KR100614820B1 - 연결을 함유하는 반응성 염료 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 반응성 디스아조 염료는 하기 화학식 I의 염료 또는 이것의 설폰산 염이다:
화학식 I
D1-Y-D2
상기 식 중,
각각의 D1 및 D2는 독립적으로 하기 화학식 II의 발색단이고
화학식 II
[여기서, X는 불소, 염소 또는 임의 치환된 피리디늄이고, SO3H는 나프탈렌 핵의 5- 또는 6-위치에 존재하며, n은 0 또는 1임],
여기서 Z은 N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자를 임의로 더 함유하고 C1-4알킬 및 SO3H(또는 이것의 염) 중 1개 이상으로 임의 치환된 C5-12 지방족 또는 방향족 시클릭 탄화수소기이거나, 또는
상기 시클릭 탄화수소기 2개 이상이 함께 연결된 것이거나, 또는
C1-15 알킬렌 또는 C2-15 알케닐렌 사슬로서,
이 사슬은
(a) (1) N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자 및 (2) 1개 이상의 C5-12 지방족 또는 방향족 시클릭 탄화수소기 중 하나 이상이 삽입되거나 또는 말단화되도록 이들을 임의로 더 함유하는데, 이 시클릭 탄화수소 기는 N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자를 임의로 더 함유하고, C1-4 알킬 및 SO3H(또는 이것의 염) 중 하나 이상으로 임의 치환되며,
(b) C1-4 알킬, 히드록시-C1-4 알킬, 아미노-C1-4 알킬, 히드록실, 카르복실 또는 아미노로 임의 치환되며, 상기 아미노 기 또는 아미노 부분은 1개 또는 2개의 C1-4 알킬기에 의해 임의 치환되거나, 또는 (i) R1, R2 및 R3 중 하나(아래에서 정의됨)와, (ii) R1, R2 또는 R3 가 부착되어 있는 질소 원자와, 그리고 (iii) 상기 질소 원자와 치환기 사이에 사슬 길이 Z과 함께 헤테로시클릭 기를 형성하는 특정 치환기에 의해 임의 치환되며,
각각의 R1, R2 및 R3는 독립적으로 C1-4 알킬, 히드록시-C1-4 알킬 또는 아미노-C1-4 알킬 기이거나, 또는 R1와 R2 각각이 이들이 결합되어 있는 각각의 질소 원자 및 이들 사이의 사슬 Z과 함께 헤테로시클릭 기를 형성하거나, 또는 (앞에서 정의한 바와 같이) 각각의 R1, R2 및 R3 중 하나가 (i) 이것이 결합되어 있는 질소 원자와, (ii) 사슬 Z 위의 상기 치환기와, (iii) 상기 질소 원자와 상기 치환기 사이의 상기 사슬 길이와 함께 헤테로시클릭 기를 형성하고,
Y는
Description
본 발명은 발색단에 결합되어 있는 각각의 트리아지닐 아미노기들 사이에 연결기를 갖는 반응성 염료에 관한 것이다.
GB-A-1283771 및 EP-A-0625551은 각각 일반적인 범위의 하기 화학식 A의 반응성 염료들을 개시하고 있다.
상기 식 중, D는 발색단(GB-1-1283771에서, D는 구체적으로, 3개 이상의 설폰산기를 함유하는 나프틸아조-페닐렌 또는 나프틸아조-나프탈렌이고, EP-A-0625551에서, D는 광범위한 발색단 중 임의의 것임)이고, R은 H 또는 임의 치환된 C1-4 알킬기이며, X는 구체적으로 연결기로서, GB-A-0625551에서, X는 페닐렌, 디페닐렌 및 나프탈렌 핵 중에서 선택된 방향족기이며, EP-A-0625551에서, X는 지방족 연결기이고, 상기 기 -NHXNH-는 수용 트리아진 핵들 사이에 연결기를 형성한다. GB-A-1283771의 염료는 광범위한 액체 대 상품 비에 걸쳐 일정한 고착비를 제공하며 매우 우수한 내광성 색조를 제공하는 한편, EP-A-062551의 염료는 우수한 견뢰 도 및 부착성(build-up)을 보여준다.
