성을 지니고 있어 치수안정성이 우수하여 사용온도범위가 -100℃~135℃로 넓은 수지이다.
본 발명의 베이스 수지로 사용되는 폴리카보네이트 수지는 일반적으로 사용되고 있는 방향족 폴리카보네이트 수지로서 디하이드록시 페놀과 포스겐을 반응시키거나 디하이드록시 페놀과 카보네이트 전구체의 반응에 의하여 제조된 선형 및 가지 달린 카보네이트 단일 중합체 및 폴리에스터 공중합체 또는 이들 1종 이상의 혼합물을 포함한다. 상기 디하이드록시 페놀은 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판(즉, 비스페놀 A), 비스(4-하이드록시 페닐)메탄, 2,2-비스(4-하이드록시-3,5-다이메틸페닐)프로판 및 1,1-비스(4-하이드록시페닐)사이클로헥산 등을 포함하며, 카보네이트 전구체는 디페닐 카보네이트, 카보닐 할라이드 및 다이 아릴 카보네이트를 포함한다.
한편, 본 발명은 기재층에 유리비드를 포함하고 있다. 상기 유리비드로는 산화물 유리로서 실리카(SiO2), 보레이트(borate) 글래스, 알칼리 또는 알칼리토금속을 포함하는 실리케이트(silicate) 글래스 중 선택된 1종 이상이 사용된다.
상기 유리비드는 굴절율이 약 1.5~1.6이고, 연필경도가 약 6H에 이르는 것으로, 내찰상성, 내마모성, 압축강도, 인장탄성률, 굴곡탄성률, 열변형온도, 내화학성 그리고 전기적 성질의 증가를 가져올 수 있는 입자이다. 또한 우수한 치수안정성 유지에도 효과를 보이므로, 열 및 수분에 의한 휨의 개선에도 효과를 가져올 수 있다. 따라서 전면판이 유리비드를 포함할 때, 광확산 기능을 가지는 동시에 상기 유리비드의 일부가 전면판의 표면에 돌출되어 엠보싱 표면을 형성시킴으로써 전면판 표면의 표면경도의 향상 및 엠보싱 현상에 의한 반사방지기능을 가져올 수 있다.
상기 유리비드의 입경은 0.2~50㎛이 바람직한데, 상기 유리비드의 입경이 0.2㎛ 미만인 경우 광확산성이 떨어지는 문제가 있으며, 50㎛ 초과일 경우 강도가 저하되는 문제가 있다.
한편, 상기 유리비드는 기재층의 표면으로 돌출되어 엠보싱 형상을 가지게 됨으로써 무광택 표면 및 낮은 반사율을 가지는 효과를 꾀할 수 있다. 이 때, 기재층의 표면조도는 약 1~50㎛가 적당하며, 조도가 1㎛ 미만이면 무광택 효과가 떨어지며, 조도가 50㎛ 초과하면 표면 충격강도가 불충분하다.
본 발명에 사용되는 유리비드의 함량은 기재층의 제 1 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.1 ~ 50중량부이며, 상기 유리비드의 함량이 0.1중량부 미만이면 전면판 표면으로 돌출되는 유리비드가 적어 표면의 충분한 엠보싱 효과를 발휘하기 힘들게 되므로 전면판 표면의 표면경도강화 및 반사방지기능이 충분하지 못한 문제점이 있고, 유리비드의 함량이 50 중량부 초과이면 광투과율과 같은 광학특성이 저하되고, 분산성이 저하되며, 갈변현상이 생기는 문제점이 있다. 이 때, 유리비드의 함량은 베이스 수지와의 굴절율 차이에 따라 결정될 수 있다.
한편, 본 발명은 기재층에 광확산 입자가 더 포함될 수 있다. 상기 광확산 입자는 기재층의 베이스 수지와의 굴절율차가 0.1 이하인 유기비드 중 선택된 1종 이상으로 한다.
본 발명에서 사용될 수 있는 유기비드는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계 중합체; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체; 아크릴과 올레핀계의 공중합체, 폴리스티렌계 중합체, 단일중합체를 형성한 후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 중합체 등이 있다.
