KR100579771B1 - 광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

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퀄컴 엠이엠스 테크놀로지스, 인크.
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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Abstract

본 발명은 광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 상기 디스플레이 패널은 다수의 제 1 전도성 광학 필름 스택, 지지 층, 및 다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택이 그 위에 형성되는 기판을 갖는다. 상기 기판은 추가로, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택의 투명 전도성 필름으로 구성되는 다수의 연결 패드를 갖는다. 상기 투명 전도성 필름이 인듐 주석 산화물로 제조되므로, 이들 연결 패드는 그 표면에서 우수한 항산화성을 갖는다.
기판, 지지 층, 이격 층, 전도성 광학 필름 스택, 투명 전도층, 흡수층, 절연층, 연결 패드

Description

광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{Optical-interference type display panel and method for making the same}
도 1a 내지 도 1e는 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 기본적인 제조 방법의 도시도.
도 2a 내지 도 2d는 도 1a 내지 도 1e의 제 1 전도성 광학 필름 스택의 상이한 실시예들의 도시도.
도 3a 내지 도 3f는 도 2a 로부터의 제 1 전도성 광학 필름 스택이 사용되는, 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 제조 방법의 제 1 실시예의 도시도.
도 4a 내지 도 4g는 도 2c 로부터의 제 1 전도성 광학 필름 스택이 사용되는, 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 제조 방법의 제 2 실시예의 도시도.
도 5a 내지 도 5h는 도 2b 로부터의 제 1 전도성 광학 필름 스택이 사용되는, 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 제조 방법의 제 3 실시예의 도시도.
도 6a 내지 도 6h는 도 2d 로부터의 제 1 전도성 광학 필름 스택이 사용되는, 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 제조 방법의 제 4 실시예의 도시도.
도 7은 본 발명에 따른 패널에 기초하여 시뮬레이팅된 흑색광 스펙트럼 차트.
도 8은 본 발명에 따른 패널에 기초하여 시뮬레이팅된 백색광 스펙트럼 차 트.
도 9는 본 발명에 따른 패널에 기초하여 시뮬레이팅된 적색광 스펙트럼 차트.
도 10은 본 발명에 따른 패널에 기초하여 시뮬레이팅된 녹색광 스펙트럼 차트.
도 11은 본 발명에 따른 패널에 기초하여 시뮬레이팅된 청색광 스펙트럼 차트.
도 12는 종래의 광학-간섭 패널의 단일 픽셀의 단면도.
※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 기판 11 : 지지 층
12 : 이격 층 13, 20 : 전도성 광학 필름 스택
21, 21a, 21b, 21c, 21d : 투명 전도층
22a, 22b, 22c, 22d : 흡수층
23b, 23c, 23d, 24a, 24b, 24c, 24d : 절연층
201, 202 : 연결 패드
본 발명은 광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특 히 패널의 구동 회로에 대한 연결을 위한 연결 패드를 형성하기 위해 투명 전도층(conductive layer)이 사용되는 디스플레이 패널에 관한 것이다.
컴퓨터 디스플레이의 벌크 사이즈를 최소화하기 위해, 종래의 CRT 디스플레이를 대체하여 평면 디스플레이가 발전되어왔다. 예를 들어, 가장 잘 알려진 평면 디스플레이는 LCD 이다. 최근에는 디스플레이 제조사들에 의해 여러가지 종류의 LCD 가 개발되어 왔다. 이들 제조사들의 대부분은 디스플레이의 전력 소비를 최대한 감소시키려고 노력하고 있으며, 따라서 LCD 는 휴대폰, PDA 및 전자 책(E-books)과 같은 휴대용 전자 제품용으로 보다 적합해질 것이다.
LCD 장치 내부에서는, 전체 구성요소들의 대부분의 전력을 백라이트(backlight) 모듈이 소모한다. 이 문제를 해결하기 위해, 반사형 패널이 개발되었으며, 이는 백라이트 모듈을 대체하거나 상기 백라이트 모듈의 이용 가능성을 완화시키기 위해 광원으로서 외부 광을 사용한다.