JP-1-62-172062는 발색단들이 하기 특정 기에 의해 연결되어 있는 광범위한 색소를 개시한다.
상기 식 중, Y는 수소, 할로겐 또는 알킬이고, Z은 반응성 기인 -CH=CH2 또는 -CH2CH2OSO3H이다.
개시된 많은 염료들의 예 중 하나는 하기 화학식을 갖는다.
본 양수인의 WO-A-99/05224에서는, 브릿지기가 아미노알킬 피페라진으로부터 유도되는 일정 범위의 염료를 기재하고 있다. 이들 염료는 하기 화학식 B를 갖는다.
상기 식 중, 각각의 R1, R2, R3 및 R4는 독립적으로 H 또는 임의 치환된 알킬 기이고,
각각의 X1 및 X2는 독립적으로 불안정한 원자 또는 불안정한 기이며,
각각의 x 및 y는 독립적으로 0 또는 1로서, x와 y 중 하나 이상이 1이고,
각각의 a 및 b는 독립적으로 2 내지 5이며,
z은 0 또는 1 내지 4이고,
x 및 y가 각각 1인 경우, a > b이며,
R5 또는 R5 각각은 독립적으로 알킬이고,
각각의 D1 및 D2는 독립적으로 모노아조 또는 폴리아조 발색단이거나, 또는 이들의 금속화된 유도체이다.
본 발명자는 놀랍게도 상기 화학식 A의 염료에서 발색단 D가 아래 정의한 특정의 디아조 염료이면, 이 염료는 특히 셀룰로오스계 재료의 이그조스트(exhaust) 염색에 사용되는 경우 탁월한 전반적인 견뢰성 및 부착성과, 바람직한 이그조스트 온도가 80℃ 또는 바람직하게는 그 이상인 기타 염료와 혼화성을 보일 수 있다.
따라서, 본 발명의 한 특징에 의하면, 하기 화학식 I의 염료 또는 이 염료의 설폰산 염이 제공된다:
상기 식 중,
각의 D1 및 D2는 독립적으로 하기 화학식의 발색단이고
[여기서, X는 불소, 염소 또는 임의 치환된 피리디늄이고, SO3H는 나프탈렌 핵의 5- 또는 6-위치(6-위치가 바람직함)에 존재하며, n은 0 또는 1(1이 바람직함)임],
여기서 Z은 N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자를 임의로 더 함유하고 C1-4알킬 및 SO3H(또는 이것의 염) 중 1개 이상으로 임의 치환된 C5-12
지방족 또는 방향족 시클릭 탄화수소기이거나, 또는
상기 시클릭 탄화수소기 2개 이상이 함께 연결된 것이거나, 또는
C1-15 알킬렌 또는 C2-15 알케닐렌 사슬로서,
이 사슬은
(a) (1) N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자 및 (2) 1개 이상의 C5-12 지방족 또는 방향족 시클릭 탄화수소기 중 하나 이상이 삽입되거나 또는 말 단화되도록 이들을 임의로 더 함유하는데, 이 시클릭 탄화수소 기는 N, O 및 S 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자를 임의로 더 함유하고, C1-4 알킬 및 SO3H(또는 이것의 염)중 하나 이상으로 임의 치환되며,
(b) C1-4 알킬, 히드록시-C1-4 알킬, 아미노-C1-4 알킬, 히드록실, 카르복실 또는 아미노로 임의 치환되며, 상기 아미노 기 또는 아미노 부분은 1 또는 2개의 C1-4 알킬기에 의해 임의 치환되거나, 또는 (i) R1, R2 및 R3 중 하나(아래에서 정의됨)와, (ii) R1, R2 또는 R3 가 부착되어 있는 질소 원자와, 그리고 (iii) 상기 질소 원자와 치환기 사이의 사슬 길이 Z과 함께 헤테로시클릭 기를 형성하는 특정 치환기에 의해 임의 치환되며,
각각의 R1, R2 및 R3는 독립적으로 C1-4 알킬, 히드록시-C
1-4 알킬 또는 아미노-C1-4 알킬 기이거나, 또는 R1 및 R2 각각이 이들이 결합되어 있는 각각의 질소 원자 및 이들 사이의 사슬 Z과 함께 헤테로시클릭 기를 형성하거나, 또는 (앞에서 정의한 바와 같이) 각각의 R1, R2 및 R3 중 하나가 (i) 이것이 결합되어 있는 질소 원자와, (ii) 사슬 Z 위의 상기 치환기와, (iii) 상기 질소 원자와 상기 치환기 사이의 상기 사슬 길이와 함께 헤테로시클릭 기를 형성하고,
X가 치환된 피리디늄인 경우, 바람직한 치환체는 3-카르복실, 3-카르본아미도 및 4-카르복실이다.
