KR100599974B1 - Voltage reference generator - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생기는, 서로 다른 온도 계수를 갖는 적어도 두 개 이상의 밴드갭 기준전압 발생수단과, 다수의 밴드갭 기준전압 발생수단으로부터 출력된 기준 전압들을 평균하여 기준전압을 출력하는 평균 수단을 포함하여, 바이폴라 트랜지스터의 영향을 받지 않고 온도 특성이 향상된 기준 전압을 발생할 수 있다.The reference voltage generator of the semiconductor memory device according to the present invention may generate a reference voltage by averaging at least two bandgap reference voltage generating means having different temperature coefficients and reference voltages output from the plurality of bandgap reference voltage generating means. Including a means for outputting, it is possible to generate a reference voltage with improved temperature characteristics without being affected by the bipolar transistor.
Description
도 1은 일반적인 밴드갭 기준전압 발생기의 상세 회로를 나타낸 회로도.1 is a circuit diagram showing a detailed circuit of a typical bandgap reference voltage generator.
도 2는 도 1에 도시된 기준전압 발생기에서 출력된 기준전압의 온도에 대한 관계를 나타낸 그래프.FIG. 2 is a graph showing a relationship of temperature of a reference voltage output from the reference voltage generator shown in FIG. 1.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생기의 개념을 나타낸 블록도.3 is a block diagram illustrating a concept of a reference voltage generator of a semiconductor memory device according to the present invention.
도 4는 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 동작을 나타낸 기준전압의 온도에 대한 관계를 나타낸 그래프.4 is a graph showing a relationship of temperature of a reference voltage showing an operation of the reference voltage generator shown in FIG. 3;
도 5는 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 일실시예의 상세 회로를 나타낸 회로도.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a detailed circuit of an embodiment of the reference voltage generator shown in FIG. 3.
도 6은 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 다른 실시예의 상세 회로를 나타낸 회로도.6 is a circuit diagram illustrating a detailed circuit of another embodiment of the reference voltage generator shown in FIG.
본 발명은 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생 회로에 관한 것으로, 보다 상세하게는 두 개의 기준 전압 발생 회로의 출력 값을 평균 회로를 사용하여 평균 하여 바이폴라 트랜지스터의 영향을 받지 않고 온도 특성이 향상된 기준 전압을 발생하는 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a reference voltage generator circuit of a semiconductor memory device. More particularly, the output voltages of two reference voltage generator circuits are averaged using an average circuit to obtain a reference voltage having an improved temperature characteristic without being influenced by a bipolar transistor. A reference voltage generator circuit for generating a semiconductor memory device.
일반적으로 기준 전압 발생기(voltage reference generator)는 온도나 외부 전압 변동에 대해 안정하게 일정한 전압을 공급하는 회로로써, 일정한 값 이하의 온도 계수를 가져야 한다. In general, a voltage reference generator is a circuit that supplies a constant voltage stably against temperature or external voltage fluctuations, and should have a temperature coefficient below a constant value.
밴드갭(band-gap) 기준전압 발생기는 일정한 온도 계수를 갖는 제1 회로와, 그 제1 회로와 반대 부호의 온도 계수를 갖는 제2 회로를 설계하여, 제2 회로의 출력에는 온도와 무관한 비례 계수(scaling factor)를 곱하여, 두 회로의 출력을 합하여 기준전압 발생하기 때문에 온도 계수를 극소화시킬 수 있는 기준 전압 발생기이다.The band-gap reference voltage generator designs a first circuit with a constant temperature coefficient and a second circuit with a temperature coefficient opposite to that of the first circuit, so that the output of the second circuit is independent of temperature. It is a reference voltage generator that can minimize temperature coefficients by multiplying the scaling factor and generating the reference voltage by adding the outputs of the two circuits.
도 1은 일반적인 밴드갭 기준전압 발생기의 상세 회로를 나타낸 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating a detailed circuit of a typical bandgap reference voltage generator.
