KR100573634B1

KR100573634B1 - 조명 장치

Info

Publication number: KR100573634B1
Application number: KR1019997006337A
Authority: KR
Inventors: 로랜드 윈스톤; 로버트 엘. 홀먼; 벤자민 에이. 자콥슨; 로버트 엠. 에먼스; 필립 글렉만
Original assignee: 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니
Priority date: 1997-01-13
Filing date: 1998-01-13
Publication date: 2006-04-26
Also published as: CA2280085A1; CA2280085C; EP0953130A4; AU6023698A; JP4163259B2; KR20000070114A; WO1998033006A2; JP2008270222A; WO1998033006A3; JP2001508590A; EP0953130A2; JP4642873B2

Abstract

광을 집광하여 선택적으로 출력하거나 집중시키기 위한 광학 장치가 개시된다. 굴절율 n₁을 갖고, 경사각

로 한정되는 상부면, 하부면, 및 측면들을 갖는 층이 포함된다. 후면은 상부면, 하부면, 및 측면들에 걸쳐 있다. 제1 층이 상기 층의 하부면에 연결되고, 굴절율 n₂를 갖는다. 제1 층의 굴절율 n₂는 광이 상기 층의 후면을 통해 입사하고 상기 제1 층에 차별적으로 출력되도록 한다. 제2 층은 상기 제1 층의 하부면에 연결되고, 광이 선택적으로 주위에 출력되도록 한다. 출력광의 조망성(viewing)을 향상시키기 위해 편광층, 편광 변환층, 및 후치 LCD 확산층과 같은 층들이 LCD 층을 통과한 확산광의 편광된 광을 차별적으로 이용하는데 사용될 수 있다.

광학 장치, 조망성, 광원, 웨지층, 테이퍼형, 기부층, 상부면, 하부면, 후면, 임계각, 광 전향층, 마면층, 마면각, 광 확산층, 편광 변환, 굴절율, 간섭층, 반사층, 복굴절층, 홀로그래픽, 액정 표시층, 시야각

Description

조명 장치 {LUMINAIRE DEVICE}

본 발명은 일반적으로 선택된 광의 조명을 제공하기 위한 조명 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 웨지(wedge)와 같이, 액정 표시층으로부터 출사된 광에 의해서, 또한 광의 편광을 조정하여 백라이트하고, 선택 편광된 광을 리사이클링 하여 선택된 광의 편광을 필터링하여 광의 조명 및 화상 출력을 향상시키기 위한 조명 장치에 관한 것이다.

예를 들면, 액정 표시 장치와 같은 조명 장치로서 다양한 장치가 존재한다. 평판 액정 표시 장치에서는 소형 광원을 유지함과 함께 적당한 백라이팅을 제공하는 것이 중요하다. 일반적인 조명을 목적으로 웨지형 광학 장치를 사용하는 것이 알려져 있다. 광은 상기 광학 장치의 큰 단부로 입사되고, 반사 경계면의 임계각에 도달할 때까지 웨지면으로부터 내부 반사된 후에 상기 웨지형 광학 장치로부터 출사된다. 그러나, 이러한 장치들은 비조준 광의 출력을 투과시키는 데만 사용되었기 때문에, 종종 원치않는 공간적인 각도의 출력 분포를 나타내었다. 예를 들면, 이들 장치의 몇몇은 확산 반사기로서 백색 페이트 층을 사용하여 평행하지 않게 출사된 광을 발생시킨다.

따라서, 본 발명의 목적은 개선된 광학 장치 및 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 신규한 3차원 조명 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 편광의 이용 제어에서와 같이 광학 목적을 위한 개선된 다층의 테이퍼형 조명 장치(multilayer tapered luminaire)를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 광의 투과 또는 집중을 제어하기 위한 신규한 테이퍼형 조명 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 장치로부터 평행하게 편광된 광의 조명을 제공하기 위한 신규한 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 편광 필터층을 가진 개선된 테이퍼형 조명 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명으로부터 출사된 조명을 향상시키기 위해서 편광된 광의 변환을 할 수 있는 신규한 조명 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 편광 필터층과 광 전향 층과의 결합으로 제어된 출력 각 범위에서 개선된 광의 조명을 관측자(viewer)에게 제공하는 개선된 조명 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 편광 필터, 편광 변환층 및 후치(post) LCD 확산층의 결합으로 광학 장치로부터 광의 조명을 향상시키는 신규한 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 LCD 층이 상부에 놓이는 후치 LCD 확산층에 인접하게 배치되어 광의 출력 또는 화질의 손실없이 관측자에 대한 확장각에서 광의 분산 제어를 할 수 있는 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 조명 이득의 향상을 위해서 조명광을 하나의 편광 상태로 변환하기 위한 내부 편광 공동을 가진 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 조명 효율을 향상시키기 위해서 편광빔 분할기와 구조화된 후면 반사기층의 선택된 배열을 가진 신규한 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 향상된 조명 효율을 제공하기 위해서 구조적 후면 반사기층과 상호 작용하는 편광 변환층을 가지는 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 향상된 조명 이득을 제공하기 위해서 편광빔 분할기, 1/4 파장 변환층 및 미세 구조화된 후면 반사체층을 가진 새로운 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 a)조명 장치의 기부층에 직접 증착된 분할층, 및 b)개별 유리판상에 분할층의 증착 중의 하나를 포함하는 편광 분할층들의 선택가능한 배열을 가진 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 a)후면 반사체와 조명 장치의 기부층 사이에 배치되어 중간에 공기층들을 가지고, b)후면 반사기에 직접 결합되어 조명 장치의 기부층과 직접 결합된 층들 사이에 공기층을 가지며, c)조명 기구의 기부층에 직접 결합되어 변환 소자 및 금속 후면 반사기층 또는 후면 반사기의 BEF층 사이에 공기층을 가지며, d)일측은 조명 장치의 기부층에 다른측은 고효율 미러에 직접 결합되고, e)일측상에서는 조명 장치의 기부층에 기부층의 다른측상에서는 공기층 및 후면 반사기에 직접 결합된 선택가능한 배열 중의 하나에 1/4 파장판 편광 변환 소자를 포함하는 신규한 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 조명 특성을 향상시키기 위해서 조직된 기부층을 가진 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 변환층 및 BEF형 후면 반사기를 결합하여 필름용 반사성 편광자를 이용하는 신규한 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 편광된 분할기를 가진 각종의 공기층에 의해서 분리되어 전향된 기부층, 변환기, 및 상기 기부층의 위 및/또는 아래에 배치된 후면 반사기층을 가진 개선된 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 기부층의 아래에 있는 후면 반사기, 상기 기부층의 상부면에 인접한 전향층, 반사성 편광자 및 상기 전향층 상부에 놓이는 전향/확산층을 포함하는 신규한 조명 광학 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적, 특징 및 장점들은 이하 설명되는 첨부 도면과 관련하여 이루어진 바람직한 실시예의 다음의 설명으로부터 자명하게 될 것이다.

도 1은 종래 기술의 웨지형 장치를 보여주고 있다.

도 2A는 본 발명에 따라 구성된 다수층의 테이퍼형 조명 장치를 나타내고 있다. 도 2B는 웨지층, 제1층 및 제2층의 절단된층이 결합된 상태를 나타내는 확대된 일부분에 대한 도면이다. 도 2C는 크게 확대된 제2의 절단된층을 나타내는 도 2A의 부분도를 나타낸다. 도 2D는 휘도 결정을 위한 형태를 나타내는 제3층의 결합부의 일부분에 대한 도면이다. 도 2E는 하부에 광의 전향을 위한 내부 투과층을 가진 다층의 웨지 장치를 나타내고 있다. 도 2F는 하부면이 반투명층인 웨지 장치를 나타내고 있다. 도 2G는 하부면에 절단된 굴절층을 가진 웨지층을 나타내고 있다. 도 2H는 하부면이 굴절층과 그 위에 곡률형 마면으로 이루어진 웨지층을 나타내고 있다. 도 2I는 가변 절단 각을 갖는 마면의 굴절층을 가진 웨지층을 나타내고 있다. 도 2J는 웨지층에 결합된 단일의 굴절 프리즘을 나타내고 있다. 도2K는 웨지층에 결합되어 있고 일체형 렌즈를 가진 단일의 굴절 프리즘을 나타내고 있다. 도 2L은 웨지 장치에 결합된 마면 반사층을 나타내고 있다. 도 2M은 곡률형 절단 각도를 가지며 상기 웨지 장치에 결합된 마면 반사층을 나타내고 있다. 도 2N은 웨지층상의 평편한 반사 마면을 나타내고 있다. 도 2O는 웨지층상의 곡률형 반사 마면을 나타내고 있다.

도 3A는 제2층의 주면측상에 곡률형 마면을 가진 다수층의 웨지 장치를 나타내고 있다. 도 3B는 웨지 장치의 다수의 층의 결합부의 확대된 부분적인 도면이다.

도 4A는 조명 각의 비대칭 범위에서 계산된 휘도의 성능을 나타내고 있다. 도 4B는 보다 대칭적인 각도 범위에서 계산된 휘도의 분포 성능을 나타내고 있다. 도 4C는 도 4B의 대칭의 각도에서 계산된 휘도의 성능을 나타내는 도면으로서 외부 확산 소자를 추가하여 나타내고 있다. 도 4D는 평행 확산기가 없는 평면 반사 마면과, 최대 휘도의 절반에서의 전폭(full-width at half-maximum brightness)(FWHM) = 7도(degree)를 사용한 출력을 나타내는 도면이다. 도 4E는 평행한 볼록형 확산기를 가진 평면형 마면과, FWHM 34도를 사용하여 측정된, 거의 대칭의 출력 분포의 일례를 나타내고 있다. 도4F는 곡률형 마면과 FWHM = 32도를 사용하여 측정된 비대칭 출력 분포의 일례를 나타내고 있다. 도4G는 곡률형 마면과, FWHM 26도를 사용하여 측정된 비대칭 출력 분포의 일례를 나타내고 있다. 도4H는 하나의 절단된 반사층과 하나의 절단된 굴절층을 사용하여 측정된 2개 모드의 출력 분산의 일례를 나타내고 있다. 도4I는 확산 반사형 하부 전향 층 및 굴절/내부 반사 상부 전향층을 사용하여 측정된 큰 테일(tails)을 가진 출력 분산의 일례를 나타내고 있다.

도 5A는 디스크형 도파로(light guide)의 평면도를 나타내며, 도 5B는 도 5A의 5B-5B를 따라 취해진 단면도를 나타낸다.

도 6A는 공기 갭층을 포함하는 다층 테이퍼형 조명 장치의 단면도를 나타내며, 도 6B는 컴파운드 포물선의 광원/집중기를 가진 다른 테이퍼형 조명 장치의 단면을 나타낸다. 도 6C는 가변 파라메터 프로파일 광원 및 볼록형 확산기를 가진 다른 테이퍼형 조명 장치의 단면도이다. 도 6D는 비단조(non-monotonic) 웨지층의 두께를 가진 다른 테이퍼형 조명 장치의 단면도이다.

도 7은 광원에 대하여 동심원으로 배치된 반사형 소자를 나타내고 있다.

도 8은 반사체의 곡률 중심과 광원의 중심간이 최대로 배열된 상태에서 광원 주위에 배치된 반사형 소자를 나타내고 있다.

도 9A는 조명 장치의 모든 부분들로부터 방사되는 거의 유사한 각도의 분산 을 제공하기 위해서 전향을 사용하는 것을 나타내며, 도 9B는 조명 장치의 다른 부분으로부터 방사되는 각도 분산에 변화를 주기위해서 특히 다양한 각도로 분산을 집중시켜 선택된 타겟 거리에서 분산의 중첩을 향상시키도록 전향층을 사용하는 것을 나타내고 있다.

도 10은 조명 장치의 볼록형 어레이들의 쌍의 하나의 형태를 나타내고 있다.

도 11은 조명 장치의 볼록형 확산 어레이 및 곡률형 마면층을 나타내고 있다.

도 12A는 한쌍의 회절 격자 또는 홀로그램층을 가진 웨지형 조명 장치를 나타내며, 도 12B는 한쌍의 굴절 마면층 및 확산기를 가진 웨지형 조명 장치를 나타내며, 도 12C는 한쌍의 절단된 층을 가진 웨지형 조명 장치를 나타내고, 도 12D는 2개의 굴절성 단일 절단층을 가진 웨지형 조명 장치를 나타내며, 도 12E는 하나의 굴절성 단일 마면층과 하부면 전향층을 가진 웨지형 조명 장치를 나타내고, 도 12F는 절단된 굴절층 및 하부면 굴절성 및 내부 반사층으로된 상부면 전향층을 가진 조명 장치를 나타내고, 도 12G는 상부면 굴절/내부 반사성 절단층 및 하부면 굴절/내부 반사성 절단층을 가진 조명 장치를 나타내고, 도 12H는 상부면에 굴절/내부 반사성 절단층을, 하부면에 굴절/내부 반사성 절단층을 가진 조명 장치를 도시하며, 도 12I는 하부면에 거울 반사기를, 상부면에 투과 회절 격자 또는 투과 홀로그램을 나타내고 있다. 도 12J는 하부면 거울 반사기 및 상부면 굴절 절단층 그리고 확산기를 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12K는 하부층의 거울 반사기 및 상부층의 굴절/내부 반사 절단층을 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12L은 하부 거울 반사기 및 상부층의 굴절/내부 반사 절단층을 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12M은 일체형의 볼록형 확산기를 포함하는 내부 반사기부를 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12N은 개략적인 초기 반사기층부를 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12O는 편심 광 결합기를 가지며 웨지형부로 집속되는 조명 장치를 나타내고 있다. 도12P는 편심 광 결합기 및 확산기와 개략적인 또는 볼록형 반사기를 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 12Q는 하부 거울 또는 확산 반사층 및 상부 굴절층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 12R은 배트윙(bat wing) 광 출력을 발생시키기 위한 조명 장치를 나타내고 있다.

도 13은 일체로 형성된 2개의 웨지형부를 결합한 것과 2개의 광원을 사용하는 것을 나타내고 있다.

도 14는 절단된 전향층을 포함하는 테이퍼형 디스크 조명 장치를 나타내고 있다.

도 15는 조준된 광(collimated light)의 출력 분포를 제공하도록 동작하는 조명 장치를 나타내고 있다.

도 16A는 종래 기술의 주변 모드 LCD를 나타내며, 도 16B는 종래 기술의 투과 반사형(transflective) LCD 유닛을 나타내고 있다.

도 17은 주변 및 액티브 모드에서 동작하는 절단된 전향층 및 볼록형 확산기를 가진 조명 장치를 나타내고 있다.

도 18A는 확산 백라이트 위에 마면이 배치된 미세프리즘들의 어레이를 갖되, 이들 미세프리즘들은 양측면이 동일한 각도를 갖고, 각 미세프리즘은 면에 대하여 점증적으로 절단 각도가 변화하는 조명 장치를 나타내며, 도 18B는 도 18A에 도시된 미세프리즘의 어레이에서 각 미세프리즘의 측면들이 마면에 대하여 다시 변화하는 다른 각도를 갖고 있음을 보여주고 있다.

도 19A는 편광 필터층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 19B는 편광 필터층을 포함하는 복수의 층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 19C는 조명 장치의 일 측면상에 2개의 편광된 광을 출력할 수 있는 굴절율의 층들을 가진 도 19B에 대한 변형예를 나타내고 있다.

도 20A는 도 19B와 유사하지만 반사기층을 더 포함하고 있는 조명 장치를 나타내며, 도 20B는 도 20A에서와 같은 조명 장치를 나타내지만, 전향층이 기부층과 편광 필터의 동일한 측면에 배치되어 있는 것을 나타내며, 도 20C는 제2의 전향층 및 재배열된 n₂/필터/전향층을 가진 도20B에 대한 변형예를 나타내고 있다.

도 21A는 편광 변환층 및 편광 필터층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 21B는 기부층의 동일한 측면 상에 편광 필터층 및 편광 변환층을 가진 도 21A의 변형예를 나타내고 있다.

도 22A는 기부층의 일 측면상에 편광 필터층을, 기부층의 다른 측면 상에 편광 변환층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 22B는 기부층의 동일한 측면상에 서로 인접한 필터 및 변환층을 가진 도 22A에 대한 변형예를 나타내고 있다. 도 22C는 반사기층의 추가된 상기 도 22A 및 도 22B에 대한 변형예를 나타내고 있다. 도 22D는 기부층의 다른 측면으로 이동된 변환층을 가진 도 22C에 대한 변형예를 나타내고 있다. 도 22E는 도 22D에 대한 또 다른 변형예를 나타내고 있다.

도 23A는 편광 필터, 변환층, 전향층, 반사기, 및 LCD층을 포함하는 복수의 층을 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 23B는 도 23A에 대한 변형예를 나타내고 있다. 도 23C는 도 23A에 대한 또 다른 변형예를 나타내고 있다.

도 24A는 2개의 편광 상태를 위한 2개의 편광 필터층을 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 24B는 도 24A에 광 전향층이 추가된 변형예를 나타내고 있다. 도 24C는 정합층, 제2의 전향층, 및 LCD층을 가진 도24B에 대한 또 다른 변형예를 나타내고 있다. 도 24D는 도24B 및 도 24C에 대한 또 다른 변형예를 나타내고 있다. 도 24E는 도 24D에 대하여 제2의 변환층, 2개의 편광 필터층 및 2개의 전향층을 가진 변형예를 도시하고 있다. 도 24F는 도 24E에 대하여 기부층의 양 측면 상에 LCD층을 가진 또 다른 변형예를 나타내고 있다.

도 25A는 2개의 편광 필터층 및 편광 변환층을 사용하는 일반적인 구성을 나타내고 있다. 도 25B는 도 25A에 대하여 제2의 전향층을 가진 변형예를 나타내고 있다.

도 26A는 조명 장치로부터 출력된 광을 공간적으로 일정하게 제어하기 위한 광 각도 변형기에 결합된 광원을 갖는 다수층의 조명 장치를 나타내고 있다. 도 26B는 도 26A에 대한 변형예를 나타내고 있다.

도 27A는 절단된 전향층, 편광 및 편광 변환층을 가진 조명 장치를 나타내고 있다. 도 27B는 도 27A의 변형예로서, 전향층은 광을 바람직한 시야각 존으로 집속하기 위한 곡률형 마면을 가진 반사층을 포함한다.

도 28A는 편광 필터, 편광 변환기, 절단된 전향 및 확산층을 가진 조명 장치를 나타내며, 도 28B는 도 28A에 대하여 2개의 편광 필터층 및 2개의 절단된 전향층을 가진 변형예를 나타내고 있다. 도 28C는 조명 장치에 결합된 광원을 나타내며, 이는 도 28A의 변형예이다. 도 28D는 도 28C에 대한 변형예이다. 도 28E는 도 28C의 변형예이다.

도 29A는 편광된 광의 출력을 LCD층과 결합한 조명 장치를 나타내고 있으며 도 29B는 도 29A의 변형예이다.

도 30A는 종래의 LCD 표시 시스템을 나타내며, 도30B는 편광 필터층을 나타내고, 도 30C는 다층 박막 형태의 편광 필터를 나타내며, 도 30D는 브루스터 스택 형태(Brewster stack form)의 편광 필터를 나타내며, 도 30E는 복굴절판 및 상호 작용하는 편광된 광을 나타내고 있다. 도30F는 오일러 각도(Eulerian angles) 및 광 벡터를 나타내며, 도30G는 xz 평면상에 평행한 광을 제공하는 백라이트를 나타내며, 도 30H는 도 30G로부터 존이 확장된 것을 상세히 도시하고 있다.

도 31A는 복굴절층이 결합된 조명 장치를 나타내며, 도 31B는 조명 장치 및 복굴절층 그리고 추가된 광 전향층을 나타내고 있다. 도 31C는 도 31B와 유사하나 추가된 편광 변환층이 있는 조명 시스템을 나타내고 있다. 도 31D는 도 31C와 유사하나, 변환층이 복굴절층으로서 기부층의 동일한 측면상에 있는 것을 나타낸다. 도 31E는 변환층이 기부층에 직접 접속되어 있는 도 31C의 변형예를 나타내고 있다. 도 31F는 도31D와 유사하나 전향층이 절단된층을 포함하고 있다. 도 31G는 도 31F의 실시예를 기초로 하고 있으나 정합층, LCD층 및 확산층을 포함하고 있다. 도 31H는 도31G에 대한 변형예이다.

도 32A는 LCD층 및 편광되지 않은 광을 처리하기 위한 후치 LCD 확산층을 포함하는 조명 시스템을 나타내며, 도 32B는 도 32A에 대한 변형예이고, 도 32C는 도 32B에 대한 변형예이다.

도 33은 1/4 파장 변환층, 기부층 및 편광 분할기 아래의 후면 반사기의 BEF 계통의 형태 및 기부층 상부의 전향층을 포함하는 조명 시스템을 나타낸다.

도 34는 변환층이 없는 도33의 다른 형태를 나타내고 있다.

도 35는 기부층 아래의 후면 반사기의 BEF 계통의 형태 및 기부층 상부의 광 전향층을 포함하는 조명 시스템을 나타낸다.