바람직한 한 범위의 염료에서, Z은 C1-4 알킬, 히드록시 및 카르복실 중에서 선택된 1개 이상의 기로 임의 치환된 C1-10
알킬렌 사슬이다. 이 사슬은 어떠한 헤테로 원자도 함유하지 않을 수 있거나 또는 O 및 N 중에서 선택된 1개 이상의 헤테로 원자를 추가로 함유할 수 있다. 이 사슬은 비치환 또는 메틸, 히드록시 및 카르복실 중에서 선택된 1개 이상의 기로 치환된 C2-8 알킬렌 사슬인 것이 더욱 바람직하다. 하기 화학식의 사슬이 보다 더 바람직하다.
[CH2]x
상기 식 중, x는 2 또는 3으로서, 이 알킬렌 사슬은 비치환 또는 1개 또는 2개의 메틸기 또는 히드록시 또는 카르복실 기로 치환된 것이며, 각각의 R1, R2 및 R3는 독립적으로 수소, C1-4 알킬 및 히드록시에틸 중에서 선택된다.
Z이 C1-4 알킬, 히드록시 및 카르복실 중 1개 이상으로 임의 치환된 C1-10 알킬 렌 사슬인 Y 기의 예로는 NHC2H4NH; NHC3H6NH; NHC4H
8NH; NHC5H10NH; HNC6H12NH; HNC8H16NH; HNC2H4N(CH3); HNC3H6
N(CH3); HNC2H4N(C2H4OH); HNC2H
4N(C3H6OH); HNC3H6N(C2H4OH); HNC2H4N(C2H
5); HNC2H4N(n-C3H7); HNC3H6N(C
2H5); HNC3H6N(n-C3H7); (H3C)NC2H4N(CH3); (H3C)NC3H6
N(CH3); (H3C)NC2H4N(C2H5); NHC
2H4NH[CH(CH3)2]; (H5C2)NC2H4N(C2H5); NHC2H
4NH[CH(CH3)(C2H5)]; NHC2H4N(n-C4
H9); NHC2H4NH[CH2CH(CH3)(OH)]; NHCH(CH3)CH2NH; HNC(CH3)2CH2NH; NHCH2CH(OH)CH2NH; NHCH2C(CH3)2CH2NH; NHCH(C2H5)CH2
NH; NHCH2CH(CH3)C3H6NH; NHCH2CH(CH3
)N[CH(CH3)2]; NHCH2C(CH3)2CH[CH(CH3)2]NH; NHC2H
4S 및 NHCH(CO2H)CH2S가 있다.
Z이 헤테로 원자를 더 함유하는 C1-10 알킬렌 사슬인 Y 기의 예로는 NHC3H6N(CH3)C3H6NH; NHC2H4OC
2H4OC2H4NH; 및 HNC2H4OC2H
4NH가 있다.