기준전압 발생기는 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM1, 저항 R, R1, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q1를 포함하는 기준전압 발생부(1)와, 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM2, 저항 R, R2, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q2를 포함하는 기준전압 발생부(2)와, 기준전압 발생부(1)로부터 출력된 기준전압 VREF을 반전 입력단자를 통해 인가 받고, 기준전압 발생부(2)로부터 출력된 기준전압 A를 비반전 입력단자를 통해 인가 받는 차동 증폭기(3)를 포함한다.The reference voltage generator includes a reference voltage generator including a PMOS transistor PM1 connected in series between a power supply voltage and a ground voltage, resistors R and R1, and a pnp bipolar transistor Q1 having a common connection between a base and a collector. (1) and generation of a reference voltage including a PMOS transistor PM2, resistors R, R2, and a pnp bipolar transistor Q2 in which a base and a collector are connected in common between a power supply voltage and a ground voltage. The unit 2 receives the reference voltage VREF output from the reference voltage generator 1 through the inverting input terminal, and receives the reference voltage A output from the reference voltage generator 2 through the non-inverting input terminal. A
여기서, 차동 증폭기(3)로부터 출력된 신호는 각 기준전압 발생부(1, 2)를 구성하는 피모스 트랜지스터 PM1, PM2의 게이트에 공통으로 인가된다.Here, the signal output from the
또한, 기준전압 발생부(2)를 구성하는 바이폴라 트랜지스터 Q2의 이미터(emitter) 사이즈는 기준전압 발생부(1)를 구성하는 바이폴라 트랜지스터 Q1의 이미터 사이즈의 n 배이다.The emitter size of the bipolar transistor Q2 constituting the reference voltage generator 2 is n times the emitter size of the bipolar transistor Q1 constituting the reference voltage generator 1.
따라서, 기준전압 발생기의 출력 기준전압 VRER는 [수학식 1]과 같이 정의할 수 있다.Therefore, the output reference voltage VRER of the reference voltage generator may be defined as shown in [Equation 1].
[수학식 1][Equation 1]
여기서, 전류 I는 [수학식 2]와 같이 구할 수 있다.Here, the current I can be obtained as shown in [Equation 2].
[수학식 2][Equation 2]
따라서, 기준전압 VREF는 [수학식 3]과 같이 정의할 수 있다.Therefore, the reference voltage VREF can be defined as shown in [Equation 3].
도 2는 도 1에 도시된 기준전압 발생기에서 출력된 기준전압의 온도에 대한 관계를 나타낸 그래프이다.FIG. 2 is a graph illustrating a relationship of temperature of a reference voltage output from the reference voltage generator shown in FIG. 1.
도시된 바와 같이, 온도에 따라 기준전압이 변동하기 때문에 아주 좋은 온도 특성이 필요한 부품이나 IC에서는 여러 번의 공정 트리밍(trimming)이 필요하게 되는 문제점이 있다.As shown in the drawing, there is a problem in that a process or trimming is required several times in a component or an IC requiring a very good temperature characteristic because the reference voltage varies with temperature.
표준 CMOS 공정에서 기생 바이폴라를 구현하는데, 이러한 바이폴라를 기생 바이폴라로 구현하는 경우 모델링을 정확히 하기가 어렵고 공정 제어 또한 어렵기 때문에 바이폴라 특성을 균등하게 하기 어렵다. 따라서, 기준전압 VREF는 DC 오프셋(offset)을 가지게 되며, 이러한 DC 오프셋을 회로나 공정으로 극복하는 것은 매우 어려운 문제점이 있다.Parasitic bipolars are implemented in a standard CMOS process. When bipolars are implemented as parasitic bipolars, the bipolar characteristics are difficult to equalize because modeling is difficult and process control is difficult. Therefore, the reference voltage VREF has a DC offset, and it is very difficult to overcome this DC offset by a circuit or a process.
