KR100587684B1 - 웨이퍼 정렬장치 - Google Patents

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KR100587684B1
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Abstract

본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화 할 수 있는 웨이퍼 정렬장치에 관한 것으로, 그의 장치는, 각종 구동부를 구비하는 몸체; 상기 몸체의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척; 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척 상에 위치되도록 하기 위해 승하강되는 가이드 플레이트; 상기 오리엔트 척 상에서 회전되는 웨이퍼의 플렛 존을 감지하는 복수개의 센서; 상기 센서 및 오리엔트 척에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척 상부에 형성되고, 상기 몸체의 각 모서리에 형성된 복수개의 프레임에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트; 및 상기 웨이퍼 카세트와 상기 몸체 사이에 위치되는 상기 오리엔트 척 및 센서주위의 상기 프레임 둘레를 둘러싸고, 상기 센서에 입사되는 외부광을 차광시키는 패널 벽을 포함함에 의해 상기 센서가 외부광에 의해 오동작되는 것을 방지할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.
플랫존(flat zone), 패널 벽(panel wall), 몸체(body), 웨이퍼 카세트(wafer carrier cassette), 오리엔트 척(orient chuck)

Description

웨이퍼 정렬장치{Apparatus for aligning wafer}
도 1은 일반적인 이온주입장치를 나타낸 사시도.
도 2는 종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치를 나타내는 사시도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 정렬장치를 나타내는 사시도.
도 4는 도 3의 센서와 패널 벽을 개략적으로 나타낸 구성단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
200 : 몸체 202 : 모터
204 : 풀리 210 : 오리엔트 척
220 : 가이드 플레이트 230 : 센서
240 : 프레임 250 : 웨이퍼 카세트
260 : 패널 벽
본 발명은 반도체 제조설비에 관한 것으로, 상세하게는 이온주입장치(ion implant)에 로딩되는 웨이퍼를 정렬시키는 웨이퍼 정렬장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 제조공정에 있어서 웨이퍼를 대상으로 하는 다양한 단위 공정 등을 수행하여 반도체 소자를 제조한다. 이러한 단위 공정 중에서 웨이퍼의 전기적 특성을 변화시키는 단위 공정은 웨이퍼 내에 불순물을 주입시키는 이온주입 공정이 있다.
상기 이온주입 공정은 순수 실리콘(Si) 웨이퍼에 5개의 가전자를 가지고 있는 P형 불순물(예, 붕소, 알루미늄, 인듐)과 3개의 가전자를 가지고 n형 불순물(예:안티몬, 인, 비소) 등을 플라즈마 이온빔상태로 만든 후 반도체 결정속에 침투시켜 필요한 전도형 및 비 저항의 소자를 얻는 공정을 말한다.
이러한 이온주입공정은 반도체소자를 제조할 시 10E14∼10E18 원자/㎤범위에서 불순물 농도를 조절할 수 있으며, 이는 확산공정과 같은 불순물 주입기술을 이용한 것 보다 농도조절이 용이하며 이온주입의 깊이를 정확히 제어할 수 있다는 장점뿐만 아니라, 마스크막을 사용하여 국부적인 영역에 제한적인 이온주입이 가능한 이점 때문에 반도체소자의 집적도가 커짐에 따라 더욱 널리 사용되고 있다. 상기 이온주입공정을 수행하기 위한 이온주입장치가 미국특허 5,475,618에 개시되어 있다.
도 1은 일반적인 이온주입장치를 나타낸 사시도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 일반적인 이온주입장치는 불순물 이온을 생성하여 가속시키는 페러데이 시스템(10)과, 상기 페러데이 시스템(10)이 적용될 수 있도록 웨이퍼를 위치시키고, 상기 페러데이 시스템(10)을 이용하여 웨이퍼에 상기 불순물 이온을 주입하는 웨이퍼 로딩 수단(wafer loading mechanism, 30)을 포함하여 이루어진다.
여기서, 상기 웨이퍼 로딩 수단(30)은 이온주입 공정을 진행하기 위해 상기 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩하는 로딩 스테이션(32) 및 언로딩 스테이션(33)과, 상기 로딩 스테이션(32)을 통해 공급되는 웨이퍼를 정해진 위치에 로딩시킨 후, 상기 페러데이 시스템(10)을 이용하여 진공 또는 대기압 상태에서 상기 불순물을 이온주입하는 공정챔버(31)를 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 로딩 스테이션(32)으로 공급되는 상기 웨이퍼는 일정한 방향으로 정렬되어 있어야만, 상기 페러데이 시스템(10)을 통해 정확한 각도에서 상기 웨이퍼에 불순물 이온이 이온주입될 수 있다.