도 36은 후면 반사기층의 BEF 계통의 형태 대신에 금속성의 후면 반사기를 사용하는 도33의 또 다른 형태를 나타내고 있다.

도 37은 편광 분할층이 기부층 상에 직접 배치되어 있는 것은 제외하고 도35의 다른 형태를 나타내고 있다.

도 38은 후면 반사기층이 금속성 후면 반사기층이라는 것은 제외하고 도35의 또 다른 형태를 나타내고 있다.

도 39는 1/4 파장판 변환층이 기부층에 적층되어 있는 것은 제외하고 도36의 또 다른 형태를 나타내고 있다.

도 40은 기부층에 의해서 형성된 편광 공동과 적층된 변환층을 가진 조명 시스템을 나타내고 있다.

도 41은 도40의 다른 형태로서 편광 분할층이 기부층의 상부면 상에 직접 배 치되어 있는 것을 나타내고 있다.

도 42는 기부층의 하부면층에 적층된 변환층에 직접 연결된 흑색 반사층을 갖는, 도 40 및 도 41의 변형례를 나타내고 있다.

도 43은 기부층의 상면 위에 배치된 편광 변환층을 갖는 조명 장치 시스템을 나타내고 있다.

도 44는 복굴절 편광 변환 재료로 이루어진 기부층을 갖는, 도 43의 변형례를 나타내고 있다.

도 45는 BEF형 후면 반사기인 후면 반사층을 갖는 도 39의 변형례를 나타내고 있다.

도 46은 BEF형 후방 반사기인 후방 반사층을 갖는 도 40의 변형례를 나타내고 있다.

도 47은 입력부에 배치된 편광 분할층(polarization splitting layer)을 갖는 조명 장치 시스템을 나타내고 있다.

도 48은 편광 분할층의 램프 공동측 상에 편광 변환층을 갖는, 도 47의 변형례를 나타내고 있다.

도 49는 전향층, 텍스쳐된(textured) 기부층, 및 간섭층을 대신하는 막 계열의 반사형 편광기를 포함하지 않는, 도 33의 변형례를 나타내고 있다.

도 50은 텍스쳐된 지지층을 갖지 않는, 도 49의 변형례를 나타내고 있다.

도 51은 BEF형 후방 반사기를 대신하는 금속 후방 반사기를 갖는 도 49의 변형례를 나타내고 있다.

도 52는 텍스쳐되지 않은 기부층을 갖는, 도 51의 변형례를 나타내고 있다.

도 53은 간섭층을 대신하는 반사형 편광층을 가지며 기부층이 텍스쳐된, 도 33의 변형례를 나타내고 있다.

도 54는 방향 전환층이 반사형 편광층으로 스위칭된 것을 제외한, 도 53의 변형례를 나타내고 있다.

도 55는 기부층 위에 배치된 변환층을 갖는, 도 53의 변형례를 나타내고 있다.

도 56은 기부층에 적층된 변환층을 갖는, 도 53의 변형례를 나타내고 있다.

도 57은 텍스쳐된 형태의 기부층을 사용한, 도 35의 변형례를 나타내고 있다.

도 58은 개별 변환층을 사용하지 않고 동작되는 편광된 조명 장치 시스템을 나타내고 있다.

도 59는 방향 전환/확산층 아래에 배치된 편광층을 갖는, 도 58의 변형례를 나타내고 있다.

도 60은 각외 반사(off-angle reflections)에 의해 생성된 편광을 갖는, 도 53의 변형례를 나타내고 있다.

도 61A는 조명 장치 출력 측정 시스템 및 조명 장치 장치의 상면도를 도시한 도면이며, 도 61B는 2개의 반쪽 조명 장치들을 나타내고 있다.

도 62는 측정된 각 계수 대 최대 휘도를 나타내고 있다.

도 63은 표준 백라이트와 코팅된 판 편광 빔 분산기를 사용한 백라이트를 사용한 편광 및 비편광 조명 장치로부터의 전형적인 수직 분포를 나타내고 있다.

본 발명의 한 형태에 따라 구성된 다층 조명 장치 장치가 도 2에 도시되어 있으며 일반적으로 10으로 표시되어 있다. 종래 기술의 웨지(11)가 도 1에 일반적으로 도시되어 있다. 이 웨지(11)에서, 웨지(11) 내의 광선은 입사각이 임계각(sin^-11/n) 미만일 때까지 표면으로부터 반사하는데, 여기서 n은 웨지(11)의 굴절률이다. 광은 웨지(11)의 상부면 및 하부면 양자 모두로부터 동일하게 나갈 수 있으며, 또한 그레이징 각(grazing angle)으로 나갈 수 있다.

도 2A에 도시된 다층 조명 기구 장치(10) [이하, "장치(10)"라 함]는 n₁인 특성 광 굴절률을 갖는 지지체 또는 웨지층(12)을 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "웨지층"은 단면이 웨지 형태인 갖는 수렴하는 상부면 및 하부면을 구비하는 모든 형상을 포함한다. x, y, 및 z 축은 도 2A 및 2C내에 표시되어 있으며 "y" 축은 용지에 수직이다. 웨지층(12)에 사용되는 전형적인 재료는 유리, 폴리메틸 메타아크릴레이트(polymethyl methacrylate), 폴리스티렌 (poly styrene), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchlori de), 메틸메타아크릴레이트/스티렌 코폴리머(methacrylate/styrene copolymer)(NAS), 및 스티렌/아크릴로나이트릴 (styrene/acrylo nitrile)과 같은 대부분의 투명 재료를 포함한다. 도 2A의 웨지층(12)은 상부면(14), 하부면(16), 측면들(18), 에지(26), 및 상부면과 하부면과 측면들을 연결하는 두께 t₀인 후면(20)을 더 포함한다. 튜브 형태의 형광등(22)과 같은 광원은 광(24)을 후면(20)을 통해 웨지층(12)으로 도입시킨다. 광(24)은 다양한 웨지층 표면들로부터 의도적으로 반사되어 웨지층(12)을 따라 에지(26)를 향하게 된다. 다른 가능한 광원들이 이용될 수 있으며 이하에서 설명될 것이다. 일반적으로, 종래의 광원들은 실질적으로 응집성이 없는 조준되지 않은 광을 제공하지만, 본 발명에 의하면 응집성이 있는 조준광을 다룰 수 있다.

표면들(14 및 16)이 평탄한 경우에, 선형 웨지에 대한 단일의 입사각 ø는 상부면(14)과 하부면(16)에 의해 정의된다. 비선형 웨지의 경우에, 연속된 각들 ø를 정의할 수 있으며, 비선형 웨지는 원하는 광 출력 또는 집광의 제어를 제공하도록 설계될 수 있다. 이러한 비선형 웨지는 이하에서 보다 상세히 설명될 것이다.

도 2A에서, 제1 층(28)은 어떠한 공기 갭을 개재없이 웨지층(12)에 결합되며, 제1 층(28)은 n₂의 광 굴절률을 갖고 하부면(16)에 광학적으로 연결된다. 제1 층(28)은 몇몇 일정한 파장보다 훨씬 큰 두께의 범위에 있을 수 있어 소망의 기능을 달성한다. 웨지층(12)과 제1 층(28) 사이의 최종적인 유전 경계면은 웨지층(12)과 주변 대기 사이의 경계면에서보다 높은 임계각을 갖는다. 이하에서 명백해지는 바와 같이, 이러한 특징은 선택적인 각 출력과 장치(10)로부터의 광(24)의 조준을 가능하게 한다.

n₂보다 큰, 몇몇의 실시예들에서는 양호하게 n₁보다 큰 광 굴절률 n₃을 갖는 제2 층(30)이 제1 층(28)에 연결된다. 이러한 구성은 광(24)이 제1 층(28)을 떠나 제2 층(30)에 진입하도록 한다. 도 2A의 실시예에서는, 제1 층(28)과 제2 층(30) 사이에 실질적으로 공기 갭이 개재되어 있지 않다. 도 2A에 도시된 본 발명의 양호한 형태에서, n₁은 약 1.51 n₂ < 1.5 및 n₃ ≥ n₁이다. 더욱 바람직하게는, n₁ = 1.5, n₂ < 1.5 (대략 1과 같음) 및 n₃n₁이다.

도 2에 도시된 장치(10)를 위한 다층 구성에서, 웨지층(12)은 상부면(14)으로부터의 각각의 반사의 주기적 시간 동안 입사각이 (하부면(16) 평면의 법선에 대해) 경사각 2ø만큼 감소하도록 한다. 하부면(16)과의 입사각이 웨지층(12)과 제1 층(28) 사이의 경계면의 특성 임계각보다 작을 때, 광(24)은 제1 층(28)에 연결된다. 그러므로, 제1 층(28) 및 연관된 광 경계면 특성은 조건 θ < θ_c = sin^-1(n₂/n₁)이 만족될 때 광(24)이 통과하도록 하는 각 필터(angular filter)를 형성한다. 즉, 기술된 임계각은 공기와 웨지층(12) 사이의 경계면에 대한 것보다 높다. 그러므로, 만일 2개의 임계각의 차이가 6ø이상이라면, 상부면(14)을 통해 웨지층(12)을 빠져나가지 못하고 거의 모든 광(24)이 웨지층(12)과 제1 층(28) 사이의 경계면을 가로지르게 될 것이다. 따라서, 만일 2개의 임계각의 차이가 ø 미만이라면, 절반보다 적지만 광의 실질적인 부분이 상부면(14)을 통해 웨지층(12)을 빠져나갈 수 있다. 만일 2개의 각의 차이가 ø 이상 6ø 미만이라면, 상부면(14)을 통해 빠져나가기 전에 실질적으로 절반 이상이지만 전체보다는 작은 량의 광이 웨지층(12)과 제1 층(28)을 가로지를 것이다. 따라서, 장치(10)는 하부면(16)에 대해 조건 θ < θ_c가 먼저 만족되도록 구성될 수 있다. 다음에, 반사 광(24) (층(28)으로 진입한 광)은 예를 들어, n₃ > n₂이기만 하면 제2 층(30)으로 진입할 것이다. 다음에, 광(24)은 웨지층(12)에 연결되고 굴절률들 간의 적절한 관계를 갖는 제1 층(28)에 의해 제공된 제2 층(30)에서 조준광(25)이 된다.

장치(10)로부터 광의 출력(24)을 발생시키기 위해, 제2층(30)은 도 2E에 도시된 페인트층(33) 또는 도 2B 및 도 3C 모두에 도시된 대향면(34)과 같은 광을 산란하기 위한 수단을 포함한다. 페인트층(33)은 화상 또는 다른 비쥬얼 정보를 선택적으로 투사하는데 사용될 수 있다. 페인트층(33)은, 예를 들면, 굴절 특성 지수를 갖는 제어 가능하게 분포되어 있는 입자를 포함하고 있을 수 있다.

적절한 선택에 의해, 광이 또한 웨지층(12)을 통해 대기로 전향되거나 (도 2A 및 도 2C의 광(29) 참조) 제2층(30)으로부터 대기로 직접 출력될 수 있다 (도 2F의 광 29' 참조).

본 발명의 다른 형태에서, "n" 값과 관련된 다른 복수의 층이 존재할 수 있다. 본 발명의 한 양호한 형태에서는, 최저 굴절율을 갖는 층의 굴절율로 개구수 및 출력각에 대한 수학식에서 n₂를 교체할 수 있다 (이하에서 후술함). 이러한 다른 층들은, 예를 들면, 웨지층(12)과 제1 층(28) 사이, 제1 층(28)과 제2 층(30) 사이에 개재할 수 있거나, 웨지층(12) 또는 제2층(30)의 상부층일 수 있다.

특정 실시예에서는, 적절한 구성에 의해 광이 웨지층(12)을 통해 재반사되지 않고 대기로 출력된다. 예를 들어, 도 2F에서 장치(10)에는 투명층(37)이 포함된다. 도 2G에 도시된 이 실시예의 다른 형태에서는, 굴절층(38)이 도시된다. 굴절층(38)은 조준된 출력을 제공하기 위한 평면형 마면(39)을 포함할 수 있다. 횡축 렌즈형 확산기(83)가 도 2G에 그 모형이 도시되어 있고 이에 대해서는 이하에서 상세하게 설명한다. 산란층(83)은 도 6A에 도시된 바와 같은 상기 웨지층(12)을 포함하여, 본 발명의 임의의 지오메트리와 함께 사용될 수 있다.

도 2H에 도시된 또 다른 예에서, 굴절층(38)은 원하는 각 분포를 통해 완곡하게 넓어진 출력을 제공하기 위한 곡률형 마면(41)을 포함할 수 있다. 도 21에 도시된 또 다른 예에서, 굴절층(38)은 다양한 각도의 마면(42)을 포함한다. 이 마면(42)은 출력된 광을 원하는 방식으로 집광하기 위해 마면 어레이에 걸쳐 위치에 따라 다양한 면각 및/또는 굴곡을 갖는다. 굴률형 마면은 연초점 영역을 생성할 수 있고 이 영역 내에서 조명될 전체 시야 스크린이 나타난다. 컴퓨터 스크린 조명에 대한 응용예를 설명한다. 도 2J 및 도 2K에서, 단일 굴절 프리즘 소자(43) 및 출력광을 집광하기 위해 인티그럴식 렌즈를 갖는 프리즘 소자(43)가 각각 도시되어 있다. 도 2L 및 도 2M은 광의 출력 분포를 제어할 수 있는 각도로 배치된 마면을 갖는 마면의 표면(34)을 도시한다. 도 2K 및 도 2L에서, 광은 초점 "F"에 출력되고, 도 2M에서 대략 시야 범위 45에서 출력된다. 도 2N및 도 2O 조준 광 출력 또는 집광된 광 출력을 제공하기 위한 반사면(48) 및 굴곡 반사면(49)을 각각 도시한다.

도 2A및 도 2C 도시된 바와 같이, 표면(34)은 제2층(30), 제1층(28) 및 웨지층(12)을 통해서 광(29)을 광학적으로 반사하여 대기로 전향한다. 각각의 마면의 일부만이 조명되면, 매우 작은 규모에서 보았을 때 출력이 교대로 밝고 어둡게 나타나게 된다. 이러한 패턴은 대개 바람직하지 않은 것이므로, 도 2B 도시된 양호한 실시예의 경우, 각각의 면 표면(34)들 사이의 간격의 주기는 회절 효과를 피할만큼 충분히 크나, 각각의 면이 의도한 관측 수단에 의해 검출되지 않을만큼 작다. 간격은 또한 액정 표시 또는 CCD (전하 결합 장치) 어레이와 같은 조명될 장치의 임의의 특성을 갖는 모아레(Moire) 간섭 패턴을 형성하는것을 피하도록 선택된다. 일부 불규칙한 간격으로 원치 않는 회절 모아레 효과를 줄일 수 있다. 전형적인 백라이트 표시시에는, 대략 0.001-0.003 인치의 간격으로 원하는 목적을 성취할 수 있다.

도 2B및 도 2C 마면의 표면(34)은, 예를 들면, 통상 반사광(29)이 장치(10)로부터 출력되는 각도 범위를 제어하도록 준비될 수 있다. 층(30)의 출력각의 최소 분포는 대략 Δθ=2ψ)[(n₁ ²-n₂ ²)/(n₃ ²-n₂ ²)]^1/2와 대략 동일한 폭을 갖는다.

따라서, ψ가 매우 작을 수 있기 때문에, 장치(10)는 매우 효과적인 조준기가 될 수 있다. 따라서, 직선형 마면 표면(34)의 경우, 여기에 반사된 광(29)은 대략 Δθair = n₃Δθ=2ψ)[(n₁ ²-n₂ ²)/[1-(n₂/n₃)²]^1/2 정도의 최소 각도 폭을 갖는다. 상술한 바와 같이, 그리고 도 2H, 도 2I, 도 2K, 도 2L, 도 2M 및 도 3에 도시된 바와 같이, 면의 형상이 최소각도 이상으로 각 출력을 제어하고 또한 출력 광을 집광하고 그 방향을 제어하는데 사용될 수 있다.

다양한 계면에서의 프레넬(Fresnel) 반사는 또한 출력각을 위에서 주어진 값 이상으로 확장할 수도 있으나, 이러한 효과는 도 2B 도시된 바와 같이 1 이상의 내부 인터페이스 상에 항 반사 코팅(31)을 도포함으로써 경감될 수 있다.

설명한 실시예의 휘도 비율("BR")은 이텐듀 매치(etendue match)에 의해서 뿐만 아니라 도 2D 참조하여 결정될 수 있고, BR은

,혹은
B.R. =조명된 영역/총 영역
으로 표현할 수 있다.

B.R.=[1-(n₂/n₃)²]^1/2 = 0.4-0.65 (투명한 유전체 재료 대부분에 대해)이다. 예를 들면, 웨지층(12)은 아크릴 (n₁=1.49)일 수 있고, 제1층(28)은 플루오르 폴리머 (n₂=1.28-1.43) 또는 졸-겔 (n₂=1.05-1.35), 플루오라이드 쏠트(n₂=1.38-1.43) 또는 실리콘계 폴리머 또는 접착제(n₂=1.4-1.45)일 수 있고, 제2층(30)은 공기와의 계면에서 금속화되는 폴리카보네이트(n₃=1.59) 폴리스티렌(n₃=1.59) 에폭시 (n₃=1.5-1.55) 또는 아크릴 (n₃=1.49)과 같은 마면 반사기일 수 있다.

예를 들면, 도 2B및 도 2C 도시된 편평하거나 선형적인 면 표면(34)은 광 출력의 방향을 제어하고 또한 각 필터링 효과에 의해 제2층(30)에 결합되는 광 Δθ의 각 분포를 거의 보전하기 위해 입사 광(24)을 전향시킬 수 있다 (예를 들면, 도 4D참조). 예를 들면, 도 2L 도시된 한 양호한 실시예에서, 면 표면(34)은 출력 광을 집광하기 위해 위치에 따라 변하는 편평한 면각을 이용하여 광을 반사한다. 도 2M서, 면 표면(34)은 조명될 전체 스크린이 나타나는 집광된 시야 구역(45)을 생성하기 위해 위치에 따라 변하는 굴곡면 각을 포함한다 (예를 들면, 도 4F및 도 4G 참조). 도 2M에는 본 발명과 관련하여 사용 가능한 예시적 액정 표시(47)가 점선으로 도시되어 있다. 도 3A 및 도 3B에 또한 도시되어 있는 바와 같이, 굴곡면(36)이 또한 입사광(29)을 전향시키나, 면의 곡률은 전향된 광(29)의 각 출력의 최종 범위를 증가시킨다 (도 2D의 편평한 면과의 비교 참조). 예를 들면, 오목한 면(concave trough)이 실상을 생성할 수 있고, 볼록한 면(convex through)이 가상 화상을 생성할 수 있다고 알려져 있다 (예를 들면 도 3B 참조). 각 경우에서, 화상은 원하는 출력 각도의 범위에서 균일하게 광을 방출하는 직선 소스와 같다. 따라서, 이러한 트로우 모양의 면(36)의 어레이는 제1층(28)으로부터 조준 광(25)의 유입 형태를 전향할 수 있고, 이러한 복수의 라인 소스 화상은 전향된 광(29)을 형성한다. 인간의 눈이 갖는 해상도보다 작은 간격으로 굴곡면(36)을 배열함으로써, 직선 소스의 최종 어레이는 관측자에게 매우 균일하게 나타날 것이다. 앞서 설명한 바와 같이, 마면 간격의 주기에 대하여 약 3백 내지 5백 라인/인치 또는 0.002 내지 0.003를 선택함으로써 이러한 결과가 나타난다. 전형적인 LCD 표시의 경우, 종래에는 약 20 인치 이상의 시야 거리였다.

유용한 마면의 다른 형상은, 예를 들면, 포물선, 타원형, 쌍곡선, 원형, 지수, 다항식, 다각형, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 따라서, 사용자는 상이한 면 디자인을 이용하여 조명의 평균 휘도의 가상적인 임의의 분포를 구성할 수 있다. 예를 들면, 다각형의 면을 사용하여 다수의 피크를 갖는 출력 각 분포를 생성할 수 있다.

굴곡면 반사자를 이용하는 각 출력의 다양한 범위에 걸쳐서 휘도 분포의 예가 도 4A 내지 도 4C, 도 4F 및 도 4G에 도시되어 있다. 도 4C 및 도 4E는 선형 면을 갖는 반사자의 경우 휘도 분포를 도시하고, 산란 소자(40)를 더 포함한다 (도 2C에 점선으로 도시됨). 여러 각도 범위에 대한 예측된 성능 출력(predicted performance output)이 도시되며(도 4A - 도 4C 참조), 이 출력은 디스플레이 엔지니어링(Display Engineering)의 상표명인 "웨지 라이트(Wedge Light)" 유닛과 같은 상용 소스("웨지"라고 라벨 붙음)에 대한 광의 측정된 각 출력(measured angular output of light)과 비교된다. 바람직한 각도의 범위는 쉽게 수정되어 변수 ψ, n₁, n₂, n₃들의 방정식으로 이하 후술되는 최저각 Δθ(에어)까지의 어떠한 특정 관측(viewing)과 조준 요건을 만족시킬 수 있다. 이러한 수정은 도 2M에 도시되어 있으며 후술되는 방식으로 곡선형의 마면들(36)의 곡률을 점증적으로 변화시킴으로써 달성될 수 있다. 도시된 수직 관측각 범위를 제어할 뿐만 아니라, 곡선 모양의 마면(36)들의 형상을 적절히 변경함으로써 수평 관측 범위의 수정을 역시 할 수 있다. 도 4A 내지 도 4I에 도시되어 있는 상기한 각 분포는 언제 개구수(numerical aperture) NA(n₁ ² - n₂ ²)^1/2 내에서 장치(10)가 광(24)을 처리하는 지를 나타낸다. 광이 이러한 범위 밖에 있을 때, 추가적인 기술이 적용되어 출력각의 범위를 제어할 수도 있다.