C1-10 알킬렌 사슬 Z은 지방족 또는 방향족 고리 구조를 더 함유할 수 있으며, Z가 이러한 사슬인 Y 기의 예는 다음과 같다:
Z이 C1-10 알킬렌 사슬인 Y 기의 특히 바람직한 예는 NHC2H4NH; NHC3
H6NH; NHCH(CH3)CH2NH; NHC2H4N(CH3); NHC3H
6N(CH3); NHCH2CH(OH)CH2NH; NHC2H4N(C
2H4OH); NHC(CH3)2CH2NH; NHC3H6N(C2H4
OH); NHC2H4S; NHC2H4N(C2H5), N(CH3)C2H4N(CH3); NHC3H6N(C3H7); N(C2H4OH)C2H
4N(C2H4OH); NHCH(CO2H)CH2S; N[CH(CH3)
2]CH(CH3)CH2NH; HNC6H12NH; HNC3H6N(CH3)C3H6NH; HNC2H4OC2H4NH; 및 HNC2H4OC2H
4OC2H4NH가 있다.
또 다른 바람직한 염료 범위에서, Z는 설폰산 기 또는 1개 이상의 메틸기(들)에 의해 임의 치환된 페닐렌 기이다. Z가 페닐렌기인 Y 기의 예는 하기 화합물 들,
또 다른 바람직한 범위의 염료에서, Z은 C1-15 알킬렌 사슬이며, 이는 (i) R1, R2 및 R3 중 하나와, (ii) R1, R2 또는 R3 가 부착되어 있는 질소 원자와, 그리고 (iii) 상기 질소 원자와 치환기 사이의 사슬 길이 Z과 함께 헤테로시클릭 기를 형성하는 치환기, 바람직하게는 C1-10 알킬렌 기로 치환된다. 상기 C1-15 알킬렌 사슬은 치환기를 운반하는 질소 원자가 삽입되어 있는 것, 예컨대 Y가 이미노-C1-14 알킬피페라지닐 기인 경우 더욱 바람직하다. Z 기가 이러한 방식으로 형성된 헤테로시클릭 기를 포함하는 Y의 예로는 와 이 있다.
또 다른 바람직한 범위의 염료에서, R1과 R2는 각각 이들이 결합되어 있는 각각의 질소 원자 및 이들 사이의 사슬 Z과 함께 헤테로시클릭 기, 더욱 바람직하게는 피페라진 기를 형성한다.
앞에서 정의된 전술한 화학식 I의 염료는 본 발명의 방법상의 특징에 따라 제조될 수 있는데, 이 방법은 하기 화학식 II의 1종 이상의 반응성 디스아조 염료를 디아민 또는 하기 화학식 III 또는 IV의 티오아민과 7 내지 10의 pH에서, 디아민 또는 상기 화학식 III 또는 IV의 티오아민 1 몰당 상기 화학식 II의 반응성 디스아조 염료 2몰의 비례량으로 반응시키는 것을 포함한다:
상기 식 중, X 및 n은 앞에서 정의한 바와 같고, X1은 불소, 염소 또는 임의 치환된 피리디늄기이다.
상기 식들 중, R1, R2, R3 및 Z은 앞에서 정의한 바와 같다.
반응은 1 내지 12 시간동안 수행할 수 있다.
상기 화학식 II의 반응성 디스아조 염료는 하기 화학식 V의 디스아조 염료를 하기 화학식의 트리아진과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
트리아진
상기 식 중, 각각의 X, X1 및 X2는 독립적으로 염소, 불소 또는 임의 치환된 피리디늄이다.
화학식 V의 디스아조 염료는, 먼저 4-아세틸아미노-2-아미노벤젠 설폰산을 디아조화하여 산성 조건(pH 2)에서 하기 화학식의 히드록시나프틸아민상에서 커플링시킨 뒤, 2-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산을 디아조화하여 중성 조건(pH 7)에서 상기 히드록시나프틸아민상에서 커플링시킴으로써 제조될 수 있다. 이후, 아조 연결에 대한 메타 위치의 아미노기의 아세틸 보호기를 제거하여 상기 화학식 V의 디 스아조 염료를 얻는다.
히드록시나프틸아민
본 명세서에서는 염료 화학식들을 그들의 유리산 형태로 제시하였지만, 본 발명은 또한 염 형태, 특히 알칼리 금속과의 염(예, 칼륨, 나트륨, 리튬 또는 혼합 나트륨/리튬 염) 형태의 염료 및 이러한 형태의 염을 사용하는 방법을 포함한다.