따라서, 상기 이온주입장치의 상기 공정 챔버(31)에 웨이퍼를 정렬하여 로딩하기 위한 웨이퍼 정렬장치가 필수적으로 요구된다. 이때, 상기 웨이퍼 정렬장치에서 정렬된 웨이퍼는 로봇암에 의해 상기 이온주입장치에 전달된다.
도 2는 종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치를 나타내는 사시도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치는 모터(102) 및 풀리(104)와 같은 각종 구동부를 구비하는 몸체(100)와, 상기 몸체(100)의 중심 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척(orient chuck, 110)과, 상기 오리엔트 척(110)으로 로딩되는 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드(slide)시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척(110) 상에 위치되도록 하기 위해 승하강되는 가이드 플레이트(120)와, 상기 오리엔트 척(110) 상에서 회전되는 웨이퍼의 플 랫존(flat zone)을 감지하는 복수개의 센서(sensor, 130)와, 상기 몸체(100)의 각 모서리에 형성된 복수개의 프레임(frame, 140)에 의해 지지되어 상기 오리엔트 척(110) 상부에 형성되고, 상기 센서(140) 및 오리엔트 척(110)에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하는 웨이퍼 카세트(150)를 포함하여 구성된다. 도시하지 않았지만, 상기 구동부를 제어하고, 상기 센서(130)에서 감지된 감지신호를 이용하여 상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 몸체(100)와 상기 웨이퍼 카세트(150)사이에 위치되는 상기 오리엔트 척(110), 가이드 플레이트(120) 및 센서(130)는 전면이 외부에 노출되어 있다.
또한, 상기 오리엔트 척(110)은 상기 웨이퍼가 상기 로봇암에 의해 로딩되면 상기 웨이퍼를 흡착시켜 회전될 수 있다. 이때, 상기 오리엔트 척(110)은 승하강할 수 없다.
상기 가이드 플레이트(120)는 상기 오리엔트 척(110)에 상기 웨이퍼를 안착시키거나, 상기 오리엔트 척(110)에서 정렬된 웨이퍼를 이탈시킬 수 있도록 상기 몸체(100)와 연결되는 복수의 로드에 의해 수직왕복이동될 수 있지만 회전되지 않는다.
그리고, 상기 센서(130)는 각각 광원을 조사하는 입광부와 입광부에서 조사된 광이 반사된 광을 수광하는 수광부로 이루어지며, 상기 웨이퍼의 플렛 존(flat zone)을 감지할 수 있도록 상기 오리엔트 척(110)과 상기 가이드 플레이트(120)사이에 고정 위치된다. 또한, 상기 센서(130)는 각각 상기 오리엔트 척(110)을 중심 으로 두 개가 서로 마주보도록 위치된다. 이때, 복수개의 상기 센서(130)는 상기 오리엔트 척(110) 상에 웨이퍼가 로딩되어 회전되면 상기 웨이퍼의 가장자리 일측에 형성된 플랫존을 감지하여 상기 웨이퍼가 설정된 위치에 정렬되도록 한다.
즉, 일측의 센서(130)가 웨이퍼의 플랫존을 감지하면, 상기 오리엔트 척(110)이 상기 웨이퍼를 일방향으로 회전시키고, 타측의 센서(130)가 상기 웨이퍼 플랫 존을 감지할 때 정지된다. 이후, 상기 오리엔트 척(110)은 상기 웨이퍼를 반대방향으로 회전시키고, 상기 센서(130)가 웨이퍼의 플랫존을 다시 감지할 때 정지된다. 따라서, 상기 웨이퍼의 방향은 기준이 되는 센서(130)에 따라 A모드 또는 B모드로 두 개의 모드로 정렬될 수 있다. 그러나, 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 타측의 센서(130)가 외부광에 의해 상기 웨이퍼의 플랫존을 인식하지 못하고 상기 오리엔트 척(110)이 상기 웨이퍼를 한바퀴 회전시킨 후 다시 반대방향으로 회전하는 웨이퍼에서 상기 타측의 센서(130)가 웨이퍼의 플랫존을 감지할 수 있다. 따라서, 종래 기술의 웨이퍼 정렬장치는 상기 웨이퍼의 플랫존이 설정된 모드가 아니라 설정되지 않은 모드에서 오정렬된 웨이퍼를 상기 이온주입장치에 로딩시킬 수 있기 때문에 공정사고를 유발시킬 수 있다.