도 9A와 도 9B는 빈틈없이 겹치도록 초점을 맞춘 조명 출력과 느슨하게 겹치도록 초점을 맞춘 조명 출력을 각각 제공하기 위한 전향 수단을 이용하는 것을 추가로 예시하고 있다. 이러한 개념은 통상적인 휴대형 컴퓨터 스크린(87)이 대략 150mm의 수직 범위(vertical extent) "V"를 가지며, 통상적인 관측 거리 "D"가 500mm임을 고려하면 실제로 적용될 수 있다. 컴퓨터 스크린(87)의 세로 방향의 중앙에 수직으로 거리 "D"에 위치한 관측자는 스크린(87)의 정점에서 -8.5°에서 스크린(87)의 하부에서 측정된 +8.5°까지의 범위에서 스크린(87)의 다른 영역을 보게 될 것이다. 그러나, 시야각의 이러한 편차는 상기 스크린 조명을 갖는 시스템의 사용시 바람직하지 못한 영향을 초래할 수 있다. 스크린(87)에 대한 제한된 조명각은 관측자가 완전히 조명 스크린(87)을 볼 수 있는 위치의 제한된 범위를 의미한다(도 9A 참조). 스크린(87)의 중앙으로부터의 각도와 거리로 관측자의 위치를 정의하면, 효과적인 각도 범위는 실질적으로 공칭 조명 범위(nominal illumination range) 이하로 감소된다. 예를 들어, 공칭 조명 범위가 각각의 개별적인 마면에서 측정되는 ±12°라면, 효율적인 관측각은 도 9A에 도시된 통상적인 플랫 패널(flat panel)에서 ±12°로 감소된다. 결과적으로 스크린(87) 중앙의 어느 측면에서 12°- 20°사이에서의 조명은 관측자에게 비균일하게 나타날 것이다.

본 명세서에 기재된 발명은 마면(34)의 배향을 제어함으로써 상술한 비균일성을 극복하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 2M에 예시된 바와 같이, 마면의 양면이 점진적으로 회전함에 따라 편평형 마면(flat facet surface)이 장치(10)의 여러 층을 한정하는 면의 에지에 대해 35.6°내지 33.3°로 변화하거나 평행해진다. 스크린(87)의 상부로부터 하부까지의 이러한 조직적인 변화는 전향된 출력이 조명되는 결과로 나타난다. 마면(34)은 확산기(83) 등과 조합됨으로써 가변적이지만 제어 가능한 광 조명의 출력 분포를 나타낼 수도 있다. 편평형 마면(168)은 확산기(170)와도 조합될 수 있다. 따라서, 도 9B에 도시한 바와 같이, 스크린(89) 상의 다른 지점에서 광의 각 분포(angular distribution)를 회전시킬 수 있다면 위치에 따른 관측각의 변화(variation)를 보상할 수 있다. 마면(34) 내의 조직적인 변화는 마면이 형성된 전향층의 출력의 초점의 변화를 더 포함할 수 있다. 실례들을 도 2I와 도 2L에 나타낸다.

조명의 비균일성을 극복하기 위한 또다른 실시예에서, 마면(34)에 대한 마이크로 프리즘 어레이는 통상적인 확산 백라이트(101)(도 18A 참조) 위에 놓여질 수 있다. 이러한 마면(34)은 굴절 및 전반사의 조합에 의해 동작하여 한정된 각도의 범위(angular range) 만이 상기 층을 통해 외부로 출력되도록 해준다. 이러한 각도 범위는 마면 각(facet angle)에 좌우된다. 아크릴 막(n = 1.49)의 경우, 최고 휘도(brightness)는 통상 90 - 100°의 각을 포함하는 프리즘을 이용하여 얻어지며, 대략 ±35도의 관측각으로 나타난다. 이러한 형상을 이용하는 백라이트는 여러 관측자들을 혼란스럽게하는 예리한 "커테이닝(curtaining)"효과를 나타낸다. 이러한 효과는 스크린의 상부로부터 하부까지 마면(38)을 회전시켜 집광 효과(focusing effect)를 발생시킴으로써 개선될 수 있다(도 18B 참조). 간단한 선 추적(ray-tracing)에 의해 100°- 110°범위에 포함되는 각에 대해 3도씩 회전되는 마면은 대략 3/2씩 회전되는 각 분포를 발생시킬 것이라는 것을 알 수 있다. 도 18에 도시된 실시예에서 점진적인 마면각(facet face angle)의 변화는 마면(34)을 따른 위치에 따라 변화할 수 있다. 예를 들어,

이러한 점진적인 마면각의 변화(facet angle change)는 스크린(89)을 가로질러 대략 10도씩 변화하며, 앞서 개략적으로 설명한 일반적인 제한(generic constraints)을 만족하는 각 분포를 발생시킨다.

바람직한 마면 형상이 무엇이든 간에 마면(34)(도 2D 참조)은 몰딩이나 기타 공지의 밀링 처리 등과 같은 통상적인 처리에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 이하 제조에 대한 상세에 대해 설명한다.

비선형 웨지

본 발명의 또 다른 태양에서 주 도파로(primary lightguide)인 웨지층(12)은 선형으로 가정된 이외의 것일 수 있다. 이러한 형상들은 다양한 선택된 광 분포를 달성할 수 있도록 해준다. 기타 형상들은 웨지층(12)의 두께에 대한 도 2B와 도 2C에 도시된 웨지축 "Z"(광입력 에지로부터 뾰족한 에지(26)까지의 좌표축)의 함수로서 설명될 수 있다. 선형 웨지의 경우,

바람직한 공간적 각 분포의 큰 범위는 광출력 파워(제2층(30)에 연결된 파워)로 얻을 수 있다. 따라서, 이러한 광출력 파워는 적절한 마면(34 또는 36)에 의해 또는 확산 반사물(33)(도 2E 참조) 또는 기타 수단에 의한 외기로 향하는 출력에 대해 이용 가능한 광이다.

예를 들어, L과 M이 각각 x축과 y축에 따른 코사인 방향이라면, L₀와 M_o는 두꺼운 에지(Z = 0)에서 L과 M의 값이다. 이러한 초기 분포는 어느 정도 명확한 각도 범위 내의 람베르트(Lambertian)이며, 그 범위 밖에서는 광이 적거나 전혀 없다. 이러한 분포는 이상적인 비화상 광학 소자(non-imaging optical elements)가 한정된 람베르트 출력 분포를 갖기 때문에 특히 중요하다. A₀L₀와 대략 동일하고 탈출 지점(z)을 암암리에 제공하는 단열 불변(adiabatic invariant)인 A(z)cos(θ_c)가 핵심적인 관계이다. 이러한 개념을 설명하기 위해, dP/dz가 일정하도록 균일한 조사(irradiance)를 원한다고 하자. 초기 위상 공간(initial phase space)이 다음의 표현으로 설명되는 타원 영역을 균일하게 채운다고 하자.

여기서, τ는 타원의 M축의 차원이고, σ는 타원의 L축의 차원이다.

그러면, dP/dL = const·[1 - L²/σ² ]^1/2 이지만 dA/dz = [A₀/L_c]dL₀/d_Z이며 여기서, L_c = cosθ_c이다. 그러므로, 「1 - (L_cA)²/(A₀σ)²]^1/2dA = 일정 시간 dz. 바람직한 실시예에서 σ = L_c라고 하자. 이러한 결과는 A/A₀ = sin u 로 치환하면 A = A₀ sin u이고 u + 1/2 sin (2u) = (π/2)(1-z/D)가 되는데, 여기서, D는 웨지층(12)의 길이이다.

보다 일반적으로는, 단위 길이당 원하는 파워가 dP/dz이면, 원하는 웨지층(12)의 형태는 이하의 미분 수학식으로 결정된다:

이들 경우 모두에 있어 출력 분포는 프레넬 반사에 의해 수정되기 때문에 대략 원하는 형태를 갖는다는 것을 주목해야 한다. 또한 웨지 장치(10)가 곡선형인 경우에도, 그 곡률이 너무 크지 않다면, 시스템을 질적으로 특징짓는 평균 각도 Φ)를 정의하는데 여전히 유용할 수도 있다.

본 발명의 다른 특징에 있어서, 상기 예의 구조는 굴절율 n1 및 n2를 갖는 2개의 반사 매체들 사이에 x, y 계면을 갖는다. 성분 nM, nN은 계면을 가로질러 n₁M₁=n₂M₂, n₁N₁=n₂N₂이도록 유지된다. x, y 평면에 투사된 입사각은 sinθ_2eff=N/(L²-N²)^1/2로 주어진다. 상기 관계를 이용하면, sinθ_2eff/sinθ_1eff=(n₁/n₂)[1-M₁ ²]^1/2/[1-(n₁/n₂)²M₁ ²)^1/2=(n₁/n₂)_eff. 예를 들어, n₁=1.49, n₂=1.35, M₁=0.5인 경우, 효율적인 굴절율 비는 1.035(n₁/n₂)으로, 실제 굴절율 비보다 약간만 크다.

공간 파라미터에 따른 반사율의 변화

일반적인 테이퍼형 도파로의 경우에, 웨지층(12)은 x축은 치수가 좁고 z축을 따라 형성되어 있다.(예를 들어, 도 2A 참조). L, M, N이 x, y, z축을 따른 구조적인 방향 코사인인 경우 광학적인 방향 코사인(nL, nM, nN)을 도입하면, n은 공간적인 위치에 따라 변화하는 굴절률이다. 웨지층(12)에 전달된 광선의 경우, x축 방향에서의 움직임은 거의 주기적이며, 한 주기당 φnLdx 양은 광선이 z축을 따라 전파됨에 따라 거의 일정하다. 이러한 특징은 단열 불변(adiabatic invariance)이라 칭하며, 도파로 특성을 분석하는 유용한 구조를 제공한다.

제1 실시예에서, 도 2A에 도시된 웨지 장치(10)는 웨지층(12)이 균일한 굴절율을 가지며, 폭 A(z)=A₀-Cz로 z축으로 직선적으로 가늘어진다. 그 후, 지그재그 광선 경로에 따라 L(z)A(z)는 단열 불변에 의해 대략적으로 일정해진다. L=L₀이며 z=0에서 광선이 시작되면, (A₀-C·z)L(z)는 대략 L₀A₀가 된다. L=cosθ_c이며, 여기서 θ_c는 임계각=[1-(n₂/n₁)²]^1/2이면 웨지층(12)에서 광선이 누출된다. 따라서, 광선이 웨지층(12)을 떠나는 조건은 A₀-C·z=L₀A₀/cosθ_c이다. 이것은 z=(A₀/C)(1-L₀/cosθ_c)에서 발생된다. 결과적으로, z축으로 방사되는 광선 밀도는 초기 방향 cosine L₀에서의 광선의 밀도와 비례한다. 예를 들어, L₀의 초기 분포가 균일하다면 그 밀도는 균일하게 될 것이다.

제2 실시예에서는, 굴절율 프로파일이 더이상 균일하지 않고 x 및 z축 모두에서 떨어진다. z축에서의 감소 정도가 x축에서보다 느린 경우, 광선 경로는 여전히 거의 주기적이며, 상기 단열 불변이 여전히 적용된다. 광선(24)이 z축으로 전달됨에 따라, x,nL 공간에서의 경로는 거의 주기적이다. 그러므로, L(z)의 최대치는 증가하며, 몇몇 z는 탈출할 수 있는 임계값에 도달될 수도 있다. 탈출을 위한 z 값은 굴절율 (n) 프로파일에 좌우된다. 이것이 특정되면, 상술한 실시예와 같은 분석이 진행된다. 따라서, 포물선 인덱스 프로파일의 경우, 인덱스 프로파일은 -ρ<xρ=n₁ ²=n² ₀[1-2△]의 경우(여기서, ｜x｜>ρ), n²(x)=n² ₀[1-2△(x/ρ)²] 형태를 갖는다. x=0에서의 임계각은 여전히 sin²θ_c=2△=1-(n₁/n₀)²로 주어진다. 느리게 감소하는 z의 함수, n₀를 가질 경우, x=0일 때의 기울기 θ는 단열 불변인 φnLdx 만큼 느리게 증가되면서 θ_c가 감소되어 광선이 누출될 것이다. 광선의 분포는 굴절율(n)이 z에 따라 얼마나 변하는지에 좌우된다.

논웨지 테이퍼형 구조

가장 일반적인 경우에, 광이 임의의 형상을 갖는 층(예를 들어, 평행 육면체, 원통형 또는 비균일 웨지)으로 입사될 수 있는데, 본 명세서에 기술되는 원리는 동일한 방식으로 적용된다. 또한, (x, y, z)에서 바라는 바와 같이 굴절률이 변하여 광을 외부에 출력하는 수단에 결합될 때 적절한 최종 결과에 도달한다.

예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이 방사 방향 r로 가늘어지는 디스크형 도파로(46)를 생각해보자. 원기둥형 극좌표에서의 방향 코사인은 k_r, k_θ, k_z이다. 이러한 도파로(46)에서 전달되는 광(48)은 다음 관계를 만족한다:

단열 불변 조건은 웨지 장치(10)의 경우와 동일하며, 웨지 장치(10)와 관련된 종래의 논의가 도파로(46)에도 적용된다. 각운동량 보존 조건에 의하면 반경이 증가함에 라 소스(47)로부터 외부로 광이 방출될 때 k_θ 값이 줄어야 한다. 따라서, 반경이 증가되는 방향으로 광을 조준한다. 이것은 웨지 장치(10)와 근본적으로는 유사한 특징이 되며, 광(48)이 z 방향을 따라 조준되는 면으로 선정된 각도로 광(52)으로 나오게 될 수 있다.

도시를 위해, 우리는 일정한 굴절률을 n을 갖는 가이드 재료를 사용하였다. 그러한 구조의 경우, 5B-5B선을 따라 자른 횡단면을 따라 광선(48)은 상술된 것과 상응하는 웨지 장치(10)의 경우와 마찬가지로 작용한다. 유사하게, 원하는 광 조정 특성을 달성하는데 다양한 부가층(54 및 56) 및 다른 수단이 사용될 수 있다. 예를 들어, 디스크 도파로(46)의 경우, 양호한 마면 어레이(56)는 디스크(46)와 동심인 일련의 원들이다. 따라서, 마면(56)의 단면이 직선이면, 광선(52)은 상술된 장치(10)에서와 같이 굴절률의 함수를 총 각도 2φ)배 내로 조준되는 방향으로 나오게 된다.

인덱스가 낮은 2층을 구비한 테이퍼형 발광체

도 6A에 도시된 본 발명의 다른 형태에 있어서, 장치(10)는 광학적 굴절률 n₁을 갖는 제1층(61)과 적어도 하나의 경사각 φ)를 만드는 제1 또는 상부층면(62) 및 제2 또는 하부층면(64)을 포함한다. 제1층(61)은 또한, 상부층면(62) 및 하부층면(64)에 이르는 후면(65)을 포함한다.

제1층(61)에 인접하여, 하부층면(64)에 인접하거나 그 하부에 배치되며 굴절률 n₂의 제1 중간층(66)과 같은 하부 투명층 수단과 같은 층 수단이 존재한다. 또한, 층 수단은 상부 투명층 수단이며 상부층면(62)에 인접하여 굴절률 n₂의 제2 중간층(81)을 배치할 수 있다. 층(66 및 81) 중 적어도 하나의 층은 공기 갭이거나 다른 기체 또는 투명 유전체로 이루어진 갭일 수 있다.

인장(tension)시에(도시되지 않음) 층을 지지하거나 제1층(61)과 인접한 광 전향층(70) 사이에 스페이서(68)를 배치하는 등의 외부 지지부와 같은 종래 수단으로 에어 갭이 설정될 수 있다. 유사하게, 제1층(61)과 제2 광 전향층(70) 사이에 스페이서(68)를 위치시킬 수 있다. 그렇지 않고, 층(66 및 81)을 구성하기 위한 투명 유전체에 고형 재료가 사용될 수 있으며, 구조적으로 완전하고, 강하며 조립이 용이하도록 개선될 수 있다. 그러한 고형 재료는 예를 들어, 졸-겔(n₂=1.05-1.35), 플로오르폴리머(n₂=1.28-1.43), 프로라이드 솔트(n₂=1.38-1.43) 또는 실리콘계 폴리머 및 접착제(n₂=1.40-1.45)를 포함할 수 있다. 투명 유전체용의 그러한 고형 재료는 그것을 지지하거나 유지할 수단을 분리할 필요가 없으며, 에어 갭의 경우보다 인덱스가 높기 때문에 N.A. 수용도가 낮게 된다.

층(66 및 81)은 제1층(61)으로부터 입사된 광을 전달시킨다. 이 실시예에서, 광의 일부는 먼저 상부층면(62)과 θ_c를 이루어, 층(81)으로 입사되어 광 전향층(82)에 의해 다시 처리된다. 나머지 광은 먼저 하부층면(64)과 θ_c를 이루어, 층(66)으로 입사되어 광 전향층(70)에 의해 다시 처리된다.

본 발명의 양호한 실시예에(도 6A 참조), 두 층(66 및 81)이 존재하며 유사하지만 상당히 상이한 굴절율 n_2a 및 n_2b 를 각각 갖는다. 그 굴절율들은 계면(62 및 64)에서 웨지 각 φ)과 유사한 임계각을 형성할 경우 유사한 것으로 고려된다. 예를 들어,

이 경우, 광의 중요하지만 동일하지 않은 부분들이 각각의 층(66 및 81)으로 입사하여 각각 전향층(70 및 82)에 의해 후속 처리된다. 두 굴절율 n_2a 및 n_2b 중 큰 쪽의 층으로 많은 부분이 입사한다. 전향층(70)은 층(66)으로 입사하는 부분만을 처리한다. 그러므로, 광의 출력 각도 분포에 대한 전향층(70)의 영향은 굴절율 n_2a 및 n_2b 간의 관계를 변동시킴으로써 변화될 수 있다.

본 발명의 다른 양호한 실시형태에 있어, 층(66 및 81)은 굴절율 n₂ < n₁ 인 동일한 투명 재료일 수 있다. 일반적으로, n₂의 값이 작으면 광 입사면에서 개구수를 증가시켜 장치(10)의 효율성이 향상된다. 그러므로, 층(66 및 81)이 (n₂ = 1-1.01)인 공기나 다른 기체로 채워진 갭인 경우에 집광 효율이 최대로 될 수 있다.

층(66 및 81)의 두께는 장치(10)의 출력 파워의 공간적인 분포를 제어하거나 시각적 균일성을 향상시키기 위해 선택적으로 변경될 수 있다. 예를 들어, 층(81)의 두께를 0.002"-0.030"만큼 증가시키면 비균일성이 현저히 감소하는데, 이는 장치(10)의 두꺼운 단부에서 나타나는 경향이 있다. 층(66 및 81)의 두께는 또한 출력되는 광의 원하는 공간 분포에 영향을 주도록 위치에 따라 다소 변동될 수 있다 (도 12L 참조).

도 6A에 도시된 본 발명의 양호한 형태에서, 광 전향층(70)은 층(66) 및 제1 층(61)을 통해 광을 반사시키는 반사층(71)을 포함한다. 광은 상층 표면(62)을 통해, 궁극적으로는 광 전향층(82)을 통해 제1 층(61)으로 출력되어 후속 처리된다. 반사층(71)은, 예를 들어, 평면 거울 반사기, 부분적으로 또는 전체적으로 확산 반사기, 마면 반사기를 적절히 조합한 것일 수 있다.

평면 거울 반사기를 사용하면 층(81)내의 각도 분포가 가장 좁아진다. 그러므로, 원하는 출력 각도 분포가 단일 형태인(unimodal) 경우 이를 이용하면 광 전향층(82)의 설계를 간단히 할 수 있다. 발산 반사기 또는 마면 반사기는 넓은 범위의 각도 분포를 달성하거나 (도 4H 및 4I 참조), 균일성을 향상시키기 위해 (도 4N 참조) 층(71) 용으로 사용될 수 있다. 발산 반사기는 원하는 각도 분포가 넓은 "테일(tails)"을 갖는 경우 바람직하다 (특히, 도 4I 참조). 마면 반사기는 층(81)내에서 두개의 최소값을 갖는 이중 형태의(bimodal) 각도 분포를 생성할 수 있다 (도 4H 참조). 그러므로, 원하는 출력 각도 분포가 이중 형태라면 상기한 마면 반사기가 바람직하다. 예를 들어, 이중 형태인 "배트윙(batwing)" 분포는 눈부심을 감소시키기 때문에 실내 조명용 조명기에 적합하다.