종래의 LCD 패널에서든 또는 반사형 패널에서든, 패널에는 칼라 이미지를 표시하고 빛의 방향을 제어하기 위해 칼라 필터링 박막 및 편광 박막이 구성된다. 이들 박막이 빛에 대해 투과적일지라도, 막 통과시에 일부의 빛은 차단되거나 소실될 수 있다. 이러한 빛 손실 문제를 해결하기 위해, 광학-간섭 패널로 불리는 다른 반사형 패널이 이미 개발되어 있다. 빛이 상이한 박막을 통과할 때 초래되는 간섭 현상에 기초하여, 상기 광학-간섭 패널은 박막 요소들을 적절히 생성함으로써 기본적인 적색, 청색, 녹색을 발생할 수 있다. 따라서, 이 패널은 상기 칼라 필터 박막과 편광 박막을 사용하지 않고 칼라 이미지를 나타낼 수 있으며, 그 빛 투과율 또한 향상됨으로써 휴대용 전자 제품에 보다 적합하게 적용될 수 있다.
도 12를 참조하면, 상기 광학-간섭 패널에서의 단일 픽셀 구조는 유리 또는 고분자 재료로 구성된 기판(70)과, 상기 기판(70)상에 형성되는 제 1 전도성 광학 필름 스택(71) 및 지지 층(72)과, 인접하는 상기 지지 층(72)들을 부분적으로 커버하며 그로 인해 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(71)과의 사이에 갭이 형성되게 하는 제 2 전도성 광학 필름 스택(73)(기계적 층으로도 불림)을 구비한다.
외부 구동 회로(도시되지 않음)에 의해 두개의 전도성 광학 필름 스택(71, 73) 사이에 전기장이 공급되면, 제 2 전도성 광학 필름 스택(73)은 약간 변형되어 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(71)에 보다 가까워질 것이다. 두개의 전도성 광학 필름 스택(71, 73) 사이의 갭 간격이 상이하면, 패널을 통과하는 광선은 상이한 정도의 간섭을 갖게 될 것이며, 따라서 패널은 상이한 색상을 나타낼 수 있다.
전술한 바와 같이, 전도성 광학 필름 스택(71, 73)과 외부 구동 회로 사이에는 전기적 연결이 필요하므로, 외부 구동 회로와의 연결을 위해 상기 기판(70)에는 전도성 광학 필름 스택(71, 73)을 연결하는 다수의 연결 패드(도시되지 않음)가 형성된다. 일반적으로, 이들 연결 패드는 금속 와이어에 의해 형성된다. 그러나, 연결 패드가 공기에 노출되므로, 이들 금속 와이어는 점차 산화될 수도 있다. 따라서, 연결 패드의 연결 특성 및 신뢰성은 산화 문제에 의해 손상될 수 있다.
상기 문제를 해결 및/또는 완화하기 위해, 본 발명은 신규한 광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 한가지 목적은, 구동 회로에 대한 연결을 위한 연결 패드가 투명 전도층(ITO)으로 제조되는 광학-간섭형 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 방법은,
기판을 제공하는 단계와,
상기 기판상에 다수의 제 1 전도성 광학 필름 스택, 지지 층, 이격 층 및 다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택을 순차적으로 형성하는 단계, 및
상기 기판의 에지 근처에, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택의 투명 전도층으로 제조되는 다수의 연결 패드를 형성하는 단계를 포함한다.
상기 연결 패드들이 상기 제 1 광학 전도성 광학 필름 스택에 조성된 투명 전도층으로 제조되기 때문에, 이들 연결 패드는 그 표면에서 우수한 항산화성(anti-oxidation ability)을 갖는다. 따라서, 상기 연결 패드의 연결 특성(quality) 및 신뢰성이 향상된다.
본 발명의 다른 목적, 장점 및 신규 특징들은 첨부도면을 참조로 한 하기 상세한 설명으로부터 보다 명백해질 것이다.
도 1a 내지 도 1e에는, 본 발명에 따른 광학 간섭 패널의 기본 제조 방법이 도시되어 있다. 상기 방법은 이하의 단계들을 포함한다.
기판(10)상에 다수의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 형성하는 단계: 이들 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 유리 또는 고분자 재료로 조성된 기판(10)상에 형성된다.
연결 패드의 패턴을 한정하는 단계: 상기 기판(10)의 에지 근처에 다수의 연결 패드(201, 202)를 형성하기 위해 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 부분들이 추가로 패터닝된다(도 1a에 도시된 바와 같음).