상기 유기비드는 기재층의 베이스 수지와의 굴절율차가 0.1 이하이어야 하는데, 굴절율차가 0.1 초과인 경우에는 빛의 투과도가 떨어지고 백탁현상이 발생하는 문제점이 있다.
상기 유기비드의 입경은 0.2~50㎛인 것이 바람직하며, 입경이 0.2㎛미만이면 유기비드의 분산성이 떨어지고, 50㎛ 초과이면 표면형상이 좋지 못하다.
상기 유기비드는 기재층의 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.01~50중량부 포함하는 것이 바람직한데, 0.01중량부 미만으로 포함되는 경우 광확산 효과가 충분하지 못하며, 50중량부 초과하게 되면 분산성이 저하되며, 백탁현상이 발생하고, 헤이즈가 너무 높아지는 문제가 있다.
한편, 본 발명의 디스플레이 전면판은 빛의 투과율을 높이기 위하여 상기 표면층에 광확산 입자로써 상기와 같은 유기비드를 더 포함할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 또 다른 형태인 다층의 디스플레이 전면판은 폴리카보네이트 수지로 된 제 1 베이스 수지를 포함하는 기재층과, 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되고, 폴리카보네이트 수지로 된 제 2 베이스 수지와 유리비드를 포함하는 표면층을 포함한다.
상기 기재층과 표면층의 제 1 베이스 수지 및 제 2 베이스 수지인 폴리카보네이트 수지에 대한 상세한 설명은 상술한 바와 같다.
상기 표면층은 유리비드를 필수적으로 포함함으로써 유리비드에 의한 표면층 표면의 엠보싱 형상으로부터 표면 경도의 향상 및 반사방지 효과를 꾀할 수 있으며, 유리비드에 대한 상세한 설명은 상술한 바와 같다.
본 발명은 빛의 투과율을 높이기 위하여 상기 표면층에 광확산 입자로서 유기비드를 더 포함할 수 있으며, 상기 기재층에도 광확산 입자로서 유리비드 또는 유기비드를 더 포함할 수 있다. 이 때의 유기비드 또는 유리비드에 대한 상세한 설명은 상술한 바와 같다.
본 발명의 디스플레이 전면판은 공지된 기술인 공압출성형, 적층, 열접착, 표면코팅 등의 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 디스플레이 전면판은 용도에 따라 0.8~5㎜의 두께를 갖는다. 또한, 표면층을 기재층의 일면에만 형성하는 경우 기재층의 두께와 표면층의 두께의 비는 199~100 : 1~100 이며, 표면층을 기재층의 양면에 형성하는 경우 표면층의 두께 : 기재층의 두께 : 표면층의 두께는 1~50 : 198~100 : 1~50 이다.
본 발명의 디스플레이 전면판은 광안정제가 첨가될 수도 있는데, 첨가될 수 있는 광안정제로서는 250nm ~ 380nm 범위에 극대 흡수 파장을 가지는 자외선 흡수 제와 라디칼 스캐빈저로서 광안정 효과를 극대화시킬 수 있는 힌더드 아민류의 자외선 안정제가 바람직하다. 이들은 오랫동안 효력을 발휘할 수 있어야 하고, 증발되거나 추출되어 시트로부터 유리되거나 제거되지 않아야 되며, 기재와의 상용성이 좋은 흡수제를 선택해야 한다.
자외선 흡수제의 예는 시아노아크릴계, 살리실레이트계, 말론산 에스테르계, 옥살아닐리드계, 디케톤계, 하이드록시 벤조페논계, 하이드록시 벤조트리아졸계, 유기금속계 등을 들 수 있으며, 이들 중 선택된 2 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
자외선 안정제의 예는 피페리디닐 에스터류, 옥사졸리딘과 피페리디노옥사졸리딘류, 피페리디스피로아세탈류, 디아자사이클로알카논류 등이 있으며, 이들 중 선택된 2 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
광안정제는 다층의 경우 특히 표면층에만 함유시킴으로써 기재층의 전광선 투과율 및 물성의 저하 없이 기대되는 광안정 효과를 얻을 수 있으며, 또한 원가절감의 효과를 가져올 수 있다.