일반적으로, 층(71)의 각각의 마면은 전향층(82)에 의한 후속 처리를 위해 층(66) 및 제1 층(61)을 통해 반사되는 광의 각도 분포를 제어할 수 있는 형상으로 만들 수 있다. 장치(10)내의 각도 분포는 전향층(82)으로부터 외부로 출력되는 광의 각도 분포에 영향을 준다. 예를 들어, 굴곡 마면을 사용하여 각도 분포를 원만하게 확장하는 한편, 확산 효과를 제공하여 균일성을 개선할 수 있다. 반사층(71)은 또한 출력 파워의 공간 분포와 각도 분포에 영향을 줄 수 있다. 반사층(71)의 반사도, 유리면 반사도, 기하학적 형태는 원하는 출력 분포를 달성하도록 위치에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 전술한 바와 같이, 반사층(71)의 각 성분의 경사도를 위치 함수로서 약간 변동시키면 광 출력 분포는 상당히 변동한다.

광 전향층(82)은 굴절율 n₃ > n₂ 을 가지며, 사실상 투명 또는 반투명이다. 저굴절율 층(81)의 광은 층(82)으로 입사하여 외부로 전향된다. 투과성 전향층(82)도 전향층(71)의 반사에 의해 처리된 다음 저굴절율 층(66) 및 제1 층(61)을 통해 역으로 전달되는 광을 전향시킨다. 층(82)의 투과성 및 기하학적 형태는 장치(10)의 출력 공간 분포에 영향을 주도록 위치에 따라 변동될 수 있다. 본 발명의 양호한 형태에 있어, 전향층(82)은 도 6A에 도시된 바와 같이 저굴절율 층(81)과의 계면에 마면을 포함한다. 층(82)으로 들어가는 광은 마면(85)의 한 측면(84)에서 굴절된 다음 각각의 마면(85)의 제2 측면(86)에서 내부적으로 전반사된다. 본 발명의 한 형태에서, 전향층(82)은 3M 코포레이션이 판매하는 3M 코포레이션의 상표인 "투명 직각 필름(Transparent Right-Angle Film)" (이하, TRAF)으로 만들 수 있다. TRAF는 굴절 및 내부 전반사를 통해 입사광을 대략 90도 각도 방향 전환하도록 동작하는데, 이는 전형적인 LCD 백라이트 분야에서 요구되는 정도이다. 이러한 종래의 TRAF의 허용 각도는 약 21도인데, 이 정도면 저굴절율 층(81)으로 입사하는 광의 많은 부분을 전향하기에 충분하다. 본 발명의 더욱 양호한 형태로써, 전술한 굴절에 내부 전반사를 더한 매카니즘을 통해 저굴절율 층(81)으로 입사하는 광(75)의 더 많은 부분을 전향하도록 마면 각도가 선택된다. 마면의 표면(84 및 86) 또는 이들중 하나는 출력 각도 분포를 제어할 수 있는 형상으로 만들어질 수 있다. 예를 들어, 굴곡 마면을 사용하여 분포를 원만하게 확장시키는 한편 광 발산 효과를 제공하여 균일성을 향상시킬 수 있다.

다른 양호한 실시예에서, 전향층(82)의 마면의 표면을 점증적으로 변동시켜 전형적인 시야 거리에서 볼 때 위치에 따라 시야 각도의 변동을 보상할 수 있다. 이러한 보상 효과에 관해서는 도 2M에 도시된 실시예에서 반사 마면층의 설계와 관련하여 상술한 바 있다. 굴절층 및 굴절/내부-반사층을 포함하는 임의의 마면 전향층의 설계에도 유사한 원리를 적용할 수 있다. 이러한 점증적으로 변동되는 마면층을 이용할 수 있는 실시예는, 예를 들어, 도 12E (층 140), 도 12G (층 152), 도 12H (층 166), 도 12K (층 186), 도 12N (층 210), 도 12O (층 228), 도 12P (층 246)에 도시되어 있다.

본 발명의 다른 형태로써, 층(66 및 81)은 유사하지만 약간 다른 굴절율 n₂ 및 n₂' 을 각각 가질 수 있다. 제1 층(61) 및 두 개의 층(66 및 81) 사이의 계면과 관련한 임계각이 제1 층의 수렴각 이상으로 다르지 않다면, 장치(10)의 동작 원리는 사실상 유사하다.

그러므로, 이 경우 거의 동일한 양의 광이 층(66 및 81)으로 입사하여 각각 전향층(70 및 82)에서 후속 처리된다.

본 발명의 모든 형태에는 도 2C에 점선으로 도시된 출력 확산층(40) 또는 도 6A에 도시된 투명 혹은 반투명 발산층(83)이 더 포함될 수 있다. 일반적으로, 상기 확산층(40)은 표면 확산기, 체적 확산기, 또는 적어도 일부분 실린더부를 갖는 적어도 하나의 마이크로 렌즈형 어레이("렌즈형 어레이(lneticular array)"로 알려짐)가 될 수 있다. 상기 층(40 및 83)은 광의 균일성을 증가시키거나 각도 분포를 주변으로 확장시킬 수 있다. 렌즈형 어레이는 표면 또는 체적 확산기에 비해 백-스캐터링이 적으며, 조준 광선에 의해 조사되면 예리한 출력 각도 컷-오프를 가지므로, 더 유익하다. 렌즈형 어레이는 각각의 실린더형 마이크로 렌즈의 축 방향으로 나가는 것만을 우선적으로 확산시킨다.

도 10에 도시된 양호한 실시예에서, 광 전향층(10)은 출력 광이 고도로 조준되도록 평면형 마면(111)을 사용한다. 적절한 촛점비를 갖고 그 실리더형 마이크로 렌즈가 y-축에 대략 평행한 렌즈형 확산기(112)를 포함함으로써 원하는 출력 각도 분포를 더 제어할 수 있다. 렌즈형 확산기(112)는 비균일성을 확산시키는데 일반적으로는 y-축 방향으로 나아가는 것이다. 이 실시예에서, 제2 렌즈형 확산기(113)를 포함시켜 일반적으로 z-방향으로 나아가는 비-균일성을 발산시킬 수 있다. 상기 제2 렌즈형 확산기의 마이크로 렌즈는 z-축과 대략 평행하다 (도 12H 및 12N 참조). 확산기(112 및 112)의 위치 설정 순서는 광학적 이점을 손상시키지 않고도 상호 교환될 수 있다. 유사하게, 렌즈형 확산기(112 및 113)는 반전될 수 있으며, 도 10에 도시된 볼록형 대신 오목형일 수 있다. 이러한 변경이 세부적인 성능에 영향을 줄 수도 있지만, 발산층(112 및 113)은 여전히 전술한 일반적인 이점을 제공할 수 있다.

도 11에 도시된 또 다른 실시예에서, 도 10에서의 평면형 마면을 갖는(flat-faceted) 광 전향층(110) 및 병렬 렌즈형(parallel lenticular) 확산기(112)의 기능 모두는 곡선형 마면들(curved facet)(예를 들어, 곡선형 마면들을 도시하는 도 2H, 2M 및 3A 참조)이 있는 광 방향 전향층(114)에 의해 수행될 수 있다. 이들 곡선 마면층들은 광을 전향시키고, 적절한 마면 곡률로써 출력각을 제어하고, 일반적인 y 축 방향에서 비균일한 진행을 위해 확산기로서 역할을 한다. 단일층 내에서 이 기능들을 결합함으로써, 다수의 구성 요소들을 감소하여, 두께, 비용 및 제조 능률을 개선할 수 있다. 본 실시예에서, 단일 렌즈형 확산기(115)가 없다면 일반적인 z 축 방향으로 진행할 것으로 보이는 잔유 비균일성을 확산하기 위하여 단일 렌즈형 확산기(115)가 포함될 수 있다. 이러한 형태의 렌즈형 확산기의 마이크로 렌즈는 대략 z 축에 평행하게 놓인다. 주목해야 할 것은 렌즈형 확산기(115)가 반전되어 도 10에 도시된 바와 같이 볼록한 곡률이 아닌 오목한 곡률을 가질 수 있다는 것이다. 이러한 변경들이 구체적인 성능에 영향을 미칠 수는 있지만, 114와 115에서의 층들은 이러한 변경을 의도적으로 수행한다.

다중 미세구조층을 사용하는 모든 실시예에 있어서, 상술한 이 층들의 마면이나 렌즐릿 간격들은, 층들간, 혹은 액정 화면과의 원치않는 모아레 간섭을 방지하기 위하여, 유리수가 아닌 비율을 갖도록 선택될 수 있다.

유사한 렌즈형 확산기들은 웨지형 단면을 갖는 비웨지형의 형태와 함께 사용되어, 확산기 단면들이 대략적으로 도 10 및 11에 도시된 바와 같을 경우에 유사한 장점을 제공한다. 그 일예가 도 5에 도시된 테이퍼형 디스크이다. 이 경우, 도 10에서의 층(112)과 비슷한 렌즈형 확산기는 그 축들이 디스크 회전축 주위의 동심원 내에서 움직이는 마이크로 렌즈를 가질 것이다. 도 10에서의 층(113) 및 도 11에서의 층(115)와 유사한 확산기는 그 축들이 디스크의 중심축으로부터 방사형으로 발산하는 마이크로 렌즈를 가질 것이다.

광원 및 커플러

도 2A 및 B에 도시된 본 발명의 보다 양호한 형태에 있어서, 광을 광학적으로 전향하기 위하여 마면층(30)을 포함하였다. 마면들(34)은 층(30)에 합쳐지거나 분리될 수 있다. 이러한 마면층의 상세한 동작은 상술하였다. 도 6A에 도시된 바와 같이, 입력 마면층(74)은 광원(76)과 제1 층(61) 사이에 위치될 수도 있다. 마면층(74)은 주위에 보다 밝고 균일한 출력광(80)을 제공하는 입력광(78)에 대해 조준 효과를 제공하는 프리즘형 마면 어레이가 될 수 있다.

y 축에 평행한 선형 프리즘들은 입력 개구에 보다 근접하게 일치시키도록 입력 각 분포를 조절함으로써 균일성을 향상시킬 수 있다. x 축에 평행한 선형 프리즘들은 출력 횡각의 분포를 제한할 수 있으며, 또한 형광 램프 광원으로 사용될 경우에 출력 휘도를 향상시킬 수 있다. 본 발명의 다른 형태들에 있어서, 광원의 확산이 기대되는데, 여기서 확산기(79)는 광 균일도를 향상시키는 빛을 확산하는 광 분포를 확산하는데 사용된다. 확산기(79)로는 렌즈형 어레이가 바람직하며, 실린더형 렌즐릿은 y 축에 평행하다. 또한, 확산기(79)는 표준 표면이나 체적 확산기가 될 수 있으며, 이산적인 막일 수도 있고, 또는 웨지형 층(61)에 총체적으로 결합될 수 있다. 다중 프리즘이나 확산기 막들은 결합되어 사용될 수 있다. 이러한 막은 확산기(79)를 형성하고, 절단형 층(74)은 위치가 상호 변환되어 그 효과를 변화시킬 수 있다.

본 발명의 또 다른 양호한 형태에 있어서, 내부 전반사용 CPC 부(100)(복합 타원형 동심체)의 일부가 광원(76)과 제1 층(61)간에 삽입될 수 있다 (도 2L, 12O 및 12P 참조). CPC 부(100)는 입력광을 입력 개구수에 보다 근사하도록 입력광을 조절한다. CPC 부(100)는 제1 층(61)과 합체되어 형성되는 것이 바람직하다.

도 7 및 8에 도시된 반사기 소자들(92 및 94)은 각각 광원(76)으로부터 광파이프 개구로 광 스루풋을 최대화하기 위한 형태로 배치될 수 있다. 이것은 광원(76)으로 되돌려지는 반사광을 최소화하는 것과 같은데, 이것은 되돌려진 광을 부분적으로 흡수하는 것이다. 광원(76)은 실린더형인 것이 전형적이며, 투명 유리 덮개(93)로 둘러싸이는데, 각각은 도 7 및 8에 도시된 바와 같이 단면이 원형이다. 이러한 광원들의 예로는 형광관 및 긴 필라멘트 백열등을 포함한다. 광원(76)의 외경은 유리 덮개(93)의 내경 이하가 될 수 있다. 도 7은 광원 주위를 거울 반사형 중합체 막으로 감싸고, 이 막의 각 단부에서 웨지형 층(12)과 접촉하게 하므로써 형성된 종래의 U자형 반사기(92)를 도시한다. 전형적으로, 이 반사기 소자(92)는 대략적으로 웨지형 층(12)에 대향하는 광원(76)의 측면이 원호의 형태로 형성되고, 직선부들은 대략적으로 호의 각 끝점과 웨지층(12)을 접속시킨다. 반사기 소자(92)를 웨지형 층(12)에 결합하는 이와 같은 방식은 반사기 소자의 단면에 뾰족한 코너가 없는 경우에 가장 용이하게 달성될 수 있다. 일반적으로, 광원(76)은 램프 효율을 감소시킬 수 있는 열적, 전기적인 커플링을 최소화하기 위하여 웨지층(12)이나 반사막과 접촉되어서는 안된다.

도 8에 도시된 본 발명의 일 형태에 있어서, 광원(76)으로 되돌아 오는 광의 양을 최소화할 수 있도록 반사기 소자(94)를 설계하고 광원(76)을 배치함으로써 효율이 증가된다. 바람직한 실시예에서, 적어도 반사 소자(94)의 한 섹션은 각 점에서 반사기 소자(94)의 표면에 수직한 선이 광원(76)의 원형 단면의 접선이 되도록 형성된다. 이에 따른 반사기 형태는 광원(76)의 인볼루트(involute)로서 알려져 있다.

인볼루트가 최대 효율을 제공하는 경우에는 일반적으로 다른 형태들이 보다 용이하게 제조될 수 있다. 폴리머막은 상술한 바와 같이 거의 반원인 호를 포함하는 완만한 곡선으로 쉽게 휘어질 수 있다. 광원(76)의 단면과 반사기 소자(92)의 반원형 단면이 도 7에 도시된 바와 같이 동일한 중심을 갖는 경우에, 반사기 소자(92)의 반원형 단면은 광원(76)으로 모든 입사광들을 되돌리기 때문에 효율이 낮아진다는 것을 알 수 있다. 이러한 비효율성은 자기 흡수형 원형 광원과 동심 반원형 반사기들의 일반적인 특성이다. 이러한 일반적 특성은 단순히 광선 추적이나 비대칭 불변의 원리로부터 유도될 수 있다. 반사기 소자(92)가 완전한 원형이 아니더라도, 광원(76)의 단면의 중심이 그 반사기 섹션의 곡률의 중심 부근에 있다면, 반사기 소자(92)의 각 부분은 빛을 광원(76)으로 되돌리려 할 것이다.

또 다른 양호한 실시예에 있어서, 도 8에서의 반사기 소자(94)의 단면은 하나 이상의 거의 원형인 호들을 포함하며, 그 효율은 반사기 소자(94)의 곡률의 중심으로부터 떨어진 광원(76)의 중심에 위치시킴으로써 증가된다. 광선 추적 및 실험으로 이러한 양호한 실시예들이 이하의 규칙들을 사용하여 결정될 수 있음을 보여준다:

1. 반사기 소자(94) 단면의 길이의 x 방향의 최대치는 웨지층(12)(또는, 광 파이프)의 최대 두께와 같다;

2. 반사기 소자(94)의 단면은 광학적으로 뾰족한 코너들을 갖지 않는다;

3. 반사기 소자(94)의 곡률 반경은 가능한 크게 한다; 그리고

4. 광원(76)은 웨지층(12)으로부터 가능한한 멀게 배치하지만, 최악의 제조변수를 만나게 되는 것을 방지하기 위해 반사기 소자(94)로부터 충분히 멀리한다.

도 8은 내경 2 ㎜, 외경 3 ㎜인 광원(76), 웨지층(12)(또는, 광 파이프)의 두께 5 ㎜, 및 반사기 소자(94)와 글래스 덮개(93)의 외경간의 간격 0.25 ㎜인 제조 공차로 상술한 설계 규칙들을 만족하는 커플러의 일예를 도시한다. 양호한 실시예 중 이 예에서는, 반사기 소자(94)의 곡률 반경은 2.5 ㎜ 이고, 광원(76)의 중심은 웨지층(12)의 개구로부터 0.75 ㎜ 정도 떨어져 위치한다. 이러한 설계에 따라 구성된 커플러는 도 7에 도시된 동심원 커플러와 비교해서 10-15% 정도 더 밝다.

전술한 인볼루트 및 U자형 반사기 소자들(92 및 94)은 개구 표면의 법선에 대하여 ±90°로 근접하는 각들을 갖는 웨지층(12)의 개구로 빛을 출력하도록 설계된다. 또 다른 양호한 실시예에서, 반사기 소자(94)는 장치(10)의 N.A.에 보다 근접하는 각 분포를 갖는 빛을 출력하기 위한 형태를 갖는다. 도 6B 및 6C에 도시된 바와 같이, 반사기 소자(94)의 형태들은 복합 파라볼릭 소스 반사기(86)와 비영상화 조명 소스 반사기(88) 등의 다른 기하학적 형태를 포함한다. 소스 반사기(88)의 일예는 본 명세서에서 참조적으로 설명되는 본 출원인에게 양도된 미국 특허 출원 제 07/732,982호에서 설명된다.

도 6D, 12L, 12N 및 12O에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 웨지층(90)은 웨지형 크로스 섹션 중 다양한 선택부에 대해 웨지꼴 크로스 섹션의 두께를 변화시킴으로써 비단조(non-monotonic)를 갖는다. 이러한 크로스 섹션을 조절하여 출력되는 광 분포가 제어된다. 또한, 고유 광원 효과뿐만 아니라 광경계 효 과도 원하지 않는 이상(anomalies)을 갖는 출력 광 분포를 주도록 결합될 수 있다. 그러므로, 예를 들어 전형적으로 입력광을 수신하는 보다 두꺼운 단부 부근에서 웨지층(90)의 실제 크기에서의 비선형 변화를 갖는 웨지형 크로스 섹션을 제공하여 이러한 이상들을 보상할 수 있다. 이러한 제어에 의해, 광 분포를 제어하기 위한 또 다른 자유도를 가질 수 있을뿐만 아니라 어떠한 경계 효과나 광원에 대하여 보상하기 위한 임의의 설계를 사실상 제공할 수 있다. 더욱이, 광의 분포를 수정하기 위해 전술한 방법으로 웨지층(90) 내에서 굴절률을 변화시킬 수 있으며, 또한 희망하는 광 분포 출력을 제공하기 위해 광 입력 이상을 보상할 수 있다.

조명 장치의 제조

본 발명의 한 형태에 있어서, 선택된 접착제들과 조명 절차를 주의 깊게 사용하여 장치(10)를 제조할 수 있다. 예를 들어, 굴절률이 n₁인 웨지층(12)은 굴절률이 n₂인 제1 층(28)에 밀착되도록 결합될 수 있다. 접착층(60)(도 3B 참조)은 액체 형태로 제 1층(28)의 상부면에 접착될 수 있고, 층(28)은 웨지층(12)의 하부면(16)에 밀착되어 결합된다. 일반적으로, 다양한 층들의 결합 순서는 임의로 주어질 수 있다.

층(12)을 층(28) 및 다른 이와 같은 층들에 적용함에 있어서, 제조 공정은 사실상 평탄한 내부층 계면들의 형성을 포함하는 것이 바람직하다. 그렇지 않으면, 서로 다른 굴절률을 갖는 층들간의 각각의 계면이 특성 임계각을 갖는 반사면으로서 작용하기 때문에, 성능을 열화시킬 수 있다. 계면들이 실질적으로 평탄하다면, 불균일면들에 의한 열화 효과는 무시할 만하다. 그러므로, 장치(10)의 다양한 층들의 적층시에, 방법론적으로 상술한 완곡한 계면을 갖는 층들을 제공하는 접착제들 및/또는 결합 기술들을 사용하여야 한다. 적층 공정의 예에 의하면, 추가 접착층들없이 결합하고, 한 층을 도포한 다음 접착제가 있는 제2 층에 결합하고, 막층을 두개의 접착층들(서로 결합될 각 층면의 한면)에 적용하는 공정들을 제한없이 포함된다.

양호한 실시예에서는, 거친 계면에 의해 광 분포가 왜곡되지 않도록 내부층을 추가하지 않고 적층을 행한다. 장치(10)의 이러한 기하학적인 형태의 예로 웨지층(12)과 제2 층(30) 사이의 액체층을 들 수 있다. 이러한 방법은 제1 층(29)(액체층 등)이 접착층으로 작용한다면 가장 효과적이다. 부분적으로든 전체적으로든, 장치(10)의 다양한 층들의 결합 전과 결합 후 중 어느 한 시기에 접착제를 경화시킬 수 있다. 이와 같이, 웨지층(12)의 하부면과 제2 층(30)의 상부면에 의해 광학적 계면이 정의된다.

