KR100630573B1

KR100630573B1 - 균등접촉식 습식 집진장치

Info

Publication number: KR100630573B1
Application number: KR1020050025629A
Authority: KR
Inventors: 조주생
Original assignee: (주)현보산업
Priority date: 2005-03-28
Filing date: 2005-03-28
Publication date: 2006-10-04
Also published as: KR20050074931A

Abstract

본 발명은 균등접촉식 습식 집진장치에 관한 것으로, 이 균등접촉식 습식 집진장치(1)는 본체(2)가 직립된 상태로 설치되고, 상기 본체(2)의 하부에는 덕트(3)와 팬(4)이 각각 설치되며, 상기 본체(2)의 상부에는 굴뚝(5)이 설치되고, 상기 본체(2)의 내부에 접촉여재(6)가 횡방향으로 설치되며, 상기 접촉여재(6)의 상부에 다수의 분사노즐(7)을 갖는 세정수 공급관(8)이 횡방향으로 설치되고, 상기 분사노즐(7)에 세정수를 공급할 수 있도록 저장조(9)와 이 저장조(9)에 연결된 세정수 공급 펌프(10)가 각각 설치되며, 상기 세정수 공급관(8)의 상부에 데미스터(11)가 횡방향으로 설치되는 한편, 상기 덕트(3)의 상부에 상승하는 오염 개스를 균등하게 분배된 상태로 여과되게 하는 분할판(12)이 다수 배치되며, 상기 분할판(12)의 상부쪽 판면에 오염 개스가 통과할 수 있도록 된 슬릿형의 개스 통로(13)가 일정간격을 두고 다수 돌출형성되고, 상기 개스 통로(13)의 상부에 지지대(14)가 형성된 캡(15)이 개스 통로(13)와 일정간격을 두고 고정설치된 구조로서, 장치 내부로 유입되는 오염 개스를 균등하게 분산시켜 접촉여재에 접촉시킴으로써 오염 개스를 효율적으로 여과시킬 수 있는 것이다.

균등접촉식, 습식, 집진장치, 분할판

Description

균등접촉식 습식 집진장치{EQUALIZATION CONTACT ON SURFACE OF WET SCRUBBER}

도 1은 종래의 기술에 따른 습식 집진장치를 나타낸 상태도,

도 2는 본 발명에 따른 균등접촉식 습식 집진장치를 나타낸 상태도,

도 3은 본 발명에 따른 균등접촉식 습식 집진장치의 분할판을 나타낸 사시도,

도 4는 본 발명에 따른 분할판의 개스 통로와 캡이 결합된 상태를 나타낸 상태도,

도 5는 본 발명에 따른 분할판의 또다른 배치상태를 나타낸 상태도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1 : 균등접촉식 습식 집진장치 2 : 본체

3 : 덕트 4 : 팬

5 : 굴뚝 6 : 접촉여재

6a : 지지판 7 : 분사노즐

8 : 세정수 공급관 9 : 저장조

10 : 세정수 공급 펌프 11 : 데미스터

11a : 지지판 12 : 분할판

13 : 개스 통로 14 : 지지대

15 : 캡 16 : 보조 세정수 공급관

17 : 보조 분사노즐

본 발명은 오염 개스를 정화시킬 수 있도록 된 습식 집진장치에 관한 것으로, 특히 습식 집진장치의 내부에 분할판이 설치되어 유입되는 오염 개스를 균등하게 분할함과 더불어 일정한 속도로 오염 개스의 상승을 유도함으로써 표면접촉과 공간접촉 등을 통해 개스의 오염 물질을 포집하여 대기오염을 방지할 수 있도록 된 균등접촉식 습식 집진장치에 관한 것이다.

일반적으로 집진장치는 습식 및 건식이 있는 바, 상기 습식 집진장치는 오염된 공기를 물을 통과하게 하여 물에 의해 오염물질(개스, 먼지, 분진)을 정화시킨 깨끗한 공기를 외부로 배출되게 하는 것이다.

즉, 상기 습식 집진장치는 각 생산공장에서 발생하는 여러 종류의 분진과 악취를 세정수를 이용하여 대기의 오염을 방지할 수 있도록 된 것으로, 기체에 물을 분사해서 기체에 섞인 분진이 습기를 머금어 가라앉게 하는 원리를 이용하는 것이다.