상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 서로 다른 온도 특성을 갖는 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기를 구현하고 이들의 값들을 서로 평균하여 온도 특성에 대한 영향을 줄이는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems is to implement two bandgap reference voltage generators having different temperature characteristics and average their values to reduce the influence on the temperature characteristics.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생기는, 서로 다른 온도 계수를 갖는 적어도 두 개 이상의 밴드갭 기준전압 발생수단; 및 상기 다수의 밴드갭 기준전압 발생수단으로부터 출력된 기준 전압들을 평균하여 기준전압을 출력하는 평균수단을 포함하는데, 상기 평균수단은 한 단자는 상기 각 기준전압 발생수단으로부터 출력된 기준 전압들이 각각 인가되고, 다른 한 단자는 공통 접속된 다수의 저항을 포함하는 것을 특징으로 한다.The reference voltage generator of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object comprises at least two bandgap reference voltage generating means having different temperature coefficients; And average means for outputting a reference voltage by averaging the reference voltages output from the plurality of bandgap reference voltage generating means, wherein one terminal is applied with reference voltages output from the respective reference voltage generating means. And the other terminal comprises a plurality of resistors connected in common.
상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해 질 것이다.The above and other objects and features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생기의 개념을 나타낸 블록도이다.3 is a block diagram illustrating a concept of a reference voltage generator of a semiconductor memory device according to the present invention.
기준전압 발생기는 서로 다른 온도 계수를 갖는 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)와, 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)로부터 출력된 기준전압들 VREF1, VREF2을 평균하여 기준전압 VREF를 출력하는 평균부(30)를 포함한다.The reference voltage generator averages the reference voltages VREF1 and VREF2 output from the two bandgap
도 4는 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 동작을 나타낸 기준전압의 온도에 대한 관계를 나타낸 그래프이다.FIG. 4 is a graph showing the relationship of the temperature of the reference voltage showing the operation of the reference voltage generator shown in FIG.
두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)의 온도 특성을 서로 반대가 되도록 구성하면, 평균회로(30)에 의해 생성된 기준전압 VREF은 온도 특성이 서로 상쇄되어 이론적으로는 온도계수가 0이 될 것이다. 즉, 기준전압 VREF은 온도에 대해 일정하게 된다.If the temperature characteristics of the two bandgap
도 5는 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 일 실시 예의 상세 회로를 나타낸 회로도 이다.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a detailed circuit of an embodiment of the reference voltage generator illustrated in FIG. 3.
기준전압 발생기는 온도 특성이 서로 반대인 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)와, 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)로부터 출력된 기준전압들 VREF1, VREF2의 평균 값 VREF을 출력하는 평균부(30)를 포함한다.The reference voltage generator generates two bandgap
두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)는 동일한 소자로 동일하게 구성되지만 바이폴라 트랜지스터 Q1, Q2의 이미터 사이즈 및 저항 R1, R2의 크기를 조절하여, 서로 반대의 온도 계수를 갖도록 설계한다.Although the two bandgap
즉, 밴드갭 기준전압 발생기(10)는 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM1, 저항 R, 저항 R1, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q1를 포함하는 기준전압 발생부(11)와, 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM2, 저항 R, 저항 R2, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q2를 포함하는 기준전압 발생부(12)와, 기준전압 발생부(11)로부터 출력된 기준전압 VREF이 반전 입력단자에 인가되고, 기준전압 발생부(12)로부터 출력된 기준전압 A이 비반전 입력단자에 인가되어 차동 증폭기(13)를 포함한다.That is, the bandgap