코팅이 접착층으로 사용되는 다른 실시예에서, 제1 층(28)은 제2 층(30)에 인가하는 코팅이 될 수 있다. 다음으로, 코팅막과 웨지층(12) 간에 접착제를 인가함으로써 제2 단계에서 코팅막은 웨지층(12)에 적층될 수 있다. 제2 층(30)이 전형적으로 연속적인 롤 형태의 막으로 공급되기 때문에, 낮은 굴절율의 코팅을 직접 웨지층(12)에 인가하기 보다는 제2 층(30)에 인가하는 것이 바람직하다. 실제로, 각각의 조각을 코팅하는 것보다는 이러한 연속 롤을 코팅하는 것이 비용에 더 효과적이다. 이 방법으로, 인가된 낮은 인덱스층의 두께를 제어하는 것이 더욱 편리하다.

다른 실시예에서, 제2 층(30)은 추가 접착제를 사용하지 않고 제1 층(28)에 직접 부착하는 방식으로 제조된다. 예를 들면, 제2 층(30)은, 폴리머 재료층을 제1 층(28)에 인가한 다음, 이 재료를 소정의 제2 층 구조를 갖도록 주형함으로써 제조될 수 있다. 다른 예에서, 제1 층(28)은 제2 층(30)을 엠보싱(embossing)하는 동안의 캐리어막으로서 기능할 수 있다. 성형 공정 동안 적절한 온도를 사용하여, 제2 층(30)은 제1 층(28)에 열용화될 수 있다. 이러한 열용화는 거의 500。F 이상에서 성형함으로써 종래의 FEP 제1 층막을 사용하여 달성될 수 있다.

막과 두개의 접착제를 사용하는 다른 실시예에서, 제1 층(28)은 웨지층(12)에 적층되거나, 또는 두가지 유형의 계면들 간에 접착제를 사용하여 웨지층(12) 및 제2 층(30) 사이에 적층되는 압출 성형 또는 주형 막일 수 있다. 전술된 치명적인 산란광을 최소화하기 위해, 접착층은 평탄하고 매끄러워야 한다. 이 막은 저가의 상용 저인덱스 재료로 구할 수 있다. 이러한 추가 접착층들은 층들 각각 사이에 접착제를 갖는 다층 구조로 강도를 증가시킬 수 있다.

일반적으로 접착제를 사용하면, 장치(10)의 성능은, 웨지층과 제1 층 간의 접착제의 굴절율이 가능한한 제1 층(28)의 굴절율에 근접할 때 최적화된다. 웨지/접착제 계면에서의 임계각이 가능한한 낮을 때, 광은 장치(10)를 빠져나가기 전에 보다 저품질의 막 계면으로부터 떨어진 곳에서 최소한의 반사를 한다. 또한, 막 표면의 거칠기 효과를 감소시키는 제1 층막의 표면에서의 인덱스 변화는 최소화된다.

마스터 도구를 사용하여 몰드를 마이크로-머시닝함으로써 마면들을 제조할 수 있다. 머시닝은 적절한 모양의 다이아몬드 도구로 통제함으로써 실행될 수 있다. 마스터 도구는 전기주조(electroforming) 또는 주조(casting)와 같은 공지된 기술에 의해 복제될 수 있다. 각각의 복제 단계는 소정의 표면 모양을 반전시킨다. 이 때, 그 결과로 나타나는 몰드 또는 복제물은 제2 층(30)에서 소정의 모양을 엠보싱하는데 사용될 수 있다. 직접 표면을 만드는 방법을 이용할 수 있지만, 상술된 엠보싱 방법이 선호된다. "밀링" 공정은 화학적 에칭 기술, 이온 빔 에칭 및 레이저 빔 에칭을 포함할 수 있다는 것을 알아야 한다.

또 다른 기계적 제조 방법에서, 마면(34)(예를 들면, 도 2B 및 도 2M 참조)은 한면에 원하는 마면(34)의 프로파일을 역으로 갖는 하드 도구를 사용하여 엠보싱 또는 주조와 같은 용접 공정에 의해 제조될 수 있다. 따라서, 제조상의 문제는 적절한 도구를 머시닝하는 것으로 줄어든다. 일반적으로, 머신된 도구는 형판(template)으로서 사용되어, 주조 또는 엠보싱 공정에서 실제로 사용되는 도구를 형성한다. 도구들은 전형적으로 전기주조에 의해 복제된다. 전기주조는 표면 프로파일을 반전시키고, 전기주형은 다른 전기주형으로부터 형성될 수 있기 때문에, 임의의 수의 이러한 반전들이 만들어질 수 있고 직접 머신된 "마스터"는 마면(3A) 또는 그의 반전된 형상을 가질 수 있다.

마면(34)의 도구는 단일-포인트 다이아몬드 머시닝에 의해 제조될 수 있는데, 커핑 도구 및 작업물 간의 거리는 소정의 프로파일을 추적할 만큼 변화된다. 다이아몬드 커핑 도구는 매우 날까로워야 하지만, 대체로, 거의 임의의 프로파일이 생성될 수 있다. 소정의 설계는 또한 커핑 도구의 비제로 반경에 부합하도록 특정한 적응성을 요구할 수 있다. 곡선 마면이 필요하다면, 원호가 제조에 용이하다. 커핑 도구는 절단 기판을 통해 이동되고 도구의 유사한 모양을 갖는 그루브를 절단한다. 단일 다이아몬드 도구를 사용하여 전체 조각을 머시닝하는 것이 바람직하다. 이 방법이 마면(34)의 "포커싱" 형태를 만드는데 사용될 때, 다양한 그루브 프로파일이 동일한 도구에 의해 머신될 수 있도록 가변 그루브 프로파일이 설계되어야 한다. 원하는 모양의 변화는 그루브 공간 및 깊이뿐 아니라, 도구의 각도를 변화시킴으로써도 여전히 달성될 수 있다.

마면(34)의 설계는 일반적인 일부 제한 사항을 바람직하게 만족한다.

1. 위치의 함수로서 조명 각도 분포의 중심에서 거의 선형적인 변화. 전형적인 컴퓨터 화면의 상부에서 바닥까지 11°(± 5.5°)의 변화가 효과적이다.

2. 광 출력의 가변 각 분포의 폭은, 관찰자에게 거의 균일한 휘도를 주기 위해 로컬 조명에 거의 비례해야 한다. 이하 제공된 예들은 공간 분포가 거의 균일하여, 각도 콘은 거의 균일한 폭을 갖는다는 것을 도시한다.

3. 마면들(38)의 그루브들 간의 간격은 회절 현상이 일어나지 않도록 충분히 크거나 충분히 불규칙적이어야 하며, LCD 패널에 사용될 때 모아레 패턴이 만들어지지 않도록 선택해야 한다. 실제로, 이러한 요구 조건들은 허용되는 공간적 변화를 한정한다.

장치(10) 제조시, 예를 들면, 시야각은 마면들(38) 각각의 기울기 및 곡률에 의존한다. 위치 함수로서의 마면 구조를 회전시킴으로써 포커싱이 달성된다. 500㎜ 떨어져서 본 150㎜ 화면의 예를 사용하여, 조명 콘은 상부에서 바닥까지 17°(즉, ±8.5°) 만큼 변화될 수 있다. 전형적인 재료인 아크릴, FEP인 경우는, 마면 구조가 화면(89)의 상부에서 바닥까지 약 5.7° 만큼 회전하도록 요구된다(도 9B 참조).

제한 사항 (1)-(3)이 단일 도구로 다양하게 굴곡된 그루브를 머시닝할 필요성과 함께 조합하면 설계 제약이 나온다. 예를 들면, 일정한 절단 깊이에서 일정한 각도 폭(제약 #1)을 유지하면 그루브 간격 또는 그루브 깊이의 보상 변화가 요구된다. 구체적으로, 그루브 간격의 선형적인 변화는, 그루브를 절단하는 형태 도구가 각각의 곡선 반사기 마면의 일부(도 2M 참조)가 인접한 마면의 상부 에지에 의해 가려지는 형상이라면, 휘도 변화를 무시할 만한 레벨로 감소시킬 수 있다. 이 간격 변화는 제약 #3을 만족시킬 만큼 충분히 작을 수 있다.

제1 층이 상술한 바와 같이 매우 얇을 수 있어야 하기 때문에 제1 층(28)을 기상 증착, 스퍼터링 또는 이온 빔 증착하는 방법들이 다른 제조 방법으로 포함될 수 있다. 마찬가지로, 제2 층(30)은 제어가능하게 인가되어 (마스킹과 층 증착과 같은) 도 2B에 도시된 마면층(30)을 형성할 수 있다.

간단한 조준 장치로서 웨지 광파이프

가장 일반적인 실시예에서, 웨지층(12)은 간단한 조중 광 소자로서 조합 환경으로 기능할 수 있다. 실질적으로 투명한 웨지층(12)은 광학적 굴절율 n₁을 갖고, 상부면(14) 및 하부면(16)은 적어도 하나의 입사각 φ)을 갖도록 수렴한다(도 15 참조). 웨지층(12)은 또한 상부면(14) 및 하부면(16)을 연결하는 뒷면(20)을 포함한다. 웨지층(12)에는 인접한 것은 공기 갭을 포함하는 굴절률 n₂을 갖는 투명한 제1 층(28)이 인접해 있다. 제1 층(28)에는 인접한 것은 제2 층(30)의 마면(34)과 같이, 거울 반사층이 인접해 있다.

실질적으로 비조준광은 소스(22)에 의해 뒷면(20)을 통해 도입된다. 광은, 입사각이 임계각 θ_c보다 작을 때까지 각각의 광선이 상부 및 하부면(14 및 16)에 대한 입사각을 감소시키며 웨지층(12) 내로 전달된다. 일단 각도가 θc보다 작으면, 광선은 대기로 나가게 된다. 하부면(16)을 통해 나가는 광선은 웨지층(12)으로 역반사된 다음 대기로 출력된다. 상술된 각도-필터링 효과에 의해, 출력광은 거의 수학식 8에 표현된 각도 폭을 갖는 콘 내에 조준된다.

조명될 영역(99)은 웨지층(12)의 단부를 벗어나 실질적으로 거의 상기 정의된 폭 △θ를 갖는 콘 내에 위치한다.

다른 바람직한 실시예에서, 광-전향 수단은 웨지층(12)의 단부를 벗어나 배치되고 상기 정의된 폭 △θ을 갖는 콘 내에 실질적으로 배치될 수 있다. 광-전향 수단은 렌즈, 평면 거울 반사기, 또는 곡선 반사기가 될 수 있다. 광-전향 수단은 조명될 영역에 광을 반사하거나 또는 굴절시킨다. 렌즈 확산기와 같은 이러한 전향 수단에 대한 다른 세부사항과 용도를 이하 설명한다.

두개의 공기 갭 또는 투명한 유전체층을 갖는 도 6의 실시예에서, 광 전향층은 독립적이므로, 다른 유형의 층들을 갖는 장치를 구성할 수 있다. 예를 들면, 광이 장치(10)의 양 측으로부터 방출될 때 또는 최대 조준가 요구될 때마다 두개의 전달 전향층을 사용하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 두개의 전향층에 대한 모든 발명의 전향층(82)의 예들은 도 12의 예들을 포함하는데, 여기서 괄호안의 문자는 도 12의 적절한 도면에 대응한다. 즉, (a) 도 12A에서 회절 격자(120) 또는 홀로그램(122), (b) 도 12B에서 확산기(126)를 갖는 두개의 굴절 마면층들(124), (c) 웨지층(12)으로부터 출력된 광을 굴절시키고 내부로 반사하도록 설계된 마면들(120)을 갖는 두개의 마면층(128), 이러한 마면들(130)은 굴절만에 의한 각도보다 큰 각도를 통한 광 출력을 전환시킬 수 있으며, (d) 두개의 굴절 단일 마면층(132)(프리즘), (e) 포커싱을 위한 곡선 출력면(136)을 갖는 굴절 단일 마면층(134)을 갖는 웨지층(12)을 위한 상부면 전향층이다. 하부면(138)은 마면층(140)을 이용하여 광을 굴절시키고 내부로 반사하기 위한 전향층을 포함하며, 마면 각도는 F에서 출력광(142)을 집광하기 위해 위치에 따라 변화되며, (f) 굴절 마면층(146)으로 구성된 상부면 전향층(144) 및 광의 좁은 각도 출력을 갖는 굴절/내부 반사층(148)으로 구성된 바닥 전향층, 및 확산기 층(150)이 광 출력 각 분포를 매끄럽게 넓히기 위해 추가될 수 있으며, (g) 출력 각 분포를 넓히도록 볼록하게 휘어진 굴절면(154)을 갖는 굴절/내부 반사 마면층(152)의 상부면 전향층, 마면 각도는 위치에 따라 변화될 수 있으므로, 한정된 거리에서 바람직한 시야 영역을 생성하도록 선택적으로 광 출력 각도 콘에 광을 보내고, 이 구성은 곡선 마면층(152)에 의해 제거되지 않는 불균일성을 확산시키는 트랜스버스 렌즈 확산기(156)를 더 포함할 수 있으며, 바닥 전향층은 반사층(160)이 제어 방식으로 광 출력 각 분포를 넓히도록 볼록하게 휘어진 굴절/내부 반사 마면층(158)을 포함하며, (h) 제어 방식으로 출력 각 분포를 넓히고 균일성을 개선하기 위해 곡률형 마면(164)를 갖는 굴절 마면층(162)을 포함하는 상부 전향층, 좁은 각도 출력을 위한 평탄한 마면들(168)를 갖고 한정된 거리에서 출력광을 집광하기 위해 위치에 따라 변화하는 마면 구조를 갖는 굴절/내부 반사 마면층(166), 병렬 렌즈 확산기(170)가 제어 방식으로 출력 각 분포를 매끄럽게 넓히고 균일성을 개선하는데 사용될 수 있으며, 점선으로 도시한 투명 이미지는 렌즈형 확산기상에 인쇄되거나 또는 접착해서 기반이 될 수 있으며, 트랜스버스 렌즈형 확산기(172)는 병렬 렌즈형 확산기(170)에 의해 제거되지 않은 불균일성을 확산시키는데 사용된다. 집광된 평탄한-마면층(166) 및 확산기(170)의 조합은 집광된 곡률 마면을 사용하는 것과 유사하게, 한정된 거리에서 바람직한 시야 영역을 형성하도록 한다. 또한 이와 함께 사용가능한 LCD 부품(173)(점선) 및 임의의 다른 형태의 조명용 장치(10)가 도시된다.

다른 구조에서, 하나의 투과 전향층 및 하나의 반사 전향층이 결합될 수 있다. 이들은 전술한 다양한 형태의 투과 전향층과 반사 전향층의 결합이다. 반사 전향층은 정반사층, 부분 확산층, 확산층, 마면층 또는 이들의 결합일 수 있다. 이러한 구조는 일측에서만 조명이 요구되는 경우에 또는 최소 비용이 요구되는 몇몇 경우에 바람직하다. 이러한 구조의 예로는 도 12에 도시된 바와 같이 (i) 하부면 정반사기(174)가 상층 투과 회절 격자 또는 투과 홀로그램(176)과 결합된 구조; (j) 하부면 정반사기(178)가 상부면 굴절 마면층(180), 확산기(182)(도12J에 점선으로 도시됨) 및 삽입 화상 형성층(171)과 결합된 구조; (k) 하부면 정반사기(184)가 상층 굴절/내부 반사 마면(다면)층(186)과 결합되고 마면(다면) 구조가 유한 거리에서 출력광을 집광하도록 위치에 따라 변하며 점선으로 도시된 확산기(188)를 구비한 구조; (l) 하부면이 정반사기(190)이고 상부면이 굴절/내부 반사 마면층(192)이며 마면(194)이 제어 방식으로 광의 각 출력을 점증적으로 확대하고 균일성을 향상시키는 데 사용되는 구조가 있다. 웨지 층(12)과 상부면 및 하부면의 저굴절률 층(196)(예컨대 에어갭)의 두께는 광출력 공간 분포에 영향을 미치도록 변하고; (m) 균일도를 개선하기 위하여 하부면 반사기(198)는 부분 정반사, 부분 확산형이며; 도 12M은 통합 렌즈형 확산기(200)의 추가에 의해 확산이 제어될 수 있는 초기 반사부를 나타내고; 확산기(200)는 두꺼운 단부 근처에서 일반적인 y 축 방향으로 출력에 나타나는 불균일성을 선택적으로 감소시키도록 설계되며, 굴절/내부 반사형이고 반사 곡면을 가진 최상부 전향층이 또한 포함되며, (n) 하부 반사층(204)은 균일도를 향상시키기 위해 부분 정반사, 부분 확산층이고, 도 12N은 정반사를 감소시켜 두꺼운 단부(208) 근처에서 출력에 나타나는 불균일을 선택적으로 감소시키기 위하여 약간 거칠어진 초기 반사부(206)를 나타내며, 평면형 마면층(212)을 구비한 굴절/내부 반사 상부 전향층(210)이 사용되고, 마면 구조가 각각의 면에서 유한 거리의 공통 초점으로 광을 전향하도록 변하며, 평행 렌즈형 확산기(214)가 점선으로 도시되어 있고, 평행 렌즈형 확산기(214)가 제어 방식으로 출력 각 분포를 점증적으로 확대시키는 데 사용되어, 평면형 마면층(212)의 초점 영역을 더 넓은 바람직한 시역으로 변환하며; 렌즈형 확산기(213)는 또한 균일도를 향상시키고; LCD 표시(216) 또는 다른 투명 화상이 점선으로 도시되고; (o) 바람직한 실시예에서 편심 결합기(218)는 도 120에 점선으로 도시된 균일도를 향상시킨 렌즈형 확산기(220)를 사용한다. 수렴 테이퍼부(222) 또는 CPC(웨지층과 일체)가 웨지층(12)의 입력 N.A.와 더 근사하게 일치하도록 출력 각 분포를 변환한다. 웨지층(12)의 두께는 출력 공간 분포에 영향을 주어 균일도를 향상시키도록 점증적으로 변하며; 하부 전향층(224)은 정반사 또는 부분 확산 반사기이고; 상부 전향층(226)은 제어 방식으로 출력 각도를 점증적으로 확대시키도록 볼록화된 반사면(230)을 구비한 굴절/내부 반사 마면층(228)이며; 마면 구조는 유한 거리에서 바람직한 시야(232)를 형성하기 위하여 각 면으로부터의 광의 각 원뿔을 선택적으로 배향하도록 위치에 따라 변하고; 평행 렌즈형 확산기(234)가 점선으로 도시되어 있으며; LCD 표시(236) 또는 다른 투명 화상이 또한 점선으로 도시되어 있고; 전향층 및 저굴절률층은 지나치게 수렴하는 부분에 더 결합될 필요가 없기 때문에 고수렴 N.A.-정합부는 마면 전향층과 결합되는 것이 유리하며; 따라서 장치(10)의 입력 개구(그리고 결국 효율)는 장치의 총 두께의 최소 증가와 함께 증가하고; (p) LCD 백라이팅에 대한 또 하나의 바람직한 실시예는 도 12P에 가상선으로 도시된 균일성이 증가된 확산기를 구비한 편심 결합기를 사용하며; 수렴하는 하프-테이퍼부(240) 또는 하프-CPC(웨지층(12)과 일체)는 웨지층(12)의 입력 N.A.에 더 근사하게 일치하도록 결합기 출력 각 분포를 변환시킨다. 또한, 확산기(239)(점선)는 광원(217)과 웨지층(12) 사이에 개재될 수 있다. 충분히 끝이 잘린 하프-CPC(240)는 바로 단순 테이퍼부이다. 부분 정반사, 부분 확산의 하부 반사기(242)가 균일도를 향상시키기 위해 사용된다. 도 12P는 정반사를 줄이기 위해 약간 거칠어지거나 일련의 평행 반사 그루브로 성형하여 더 두꺼운 단부 근처에서 출력에 나타나는 불균일을 선택적으로 감소시키는 초기 반사부(244)를 나타내며; 상부 전향층(246)은 제어 방식으로 출력 각을 점차 확대시키도록 볼록한 굴절면(250)을 가진 굴절/내부 반사 마면층(248)이며; 마면 구조는 유한 거리에서 바람직한 가시영역을 형성하기 위하여 각 면으로부터의 각광 원뿔을 선택적으로 전향하도록 위치에 따라 변하며; 평행 렌즈형 확산기(252)가 점선으로 도시되어 있다. 또한, 점선으로 도시된 LCD 표시장치(254) 또는 다른 투명 화상이 포함된다.