여기서, 종래의 기술에 따른 습식 집진장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 다양한 형태의 단면을 가지는 본체(101)가 직립된 상태로 설치되고, 상기 본체(101) 의 하부에는 오염 개스의 유입을 위한 덕트(102)와 팬(103)이 각각 설치되며, 상기 본체(101)의 상부에는 여과된 개스를 배출하기 위한 굴뚝(104)이 설치되고, 상기 본체(101)의 내부에 유입된 오염 개스를 여과하기 위한 접촉여재(PALL-RING)(105)가 하부의 다공성 지지판(105a)에 올려져 설치되며, 상기 접촉여재(105)의 상부에 다수의 분사노즐(106)을 갖는 세정수 공급관(107)이 횡방향으로 설치되고, 상기 분사노즐(106)에 세정수를 공급할 수 있도록 상기 본체(101) 하부에 세정수를 모아두는 저장조(108)와 이 저장조(108)에 연결된 세정수 공급 펌프(109)가 각각 설치되며, 상기 세정수 공급관(107)의 상부에 세정수로 여과된 개스의 미세 수분을 제거할 수 있도록 된 데미스터(DEMISTER)(110)가 하부의 다공성 지지판(110a)에 올려져 설치된 구조이다.

그러므로, 상기의 구조로 이루어진 습식 집진장치(111)는 생산공장 또는 각종 설비 등을 통해 배출되는 오염 개스를 팬(103)을 이용하여 상기 덕트(102)로 습식 집진장치(111)의 본체(101) 내부에 유입시키고, 유입된 오염 개스는 상기 접촉여재(105)를 통과하게 되며, 이 때 상기 세정수 공급관(107)에 장착된 다수의 분사노즐(106)을 통하여 오염 개스내의 분진 등 이물질을 여과하기 위한 세정수가 분무되는 것이다.

그리고, 상기와 같이 세정수에 의해 분진 등을 여과한 개스는 상기 데미스터(110)를 통과하면서 개스 중에 남아 있는 미세 수분이 여과되고, 이렇게 여과된 개스가 상기 본체(101)의 상부에 설치된 굴뚝(104)을 통하여 대기중에 배출되는 것이다.

그런데, 상기와 같은 종래의 습식 집진장치(111)의 경우 집진 과정중에 인입된 오염 개스가 상승하면서 균등하게 개스량이 분산되지 못하고, 상기 접촉여재(105)의 통과 조건에 따라 개스의 인입량이 편중되는 채널(CHANNEL)현상이 발생되며, 이에 따라 포집된 개스의 오염 입자가 접촉여재(105)에 쌓이게 되어 처리효율을 떨어뜨리게 되고, 상기 접촉여재(105)의 잦은 세척과 교체 및 상부의 데미스터(110)의 막힘 등으로 유지비용이 과다하게 소요되는 문제점이 있었다.

이에 본 발명은 상기한 바의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 습식 집진장치의 내부에 분할판이 설치되어 유입되는 오염 개스를 균등하게 분할함과 더불어 일정한 속도로 오염 개스의 상승을 유도함으로써 표면접촉과 공간접촉 등을 통해 개스의 오염 물질을 포집하여 대기오염을 방지할 수 있도록 된 균등접촉식 습식 집진장치를 제공함에 그 목적이 있는 것이다.

상기한 바의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 다양한 형태의 단면을 가지는 본체가 직립된 상태로 설치되고, 상기 본체의 하부에는 오염 개스의 유입을 위한 덕트와 팬이 각각 설치되며, 상기 본체의 상부에는 여과된 개스를 배출하기 위한 굴뚝이 설치되고, 상기 본체의 내부에 유입된 오염 개스를 여과하기 위한 접촉여재(PALL-RING)가 하부의 다공성 지지판에 올려져 설치되며, 상기 접촉여재의 상부에 다수의 분사노즐을 갖는 세정수 공급관이 횡방향으로 설치되고, 상기 분사노즐에 세정수를 공급할 수 있도록 상기 본체 하부에 세정수를 모아두는 저장조와 이 저장조에 연결된 세정수 공급 펌프가 각각 설치되며, 상기 세정수 공급관의 상 부에 세정수로 여과된 개스의 미세 수분을 제거할 수 있도록 된 데미스터가 하부의 다공성 지지판에 올려져 설치된 습식 집진장치에 있어서, 상기 덕트의 상부에 상승하는 오염 개스가 접촉됨과 더불어 균등하게 분배된 상태로 여과되게 하는 삿갓형의 분할판이 일정간격을 두고 다수 배치되며, 상기 분할판의 상부쪽 판면에 오염 개스가 통과할 수 있도록 된 슬릿형의 개스 통로가 일정간격을 두고 다수 돌출형성되고, 상기 개스 통로의 상부에 지지대가 형성된 캡이 개스 통로와 일정간격을 두고 고정설치된 구조이다.