상기 웨이퍼 카세트(150)는 상기 오리엔트 척(110)에 의해 정렬된 웨이퍼가 상기 로봇암에 의해 이송되어 임시로 보관하는 장소로서 버퍼 카세트(buffer cassette)라 일컬어지며, 다수개의 웨이퍼를 탑재할 수 있다. 이때, 상기 웨이퍼 카세트(150)에 탑재된 웨이퍼는 상기 로봇암에 의해 상기 웨이퍼 로딩 스테이션으로 이송될 별도의 다른 웨이퍼 카세트에 이송된다.
따라서, 종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치는, 상기 센서 및 오리엔트 척을 이용하여 상기 웨이퍼 플랫존을 각 모드에 따라 정렬시기고, 정렬된 웨이퍼가 로봇암에 의해 이온주입장치로 공급되도록 할 수 있다.
상술한 바와 같이, 종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치는 다음과 같은 문제점이 있었다.
종래 기술에 따른 웨이퍼 정렬장치는 외부에 노출된 센서(130)에 외부광이 조사될 경우, 상기 센서(130)가 정상적으로 웨이퍼의 플랫존을 감지하지 못하여 상기 웨이퍼를 설정된 모드로 정렬할 수 없기 때문에 생산 수율이 떨어지는 단점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 웨이퍼가 설정된 모드로 정렬될 수 있도록 외부광에 관계없이 센서가 웨이퍼의 플랫존을 정상적으로 감지하도록 하여 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 웨이퍼 정렬장치를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 양태에 따라, 웨이퍼 정렬장치는, 각종 구동부를 구비하는 몸체; 상기 몸체의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척; 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척 상에 위치되도록 하기 위해 상기 오리엔트 척 둘레에서 승하강되는 가이드 플레이트; 상기 가이드 플레이트와 상기 오리엔트 척 사이에 형성되고, 상기 오리엔트 척 상에서 회전되는 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 적어도 하나 이상의 센서; 상기 센서 및 오리엔트 척에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척 상부에 형성되고, 상기 몸체의 각 모서리에서 연장되어 형성된 복수개의 프레임에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트; 및 상기 몸체와 상기 웨이퍼 카세트 사이에서 상기 센서에 입사되는 외부광을 차단시키기 위해 상기 센서 및 상기 오리엔트 척을 내부에 두고 상기 몸체에서 상기 웨이퍼 카세트의 높이까지 상기 복수개의 프레임 둘레를 둘러싸도록 형성된 패널 벽을 포함함을 특징으로 한다.
이하 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 정렬장치를 나타내는 사시도이고, 도 4는 도 3의 센서(230)와 패널 벽(260)을 개략적으로 나타낸 구성단면도이다.
도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 웨이퍼 정렬장치는, 모터(motor, 202) 또는 풀리(pully, 204)와 같은 각종 구동부를 구비하는 몸체(200)와, 상기 몸체(200)의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척(210)과, 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척(210) 상에 위치되도록 하기 위해 상기 오리엔트 척(210)의 둘레에서 승하강되는 가이드 플레이트(220)와, 상기 가이드 플레이트(220)와 상기 오리엔트 척(210) 사이에 형성되고, 상기 오리엔트 척(210) 상에서 회전되는 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 복수개의 센서(230)와, 상기 센서(230) 및 오리엔트 척(210)에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척(210) 상부에 형성되고, 상기 몸체(200)의 각 모서리에 형성된 복수개의 프레임(240)에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트(250)와, 상기 몸체(200)와 상기 웨이퍼 카세트(250) 사이에서 상기 센서에 입사되는 외부광을 차단하기 위해 상기 센서(230) 및 상기 오리엔트 척(210)을 내부에 두고 상기 몸체에서 상기 웨이퍼 카세트의 높이까지 상기 복수개의 프레임(도시되지 않음) 둘레를 둘러싸도록 형성된 패널 벽(panel wall, 260)을 포함하여 구성된다. 도시하지 않았지만, 상기 구동부를 제어하고, 상기 센서(230)에서 감지된 감지신호를 이용하여 상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 패널 벽(260)은 상기 오리엔트 척(210)으로 조사되는 외부광을 차단하기 위해 불투명의 금속(예컨대, 알루미늄) 또는 플라스틱(예컨대, 아크릴, 폴리 에스테르)재질로 형성된다. 또한, 외부에서 상기 오리엔트 척(210) 또는 가이드 플레이트(220) 상에 상기 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩하는 로봇암이 유출입되도록 일측이 개방되도록 도 4와 같이 형성될 수도 있다. 이때, 상기 패널 벽(260)은 외부에서 상기 로봇암이 상기 오리엔트 척(210) 또는 가이드 플레이트(220) 상에 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩할 수 있도록 상기 패널 벽(260)의 일측에 도어 또는 홀(hole)이 형성되어 있어도 무방하다. 예컨대, 상기 패널 벽(260)의 일측에 형성되는 상기 도어 또는 홀은 항시 개방될 수 있거나, 상기 제어부에서 출력되는 제어 신호에 의해 조건적으로 상기 도어 또는 홀이 개폐될 수도 있다. 또한, 상기 패널 벽(260)은 상기 몸체(200)에서 상기 웨이퍼 카세트(250)까지의 높이를 갖고 상기 복수개의 프레임의 주위를 횡방향으로 감싸도록 형성될 수 있다. 이때, 상기 패널 벽(260)은 상기 프레임이 생략될 경우, 상기 몸체(200)의 상부에 위치되는 상기 웨이퍼 카세트(250)를 지지하는 지지벽 역할을 대신할 수도 있다.