전향 고굴절률층은 고수렴부를 덮을 필요가 없기 때문에, 고수렴 N.A.-정합부(예컨대 하프-테이퍼부(240))는 마면 전향층과 결합되는 것이 유리하며, 따라서 총 두께를 증가시키지 않으면서 장치(10)의 수광 개구가 증가된다. 도 120에 도시된 전 테이퍼부(222)에 의한 장점이 있다. 그러나, 이에 비해 도 12P의 하프-테이퍼부(240)는 동일한 N.A.-정합 효과에 대해 테이퍼 방향으로 더 긴 대신에 일측에서 더 큰 두께 감소를 제공한다. 상부면 저굴절률층은 균일도를 향상시키기 위해 더 두꺼워질 수 있기 때문에 도시된 바와 같이 두께 감소를 일측에 집중시키는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 구조는 코너 주위의 반사막을 굽힐 필요 없이 하부 반사층이 결합기 반사기 공동에 일체화될 수 있기 때문에 제조가 더욱 쉽고; (q) 하부 정반사 또는 확산층(256)이 또 다른 실시예에서 단일 마면 굴절 상부층(258)과 결합될 수 있으며(도 12Q 참조); (r) 내부 조명용의 경우, 이중 "배트윙(bat-wing)" 각 광분포가 바람직하며, 도 12R에 면(264)을 구비한 상부 굴절층(262)이 도시되어 있는데, 이는 각 출력을 점차 확대하고 균일성을 향상시키기 위해 곡률형의 정면을 가지며 출력 광은 주로 전방 사분면을 향하며, 하부 반사층(268)은 주로 상부 전향층의 후면을 통해 광을 반사시키며 출력은 실질적으로 후방 사분면을 향한다.

당해 분야에서 공지된 바와 같이, 도면에 도시된 각종 소자는 테이퍼 조명 장치의 소자들과 결합하여 사용될 수 있다. 두 가지 결합 구성의 예가 도 13 및 14에 도시되어 있는데, 각 도면은 또한 도시된 구조의 고유한 특징을 포함한다. 도 13에 도시된 바와 같이, 2개의 웨지(276)는 결합되어 일체로 형성될 수 있다. 이러한 결합은 2개의 광원이 동일한 총 면적에 광을 공급할 수 있기 때문에 동일한 크기를 가진 단일 웨지보다 더 높은 휘도를 제공할 수 있다. 이러한 장치에서 휘도는 증가하지만, 2개의 광원은 하나의 광원에 필요한 전력의 2배를 요구하기 때문에 효율은 비슷하다. 마면(274)을 가진 전향막(272)은 도시된 바와 같이 양 방향으로부터 수광하는 단일 대칭 설계일 수 있다. 대안으로, 전향막(272)은 버터플라이의 각 윙에 대해 다른 설계를 가질 수 있다.

도 5에 도시된 테이퍼 디스크(270)의 3차원적 형상이 도 14에 도시되어 있는데, 여러 층의 모습을 나타내기 위해 절단되어 있다. 마면 전향층(280)은 테이퍼 광 파이프부(284)를 덮는 동심의 구형 마면(282)을 포함한다. 광 파이프부(284)의 축에서의 갭 위에 놓인 광원(288) 바로 위에서 전향층(280)은 렌즈(예컨대 프레넬 렌즈(280)가 도시됨)의 형태를 취한다. 광원(288)의 바로 아래에는 광이 누출되는 것을 방지하고 광을 광 파이프부(284) 안으로 또는 렌즈를 통해 전향하도록 배치된 반사기(290)가 있다. 반사기에는 적어도 하나의 개구가 제공되어 와이어 또는 광 파이프와 같이 소자의 통과할 수 있도록 한다.

화상 형성층 또는 착색층의 사용

본 발명의 모든 실시예는 화상을 형성하기 위해 가변 투과율을 갖거나 각 출력의 적어도 일부를 착색시키는 하나 이상의 층을 포함할 수 있다. 화상 형성층은 통상의 투명 표시와 같은 정지 화상, 또는 액정 표시와 같은 선택 제어 화상을 포함할 수 있다. 화상 형성 또는 착색층은 전향층 중 하나 위에 배치되거나, 대안으로 저굴절률층 중 하나와 관련 전향층 사이의 중간층, 또는 전향층의 내부 요소를 포함할 수 있다. 예컨대, 상부 화상 형성층(129)이 도 12C 및 12G에 점선으로 도시되어 있다. 내부 화상 형성층(171)의 예가 도 12H 및 12J에 도시되어 있다.

한 바람직한 실시예에서, 화상 형성층(예컨대 129 및 170)은 폴리머 분산 액정(PDLC; polymer-dispersed liquid crystal)층이다. 층들의 적절한 배열을 통해 화상 또는 칼라는 장치로부터 출력 각 분포의 선택부 안에 투사될 수 있다. 화상 또는 선택된 칼라는 출력 각 분포의 잔여부에는 실질적으로 없을 수 있다.

LCD 패널 조명용 이중 반사 웨지

몇몇 응용예에서, 주변광 또는 액티브 백라이팅에 의해 선택적으로 단일 LCD 패널을 조명하는 것이 바람직하다. 이러한 응용예에서 주변 조명은 표시에 의한 전력 소모를 최소화하기 위해 양호하게 조명된 환경에서 선택된다. 유효 주변 조명이 너무 낮아 적당한 표시 화질을 제공할 수 없는 경우에는 액티브 백라이팅이 선택된다. 이러한 선택적인 이중 동작 모드는 액티브 모드에서 LCD를 효율적으로 백라이트할 수 있고 주변 모드에서 주변광을 효율적으로 반사시킬 수 있는 후면 조명 장치를 필요로 한다.

가장 많이 보급된 종래 기술의 이중 액정 디스플레이(bi-modal liquid crystal display)는, 도 16B에 도시된 것과 같은 "투과 반사형 디스플레이(transflective display)(101)"이다. 이 방식은 통상적인 백라이트(102)와 투과성 LCD 패널(103), 및 부분적으로는 반사성이고 부분적으로는 투과성인 중간층(104)을 이용한다. 적절한 주변광 모드 성능을 얻기 위해, 중간층은 전형적으로 80 - 90%의 반사율을 가져야 한다. 이로 인한 낮은 투과율은 투과 반사형 디스플레이(101)가 활성 모드의 동작에서 효율적이지 못한 원인이 된다.

본 발명의 다른 실시예가 도 17에 도시되어 있다. 본 실시예는, 활성 모드에서 종래 기술의 투과 반사형 디스플레이보다 성능이 뛰어나며, 주변광 모드에서도 상당한 성능을 나타낸다. 본 실시예에서, 하부면(16)을 가지는 웨지층(wedge layer)(12)(굴절율 n₁)이 굴절율 n₂ < n₁인 투명층(28) -에어갭도 가능함- 에 결합된다. n₂층은 부분적으로 확산 반사층(105)에 결합된다. 도 16A에 도시된 바와 같이, 이 리플렉터층(105)은, 예를 들어, 주변광 모드 전용으로 사용되던 종래의 LCD 패널에서 이용되던 반사기와 유사한 것이 바람직하다. 웨지층의 상부면(14)에는, 초소형 렌즈를 구비하는 렌즈형 확산기(20) 등의 마면된 전향층(106, redirecting layer)이 y축에 거의 평행하게 놓여져 있다. 액정 디스플레이 패널(107)이 마면된 전향층(106) 위에 놓인다. 웨지층(106)의 후면(20)은 광원(22)에 결합된다.

렌즈형 전향층(106)과 웨지층(12)은 실질적으로 입사 및 반사광에 대해 투명하기 때문에, 주변광 모드에서, 장치(10)는 종래의 주변광 모드 전용 디스플레이와 유사한 방식으로 동작한다. 활성 모드가 선택되면, 광원(22)이 활성화되고, 복수 층이 전술한 바와 같이, 복수의 층들이 굴절율과 수렴 각도 간의 관계에 의해 빛을 장치(10)에 걸쳐 실질적으로 균일하게 퍼지게한다. 이로 인한 균일한 조명이 웨지층(12)의 상부면(14)을 통해 출사된다. 바람직한 실시예에서는 주변광 모드의 성능을 최대화하기 위해, 반사기층(105)은 거의 거울과 같다. 바람직한 실시예에서, 상부면으로부터 나온 광은 대개 LCD 디스플레이 패널(107)에 의한 투과에 적합하지 못한 그레이징 각으로 나온다. 전술한 바와 같이, 전향층(106)은 이러한 빛의 일부를 굴절과 내부 전반사의 결합에 의해 전향시킨다. 전향층(106)은 적어도 광의 10-20%가 LCD와 수직한 법선으로부터 30도 미만의 각도로 전향되도록 설계되는 것이 바람직한데, 전형적으로 이 각도 범위 내에서 LCD 투과율이 가장 높기 때문이다. 종래 기술의 투과 반사형 디스플레이는 활성 모드의 동작에서 상당히 비효율적이기 때문에, 후방 조명(back-illumination)의 일부만을 적절한 각도로 전향시키면 충분하다.

편광된 빛의 처리

본 발명의 다른 양태에서, 광학 장치(10)에 의해 처리된 광은 고유의 편광 (선편광, 회전 편광 및 타원 편광 등)을 가지며, 이러한 편광은 액정 디스플레이("LCD") 시스템으로부터의 조명 또는 편광에 의존하는 다른 출력을 개선하는 데 유리하게 사용될 수 있다. LCD를 채용하는 시스템에서, 한 종류의 편광된 빛(308)을 제거하고, 다른 종류의 편광된 빛만을 LCD 층에 전달할 필요가 있다. 도 30에 도시된 예시에서, 종래의 편광층(312)은 한 편광을 광원(306)으로부터 입사된 광의 약 절반에 해당하는 양까지 선택적으로 흡수하고, 선택된 편광은 LCD 층(316)으로 전달한다. 적절한 편광으로 편광된 빛은 액정 및 제2 편광기(314)에 의해 원하는 방식으로 처리되어, 디스플레이된 대상의 형태를 제공한다. 이러한 종래의 시스템에서는, 광원으로부터 입사되는 광의 약 절반이 불필요한 것이 되며, 원하는 LCD 출력을 제공한다는 목적에 이용되지 못한다. 결과적으로, (불필요한 편광을 제거하지 않고) 두 가지 유형의 편광된 빛을 모두 활용할 수 있는 수단이 있다면, 액정 디스플레이에 대해 효율과 휘도에 있어 실질적인 이득이 얻어질 것이다. 본 발명은 부분적으로 이러한 것을 위한 것이며, 하기의 실시예들은 이러한 목적을 달성하기 위한 바람직한 구성 및 방법이다.

편광 필터의 가장 일반적인 설명에 의하면, 도 30B를 참조하면, 편광 필터층(307)의 기능은 타입 1 및 타입 2의 두 가지 편광 상태로 구성되는 입사광(308)을 이용하여, 편광 상태 (3) 및 (4)로 구성되는 투과광(309)과 편광 상태 (5) 및 (6)으로 구성되는 반사광(311)을 생성하는 것이다. 이것은 이하에서 참조 번호 "제1" 및 "제2"로 표현되는 것과 관련있는데, 상태 (1),(3) 및 (5)는 "제1 편광(218)"이라 칭해지고, 상태 (2), (4) 및 (6)은 "제2 편광(220)"이라 칭해진다. 따라서, 상태 (3) 및 (5)의 형태는, 편광 상태(1)의 입사광 부분으로 인해 투과 및 반사되는 빛을 지정하도록 선택된 것으로 가정하고, 상태 (4) 및 (6)는 편광 상태 (2)와 연관된 것으로 한다. 그러나, 편광 상태의 형태는 더 이상 특정한 방식으로 관련될 필요가 없다. 일부 스펙트럼 파장 범위의 입사각의 일부 범위와 입력 편광 상태의 특정 선택 일부에 대해, 편광 필터층(307)은 특정한 총 전력 관계에 따라 입사광(308)을 처리하고, 출사광(309)을 생성한다. 각각의 편광 상태(i, i= 1, 2, 3, 4, 5, 6)에서 전력 (P_i)을 정의하면, 조건은 다음과 같다.

정의에 따라, 적절한 각도 및 스펙트럼 범위에서 상기 특성을 나타내는 층이 일종의 편광 필터층(307)이다. 일반적으로, 고려되는 편광 상태는 선형, 원형 또는 타원형과 같은 임의의 유형일 수 있다. 후반부에서는, 다음과 같이 정의되는 편광도(P_T)에 의해 편광 필터층(307)의 기능을 정량화할 것이다.

여기에서,

이다. 무손실 층에 대해, 투과율은 다음 식에 의해 반사율 R과 연관된다.

여기에서,

편광 필터층(307)에 대해, 상기와 같은 성질을 가지는 층 매체의 예는 다양하다. 이러한 예로는, (1) 코팅, 압출 성형, 또는 다른 공정에 의해 제조되고, 비복굴절성 또는 복굴절성 중 하나이며, 광학적 간섭 코팅으로서 동작하도록 설계되는 박막층, (2) 대상의 스펙트럼 밴드의 임의의 위치에서 광학적으로 1/4 파장 이상 두껍고, 각도와 굴절율이 브루스터 각 조건과 정확하게 일치하지 않는 경우에도 브루스터 스택으로서 동작하는 "후막" 층, (3) 박막과 후막 방식의 조합, 및 (4) 편광 의존 산란을 유발하고, 에칭, 엠보싱, 마이크로-머시닝(micro-machining) 등의 방법에 의해 생성되는 연관, 부분 연관 또는 비연관된 표면 거칠기 또는 프로파일 중 한 가지 유형 이상의 층과, 2색성 재료에 기초하는 층을 포함하는 예들이 있지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 일반적으로, 상기 예들 중 한 가지 유형 이상의 층에 의해 형성되는 집합층은, 편광 필터층에 대해 상술한 일반적인 기능의 사양을 만족하기만 한다면 적절한 편광 필터층(307)이 된다.

편광 필터층(307)의 구현은, 박막 또는 후막의 복굴절 또는 비복굴절층으로 구성될 수 있다. 복굴절층의 특정예 및 논의는 후에 제공된다.

후막 형태의 편광 필터층(307)의 한 실시예는, 도 30C에 도시된 바와 같은, 특정 설계의 중심 파장(6₀) 및 특정 설계의 동작 각도(3_inc)에 기초하고, 등방성 평면층에 기초한다. 이러한 설계 예에서의 층(313)은 -각각 광학 굴절율 n_H 및 n_L인 하이(H)층(314) 및 로우(L)층(315)으로 칭해짐- 2가지 유형의 교대층 을 포함한다. 스넬의 법칙으로부터, 입사각을 알면, 빛이 임의의 층(313)에서 이동하는 각도를 표면 법선(3L, 3H)에 대하여 층의 굴절율(n_inc, n_L, n_H)의 식으로 알 수 있다. 이것은 다음과 같다.

두 개의 광학적으로 등방성인 영역 사이의 계면으로 입사하는 P 편광된 형태의 빛(317)에 대하여, 계면의 반사율이 0이되는 각도인 브루스터 각이 존재한다. 표면 법선에 대하여 측정한 이 각도(θ_H/L, θ_L/H)는, 다음과 같다.

브루스터 각에서 S 편광된 빛에 대한 계면의 반사율은 상당할 수 있다. 차등적으로 p 편광 상태를 투과시키는 층(313)은, 이러한 계면들을 1/4 파장의 광학적 두께만큼 이격시킴으로써 설계될 수 있다. 이러한 1/4 파장 두께(t_L, t_H)는 다음과 같이 주어진다.

H 및 L 굴절율이 설계 방정식에 의해 연관됨을 증명할 수 있다.

예를 들어, 다음과 같은 특별한 경우를 생각하자.

이것은, 저 굴절율층의 설계 굴절율과 저 굴절율층(314) 및 고 굴절율층(315)의 물리적인 두께가 각각 n_L= 1.31, t_L = 145㎚, t_H = 110㎚이어야 함을 의미한다. 이는 n_H = 1.5 및 n_L = 1.31 각각에 대하여, 스퍼터링된 유리 및 증착된 리튬 클로라이드를 이용하여 얻을 수 있다. 도 30C와 일치하게 설계가 이루어진다고 가정하면, 굴절율 1.5로 둘러싸인 층(313)을 이용하여, 공지된 라우어드 방법(Rouard's Method)에 의해 반사율을 쉽게 계산할 수 있다. 외부 표면이 항상 반사 방지 코팅되기 때문에, 이러한 일치 가정은 상당이 일반적이다. 층(313)의 역할을 하는 다양한 기부층의 반사율이 아래의 표 1에 나타나 있다.

표 1 편광 필터층(307)의 성능 데이터
층 카운트	s- 반사율	P_T
1	0.069	0.036
5	0.45	0.29
11	0.85	0.75
15	0.95	0.90
21	0.99	0.98

유사한 대체적인 설계가 다수 존재한다. 단일 굴절율 이상이 층(313)의 박막 구조의 일부로서 사용될 수 있다. 주변층은 반드시 공기일 필요는 없으며, 저 굴절율 및 고 굴절율 층의 정확한 개수도 변경 가능하다. 캐리어 또는 기판은 다른 굴절율 값을 가질 수 있다. 층(313)의 두께는 설계 각도 및 파장에서 1/4 파장 두께로부터 변경되어 스펙트럼 및 각 밴드폭을 개선시킬 수 있다. 실제로, 층(313)의 동작성은 상당히 넓은 밴드가 될 수 있으며, 브루스터 각 설계는 굴절율 및 각도에서 고정밀도를 가질 필요는 없다. 예를 들어, 굴절율을 변경시킴으로써, s- 반사율과 p- 투과율을 번갈아 사용할 수 있다. 전체 시스템은 기능 변화없이 플립될 수 있다.

바람직한 실시예의 변경은 상이한 굴절율의 층을 적어도 2개 포함한다. 이러한 배열은 n_H와 n_L이 n_H/n_L > 1.5의 관계를 가져서, 고도의 편광 선택성에 요구되는 층의 개수를 최소화한다. 또한, 굴절율 n이고, 두께 t가 50㎚/(n²- 1)^1/2 < t< 350㎚/(n²- 1)^1/2인 적어도 하나의 층을 이용하여 성능을 향상시키는 데 광학 간섭이 사용되는 것이 가장 바람직하다. 상기 설명에서 t_L 및 t_H에 관해 주어진 방정식에 서, 파장이 400㎚ 내지 700㎚의 가시 광선 범위에 있고, 입사각이 임계각에 가까워서 n sinθ∼1 이 성립하고, 광 파장의 1/8과 1/2 사이의 광학 두께를 가지는 층에 의해 광학 간섭 효과가 촉진된다는 점에 유의하여 이 관계를 유도할 수 있다. 이러한 층들을 제조하기 위한 재료 및 방법은 다층 유전체 코팅에 관한 기술 분야에 공지되어 있다.

브루스터 스택 방식은, 층들이 파장의 수 배의 두께를 가지고 광학 간섭 코팅에서 발생하는 간섭 효과보다는 웨이브의 비간섭성 가산에 크게 기초하여 기능하는 경향이 있다는 점을 제외하고는, 상술한 박막 방식과 유사하다. 이러한 형태의 편광 필터층(307)의 설계는, 광학적으로 적어도 파장의 수 배이기만 하면 층 두께가 중요하지 않다는 점을 제외하고는, 상술한 박막 편광의 설계와 동일하다. 광학 두께의 부족은 브루스터 스택 구현의 성능이 일반적으로 스펙트럼 파장 및 각 변화에 대해 덜 민감해야 한다는 것을 의미한다. 도 30D의 기하 평면의 N층 쌍의 집합들의 s 및 p 편광된 빛의 투과율(T_s, T_p)의 견지에서 정의된 투과율은 다음과 같은 근사 공식을 이용하여 추정될 수 있다.

층 쌍의 수를 변화시켜가면서 기하 평면에 이 공식을 적용한 결과가 표 2에 나타나 있다.

표 2. 브루스터 스택 형태의 필터층(307)의 성능 데이터
층 쌍	T_s/T_p	P_T
1	0.9755	--
20	0.61	--
50	0.29	0.55
100	0.08	0.85

일반적으로, 이러한 유형의 편광 필터층(307)은, 동일한 반사율에 대해 훨씬 큰 굴절율 차이와 더 많은 수의 층을 요구한다. 박막 설계와 브루스터 스택 방식 간의 확실한 경계는 없다. 두께가 증가함에 따라, 간섭 효과(coherent effect)는 서서히 감소하며, 광 신호의 스펙트럼 밴드폭에 따라 달라지는 어느 지점을 넘어서는, 간섭 효과가 비간섭 효과에 비해 작아진다. 여기에 설명된 예들은, 단지 간섭 및 비간섭 상황의 극단적인 경우들이다.

도 19는 편광 조명기 시스템(204)의 일 형태를 변형한 것을 도시한다. 특히, 도 19B에서 시스템(204)은 광 굴절률 n을 갖는 웨지 형상의 단면적을 갖는 기부층(206)과, 적어도 하나의 경사각 Φ를 정의하기 위해 수렴하는 제1면(208)과 제2면(210)을 포함한다. 기부층(206)은 제1면(208)과 제2면(210)을 연결하는 후면(211)을 더 포함한다. 후면(211)을 통해 소스(도시 안됨)에 의해 입사된 광(212)은 제1 및 제2면으로부터 반사되고 기부층(216)을 통해 출사하는데 이때, 광(212)의 입사각은 상기 면(208 및 210)으로부터 각각 반사에 의한 상기 제1 및 제2 면의 법선 방향에 대한 입사각이 기부층(206)과 층(214)와 같은 제1층 수단과의 계면 특성인 임계각 3_c 미만으로 될 때까지 감소한다. 이러한 층(214)은 기부층(206)에 대해 제2면(210)을 위에 위치한 n₁보다 적은 굴절율 n₂를 갖는 층부분을 포함한다. 제1층(214)은 기부층(206)에 있는 광(212)의 입사각이 기부층(206)과, 층(214) 내의 굴절율 n₂를 갖는 층부분과의 사이의 계면 특성인 임계각 3_c 미만으로 될 때, 광(212)이 기부층(206)으로부터 출력된 다음 제1층(214)으로 입사될 수 있게 한다.