밴드갭 기준전압 발생기(20)는 밴드갭 기준전압 발생기(10)와 동일한 소자로 동일하게 구성되는데, 차동 증폭기(23)의 반전 입력단자에 기준전압 발생부(22)로부터 출력된 기준전압 A이 인가되고, 비반전 입력단자에 기준전압 발생부(22)로부터 출력된 기준전압 VREF2가 인가되어 밴드갭 기준전압 발생기(10)의 온도 계수와는 반대의 온도 계수를 갖도록 구성한다.The bandgap
평균부(30)는 밴드갭 기준전압 발생기(10)로부터 출력된 기준전압 VREF1이 한 단자에 인가되는 저항 RAVG1과, 밴드갭 기준전압 발생기(20)로부터 출력된 기준전압 VREF2이 한 단자에 인가되는 저항 RAVG2과, 저항들 RAVG1, RAVG2의 공통 단자에 접속된 캐패시터 CAVG를 포함한다.The averaging
여기서, 각 차동 증폭기(13, 23)로부터 출력된 신호는 각 기준전압 발생부(11, 12 및 21, 22)를 구성하는 피모스 트랜지스터 PM1, PM2의 게이트에 공통으로 인가된다.Here, the signals output from the
또한, 기준전압 발생부(12, 22)를 구성하는 바이폴라 트랜지스터 Q2의 이미터 사이즈는 기준전압 발생부(11, 21)를 구성하는 바이폴라 트랜지스터 Q1의 이미터 사이즈의 n 배가 되도록 설계한다.The emitter size of the bipolar transistor Q2 constituting the
본 발명에 따른 기준전압 발생기는 일반적인 밴드갭 기준전압 발생기 두 개(10, 20)를 사용하여 각 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)로부터 출력된 기준전압들 VREF1, VREF2을 저항 평균 회로(30)를 사용하여 서로 합하여 2로 나누면 원하는 기준전압 값 VREF을 구할 수 있다.The reference voltage generator according to the present invention uses two general bandgap
여기서, 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20) 각각의 온도전압(thermal voltage) VT 및 베이스(base)-이미터(emitter) 전압 VBE의 계수는 서로 다르도록 피모스 트랜지스터들 PM1, PM2, 저항 R1, R2 및 바이폴라 트랜지스터들 Q1, Q2를 구성한다.Here, the coefficients of the thermal voltage VT and the base-emitter voltage VBE of each of the two bandgap
도 6은 도 3에 도시된 기준전압 발생기의 다른 실시예의 상세 회로를 나타낸 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a detailed circuit of another embodiment of the reference voltage generator shown in FIG. 3.
기준전압 발생기는 밴드갭 기준전압 발생기(10)와, 밴드갭 기준전압 발생기(10)의 전류 값을 공통으로 사용하여, 바이폴라 트랜지스터와 저항 값을 조절하여 밴드갭 기준전압 발생기(10)와 서로 다른 온도 특성을 갖도록 설계한 기준전압 발생부(20)와, 두 개의 밴드갭 기준전압 발생기(10, 20)로부터 출력된 기준전압들 VREF1, VREF3의 평균 값 VREF을 출력하는 평균부(30)를 포함한다.The reference voltage generator uses a current value of the bandgap
밴드갭 기준전압 발생기(10)는 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM1, 저항 R, 저항 R1, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q1를 포함하는 기준전압 발생부(11)와, 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결된 PMOS 트랜지스터 PM2, 저항 R, 저항 R2, 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q2를 포함하는 기준전압 발생부(12)와, 기준전압 발생부(11)로부터 출력된 기준전압 VREF이 반전 입력단자에 인가되고, 기준전압 발생부(12)로부터 출력된 기준전압 A이 비반전 입력단자에 인가되어 차동 증폭기(13)를 포함한다.The bandgap
기준전압 발생부(20)는 전원전압과 접지전압 사이에 직렬 연결되고, 게이트에 밴드갭 기준전압 발생부(10)의 차동 증폭기(13)로부터 출력된 신호가 공통으로 인가되는 피모스 트랜지스터와, 저항 R, 저항 값이 조절된 저항 R3 및 베이스-이미터 전압 값이 VBE 조절된 베이스(base)와 콜렉터(collector)가 공통 접속된 pnp 바이폴라 트랜지스터(bipolar transistor) Q3를 포함한다.The
따라서 밴드갭 기준전압 발생기(10)로부터 출력된 기준전압 VREF1과 기준전압 발생기(20)로부터 출력된 기준전압 VREF2이 저항 평균 회로(30)에 의해 서로 합하여 2로 나누어지면 원하는 기준전압 값 VREF이 구해진다.Therefore, when the reference voltage VREF1 output from the bandgap
이러한 구성을 통해 회로를 매우 간소화 할 수 있으며 또한 전류 소모도 최소화 시킬 수 있다.This configuration greatly simplifies the circuit and minimizes current consumption.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 기준전압 발생기는, 두 개의 복제된 밴드갭 기준전압 발생기를 사용하면서 기준 전압의 온도 특성을 결정하는 바이폴라 트랜지스터의 이미터 사이즈와 저항 값 만을 서로 다르게 처리함으로써 온도 특성이 향상되는 효과가 있다.As described above, the reference voltage generator of the semiconductor memory device according to the present invention uses only two duplicated bandgap reference voltage generators and uses only the emitter size and resistance value of the bipolar transistor to determine the temperature characteristic of the reference voltage. Different treatments have the effect of improving the temperature characteristics.