염료는 염색, 날염 또는 잉크-제트 인쇄, 예컨대 직물 재료 및 종이의 염색, 날염 또는 잉크-제트 인쇄에 사용될 수 있다.
채색 공정은 pH 7.1 내지 13에서 수행되는 것이 바람직하며, 10 내지 12에서 수행되는 것이 더욱 바람직하다. pH 7 이상의 수준은 산-결합제 존재하에서 착색 공정을 수행함으로써 얻어질 수 있다.
기재는 직물 재료, 피혁, 종이, 헤어 또는 필름 중 어느 것도 가능하나, 아미노 또는 히드록실 기를 함유하는 천연 또는 인공 직물 재료, 예컨대 울, 실크, 폴리아미드 및 변성 폴리아크릴로니트릴 섬유와 같은 직물 재료가 바람직하며, 셀룰로오즈계 직물 재료, 특히 면, 비스코스 및 재생 셀룰로오스(예, Tencel로 시판하는 제품)가 보다 바람직하다. 이를 위해서는, 염료를 pH 7 이상에서 직물 재료에 도포할 수 있는데, 예컨대 이그조스트 염색법, 패딩법 또는 날염법을 사용한다. 직물 재료는 연한 색조로 착색되고 광선 및 습식 처리(예, 세탁)에 대해 우수한 견뢰 도를 지닌다.
상기 신규의 염료는 셀룰로오스계 직물 재료의 착색에 특히 유용하다. 이를 위해서는, 상기 염료를 산-결합제 처리와 병용하여 pH 7 이상에서 셀룰로오스계 직물 재료에 도포하는 것이 바람직하다.
바람직한 산-결합제는 알칼리 금속 탄산염, 중탄산염, 수산화물, 메타실리케이트 및 이들의 혼합물, 예컨대 중탄산나트륨, 탄산나트륨, 나트륨 메타실리케이트, 수산화나트륨, 중탄산칼륨, 탄산칼륨, 칼륨 메타실리케이트, 및 수산화칼륨을 들 수 있다. 이 염료는 탁월한 부착성 및 높은 정착성이 있어 유리하다.
적어도 셀룰로오스계 재료에 대해서는, 80 내지 105℃, 바람직하게는 85 내지 95℃, 더욱 바람직하게는 약 90℃, 즉 약 80℃의 온도에서 일반적으로 염색되는 종래의 모노클로로트리아진 이그조스트 염료를 사용하여 수행되는 염색에 비해 다소 높은 온도에서, 염색을 수행할 수 있다. 이 온도에서 조작하는 경우, 특히 개선된 이염성(移染性)이 얻어진다.
본 발명의 신규의 염료는 중성 내지 약알칼리성 염욕으로부터 아민기를 함유하는 직물 재료, 예컨대 울 및 폴리아미드 직물 재료에 도포될 수 있다. 염색 공정은 일정한 또는 실질적으로 일정한 pH, 다시 말하면 염색 공정동안 염욕의 pH를 일정하게 또는 실질적으로 일정하게 유지하거나 또는 필요에 따라 염색조의 pH를 염색 공정의 어느 단계에서도 변경시킬 수 있는 상태에서 수행될 수 있다.
염료는 액체 또는 고체 형태, 예컨대 과립 또는 분말 형태일 수 있다.
본 발명자들은 놀랍게도 상기 염료가 다음과 같은 유리한 성질을 제공한다는 것을 발견하였다:
(a) 우수한 전반적인 견뢰도,
(b) 의외로 우수한 부착성, 특히 90℃의 염색 온도에서,
(c) 매우 강한 염색성,
(d) 염색 조건, 특히 온도, pH 및 구체적으로 염욕 액제 대 기제의 비의 변화에 대한 의외로 우수한 견고성(robustness), 이는 전반적으로 탁월한 색조 재현성을 제공함,
(e) 우수한 세탁성,
(f) 우수한 정착성,
(g) 우수한 수성 용해도, 및
(h) 이러한 타입의 기타 염료와의 우수한 혼화성.