상기 기판(10)상에 지지 층(11)을 형성하는 단계: 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 제거된 기판(10)상에 지지 층(11)이 형성된다. 즉, 두 개의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20) 사이에 상기 지지 층(11)이 형성된다(도 1b에 도시된 바와 같음).
이격 층(12) 형성 단계: 이격 층(12)이 각각의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20) 위에 형성되고 추가로 편평해진다(도 1c에 도시된 바와 같음).
다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 형성하는 단계: 이들 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 상기 이격 층(12) 및 지지 층(11) 상에 코팅하며, 각각의 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)이 대응 연결 패드(202)에 전기적으로 연결된다(도 1d에 도시된 바와 같음).
이격 층(12) 제거 단계: 상기 이격 층(12)이 기판(10)으로부터 제거되며, 따라서 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)과 제 2 전도성 광학 필름 스택(13) 사이에 갭이 형성된다(도 1e에 도시된 바와 같음).
상술한 기본 방법에 기초하여, 상기 연결 패드(201, 202)는 상기 제 1 전도 성 광학 필름 스택(20)의 형성 과정 중에 상기 기판(10)상에 동시에 형성된다. 이들 연결 패드(201, 202)는 패널의 스캔 라인들 및 데이터 라인들에 대한 신호 접합부로서 사용된다. 또한, 상기 연결 패드(201, 202)는 투명한 전도층(인듐 주석 산화물 필름, ITO 필름이라고도 불림)에 의해 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)에 형성되므로, 그 표면에서 우수한 항산화성을 갖는다. 상기 연결 패드(201, 202)의 연결 특성과 신뢰성이 개선된다.
도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 여러가지 실시예들에 의해 형성할 수 있다. 도 2a에서, 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 바닥에서부터 위쪽으로의 순서로 투명 전도층(21a), 흡수 층(22a) 및 절연 층(24a)으로 순차적으로 구성한다.
도 2b에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 순차적으로 제 1 절연층(23b), 투명 전도층(21b), 흡수층(22b) 및 제 2 절연층(24b)으로 구성한다.
도 2c에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 순차적으로 투명 전도층(21c), 제 1 절연층(23c), 흡수층(22c) 및 제 2 절연층(24c)으로 구성한다.
도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 순차적으로 제 1 절연층(23d), 흡수층(22d), 투명 전도층(21d) 및 제 2 절연층(24d)으로 구성한다.
상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 전술한 바와 같이 다른 실시예들을 갖기 때문에, 기본 제조 과정은 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 원하는 형태에 따라서 달라질 것이다.
도 3a 내지 도 3f를 참조하면, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 도 2a에 도시된 것과 동일하다. 기본 제조 방법은 다음과 같이 변형된다:
기판(10)상에 투명 전도층(21a), 흡수층(22a) 및 절연층(24a)을 순차적으로 형성하여 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 구성하는 단계;
연결 패드(201, 202)의 패턴을 한정하는 단계로서, 상기 기판(10)의 에지 근처에 연결 패드(201, 202)를 형성하기 위해 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 일 부분이 추가로 패터닝되는 단계;
상기 기판(10)상에 지지 층(11)을 형성하는 단계로서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 제거된 기판(10)상에 지지 층(11)이 형성되는 단계(도 3b 에 도시된 바와 같음);
이격 층(12) 형성 단계로서, 이격 층(12)이 각각의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)상에 형성되고 추가로 편평해지는 단계(도 3c에 도시된 바와 같음);
상기 기판(10)의 에지 근처에서 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 커버하는 이격 층(12)을 제거하여 상기 에지 근처에 형성된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 노출시키는 단계(도 3d에 도시된 바와 같음);
상기 기판(10)의 에지 근처의 노출된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 흡수층(22a)과 절연층(24a)을 제거하는 단계로서, 상기 기판(10)상에 남아있는 투명 전도층(21a)이 상기 연결 패드(201, 202)의 형성을 위해 사용되는 단계(도 3e에 도 시된 바와 같음);
기판(10)상에 남아있는 지지 층(11)과 이격 층(12)상에 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 형성하는 단계로서, 상기 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)이 상기 연결 패드(202)의 일 부분에 전기적으로 연결되는 단계(도 3f에 도시된 바와 같음);
상기 제 2 전도성 광학 필름 스택(13) 아래의 이격 층(12)을 제거하여 제 1 및 제 2 전도성 광학 필름 스택(20, 13) 사이에 갭을 형성하는 단계(도 3g에 도시된 바와 같음).