또한 이러한 시스템(204)은 한 상태를 다른 상태와 비교하여 바람직하게 편광 처리하는 편광 필터층(216)(앞의 설명에서 편광 필터층(307) 참조)과 같은 층 수단을 포함한다. 또한 필터층(307)에 대해 설명된 샘플 외에도, 다른 예로서 복굴절재인 편광 필터층(216)을 각 서브섹션에서 특정한 실시예의 내용으로 이하에서 설명하기로 한다. 도 19에서, 입사광(212)은 제1 편광된 광(218)과 제2 편광된 광(220)을 포함한다. 다음 바람직하게는 필터층(216)은 광(212)과 상호 작용하여 제2 편광 상태의 광(220)과 비교되는 제1 편광 상태의 광(218)을 출력한다. 이러한 필터층(216)은 기부층(206)에 대해 제2면(210) 위에 위치하고, 또한 필터층(216)은 광(220)의 적어도 일부를 반사할 수 있다. 이 반사광(220)은 제1층(214)과 기부층(206) 둘다를 통하여 대기(air)와 같은 굴절율 n₃의 매체(207)로 투과된다. 한편, 다른 광(218)은 편광 필터층(216)을 갖는 시스템(204)의 기부층(206)으로부터 출력된다. 도 19B에서, 광(218)은 굴절율 n₄의 매체(221)로 출력되도록 도시된다. 도 19B의 실시예에서, 굴절율 간의 관계식은 다음과 같다.

<수학식 9>

바람직한 실시예에서, n₂및 n₃는 n이 대략 1인 대기층일 수 있다. 이와 동일한 굴절율 관계식이 도 19A에 적용될 수 있고, 도 19B는 이의 변형이며, 굴절률 n₂로 된 제1층(214)은 편광 필터층(216)보다 기부층(206)으로 부터 더 떨어져 위치해있다. 도 19B의 실시예서, 제1층(214)은 편광 필터층(216)보다 기부층(206)에 더 근접해 있다.

도 19C에 도시된 다른 실시예에서, 굴절율은 이하의 수학식(10)과 같고, 그 결과 도 19A 및 19B에 도시된 바와 같이 제1면(208)을 통하여 출사되는 것보다는 계속하여 내부 반사를 하게 하는 제2 편광 상태의 광(220)으로 된다. 편광 필터층(216)에 대한 입사각은 각 순환 반사에 따라 감소한다. 그리하여 굴절율 n₃는 충분히 작아져 광(220)의 각도가 필터층(216)에서 나타내는 광(220)의 바람직한 반사도 범위를 벗어나 감소할 것이다. 결과적으로, 적어도 광(220)의 일부가 제2 면(210)을 통과하지만 제1 편광 상태의 광(218)과는 상대적인 출력으로 분리된다. 도 19C의 실시예에서 굴절율은 다음과 같은 관계식을 갖는다.

아주 바람직하게는 편광 필터층(216)은 광(218)을 출력하고 입사각이 수학식 11에서 큰 경우 광(220)을 반사한다.

입사광의 각도가 3p보다 적어지면, 필터층(216)은 양 편광 상태의 광(즉, 광(218) 및 광(220))을 실질적으로 투과시킨다.

예를 들어, 도 20A 내지 20C에서 도시된 본 발명의 다른 실시예에서, 시스템(204)은 도 20A에 도시된 광 반사층(222)과 같은 광 전향 수단과, 좀더 일반적으로는 도 20B 및 20C에 도시된 바와 같은 광 전향층(224)을 포함한다. 일반적으로, 본 발명의 장치(10)(도 20의 시스템(204))에서, 입사 광선이 전파하여 광 전향층(224)으로부터 벗어나는 개념으로 광 전향 수단을 정의 할 수 있다. 광선이 굴절율 n_i를 갖는 광 매체에서 유닛 벡터 r_c에 평행하게 전파하는 경우를 고려하자. u가 광선이 입사하는 지점에서 광 전향층(224)에 직교하는 단위 벡터이고, 광 전향층(224)으로부터 입사광이 시작되는 쪽으로 방향을 잡는다면, 입사 광선은 광 전향층(224)과 상호 작용하여 광선이 상호 작용 영역으로부터 이탈하게 한다. 이탈한 광선이 굴절율 n_i를 갖는 광 매체에서 유닛 벡터 r_c의 분포에 평행하게 전파된다면, 광 전향 수단은 입사광을 프로세스하는 어떤 층을 포함하는 데 이러한 이탈 광선은 동작 각도 범위를 통한 입사 광선을 고려한 다음의 특성 중 하나를 갖는다.

광 전향층(224)은 (a) 광이 거친 광 표면과 상호 작용하고, (b) 광이 입사면과 경사가 다른 광표면과 상호 작용하거나, (c) 전향층(224)이 적당한 각으로 광을 회절시킨다면 수학식(12)의 조건에 따라 광의 방향을 재지정한다. 예를 들어, 조건(1)에 따른 광 전향 수단이 투과 또는 반사, 확산 또는 비확산, 및 프리즘 또는 텍스쳐층과 조합된 상태일 수 있다. 또한, 광 전향층은 회절 격자, 홀로그램, 또는 이진 광학층일 수 있다.

광 전향 수단은 수학식 13이 정반사기인 조건(2)에 따라 광의 방향을 재지정한다. 이러한 정반사기의 예들로 금속 코팅(예를 들면, 도 20A의 광 반사기층(222)이 금속 코팅될 수 있음), 다층 유전재 코팅 또는 이들의 조합일 수 있다. 각 경우에서, 내부 및 외부 표면은 매끄럽고 상호 평행인 것이 바람직하다.

바람직한 실시예중 하나인 도 20A는, 광 반사와, 광(220)을 반사하는 반사기층(222)의 형태인 반사 수단을 포함한다. 반사기층(222)은 기부층(206)의 제1면(208)을 초과하거나 그 아래에 위치하고 바람직하게는 금속 코팅된 평탄한 정반사기이다. 또한 기부층(206)과 반사기층(222)과의 사이에 위치한 굴절율 n₃의 간섭층(intervening layer)이 도시되어 있다. 이 간섭층(223)은 기부층(206)의 일부이거나 또는 기부층(206)과 간섭층(223) 사이의 기능적 상호 작용에 따른 분리층일 수 있다. 이 간섭층(223)의 굴절율 n₃는 간섭층(223)과 만난 후의 광(212) 공간적 및 각도 분포에 영향을 미치도록 조정될 수있다.

도 20B 및 20C를 예로 알 수 있는 바와 같이, 광 전향층(224)은 다른 위치에 위치될 수 있고, 각 층(224)은 다른 특성을 가지고 특정한 애플리케이션에 필요되는 바와 같은 다른 광 출력 특성을 달성할 수 있게 된다. 또한 특정한 실시예에서 뿐아니라 광 전향 수단의 예를 나머지 도면에서 도시하고 이하에서 상세히 기술될 것이다.

편광 조명기 시스템(204)의 다른 실시예에서, 광 변환 수단이 포함되고 예를 들어 도 21 및 22에서 편광 변환층(226)으로서 도시된다. 이러한 바람직한 실시예에서, 굴절율은 n₄≥n₂이고, 수학식(9)의 조건을 충족시켜야 한다. 이들 실시예에서, 광변환 수단은 적어도 (광(220) 등의)일 편광 상태를 (광(218), 제1 및 제2 상태의 조합 등인 제3 편광 상태의 광(227) 등의) 다른 편광 상태로 변화시키는 층을 포함한다.

편광 변환층(226)은 90。(π/2)만큼 회전 편광시킴으로써 편광 상태를 다른 상태로 변화시키는 기능을 갖는다. 또한, 이러한 변환은 경사진 입사의 경우에 가장 바람직하다. 광축에 수직인 굴절율이 방향에 관계없는 경우에는 단축 복굴절재에 대한 이러한 변환 특성이 일예이다. 대부분의 바람직한 재료는 이러한 종류의 신장된 형광 폴리머막 등이다. 굴절율이 모든 방향에서 다른 경우 좀더 일반적인 복굴절재는 여기서 설명된 다음의 일반적인 방법들을 사용할 수 있다. 편광 변환 프로세스를 이해하기 위해, 일단 법선 방향 입사를 고려한다.

도 30E에서 도시된 바와 같이, 복굴절 재료로 된 판(229)는 벡터 K를 따른 횡축을 갖고 광축은 벡터 I를 따른다(도 30F 참조). 신장된 복굴절 막의 경우, 신장 방향은 벡터 I를 따를 것이다. 벡터 I, J, K는 x,, , z축을 따른 직교하는 3가의 단위 벡터이다. 법선 방향 입사에서, 법선인 파형은 벡터 K를 따른다. 변위 벡터 D에 의해 전자기파의 분극화(polarization)를 설명할 수 있다. D'을 통상의 광선에 대한 편광이라하고, D"을 이상(extraordinary) 광선에 대한 편광이라 한다. n'을 정상 굴절율이라하고, n"을 이상 굴절율이라 한다. 복굴절 판(229)의 광축을 입사 편광 벡터 D₀에 대해 45。(π/4) 각도로 배향할 수 있다. 이 벡터는 D₀x =(1/2) D₀cosωt 및 D_0y =(1/2) D₀cosωt인 두개의 성분을 갖는다. 복굴절 판(229)에서, 벡터 D는 D₀x =(1/2) D₀cos(ωt-δ") 및 D_0y =(1/2) D₀cos(ωt-δ')을 갖고, 여기서 δ'= (2/λ)n'h 및 δ"= (2/λ)n"h이며, 여기서 h는 판 두께이다. 그리하여 발생된 위상차는 δ'-δ"= ｜(2/λ)(n'- n")｜h 이다. 특히, 나타나는 광이 초기 편광 벡터 D'에 대해 오른쪽 각도로 편광 벡터 D를 갖는다면, δ'-δ"= (또는 좀더 일반적으로는 δ'-δ"= (2m+1)이며, 여기서 m은 정수이다). 이는 두께 h가 h= ｜(2m+1)/(n"-n')｜λ/2로서 선택되어야 한다는 것을 의미한다.

요약하면, 상기 수식에 의해 두께 h를 선택하고 입사 편광에 45。 배향시킨다. 도 26B와 같은 발명의 바람직한 형태에서, 광은 변환층(226)과 복굴절 판(229)를 두번 횡단하므로써 실제 두께는 상기 기술된 것의 반이 된다. 즉, 상기 두께는 공지된 λ/4 판이다. 금속 미러(231)로부터의 반사가 있으면 양 성분들에 위상 시프트를 추가로 실시하여 결과는 변화되지 않는다.

실시예에서 광이 변환층(226)(도 26B 참조)과 경사각으로 입사되면, 일단 입사빔을 두개의 빔(공지된 복굴절 효과)으로 분할하는 것이 어렵지 않다는 것을 보일 필요가 있다. 그 이유는 두개 빔이 초기 방향과 평행하도록 나오지만 각각이 미소하게 변위되기 때문에 문제가 되지 않기 때문이다. 두개 빔은 상호 응집되어 변위는 λ보다 적다. 각도 분할은 Δθ

tan θ_cΔn/n이고 여기서 θ_c는 임계각이고 Δn-(n"-n'), n=(n" + n')/2이다. 변위는 약 hΔθ_c/cos θ_c= hΔntanθ/cosθ_c이다. 그러나, hΔθ_c/cos θ_c= λ/4로 선택함으로써, 자동적으로 변위는 λ보다 적고 두개의 광빔은 하나로서 취급될 수 있다.

복굴절 판(229)의 단축 형상 위에 있는 경사진 입사각의 기하학적 구조는 다소 복잡하여 단순화시키기 위해, 도 30F에 도시된 바와 같은 오일러(Eulerian) 각을 도입한다. (i, j, k) 벡터 1쌍과 (I, J, K) 벡터 1쌍과의 관계는 표 3으로부터 알 수 있다.

대기/판 계면에 대한 법선을 K라고 하고, 법선 방향의 입사 파장을 k라하고, 판(229)의 광축을 I로 한다. 입사 편광 D₀를 90。 만큼 회전시키도록 한다. 입사 편광 D₀는 계면이기 때문에, D₀가 i₀에 일치함으로써 Ψ₀= /2이 된다. 정상 광선의 편광 D'은 I 및 K에 직교한다. 따라서, D'을 i'을 따라 설정한다. i'_x= 0이다. 표3으로부터 tan Ψ'= cotψcosθ이 된다. 이상 광선 D"의 편광은 D' 및 k 둘다에 직교한다. 따라서, Ψ"= Ψ'±/2 이다. 여기서, Ψ"= Ψ'-/2을 선택하면, tan Ψ"= tanψ/cosθ이다. 소망하는 출력을 얻기 위해, Ψ를 D' 및 D" 방향으로 45。에 있도록 설정한다. 그리하여, Ψ'= /2이고, tanψ= cosθ이다. 전형적인 경우에서, θ가 θ_C

40。, ψ= 37。에 근접시킨다. 실제로, 입사각과 파장 범위로서 개시점과 가이드로서 상기 수식을 사용하여 ψ를 실험적으로 조정하여 가장 완전한 편광 변환을 얻을 수 있다. 다음 복굴절판(229)의 두께 h를 결정한다. 법선 방향 입사의 경우에서와 같이, 조건은 h= ｜(2m+1)(n"-n')｜λ/2이다. 그러나, 이상 굴절율 n"은 입사각 θ에 의존하여 타원 굴절율은 다음과 같다: (1/n")²= (1/n₀)² sin²θ + (1/n_e)²cos²θ 여기서, n₀는 정상 굴절율이고 n_e는 이상 굴절율이다. 또한, n'= n₀이다. 전형적으로, 굴절율 차이는 0.1보다 적고 대략 (n"- n')

(n_e- n_c)cos²θ이다. 또한, 경사진 입사각의 광 경로 길이는 법선 방향의 입사각의 것보다 크다. 경사진 입사각에서의 광 경로 길이 h는 판(229)의 두께보다 1/cosθ 값만큼 더 크다. 따라서, 유효 굴절율 차가 cos²θ만큼 감소되나, 경로 길이는 1/cosθ 만큼 증가되기 때문에, 경사진 입사에 대해 필요한 두께는 법선 방향의 입사보다 대략 1/cosθ 만큼 크다. 실제로, 개시점과 가이드로서 상기 식을 사용하여 입사각과 파장 범위로서 h를 조정하여 가장 완전한 편광 변환을 얻게 된다. 실제로, 개시점과 가이드로서 상기 식을 사용하여 입사각과 파장 범위로서 φ)를 조정하여 가장 완전한 편광 변환을 얻게 된다.

다른 실시예에서, 하나의 편광을 다른 편광 상태로 변환하는 것은 3가지 단계를 포함하는 것으로 생각된다: (1) 차동 편광 상태를 시스템(204)의 기점마다에서 실질적으로 별개의 빔들로 분리시키고, (2) 소망하는 편광에 영향을 끼치지 않으면서 편광 변환을 하고, (3) 출력되는 광에서는 편광 특성이 없어지면서 적당한 각도 분포로 광 확산이 일어난다.

*여기서 기술된 바와 같이, 시스템(204)에서 편광 상태를 다르게 분리시키기 위해 다양한 방법들이 사용된다. 예를 들어, 낮은 굴절율층(214)은 도 31A 내지 31C에서 도시된 바와 같이 복굴절성일 수 있다. 층(214)는 예를 들어, 시스템(204)의 매 지점마다 출현하는 두개의 광빔(218 및 220)이 직교 편광되도록 하는 배향 형광 폴리머 변환층일 수 있다. 이는 두가지 조건들이 충족된다면 사용될 수 있다. 제1 조건은 층(214)의 복굴절률이 두개의 편광 빔(218 및 220) 간에 중첩을 방지시키기에 충분할 만큼 커야 된다. 이러한 조건은 수학식(15) 내지 (17)으로 요약되는 데 여기서 C는 적어도 1이고 바람직하게는 4보다 크다, 제2 조건은 제1층(214)의 복굴절 배향(신장 방향)의 방향이 거의 y축과 평행하다.

ψ= 1 -1.5。로서, 복굴절률은 수학식 (15-17)을 충족시키기 위해 적어도 0.03 내지 0.05 이어야 한다. 다양한 형광 폴리머 막의 복굴절율을 측정하기 위해 다음의 데이타 (평균 굴절율, 복굴절율)를 산출한다.

Tefzel 250 zh: (1.3961,0.054)

Tefzel 150 zm: (1.3979,0.046)

*Teflon PFA 200 pm: (1.347,.030)

프레넬 반사부들이 중첩되지 않는 경우에도, 250zh 재료로 적층된 웨지층(206)은 막 분리된 편광빔을 발생시켰다.

다른 실시예에서는, 복굴절률이 높은 재료를 포함하는 마면형 방향 전환층(faceted redirecting layer)을 사용함으로써 편광에 있어서 각도 분리를 보다 크게 할 수 있다.

편광 상태들을 분리하기 위한 제3 방법은 도 30G 및 H에 도시한 복굴절/투명층(427)의 교호적인 구조로 이루어지는 중합 빔 스플리터의 시트를 사용한다. 이러한 층(427) 어레이는 조준된 백라이트(428)의 상부에 존재할 수 있으며, 선택적 총 내부 반사에 의해 편광시킨다. 광 입사면에 대해 평행한 중합층(429)의 막의 굴절률은 투명층(430)에 비해 낮으며, 광 입사면에 대해 수직인 굴절률은 투명층(430)에 대해 가까이 정합되어, 백라이트(428) [빔 스플리터층(427)에 대해 경사져 있음]로부터 유입되는 조준된 광 빔(431)이 분리된다: 평행 편광 빔(431)은 전체적으로 내부적으로 반사되지만, 수직 성분은 투과된다.

이러한 배치의 일 예로서 마일라/렉산(Mylar/Lexan)층을 들 수 있다. 마일라 굴절률은 (1.62752, 1.6398, 1.486)이다. 렉산 굴절률은 1.586이다. 임계각의 여각(complement)은 20도이므로, 입사각의 여각이 (렉산에서) 20도 미만이면 빔 스플리터층(427)이 작용할 것이다. 그러나, 각도가 벗어나면, 프레넬 반사는 편광의 정도를 감소시킨다. 예를 들어, 13도의 경우에 프레넬 반사 수직 성분은 9%이다.

층(427)의 이러한 배치의 다른 예는 단축 나일론/렉산(Nylon/Lexan)이다. 나일론 굴절률은 (1.568, 1.529, 1.498)이다. 여기서, 두 개의 임계각이 있으며, 그 여각들은 수직 및 평행의 경우 각각 9도와 19도이다. 그러므로, 편광이 일어나도록 경사각은 이러한 각도 범위 내에 있어야 한다. 프레넬 반사에 대해 마일러 (30도 각도)와 동일한 경우를 취하면, 굴절률 정합이 보다 양호하기 때문에, 프레넬 반사 수직 성분은 5%에 불과하다.

이들 예 각각에 대하여, 빔(431)의 모든 빔들이 필름/렉산 계면과 정확히 하나의 상호 작용을 갖도록 각각의 빔 스플리터층(427)은 적당한 종횡비를 가져야 한다.

일 실시예에서, 일단 상이한 편광 상태의 광이 백라이트(458)를 따라 모든 위치에서 두 개의 직교 편광 빔으로 분리되면, 원하지 않는 편광을 원하는 편광으로 변환시키는 수단, 예를 들어 평관 변환층 [도 31C의 346 및 도 30G의 429]이 있어야 한다.

편광 변환을 수행하는 일 방법은 하나의 렌즈 또는 렌즈형 어레이와 결합된 교번 웨이브판에 의해 실현된다. 단일 렌즈를 사용하는 첫 번째 방법에서, 광 빔(218, 220)은 초점면에서 직교 편광의 광의 두 개의 비중첩 스트립들에 초점맞추어진 렌즈들 상에 도달한다. 교번 웨이브판은 빔들 중의 오직 하나의 빔(220)의 편광을 90도만큼 회전시키도록 작용하며, 불시에 나타나는 광은 광(218)로 완전히 변환될 것이다. 이것은 일 편광의 광(220)만을 포착하도록 배치된 반파 지연기(half-wave retarder)의 존재에 의해 실현될 수 있다. 이것은 대 렌즈, 플라스틱 지연판 및 폴라로이드 필터 (폴라로이드는 폴라로이드사의 등록 상표임)로 가시적으로 확인할 수 있다.