그리고, 상기 분할판과 접촉여재의 사이 공간에 다수의 보조 분사노즐이 설치된 보조 세정수 공급관이 설치되어 분할판을 통과하여 상승하는 오염 개스에 세정수를 1차적으로 분사할 수 있도록 된 구조이다.

또한, 상기 본체가 원형 단면을 이룰때 상기 분할판이 중앙부를 중심으로 방사선 형태로 배치되고, 상기 분할판의 중심부가 V자형의 오목한 상태를 이루면서 그 판면의 좌우측에 각각 개스 통로가 돌출형성됨과 더불어 개스 통로의 상부에 캡이 고정설치된 것이다.

즉, 상기의 구조로 이루어진 균등접촉식 습식 집진장치는 오염 개스의 풍량을 균등하게 조절하여 오염 개스를 본체 내부로 유입시키고, 이 상태에서 상승하는 오염 개스가 상기 분할판에 충돌 접촉후 균등하게 분배되는 바, 상기 균등접촉식 습식 집진장치의 전체 단면적에 균등하게 오염 개스가 분할되고, 이렇게 분할된 오염 개스에 세정수가 공급된 상태에서 상기 접촉여재에 균등하게 접촉되어 상승할 수 있도록 된 것이다.

따라서, 장치 내부로 유입되는 오염 개스를 균등하게 분산시켜 접촉여재에 접촉시킴으로써 오염 개스를 효율적으로 여과시켜 외부로 배출시키고, 집진장치를 이루는 각종 장비의 잦은 세척이나 교체를 방지함으로써 장비의 성능을 향상시킴과 더불어 그 유지비용을 절감시키며, 장비의 여과 성능이 향상됨에 따라 보다 효과적으로 오염 개스에 의한 환경 오염을 방지할 수 있는 것이다.

이하 본 발명을 첨부된 예시도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 균등접촉식 습식 집진장치를 도시한 상태도이고, 도 3은 본 발명에 따른 균등접촉식 습식 집진장치의 분할판을 도시한 사시도이며, 도 4는 본 발명에 따른 분할판의 개스 통로와 캡이 결합된 상태를 도시한 상태도이고, 도 5는 본 발명에 따른 분할판의 또다른 배치상태를 도시한 상태도이다.

오염 개스를 유입시켜 정화시킨 상태로 외부에 배출시킬 수 있도록 된 균등접촉식 습식 집진장치(1)의 구조는, 다양한 형태의 단면을 가지는 본체(2)가 직립된 상태로 설치되고, 상기 본체(2)의 하부에는 오염 개스의 유입을 위한 덕트(3)와 팬(4)이 각각 설치되며, 상기 본체(2)의 상부에는 여과된 개스를 배출하기 위한 굴뚝(5)이 설치되고, 상기 본체(2)의 내부에 유입된 오염 개스를 여과하기 위한 접촉여재(6)가 하부의 다공성 지지판(6a)에 올려져 설치되며, 상기 접촉여재(6)의 상부에 다수의 분사노즐(7)을 갖는 세정수 공급관(8)이 횡방향으로 설치되고, 상기 분사노즐(7)에 세정수를 공급할 수 있도록 상기 본체(2) 하부에 세정수를 모아두는 저장조(9)와 이 저장조(9)에 연결된 세정수 공급 펌프(10)가 각각 설치되며, 상기 세정수 공급관(8)의 상부에 세정수로 여과된 개스의 미세 수분을 제거할 수 있도록 된 데미스터(11)가 하부의 다공성 지지판(11a)에 올려져 설치되는 한편, 상기 덕트(3)의 상부에 상승하는 오염 개스가 접촉됨과 더불어 균등하게 분배된 상태로 여과되게 하는 삿갓형의 분할판(12)이 일정간격을 두고 다수 배치되며, 상기 분할판(12)의 상부쪽 판면에 오염 개스가 통과할 수 있도록 된 슬릿형의 개스 통로(13)가 일정간격을 두고 다수 돌출형성되고, 상기 개스 통로(13)의 상부에 지지대(14)가 형성된 캡(15)이 개스 통로(13)와 일정간격을 두고 고정설치된 것이다.