본 발명의 특히 바람직한 실시 형태는 하기한 실시예를 참조로 더욱 상세히 기술된다. 실시예에서 모든 부 및 %는 특별한 언급이 없는한 중량을 기준한 것이다. 임의의 단일 염료를 사용한 제법 및 염색법이 예시되었으나, 염료 혼합물로 염색하는 경우, 특별한 잇점을 보일 수도 있다.
실시예 1
나트륨 4-아세틸아미노-2-아미노벤젠설포네이트(0.75 몰) 및 아질산나트륨(390 ㎖, 2 N)의 수용액을 교반된 얼음(1 ㎏) 함유 농축 염산(150 ㎖)에 온도를 5℃ 미만으로 유지하면서 30 분간 첨가하였다. 과량의 아질산염을 10% 설팜산 용액으로 분해하였다. H-산의 나트륨 염의 수용액(600 ㎖ 중의 0.5 몰)을 잘 교반한 디아조늄염 용액에 pH 2와 5℃ 미만에서 45 분간 서서히 첨가하였다. 혼합물을 2 시간 동안 5℃ 미만에서 교반한 후, 하룻밤동안 실온으로 가온시켰다. 하기 화학식의 중간체 (A)를 선별하여 40℃에서 축축한 페이스트로 건조시켰다.
(B) T = 아세틸
(C) T = H
(D) T = 2,4-디클로로-1,2,5-트리아진-6-일
Ac = 아실
나트륨 2-아미노나프탈렌-1,5-디설포네이트(200 ㎖ 물 중의 0.12 몰) 및 아질산나트륨(60 ㎖, 2 N)의 수용액을 교반된 얼음(200 g) 함유 농축 염산(30 ㎖)에 온도를 5℃ 미만으로 유지하면서 30 분간 첨가하였다. 과량의 아질산염을 10% 설팜산 용액으로 분해할 때 추가로 30 분간 교반하였다. 물(800 ㎖) 중의 중간체 (A)(약 0.1 몰)를 충분히 농축된 NaOH 용액으로 처리하여 용액 상태를 확보하고 5℃ 미만으로 냉각시켰다. 이것을 5℃ 미만에서 꾸준한 스트림으로 디아조늄 용액에 첨가하고 그 용액을 실온으로 가온하면서 하룻밤 교반하였다. 그 용액을 여과하고, 여과액을 농축한 뒤 메틸화 주정으로 처리하여 중간체 (B)를 침전시켰다. 이것을 물 에 재용해하고 재침전시킴으로써 정제할 수 있다.
55℃에서 2.5 시간동안 수용액 상태의 KOH(112 g)를 사용하여 가수분해시킴으로써 중간체 (B)로부터 보호용 아세틸기를 제거하였다. 알칼리 용액을 염산으로 중화시키고 농축하여 탈아세틸화 중간체 (C)의 연속적인 분획을 얻었다. 이것(0.262 몰)을 물(600 ㎖)에 용해하고 5℃ 미만으로 냉각시킨 후, 아세톤 중에 용해된 과량의 염화시아누르산(5.08 g, 0.0275 몰)으로 처리하였다. 잘 교반한 혼합물을 2 시간동안 pH 6 내지 6.5에서 유지한 후, 불용물을 여과 제거하였다. 여과액(0.0131 몰의 염료 (D)를 함유)을 에틸렌디아민(0.4 g, 0.00655 몰)과 하룻밤 pH 10에서 교반하였다. 그 후, pH를 7로 조절하고 반응 혼합물을 농축하였다. 메틸화된 주정을 첨가하면 청색 분말 상태의 생성물(하기 화학식 1)이 침전하였다. 이것을 투석법으로 정제할 수 있다. 표 1로 알 수 있는 바와 같이, 이것은 λmax = 616 ㎚, εmax = 86500, 1/2-밴드 폭(HBW) = 117 ㎚이고, 코튼을 탁월한 전반적인 견뢰성을 지니면서, 녹색을 띤 네이브 블루로 염색하였다.