광안정제의 함량은 단층의 디스플레이 전면판의 경우, 기재층의 베이스 수지 100중량부에 대하여 각각 0.01중량부 ~ 5 중량부, 바람직하게는 0.1 중량부 ~ 2 중량부이며, 다층의 디스플레이 전면판의 경우, 표면층의 제 2 베이스 수지 100중량부에 대하여 각각 0.01중량부 ~ 5 중량부, 바람직하게는 0.1 중량부 ~ 2 중량부이다.
또한, 본 발명은 산화방지제가 첨가될 수도 있는데, 그 예로는 힌더드 페놀계 유도체와 방향족 아민계 유도체 등의 1차 산화방지제가 효과적이지만, 고온 내열성에 효과를 보이는 인(P)계 유도체 또는 황(S)계 유도체 등의 2차 산화방지제를 병용하는 것이 바람직하다. 1차 산화방지제는 고분자 물질에 생성된 자유라디칼을 탈취하여 고분자를 안정화시키는 라디칼 포착제로서의 기능을 수행하며, 2차 산화방지제는 과산화물 분해제의 기능을 수행하며 1차 산화방지제의 보조 역할을 하는 것이다, 첨가하는 산화방지제의 양은 단층인 경우의 기재층의 베이스 수지 또는 다층인 경우의 기재층 또는 표면층의 제 1 또는 제 2 베이스 수지에 대하여 1 중량부 미만이 적당하다.
본 발명의 디스플레이 전면판에 있어서, 표면층의 유리 비드의 돌출에 의한 엠보싱 효과에 더하여 더욱 효과적인 반사방지 기능을 부여하기 위하여 전면판의 표면에 글래어 방지 패턴(non-glare pattern)을 형성하는 것이 바람직하며, 이는 롤패터닝에 의하여 요철을 형성하는 방법 등으로 형성할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예로 더욱 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4의 조성 및 조성비는 하기 [표 1] 및 [표 2]와 같다. 이 때, 실시예 1, 2 및 비교예 1, 2는 단층의 디스플레이 전면판을, 실시예 3 내지 6 및 비교예 3은 2층의 디스플레이 전면판을, 실시예 7 내지 10 및 비교예 4는 3층의 디스플레이 전면판으로 하였다.
성형은 각각 1축의 스크류직경 135㎜, 60㎜에서 공압출하였으며, 성형온도는 290℃에서 수행하였고, 실시예 1, 2 및 비교예 1, 2는 기재층의 두께를 2㎜로 하였으며, 실시예 3 내지 6 및 비교예 3은 기재층의 두께를 1.9㎜, 표면층의 두께는 0.1㎜로 하였으며, 실시예 7 내지 10 및 비교예 4는 기재층의 두께를 1.8㎜, 표면층의 두께는 양면 모두 0.1㎜로 하였다.
구분 베이스 수지 유리비드 광확산제 자외선흡수제 산화방지제
실시예1 PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 - 0.2 중량부 0.2 중량부
실시예2 PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 MM수지비드 1중량부 0.2 중량부 0.2 중량부
비교예1 MS수지 100중량부 - MM수지비드 0.2 중량부 0.2 중량부 0.2 중량부
비교예2 PC수지 100중량부 - MM수지비드 0.2 중량부 0.2 중량부 0.2 중량부
* PC수지 : 폴리카보네이트(2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판과 포스겐을 반응시킨 폴리카보네이트) 수지 * MS수지 : 메틸메타크릴레이트-스티렌 공중합 수지 * 유리비드 : 프랑스 소비텍(sobitec)사의 제품명 마이크로펄(microperl, grade 050-10-A0), 입경 5㎛ * MM수지 비드 : 메틸메타크릴레이트 수지 비드, 굴절률 1.49, 입경 10㎛ * 자외선 흡수제 : 2-(2'-Hydroxy-5'-methyl-phenyl)benzotriazole, TINUVIN P * 산화방지제 : Tris(2,4-ditert-butylphenyl)phosphite, IRGAFOS 168
기재층 표면층
제1베이스 수지 광확산제 제2베이스 수지 유리비드 광확산제 자외선흡수제 산화방지제
실시예3, 실시예7 PC수지 100중량부 - PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 - 0.2중량부 0.2중량부