도 4a 내지 도 4g와 관련한 실시예는, 기본적으로 제 1 실시예와 동일하며, 유일한 차이점은 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 도 2c의 실시예를 채택하고 있다는 점이다. 즉, 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 순차적으로 투명 전도층(21c), 제 1 절연층(23c), 흡수층(22c) 및 제 2 절연층(24c)으로 구성된다. 도 4e를 참조하면, 기판(10)의 에지 근처에 형성된 상기 제 1 절연층(23c), 흡수층(22c) 및 제 2 절연층(24c)은 모두 제거되며, 기판(10)상에는 투명 전도층(21c)만이 남는다.
도 5a 내지 도 5h를 참조하면, 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 도 2b에 관해 언급된 것과 동일하다. 기본 제조 방법은 다음과 같이 변형된다:
기판(10)상에 도 5a의 제 1 절연층(23b), 투명 전도층(21b), 흡수층(22b) 및 제 2 절연층(24b)을 순차적으로 형성하여 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 구성하는 단계;
연결 패드(201, 202)의 패턴을 한정하는 단계로서, 상기 기판(10)의 에지 근처에 연결 패드(201, 202)를 형성하기 위해 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 일 부분이 추가로 패터닝되는 단계;
상기 기판(10)상에 지지 층(11)을 형성하는 단계로서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 제거된 기판(10)상에 지지 층(11)이 형성되는 단계(도 5c에 도시된 바와 같음);
이격 층(12) 형성 단계로서, 이격 층(12)이 각각의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)상에 형성되고 추가로 편평해지는 단계(도 5d에 도시된 바와 같음);
상기 기판(10)의 에지 근처에서 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 커버하는 이격 층(12)을 제거하여 상기 에지 근처에 형성된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 노출시키는 단계(도 5e에 도시된 바와 같음);
상기 기판(10)의 에지 근처의 노출된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 흡수층(22b)과 절연층(24b)을 제거하는 단계로서, 상기 기판(10)상에 남아있는 투명 전도층(21b)이 상기 연결 패드(201, 202)의 형성을 위해 노출 및 사용되는 단계(도 5f에 도시된 바와 같음);
기판(10)상에 남아있는 지지 층(11)과 이격 층(12)을 커버하는 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 형성하는 단계로서, 상기 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)이 상기 연결 패드(202)의 일 부분에 전기적으로 연결되는 단계(도 5g에 도시된 바와 같음);
상기 제 2 전도성 광학 필름 스택(13) 아래의 이격 층(12)을 제거하여 제 1 및 제 2 전도성 광학 필름 스택(20, 13) 사이에 갭을 형성하는 단계(도 5h에 도시된 바와 같음).
도 6a 내지 도 6h를 참조하면, 제 4 실시예는 기본적으로 제 3 실시예와 동일하며, 유일한 차이점은 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)이 도 2d의 실시예를 채택하고 있다는 점이다. 즉, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 순차적으로, 제 1 절연층(23d), 흡수층(22d), 투명 전도층(21d) 및 제 2 절연층(24d)으로 구성한다. 도 6f를 참조하면, 기판(10)의 에지 근처에 형성된 제 2 절연층(24d)을 투명 전도층(21d)을 노출하도록 제거한다.
도 7 내지 도 11을 참조하면, 이들 도면은 각각 본 발명의 패널로부터 시뮬레이팅되는 흑색광, 백색광, 적색광, 녹색광 및 청색광 스펙트럼 차트를 도시한다.
결론적으로, 본 발명의 광학-반사형 디스플레이 패널은 칼라 필터링 필름 및 편광 필름 없이도 빛의 이용 효율을 증대시킬 수 있다. 더구나, 상기 연결 패드는 투명 전도층에 의해 형성되므로 그 표면에서 우수한 항산화성을 갖는다. 따라서, 상기 연결 패드의 연결 특성 및 신뢰성이 개선된다.