실시예 2 내지 30
실시예 1의 에틸렌디아민을 대안의 디아민 또는 메르캅토알킬아민, LH2로 대체함으로써, 하기 표 1에 수록한 바와 같이 연결기 L의 성질이 다른 상기 (1)의 동족체 또한 제조하였다.
실시예 번호 | 구조(1)의 L | 코튼상의 색조 | λmax ㎚ | εmax | HBW ㎚ |
1 | NHC2H4NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 86,500 | 117 |
2 | 1,3-NHC6H4NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 83,200 | 123 |
3 | 녹색을 띤 네이비블루 | 613 | 91,000 | 117 | |
4 | NHC3H6NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 617 | 91,100 | 116 |
5 | NHCH(Me)CH2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 615 | 88,900 | 114 |
6 | NHC2H4N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 82,700 | 117 |
7 | NHC3H6N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 100,200 | 112 |
8 | NHCH2CH(OH)CH2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 91,500 | 114 |
9 | 1,4-NHC6H4N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 |
실시예 번호 | 구조(1)의 L | 코튼상의 색조 | λmax ㎚ | εmax | HBW ㎚ |
10 | 1,4-NHC6H4CH2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 88,200 | 109 |
11 | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 83,900 | 117 | |
12 | NHC2H4N(C2H4OH) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 89,900 | 116 |
13 | NHC(Me)2CH2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
14 | NHC3H6N(C2H4OH) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 89,600 | 113 |
15 | NHC2H4S | 녹색을 띤 네이비블루 | 615 | 90,100 | 123 |
16 | 1,3-NHC6H4CH2N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
17 | NHC6H12NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
18 | NHC2H4N(C2H5) | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
19 | NHC3H6N(Me)C3H6NH | 녹색을 띤 네이비블루 | 622 | 108,400 | 110 |
20 | 녹색을 띤 네이비블루 |
실시예 번호 | 구조(1)의 L | 코튼상의 색조 | λmax ㎚ | εmax | HBW ㎚ |
21 | 1,4-NHC6H4NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
22 | N(Me)C2H4N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
23 | NHC2H4OC2H4NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
24 | 녹색을 띤 네이비블루 | ||||
25 | NHC3H6N(C3H7) | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
26 | N(C2H4OH)C2H4N(C2H4OH) | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
27 | NHC2H4(OC2H4)2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
28 | 녹색을 띤 네이비블루 | ||||
29 | NHCH(CO2H)CH2S | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
30 | N(i-Pr)CH(Me)CH2NH | 녹색을 띤 네이비블루 | |||
31 | (Et)NC2H4N(Me) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 104,700 | 113 |
32 | HNC2H4N(C3H7) | 녹색을 띤 네이비블루 | 616 | 99,900 | 113 |
실시예 33 내지 62
실시예 1 내지 32에서 제조된 각각의 염료를 90℃에서 액제:제품 비 10:1로 여 및 소다회의 존재하에서 이그조스트 염색법으로 코튼에 도포하였다. 각 경우, 염료는 탁월한 부착성, 매우 높은 정착 효율 및 우수한 전반적인 견뢰성을 갖는 것으로 밝혀졌다.
Claims (30)
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- 하기 화학식 II의 1종 이상의 반응성 디스아조 염료를 하기 화학식 IIIa의 디아민과 7 내지 10의 pH에서, 디아민 IIIa 1 몰당 상기 화학식 II의 반응성 디스아조 염료 2몰의 비례량으로 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 I의 염료 또는 이 염료의 설폰산 염의 제조 방법:화학식 ID1-Y-D2화학식 IIa화학식 II화학식 IIIa상기 식 I, IIa, II 및 IIIa 중,각각의 D1 및 D2는 독립적으로 상기 화학식 IIa의 발색단이고X 및 X1은 불소, 염소 또는 임의 치환된 피리디늄기이고, SO3H는 나프탈렌 핵의 5- 또는 6-위치에 존재하며, n은 0 또는 1이고,
- 제1항에 따른 염료를 pH 7 이상에서 기재에 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기재의 착색 방법.
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