실시예4, 실시예8 PC수지 100중량부 - PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 MM수지비드 1중량부 0.2중량부 0.2중량부
실시예5, 실시예9 PC수지 100중량부 MM수지비드 0.2중량부 PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 - 0.2중량부 0.2중량부
실시예6, 실시예10 PC수지 100중량부 MM수지비드 0.2중량부 PC수지 100중량부 마이크로펄 5중량부 MM수지비드 1중량부 0.2중량부 0.2중량부
비교예3, 비교예4 MS수지 100중량부 - MS수지 100중량부 - MM수지비드 1중량부 0.2중량부 0.2중량부
* PC수지 : 폴리카보네이트(2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판과 포스겐을 반응시킨 폴리카보네이트) 수지 * MS수지 : 메틸메타크릴레이트-스티렌 공중합 수지 * 유리비드 : 프랑스 소비텍(sobitec)사의 제품명 마이크로펄(microperl, grade 050-10-A0), 입경 5㎛ * MM수지 비드 : 메틸메타크릴레이트 수지 비드, 굴절률 1.49, 입경 10㎛ * 자외선 흡수제 : 2-(2'-Hydroxy-5'-methyl-phenyl)benzotriazole, TINUVIN P * 산화방지제 : Tris(2,4-ditert-butylphenyl)phosphite, IRGAFOS 168
상기와 같은 조성으로 제조된 디스플레이 전면판의 물성을 하기와 같이 측정하였으며, 그 결과를 하기 [표 3]에 나타내었다.
표면의 연필경도는 JISK5400에 준한 연필경도 시험에 의해 얻어진 값이고, 피측정 재료의 경도를 나타낸다. 이 연필경도 시험은 연필경도 시험의 측정 조작을 5회 반복해서, 측정 중 1회라도 상처 등의 외견 이상이 인식되지 않은 경우에, 그 시험 시에 사용한 연필의 경도를 연필경도로 하는 것이다. 다층 전면판의 경우 표면층의 연필경도를 측정하였다.
전광선 투과율, 헤이즈는 ASTM D1003 방법에 의해 측정하였다.
노광 후 황색도 변화는 ASTM D1925 규격에 의해 램프는 FS-40 313/280를 장착한 Q-UV 테스터에서 40℃, 240시간 행한 후, ASTM D1003법에 의해 측정하였다. 다층 전면판의 경우, 표면층을 램프방향으로 장착하였다.
치수 안정성은 전면판의 휨변형 정도를 측정한 것으로, 상기 실시예 및 비교에의 전면판을 320×420㎜ 규격으로 하여, 60℃, 상대습도 75% 조건의 항온항습기에서 96시간 방치한 후, 전면판의 휨에 의해 변형된 정도를 평면상에서 들뜬 높이를 측정하여 나타내었다.
구분 표면연필경도(H) 전광선 투과율(%) 헤이즈(%) 치수안정성 (휨변형)(㎜) 황변도
실시예 1 H 90.3 32 0.2 10.43
실시예 2 H 89.1 66 0.2 10.21
실시예 3 H 89.6 27 0.2 8.74
실시예 4 H 87.6 30 0.2 8.55
실시예 5 H 88.5 41 0.2 8.63
실시예 6 H 90.1 48 0.2 8.47
실시예 7 H 89.5 31 0.2 6.91
실시예 8 H 90.1 34 0.2 6.73
실시예 9 H 91.4 46 0.2 6.82
실시예 10 H 89.2 52 0.2 6.63
비교예 1 H 95.0 53 1.1 6.67
비교예 2 B 91.0 28 0.2 22.61
비교예 3 H 95.3 8 1.2 6.42
비교예 4 H 95.5 17 1.0 6.40
상기 물성평가 결과, 베이스 수지를 폴리카보네이트 수지를 사용하고 유리비드를 포함한 실시예들의 경우, 폴리카보네이트 수지를 베이스 수지로 하고 유리비드를 사용하지 않은 비교예 2의 경우와 비교하여 표면연필경도와 황변도가 우수하였다.
한편, 디스플레이 전면판으로서 적합한 헤이즈의 범위는 30~50%인데, 본 실시예들의 경우 대부분 적합한 범위에 있음을 볼 수 있다.