여기서, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)가 갖는 특징은 상기 본체(2)에 유입된 오염 개스를 균등하게 분배하여 상방향으로 유도할 수 있도록 된 것으로, 오염 개스가 본체(2) 내부로 유입되어 상기 분할판(12)의 개스 통로(13)를 통과하게 되는 바, 이 때 상기 개스 통로(13)의 상부에 설치된 캡(15)에 오염 개스가 접촉되면서 균등한 상태로 본체(2)의 상부쪽으로 전달되고, 또한 세정수의 분사에 의해 오염 개스에 함유된 각종 오염물질을 상기 분할판(12)의 표면장력을 이용하여 부착할 수 있도록 된 것이다.

다시말하자면, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)는 오염 개스의 풍량을 균등하게 조절하여 오염 개스를 본체(2) 내부로 유입시키고, 이 상태에서 상승하는 오염 개스가 상기 분할판(12)에 충돌 접촉후 균등하게 분배되는 바, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)의 전체 단면적에 균등하게 오염 개스가 분할되고, 이렇게 분할된 오염 개스에 세정수가 공급된 상태에서 상기 접촉여재(6)에 균등하게 접촉되어 상승할 수 있도록 된 것이다.

즉, 상기의 구조로 이루어진 균등접촉식 습식 집진장치(1)는 도 2에 도시된 바와 같이, 연소실 등을 통해 배출되는 오염 개스를 팬(4)을 이용하여 상기 덕트(3)로 본체(2) 내부에 유입시키고, 유입된 오염 개스는 상기 분할판(12)의 개스 통로(13)를 지나게 되며, 이 과정에서 상기 개스 통로(13)의 상부에 일정간격을 두고 설치된 캡(15)에 오염 개스가 충돌하면서 캡(15)과 개스 통로(13)의 사이 공간을 통해 오염 개스가 균등한 상태로 분배되고, 이렇게 분배된 오염 개스가 상방향으로 올라가게 되며, 이 때 상기 보조 세정수 공급관(16)에 장착된 다수의 보조 분사노즐(17)을 통하여 세정수를 분사함으로써 상기 분할판(12)을 통과하여 상승하는 오염 개스의 오염 물질을 세정수와 함께 분할판(12)에 접촉되도록 된 것이다.

그리고, 이렇게 1차적으로 여과된 개스가 균등한 상태로 상기 접촉여재(6)를 통과하게 되고, 그 다음으로는 상기 세정수 공급관(8)에 장착된 다수의 분사노즐(7)을 통하여 오염 개스내의 분진 등 이물질을 여과하기 위한 세정수가 분무되며, 이와 같이 세정수에 의해 분진 등을 여과한 개스는 상기 데미스터(11)를 통과하면서 개스 중에 남아 있는 미세 수분이 여과되고, 이렇게 여과된 개스가 상기 본체(2)의 상부에 설치된 굴뚝(5)을 통하여 대기중에 배출되는 것이다.

한편, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)에 설치된 분할판(12)은 도 3과 도 4에 도시된 바와 같이, 삿갓형을 이루는 한쌍의 분할판(12)이 일정간격을 두고 다수 설치되되, 상기 분할판(12)의 상부면에 일정길이를 갖는 슬릿형의 개스 통로(13)가 돌출된 상태로 형성되고, 상기 개스 통로(13)의 상부에 지지대(14)가 형성된 캡(15)이 개스 통로(13)와 일정간격을 두고 고정설치되어, 상기 개스 통로(13)와 캡(15)이 이루는 공간을 통하여 오염 개스가 분할판(12)과 접촉되면서 균등한 상태로 분배되어 상승하게 되는 것이다.

그리고, 상기 분할판(12)의 상부에서 보조 분사노즐(17)을 통해 세정수를 분할판(12)과 개스 통로(13)의 캡(15)에 분사함으로써 분할판(12)에 접촉되지 않은 오염 개스의 오염 물질을 세정수와 함께 접촉시키고, 상기 캡(15)이 개스 통로(13)의 테두리 위에 일정간격을 두고 설치됨으로써 캡(15)의 지지대(14)가 분할판(12)을 흐르는 세정수의 흐름을 방해하지 않도록 된 것이다.