또한, 상기 오리엔트 척(210)은 상기 웨이퍼가 상기 로봇암로부터 로딩되면 상기 구동부의 구동에 의해 웨이퍼를 진공으로 흡착시킨 후 회전될 수 있다. 이때, 상기 오리엔트 척(210)은 상기 센서(230)에서 출력되는 웨이퍼 감지신호를 이용하 여 상기 구동부를 제어신호를 출력하는 제어부의 제어에 의해 상기 웨이퍼를 정렬시킬 수 있다.
상기 가이드 플레이트(220)는 상기 웨이퍼의 반경보다 크고, 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척(210)의 중심에 대응되는 위치에 이동되도록 상기 웨이퍼의 외주면이 슬라이딩되는 경사면을 갖는 턱을 구비하고, 상기 오리엔트 척(210)에 상기 웨이퍼를 안착시키거나, 상기 오리엔트 척(210)에서 정렬된 웨이퍼를 이탈시킬 수 있도록 상기 몸체(200)와 연결되는 복수의 로드에 의해 수직왕복이동될 수 있지만 회전되지 않는다.
그리고, 상기 센서(230)는 접촉 방식 또는 비접촉방식으로 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지할 수 있으나, 웨이퍼의 정렬에 있어서 상기 센서(230)가 웨이퍼에 직접 닿지 않는 비접촉방식이 바람직하다. 예컨대 비 접촉방식의 포토 센서를 사용할 경우, 각각 광(예를 들어 가시광선 또는 적외선)을 조사하는 입광부와, 입광부에서 조사된 광에 의해 상기 웨이퍼에서 반사된 광을 수광하는 수광부로 이루어지며, 상기 웨이퍼의 플랫존(flat zone)을 감지할 수 있도록 상기 오리엔트 척(210)과 상기 가이드 플레이트(220)사이에 고정위치된다. 이때, 상기 센서(230)는 상기 입광부와 수광부가 모두 동일한 방향에서 상기 웨이퍼의 상부 또는 하부에 위치되도록 형성될 수 있고, 상기 입광부와 수광부가 상기 오리엔트 척(210) 상에 위치되는 웨이퍼의 가장자리를 중심으로 상하 양측에 각각 서로 대향하도록 위치되도록 형성될 수도 있다.
상기 웨이퍼 카세트(250)는 상기 오리엔트 척(210)에 의해 정렬된 웨이퍼가 상기 로봇암에 의해 이송되어 임시로 보관하는 장소로서 버퍼 카세트라 일컬어지며, 다수개의 웨이퍼를 탑재할 수 있다. 이때, 상기 웨이퍼 카세트(250)에 탑재된 웨이퍼는 상기 로봇암에 의해 이온주입장치의 웨이퍼 로딩 스테이션으로 이송될 별도의 다른 웨이퍼 카세트(250)에 이송된다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치는, 상기 웨이퍼 카세트(250)와 상기 몸체(200) 사이에 위치되는 상기 오리엔트 척(210) 및 센서(230)주위의 상기 프레임(240) 둘레에 외부광을 차광시키는 패널 벽(260)을 형성하여 상기 센서(230)가 외부광에 의해 오동작되는 것을 방지할 수 있다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 상기 로봇암에 의해 상기 웨이퍼가 상기 오리엔트 척(210) 상부로 로딩되면, 상기 가이드 플레이트(220)가 상기 오리엔트 척(210) 이상으로 상승하여 상기 웨이퍼를 홀딩한다. 이때, 상기 웨이퍼는 상기 가이드 플레이트(220)에 슬라이딩되어 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척(210) 중심과 대응되도록 위치된다.