그러나, 본 발명의 구조 및 기능의 세부사항들과 함께 여러가지 특징들 및 장점들에 대해 상술하였지만, 개시된 내용은 예시적일 뿐이며, 세부적으로 특히 본 발명의 원리 안에서의 부품의 형상, 크기 및 배치의 문제에 있어서 많은 변형예들이 청구범위를 표현하는 문장의 넓은 일반적 의미가 나타내는 최대 한도까지 존재 할 수 있다.

Claims (11)

  1. 기판(10)을 제공하는 단계와,
    상기 기판(10)상에 다수의 제 1 전도성 광학 필름 스택(20), 지지 층(11), 이격 층(12) 및 다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 순차적으로 형성하는 단계, 및
    상기 기판(10)의 에지 근처에, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 투명 전도층(21)으로 제조되는 다수의 연결 패드(201, 202)를 형성하는 단계를 포함하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기판(10)상에 다수의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 형성하는 단계와,
    연결 패드의 패턴을 한정하는 단계로서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 부분들이 추가로 패터닝되어 다수의 연결 패드(201, 202)를 형성하는 단계와,
    상기 기판(10)상에 지지 층(11)을 형성하는 단계로서, 두 개의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20) 사이에 지지 층(11)이 형성되는 단계와,
    이격 층(12)을 형성하는 단계로서, 상기 이격 층(12)이 각각의 분리된 제 1 전도성 광학 필름 스택(20) 위에 형성되고 추가로 편평해지는 단계와,
    다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)을 형성하는 단계로서, 상기 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)이 상기 이격 층(12) 및 지지 층(11) 상에 코팅되고, 다수의 연결 패드(202)의 일 부분에 전기적으로 연결되는 단계와,
    상기 이격 층(12)을 제거하는 단계로서, 상기 이격 층(12)이 기판(10)으로부터 제거되면 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)과 제 2 전도성 광학 필름 스택(13) 사이에 갭이 형성되는 단계를 추가로 포함하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을, 상기 기판(10)상에 투명 전도층(21a), 흡수 층(22a) 및 절연 층(24a)을 순차적으로 형성하는 단계에 의해 형성하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 상기 기판(10)상에 제 1 절연층(23b), 투명 전도층(21b), 흡수층(22b) 및 제 2 절연층(24b)을 순차적으로 형성하는 단계에 의해 형성하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 상기 기판(10)상에 투명 전도층(21c), 제 1 절연층(23c), 흡수층(22c) 및 제 2 절연층(24c)을 순차적으로 형성하는 단계에 의해 형성하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)을 상기 기판(10)상에 제 1 절연층(23d), 흡수층(22d), 투명 전도층(21d) 및 제 2 절연층(24d)을 순차적으로 형성하는 단계에 의해 형성하는, 광학 간섭형 디스플레이 패널의 제조 방법.
  7. 다수의 제 1 전도성 광학 필름 스택(20), 지지 층(11) 및 다수의 제 2 전도성 광학 필름 스택(13)이 그 위에 형성되어 있는 기판, 및
    상기 기판(10)의 에지 근처에 형성되고 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)의 투명 전도층(21)으로 제조되는 다수의 연결 패드(201, 202)를 포함하는 광학 간섭 디스플레이 패널.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 상기 기판(10)상에 순차적으로 형성되는 투명 전도층(21a), 흡수층(22a) 및 절연층(24a)을 포함하는 광학 간섭 디스플레이 패널.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 상기 기판(10)상에 순차적으로 형성되는 제 1 절연층(23b), 투명 전도층(21b), 흡수층(22b) 및 제 2 절연층(24b)을 포함하는 광학 간섭 디스플레이 패널.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 상기 기판(10)상에 순차적으로 형성되는 투명 전도층(21c), 제 1 절연층(23c), 흡수층(22c) 및 제 2 절연층(24c)을 포함하는 광학 간섭 디스플레이 패널.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 광학 필름 스택(20)은 상기 기판(10)상에 순차적으로 형성되는 제 1 절연층(23d), 흡수층(22d), 투명 전도층(21d) 및 제 2 절연층(24d)을 포함하는 광학 간섭 디스플레이 패널.
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