그리고, 베이스 수지, 제 1 베이스 수지, 제 2 베이스 수지가 MS 수지인 비교예 1, 3, 4의 경우 표면연필경도와 황변도는 우수하나 휨변형이 매우 높으므로 디스플레이 전면판으로 부적합함을 볼 수 있다.
이에 대하여, 본 발명의 실시예들은 모든 물성이 안정적이므로, 이로부터 우수한 디스플레이 전면판을 제공할 수 있음을 알 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 디스플레이 전면판은 높은 표면경도 및 치수안정성을 보이며, 전광선투과율 및 광확산성이 우수하고 반사율 저하를 이용하여 시인성을 양호하게 하고, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮은 디스플레이 전면판을 제공하였다.

Claims (28)

  1. 폴리카보네이트 수지로 된 베이스 수지와 유리비드를 포함하고, 그 표면이 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지며, 표면조도가 1~50㎛ 인 기재층으로 이루어진 디스플레이 전면판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 베이스 수지는 디하이드록시 페놀과 포스겐을 반응시키거나 디하이드록시 페놀과 카보네이트 전구체의 반응에 의하여 제조된 선형 및 가지달린(branched) 방향족 폴리카보네이트 단일 중합체; 폴리에스터 공중합체; 또는 이들 1종 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 유리비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 유리비드는 상기 베이스 수지 100중량부당 0.1 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 베이스 수지와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 기재층의 유기비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 기재층의 유기비드는 상기 베이스 수지 100 중량부당 0.01 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 기재층의 유기비드는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계 중합체 입자; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체 입자; 아크릴과 올레핀계의 공중합체 입자, 폴리스티렌계 중합체 입자, 단일중합체의 입자를 형성후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 중합체 입자인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 자외선 흡수제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 산화안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 표면의 일면 또는 양면에 패터닝에 의하여 요철을 형성하는 방법으로 형성된 글래어 방지 패턴(non-glare pattern)이 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  14. 폴리카보네이트 수지로 된 제1베이스 수지를 포함하는 기재층과;
    상기 기재층의 일면 또는 양면에 형성되고, 폴리카보네이트 수지로 된 제2베이스 수지와 유리비드를 포함하고, 그 표면이 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지며, 표면조도가 1~50㎛ 인 표면층을 포함하는 디스플레이 전면판.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 기재층 또는 표면층의 제 1 베이스 수지 또는 제 2 베이스 수지는 디하이드록시 페놀과 포스겐을 반응시키거나 디하이드록시 페놀과 카보네이트 전구체의 반응에 의하여 제조된 선형 및 가지달린(branched) 방향족 폴리카보네이트 단일 중합체; 폴리에스터 공중합체; 또는 이들 1종 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 표면층의 유리비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 표면층의 유리비드는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 100중량부당 0.1 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제 14 항에 있어서,
    상기 기재층은 상기 기재층의 제 1 베이스 수지와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  21. 제 14 항에 있어서,
    상기 표면층은 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 또는 유리비드와의 굴절율 차이가 0.1 이하인 유기비드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 기재층 또는 표면층의 유기비드는 그 평균 입경이 0.2 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  23. 제 20 항에 있어서,
    상기 기재층의 유기비드는 상기 기재층의 제 1 베이스 수지 100 중량부당 0.01 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  24. 제 21 항에 있어서,
    상기 표면층의 유기비드는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 100 중량부당 0.01 내지 50 중량부 포함된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  25. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 기재층 또는 표면층의 유기비드는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등 의 아크릴계 중합체 입자; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체 입자; 아크릴과 올레핀계의 공중합체 입자, 폴리스티렌계 중합체 입자, 단일중합체의 입자를 형성후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 중합체 입자인 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  26. 제 14 항에 있어서,
    상기 기재층 또는 표면층은 자외선 흡수제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
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    상기 기재층 또는 표면층은 산화안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
  28. 제 14 항에 있어서,
    상기 표면층은 표면의 일면 또는 양면에 패터닝에 의하여 요철을 형성하는 방법으로 형성된 글래어 방지 패턴(non-glare pattern)이 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 전면판.
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