또한 두개의 밴드갭 회로가 복제되어 있으므로 각각의 기준 전압의 DC 오프셋이 비슷하게 발생할 것이며 따라서 그 값을 평균하게 되면 DC 오프셋이 매우 일정한 크기가 되며 그 크기도 매우 작아지게 되는 효과가 있다.In addition, since the two bandgap circuits are duplicated, the DC offset of each reference voltage will be similar, so averaging the values will make the DC offset very constant and its size very small.
또한, 두 개의 복제된 밴드갭 기준전압 발생기가 동일한 바이폴라 모델을 사용하면서 바이폴라 트랜지스터의 크기는 서로 다르게 설계되어 있기 때문에, 기생 바이폴라 트랜지스터의 특성이 공정에 따라 불안정 하더라도 그 값의 평균은 일정하게 되어 공정의 변화에 매우 안정한 기준 전압을 발생할 수 있는 효과가 있다.In addition, since two replicated bandgap reference voltage generators use the same bipolar model and the size of the bipolar transistors is different, the average of the values is constant even if the characteristics of the parasitic bipolar transistors are unstable depending on the process. There is an effect that can generate a very stable reference voltage in the change of.
밴드갭 기준전압 발생기 하나로 얻을 수 있는 기준전압의 온도 특성의 물리적 한계를 여러 개의 밴드갭 기준전압 발생기를 사용하여 극복함으로써, 매우 높은 정밀도를 갖는 온도 특성을 갖는 기준 전압을 구현할 수 있는 효과가 있다.By overcoming the physical limitations of the temperature characteristic of the reference voltage that can be obtained with one bandgap reference voltage generator using several bandgap reference voltage generators, there is an effect that a reference voltage having a temperature characteristic with very high accuracy can be realized.
또한, 기준전압의 특성이 공정 및 바이폴라 모델에 대해 영향을 받지 않기 때문에 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, since the characteristics of the reference voltage are not affected by the process and the bipolar model, the yield can be improved.
아울러 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.In addition, a preferred embodiment of the present invention is for the purpose of illustration, those skilled in the art will be able to various modifications, changes, substitutions and additions through the spirit and scope of the appended claims, such modifications and changes are the following claims It should be seen as belonging to a range.
Claims (14)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030021354A KR100599974B1 (en) | 2003-04-04 | 2003-04-04 | Voltage reference generator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030021354A KR100599974B1 (en) | 2003-04-04 | 2003-04-04 | Voltage reference generator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040087102A KR20040087102A (en) | 2004-10-13 |
KR100599974B1 true KR100599974B1 (en) | 2006-07-12 |
Family
ID=37369327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030021354A KR100599974B1 (en) | 2003-04-04 | 2003-04-04 | Voltage reference generator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100599974B1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100707306B1 (en) * | 2005-03-03 | 2007-04-12 | 삼성전자주식회사 | Voltage reference generator with various temperature coefficients which are in inverse proportion to temperature and display device equipped therewith |
KR100780771B1 (en) * | 2006-06-30 | 2007-11-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | Band-gap reference voltage generator |
KR100815189B1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-03-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | Reference voltage generator in semiconductor memory device |
KR20090088257A (en) | 2008-02-14 | 2009-08-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | Flash analog digital converter |
-
2003
- 2003-04-04 KR KR1020030021354A patent/KR100599974B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040087102A (en) | 2004-10-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130620 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140618 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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