다음, 상기 가이드 플레이트(220)가 서서히 하강함으로서 상기 웨이퍼가 상기 오리엔트 척(210) 상에 안착된다. 이때, 상기 오리엔트 척(210)은 상기 웨이퍼를 진공으로 흡착시킨다. 이때, 복수개의 상기 센서(230)는 상기 오리엔트 척(210) 상에 위치되는 상기 웨이퍼를 감지하여 상기 제어부에 감지신호를 출력한다. 또한, 상기 제어부는 설정된 웨이퍼 정렬 모드에 따라 상기 복수개의 센서(230) 중 일측 의 센서(230)에 대응되는 위치에 상기 웨이퍼의 플랫존이 위치되도록 상기 구동부를 제어하여 상기 오리엔트 척(210)을 회전시킨다.
그리고, 상기 일측의 센서(230)가 웨이퍼의 플랫존을 감지하면, 상기 오리엔트 척(210)이 상기 웨이퍼를 일방향으로 180°회전시키고, 타측의 센서(230)가 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지할 때 정지된다. 이때, 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 복수개의 센서(230)가 외부광에 노출되어 있지 않기 때문에 종래에서와 같이 외부광에 의한 센서(230)의 오동작을 방지할 수 있다.
이후, 상기 오리엔트 척(210)은 상기 웨이퍼를 반대방향으로 180°회전시키고, 상기 일측의 센서(230)가 웨이퍼의 플랫존을 다시 감지할 때 정지된다. 이때, 상기 센서(230)는 상기 패널 벽(260)에 의해 외부광이 차단되어 있기 때문에 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지할 수 있다.
따라서, 상기 웨이퍼의 플랫존 방향은 기준이 되는 각 센서(230)의 위치에 따라 A모드 또는 B모드로 두 개의 모드로 정렬될 수 있다.
마지막으로, 상기 가이드 플레이트(220)가 상승하여 상기 A모드 또는 B모드로 정렬된 상기 웨이퍼는 오리엔트 척(210)으로부터 이탈된다. 또한, 상기 로봇암이 상기 가이드 플레이트(220)에 위치된 상기 웨이퍼를 언로딩하여 이온주입장치의 로딩 스테이션으로 이송될 웨이퍼 카세트(250)에 로딩함으로서 웨이퍼 정렬장치에서의 웨이퍼 정렬작업이 완료된다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치는 센서(230)에 입사되는 외부광을 차광시키는 패널 벽(260)을 형성하여 외부광에 의한 센서(230)의 오동작을 방지할 수 있기 때문에 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있다.
또한, 상기한 실시예의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 제공하기 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 웨이퍼 정렬장치는 센서에 입사되는 외부광을 차광시키는 패널 벽을 형성하여 상기 센서가 외부광에 의해 오동작되는 것을 방지하고, 웨이퍼의 플랫존을 정상적으로 감지하도록 할 수 있기 때문에 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 웨이퍼의 플렛 존을 정렬하는 웨이퍼 정렬장치에 있어서;
    각종 구동부를 구비하는 몸체;
    상기 몸체의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척;
    상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척 상에 위치되도록 하기 위해 상기 오리엔트 척 둘레에서 승하강되는 가이드 플레이트;
    상기 가이드 플레이트와 상기 오리엔트 척 사이에 형성되고, 상기 오리엔트 척 상에서 회전되는 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 적어도 하나 이상의 센서;
    상기 센서 및 오리엔트 척에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척 상부에 형성되고, 상기 몸체의 각 모서리에서 연장되어 형성된 복수개의 프레임에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트; 및
    상기 몸체와 상기 웨이퍼 카세트 사이에서 상기 센서에 입사되는 외부광을 차단시키기 위해 상기 센서 및 상기 오리엔트 척을 내부에 두고 상기 몸체에서 상기 웨이퍼 카세트의 높이까지 상기 복수개의 프레임 둘레를 둘러싸도록 형성된 패널 벽을 포함함을 특징으로 하는 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 패널 벽은 불투명의 금속 또는 플라스틱 재질로 이루어짐을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 패널 벽은 상기 오리엔트 척 또는 상기 가이드 플레이트에 상기 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩하는 로봇암이 유출입되도록 일측이 개방됨을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 패널 벽은 상기 로봇암에 의해 외부에서 상기 오리엔트 척 또는 가이드 플레이트 상에 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩할 수 있도록 상기 패널 벽의 일측에 도어 또는 홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 센서는 비접촉 방식으로 상기 웨이퍼의 플랫존을 감지함을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 비접촉 방식의 센서는 포토 센서를 포함함을 특징으로 하는 웨이퍼 정 렬장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 포토 센서는 가시광선 또는 적외선을 조사하는 입광부와, 입광부에서 조사된 가시광선 또는 적외선에 의해 상기 웨이퍼에서 반사된 광을 수광하는 수광부를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
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