또한, 상기 분할판(12)의 또다른 실시예는 도 5와 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)의 본체(2)가 원형 단면을 이룰때 상기 분할판(12)이 중앙부를 중심으로 방사선 형태로 배치되고, 상기 분할판(12)의 중심부가 V자형의 오목한 상태를 이루면서 그 판면의 좌우측에 각각 개스 통로(13)가 돌출형성됨과 더불어 개스 통로(13)의 상부에 캡(15)이 일정간격을 두고 고정설치되도록 된 것이다.

따라서, 상기 균등접촉식 습식 집진장치(1)에 설치된 분할판(12)에 의해 표면접촉과 공간접촉 등이 일어남으로써 유입된 오염 개스의 오염물질이 포집되고, 이로인해 대기오염 방지를 보다 효율적이고 안정적으로 수행할 수 있는 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 균등접촉식 습식 집진장치에 의하면, 장치 내부로 유입되는 오염 개스를 균등하게 분산시켜 접촉여재에 접촉시킴으로써 오염 개스를 효율적으로 여과시켜 외부로 배출시키고, 집진장치를 이루는 각종 장비의 잦은 세척이나 교체를 방지함으로써 장비의 성능을 향상시킴과 더불어 그 유지비용을 절감시키며, 장비의 여과 성능이 향상됨에 따라 보다 효과적으로 오염 개스에 의한 환경 오염을 방지할 수 있는 효과가 있는 것이다.

Claims

다양한 형태의 단면을 가지는 본체(2)가 직립된 상태로 설치되고, 상기 본체(2)의 하부에는 오염 개스의 유입을 위한 덕트(3)와 팬(4)이 각각 설치되며, 상기 본체(2)의 상부에는 여과된 개스를 배출하기 위한 굴뚝(5)이 설치되고, 상기 본체(2)의 내부에 유입된 오염 개스를 여과하기 위한 접촉여재(6)가 하부의 다공성 지지판(6a)에 올려져 설치되며, 상기 접촉여재(6)의 상부에 다수의 분사노즐(7)을 갖는 세정수 공급관(8)이 횡방향으로 설치되고, 상기 분사노즐(7)에 세정수를 공급할 수 있도록 상기 본체(2) 하부에 세정수를 모아두는 저장조(9)와 이 저장조(9)에 연결된 세정수 공급 펌프(10)가 각각 설치되며, 상기 세정수 공급관(8)의 상부에 세정수로 여과된 개스의 미세 수분을 제거할 수 있도록 된 데미스터(11)가 하부의 다공성 지지판(11a)에 올려져 설치된 습식 집진장치에 있어서,

상기 덕트(3)의 상부에 상승하는 오염 개스가 접촉됨과 더불어 균등하게 분배된 상태로 여과되게 하는 삿갓형의 분할판(12)이 일정간격을 두고 다수 배치되며, 상기 분할판(12)의 상부쪽 판면에 오염 개스가 통과할 수 있도록 된 슬릿형의 개스 통로(13)가 일정간격을 두고 다수 돌출형성되고, 상기 개스 통로(13)의 상부에 지지대(14)가 형성된 캡(15)이 개스 통로(13)와 일정간격을 두고 고정설치된 것을 특징으로 하는 균등접촉식 습식 집진장치.
제 1 항에 있어서, 상기 분할판(12)과 접촉여재(6)의 사이 공간에 다수의 보 조 분사노즐(17)이 설치된 보조 세정수 공급관(16)이 설치되어 분할판(12)을 통과하여 상승하는 오염 개스에 세정수를 1차적으로 분사할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 균등접촉식 습식 집진장치.
제 1 항에 있어서, 상기 본체(2)가 원형 단면을 이룰때 상기 분할판(12)이 중앙부를 중심으로 방사선 형태로 배치되고, 상기 분할판(12)의 중심부가 V자형의 오목한 상태를 이루면서 그 판면의 좌우측에 각각 개스 통로(13)가 돌출형성됨과 더불어 개스 통로(13)의 상부에 캡(15)이 고정설치된 것을 특징으로 하는 균등접촉식 습식 집진장치.