렌즈형 어레이를 사용하는 두 번째 방법에서는, 얇은 시트형 렌즈들 및 교번 웨이브판 구조 (렌즈 주파수와 동일한 주파수를 가짐)를 사용하며, 각각의 렌즈에 대해 180도씩 지연도가 변화한다. 렌즈형 어레이 1㎜ 두께의 경우, 각각의 이미지는 5,000분의 1 인치 정도의 크기이며, 이로써 웨이브판을 갖는 렌즈형의 등록은 1,000분의 1 인치 미만의 스택업 오류(stack-up errors)를 방지할 수 있을 만큼 충분히 정확해야 한다.

편광 변환을 수행하는 다른 방법은, 도 31C의 층(346) 및 도 30G의 층(429)와 같은 변환층의 다른 실시예인 이중 프레넬 사방형(DFR: double Fresnel rhombus)을 사용하는 것이다. DFR은 위치 대신 각도에 따라 선택적으로 지연시킴으로써 등록 문제를 방지한다. 이러한 DFR은 제1 편광 상태의 광으로 하여금 위상 시프트의 4×45°= 180°에 대응하는 총 내부 반사 결과를 받게 하는 반면, 나머지 편광 상태의 광은 투과만 시켜, 출력광이 단부에서 하나의 면의 제1 편광의 광으로 완전히 편광되게 한다. DFR은, 예를 들어, 각각 45도 프리즘으로 엠보싱되고, 모두 포개진 네 개의 아크릴 또는 렉산막을 구비함으로써 구성될 수 있다. 지연을 일으키는 DFR에 대해, 두 개의 직교 면 편광 빔(L, R)이 (1/4 웨이브판에 의해) 발생한다. 만일 L이 DFR에 의해 투과되면, R 빔은 DFR에 의해 L 빔으로 변환될 것이다. 마지막으로, L 빔은 편광의 최종면을 결정하는 다른 1/4 웨이브판에 의해 편광된 면으로 변환될 것이다.

도 21A에 도시된 바람직한 실시예에서, 변환층(226)은 편광 필터층(216)에 대해 기부층(206)의 대향측 상에 배치된다. 도 21B의 실시예에서, 변환층(226)은 편광 필터층(216)과 동일한 측상에 배치된다. 도 21A 및 21B를 참조로 하여 알 수 있듯이, 변환층(226)은 광(218, 220)을 다른 제3 편광 상태의 광(227)으로 변환시킬 수도 있다. 이 광(227)은, 예를 들어, 제3 편광 상태의 광 또는 상술한 제1 또는 제2 편광 상태의 변형 또는 조합의 광일 수 있다. 최종 편광은 변환층(226)의 응답 특성에 의존한다. 따라서, 변환층(226)은 원하는 출력 편광 상태의 광을 발생시킬 필요가 있을 때 응답하도록 설계될 수 있으며, 층(226)을 적당히 위치 결정하여, 원하는 편광 특성을 갖는 원하는 방향의 출력 광을 발생시킬 수 있다.

도 22A 내지 도 22E에 예시한 본 발명의 다른 형태에서, 변환층(226)은 다른 광학적 용도로 이용된다. 도 22, 23, 24E-F, 25-27, 28A와 28C, 및 29는 모두 변환층(226)을 사용하여 제2 편광 상태의 광(220)을 제1 편광 상태의 광(218)으로 변환시키는 것을 예시한다. 아울러, 조명 시스템(204)의 요소들은, 처리될 광이 변환층(226)을 적어도 한번 통과한 후에 하나 이상의 편광 필터층(216)을 통과하거나 적어도 마주치도록 배치된다. 예를 들어, 광(220)을 처리하는 경우, 이러한 요소들의 배치는 광(220)이 변환층(226)을 통과한 후에 편광 필터층(216)을 통과하도록 복귀시킬 수 있다. 어떤 경우에는, 광(220)이 제1 편광 상태의 광(218)으로서 출력되기 전에 편광 필터층(216)과 2회 이상 마주칠 수도 있다. 도 22A-E는 원하는 출력을 얻기 위한 다양한 구성의 예를 예시한다. 도 22A에서, 광(212)이 편광 필터층(216)과 마주친 후, 반사광(220)은 변환층(226)을 통과하여 광(218)으로 변환된다. 이 광은 그 후 내부 반사를 거쳐 편광 필터층(216)에 복귀된다. 또한, 도 22B에서, 광(220)은 변환층(226)을 통과하여, 광(218)로 변환된 후, 내부 반사된 후에 다시 필터층(216)으로 복귀된다. 이들 경우에, n₃는 수학식 10에서 n₁, n₂, n₃ 사이의 관계를 만족할만큼 충분히 낮다.

도 22C-E의 실시예에서는, 광 반사층(222) 형태의 방향 전환 수단이 부가되어 광(220)을 편광 필터층(216)에 복귀시킨다. 도 20A의 실시예에 대해 상술한 바와 같이, 개재층(223)은 층(224)과 마주치는 광의 공간 및 각도 분포에 영향을 미치도록 조정될 수 있는 굴절률 n₃를 가진다. 도 22C-22E에 도시한 본 발명의 바람 직한 형태에서, 굴절률 n₂, n₃의 층은 공기 갭을 포함할 수 있으며, 본 발명의 가장 바람직한 형태에서는, 굴절률 n₂의 층이 공기 갭이다.

도 24A-24F는 도 24A의 편광 필터층(216)의 하나를 사용하여 시작하여 조명 시스템(204)의 보다 복잡한 형태의 구성으로 이어지는 구성의 시퀀스를 예시한다. 도 24C-24F에서는, 하나 이상의 광 방향 전환층(224), 적어도 하나의 액정 표시(LCD) 층(230), 및 정합층(232)과 같은 광 정합 수단이 부가된다. 정합 수단은 다른 층의 조립체에 의해 출력된 광을 타겟 장치 또는 LCD층(230)과 같은 부가적인 층에 적합한 특정 편광 상태로 변환시키도록 작용한다. 이와 같이, 정합층(232)은 변환층(226)의 특수한 경우이다.

도 23A-23C는 LCD층(230)과 조합된 편광 광 조명 시스템(204)의 다른 형태를 예시한다. 도 23A의 실시예의 하나의 일반적인 형태에서는, 층(234)이 포함된다. 예를 들어 도 23과 같은 본 발명의 다른 특정 형태에서, n₂의 바람직한 값은 약 1 (예를 들어 도 23B 및 23C 참조)이다. 도 23A의 소정 형태에서, n₂ > 1이 이용될 수도 있다. 또 다른 방식으로서, 굴절률들간의 관계에 관한 바람직한 선택은 수학식 9 및 10에 설정되어 있다.

또 다른 바람직한 실시예의 예들을 도 26A 및 도 26B에 도시하며, 도 26A는 냉음극 형광관(CCFT) 광원(236)을 포함한다. 이 실시예는, 또한, 광의 각도 분포를 변화시키도록 작동하는 각도 변환층(238)을 포함한다. 이러한 각도 변환층(238)은, 예를 들어, xz면에서의 분포를 변화시켜 장치(10)로부터 출력된 광 의 공간 균일성을 제어할 수 있다. 바람직한 실시예에서, 출력광(250)의 분포는 출력 표면의 적어도 90% 이상에서 공간 분포면에서 거의 균일하다. 그리고, xz면의 광(212)의 각도 분포는 후면(211)의 법선에 대해 대략 ±θ_max이다.

후면(211)은 제1 표면(208) 및 제2 표면(210)의 적어도 하나에 대해 대략 수직이다. 각도 변환층(238)은 테이퍼형 광파이프부, CPC(compound parabolic concentrator), 마이크로 프리즘 막 (도 28C), 거친 표면층 또는 홀로그램일 수 있다. 각도 변환층(238)은 공기갭을 개재할 필요없이 기부층(206)에 가장 바람직하게 광학적으로 결합된다. 각도 변환층(238)은 yz면에서의 광분포를 변화시켜, 바람직하게는 좁게 하여 휘도, LCD 이미지 품질 및 시청자 프라이버시 등을 향상시키도록 작동할 수 있다. 그리고, 도 26A에서, LCD층(230) 이전에 출력 확산층(248)이 부가되어, LCD층(230)에 제공된 출력광(242)의 균일성을 향상시키고 각도 분포를 넓힐 수 있다.

도 26B의 다른 바람직한 실시예에서, CPC(239)는 xz면의 적당한 각도 분포 내에 출력광(250)을 유지시키도록 작동하는 광원(244)에 결합된다. 아울러, 마면(247)과 같은 평탄한 프리즘 마면을 사용하여, 층(246)과 같은 프리즘 방향 전환 층과 같은 광 방향 전환 수단을 사용함으로써 출력된 각도의 범위를 제어할 수 있다. 예를 들어, 이러한 유형의 층 및 프리즘 패시트를 도 28C, D, E 및 도 29A, B에 도시하며, 다음으로 이를 상세히 설명한다. 도 28E에 도시한 바와 같은 실시예는 프리즘층(251) 및 마면(253)에 관한 것이며, 이 실시예는 LCD층(302)에 광 확산층(304)을 부가하여 특정 면의 광 분포를 넓게 한다. 예를 들어 도 28E에 도시한 이러한 실시예의 가장 바람직한 형태에서, 광(242)은 xz면에서 좁은 각도 범위 내의 LCD층(302)을 통과하게 된다. 따라서, 조명 시스템(204)의 요소들은, 이미지 형성 특성이 최적화되는 각도에서 LCD층(302)을 통해 광(242)이 투과되는 것을 보조하도록 구성된다. 기부층(206)에 대해 LCD층(302)의 다른 측에 위치 결정된 확산층(304)을 사용하여, xy면의 광(250)을 확산시키지 않으면서 시청자 출력광(250)의 각도 분포를 넓힐 수 있다. 예를 들어, 확산층(304)은 y축에 실질적으로 평행한 그루브를 가진 홀로그래픽 확산기 또는 렌즈형 확산기의 형태를 취할 수 있는 "평행" 확산기일 수 있다. 광범위한 각도에서의 시청자는, 후속적으로 LCD층(302)을 통해 투과되어 광(25)을 형성하는 광(242)에 대한 최적의 각도 특성을 갖는 이미지를 볼 수 있다. 이러한 형태의 일반적인 구성을 이용하는 예시적인 구성이 도 28D, E 및 도 29A, B에 도시된다. 또한, 도 28D, E 및 도 29A는, xz면에서의 광(242)의 분포를 넓히지 않으면서 균일성을 향상시키기 위해 xy면에만 LCD층(302)에 제공된 출력광(242)을 확산시키는 횡단 확산기층(252)도 포함한다. 예를 들어, 횡단 확산기(252)는 z축에 실질적으로 평행한 그루브를 갖는 홀로그래픽 확산기 또는 렌즈형 확산기일 수 있다. 다음에, 이를 보다 상세히 설명한다.

도 27A 및 27B는 굴절 계수 n₂의 제1 층 수단이 가장 바람직하게 에어가 아닌 다른 바람직한 실시예이다. 이 실시예는 광 전향층(224)의 다른 예를 도시한다. 더욱이, 도 27A에서, 계수 n₃를 갖는 매체(254)는 에어일 필요가 없으나, 시스템(204)의 다양한 계수는 상술된 전체 내부 반사를 얻기 위하여 방정식(10)의 요건을 만족해야만 한다. 도 27B에서, 매체(254)는 에어이며, 광 전향층(224)는 작은 곡면(256)을 가지며, 광(245)은 바람직한 관찰 영역(258)내에 집광된다.

도 28 및 29의 실시예는 제1 층 수단으로서 에어 갭층을 바람직하게 사용한다. 기부층(206)과 에어 갭층(260) 사이의 계면의 임계각 3σ 보다 작은 입사각으로 광이 층(260)에 들어간다. 도 28B의 실시예는 기부층(206)과 확산층(264) 사이의 제1 전향층(262), 및 기부층(206)의 다른 측상의 제2 전향층(265)을 포함한다. 제1 전향층(262)은 굴절/내부 반사 프리즘을 포함하며, 제2 전향층(265)이 굴절 프리즘(268)을 포함한다. 편광 필터층(216) 중 둘은 기부층(260)의 어느 한편에 배치되며, 각각이 관련된 광 전향층(262 및 265) 각각을 통과하는 적당한 광(218 또는 220)을 투과한다. 도 28C에는 광 전향층(246)이 비교적 작은 프리즘을 갖는 굴절/내부 반사 층을 포함하는 더욱 바람직한 실시예가 예시된다. 프리즘(247) 각각의 표면각은 상술한 방식으로 전향층(246)의 상술한 크기를 따라 변동할 수 있다. 이런 각의 변동은 프리즘(247)으로 들어오는 광의 다른 콘(cones)이 바람직한 관찰 영역(258)에 촛점을 맞출 수 있게 한다( 도 27B 참조). 광 반사층(222)은 상술한 바와 같이 금속 코팅일 수 있다.

반사기층(222)은 종래의 진공 증착 기술 또는 다른 적당한 방법에 의해 변환층(226)에 인가될 수 있다. 전향층(246)과 같은 다른 층은 투명 폴리머 물질을 직접 정합층(232)에 주조하여 형성될 수 있다(도 24C-F 및 28C 및 D). 편광 필터층(216)은 다수의 얇은 층을 기저층(211)에 직접 증착하는 것과 같은 종래의 방법에 의해 제조될 수 있다. 후면(211)과 결합되는 각 변환층(274)이 또한 포함된다(도 28C 참조). 이 각 변환기(274)는 LCD 층(230)에 입력광(218)의 보다 공간적인 균일한 형태를 제공하는데 도움을 주고자 기부층(206)에 대한 입력광(212) 각 분포를 넓히는 프리즘(276)을 포함한다. 각 변환층(274)의 다른 현태는 개재된 에어 갭없이 후면(211)(또는 다른 입력면)과 결합된 홀로그램(도시 안됨) 및 거친 표면층일 수 있다.

도 28D의 바람직한 실시예에 있어서, 제1 프리즘 광 전향층(249)은 기부층(206)과 편광 필터층(216) 사이에 배치된다. 이런 전향층(249)은 편광 필터층(216)에 입사되는 광(280)의 입사각을 감소시킨다. 제2 프리즘 광 전향층(282)은 필터층(216)으로부터 LCD 층(302)에 출력되는 광(284)을 상술한 바와 같은 평행 확산기로써 동작가능한 후치 확산층(216)으로 전향한다. 이 실시예는 광원(236) 내부 직경의 인볼루트(involute) 내부 직경의 적어도 일부분에 후속하는 위치를 갖는 반사기(290)를 갖춘 CCFT 광원(236)을 포함한다. 후면(211)과 직접 대향하는 반사기(290)의 다른 부분은 볼록한 곡면이거나 휘어진다.

도 28E의 바람직한 실시예에 있어서, 광 전향층(251)은 굴절 마이크로 프리즘(253)을 포함한다. 편광 필터층(296)은 변환층(298)과 인접해 배치되며, 역 확산층(252)은 전향층(251)과 LCD 층(302) 사이에 배치된다. 평행 확산기(304)는 LCD 층(302)의 최적 이미지-형성 특성(콘트라스트, 칼라, 충실도 및 응답 시간)에 대한 출력 광(301)을 최적화하기 위하여 바람직한 각도에서 LCD 층(302)을 통과하는 광(242)을 갖는 LCD 층(302)의 광 외부측상에 배치된다.

도 29A및 29B의 실시예는 도 30A에 도시된 종래의 LCD 편광자 시스템(304)에 대해 발명의 몇몇 형태의 이점들을 도시한다. 도 30A에서, 종래의 백라이트(306)는 거의 동일한 특성으로 편광의 광(308)을 방출한다. 전형적인 종래의 LCD 층 배열은 제1 형태의 편광 필터(312) 및 제2 형태의 편광 필터(314)를 포함하며, 그들 사이에 액정층(316)이 삽입된다. 이런 LCD 층 배열에서, 제1 편광 필터(312)는 고 편광율, 즉 적당한 LCD 콘트라스트를 제공하기 위하여 LCD 층 배열(310)에 대해 순서대로 액정층(316)으로 입력을 원치않는 제2 편광 상태의 광의 매우 낮은 투과율을 가져야만 한다. 실제로, 편광 필터(312)는 또한 제1 편광 상태의 소정 광에 대한 높은 광학적 밀도를 갖는다. 따라서, 결과적인 손실은 LCD 광 투과 및 이미지 출력을 더욱 악화시킨다. 이런 종래의 배열(310)에 대조적으로, 본 발명은 LCD 층 배열(316)에 의해 바람직한 매우 높은 퍼센트의 광을 제공하여, 원치 않은 제2 편광의 실질 부분 광 사용을 가능하게 하며, 제1 편광 상태의 소정 광의 손실을 또한 최소화할 수 있게 된다.

도 28A의 실시예에서, LCD 층(316)에 대한 광(218 및 220)을 처리하는 이런 이점은 기부층(206)에 인접하게 변환층(226)을 위치시킴으로써 달성된다. 편광 필터층(216)이 변환층(226)에 인접하게 배치된다. 광 전향층(224)은 xy 평면에서 광 분포의 각을 넓히고 조명 시스템(204)으로부터 출력된 광 분포의 균일성을 개선하기 위한 곡률형 마이크로 프리즘 마면(318)을 포함한다. 역 확산기(320)는 광 전향층(224)에 바람직하게 조명되거나 또는 단일 폴리머층(도시 안됨)의 대향측상에 형성될 수 있다. 편광 필터층(216)은 제1 표면(208)에 순서대로 직접 증착되거나 적층되는 변환층(226)에 직접 적층되거나 또는 증착된다.

도 29A의 바람직한 실시예에 있어서, LCD 층(302)용 광(218 및 220)의 처리는 제1 편광 필터층(324) 및 제2 편광 필터층(322)의 사용에 의해 잘 달성된다. 그러나, 제1 필터(324)는 종래의 편광 필터(312)에 비해 상대적으로 작은 편광율을 가진다. 예컨데, 편광 필터층(324)은 종래의 필터(312) 보다 작은 염색 농도를 가질 수 있다. 이런 차이는 보다 높은 LCD 광 투과를 가능하게하며 상술한 이미지 형성 특징이 개선되게 한다. 이런 바람직한 실시예는 LCD 시스템(330)(층(324), 액정층(302) 및 층(322)의 조합)과 결합된 후치 확산층(328)을 활용한다. 바람직하게, 후치 확산층(328)은 제2 편광 필터층(322)과 일체로 형성되도록 적층된다.

도 29B의 바람직한 실시예에 있어서는 단하나의 편광 필터층(248)을 사용하여 조명 시스템(204)의 비용을 감소하고 광 투과율 증가시키는 이점을 얻을 수 있다. 이 실시예에 있어서, 정합층(232)을 통과하는 광은 바람직한 LCD 편광 상태의 광(218)으로 적어도 90%가 바람직하게 이루어진다. 후면(211)과 결합된 결합각 트랜스포머(334)는 YZ 평면에서 광 분포의 각 폭을 감소시키고, 이런 감소된 각 분포는 조명 시스템(204)으로부터 LCD 이미지를 형성하는 출력 광의 특성을 더욱 개선시킨다.

도 33에 도시된 발명의 다른 바람직한 형태에 있어서, 장치(10)는 램프(406)를 갖는 광 캐비티(404)로부터 입력광(402)을 수용하기 위한 기부층(400)을 구현한다. 기부층(400)은 상술한 바와 같이 가장 바람직하게는 아크릴 웨지(acrylic wedge)이다. 입력광(402)은 도 33에 도시된 바와 같이 "a" 및 "b" 두 편광 상태로 이루어진다. "a" 및 "b"의 일반적인 용어 설명은 선형 "s" 및 "p", 좌우 원형, 및 제1 상태와 직교하는 제2 상태로 타원형 편향과 같은 모든 다른 편향 조합을 커버하는 것으로 사용된다. 상술한 바와 같이, "a" 및 "b" 상태는 간섭층(411) 또는 반사편광층(480)으로 이하 언급되는 편광빔 스플리터상에서 바람직하게 동작한다. 광(405)은 따라서 상술한 요건에 따라 선택된 광학 조건하에서 기부층(400)으로부터 에어층(407)으로 출력된다. 편광 "a" 를 갖는 광(405)의 몇몇은 더욱이 광(409)으로 에어층(414)을 통과한 유리 기판(412)상에 배치된 간섭층(411)으로 통과하고, 전향층(416)으로 동작한다. 바람직하게 이런 층(416)은 상술한 프리즘층이며, 편광 상태 "a"의 광(409)의 출력각을 제어하는데 사용된다. 전향층(416)은 기부층(460)으로부터 전형적으로 출구각인 직각으로부터 약 74°에 중심을 둔 광으로 동작하도록 바람직하게 설계되어, 기부층(400)의 출구면에 실질적으로 수직한 광의 방향을 변화시킨다. 이런 층(416)은 또한 다른 실시예에서 홀로그램층과 같은 본래의 회절 특성을 가질 수 있다. 전향층(416)으로부터 나온 출력광(409)은 후치 확산층(도시 안됨) 및 상술한 다른 적당한 층에서 더 처리될 수 있다.

편광 스플리팅에 있어서는 편광 스플리팅층(간섭층(411))의 두가지 기본 타입이 사용된다. 층(411)의 한 타입은, 비수직 입사에서 사용되는, 특히, 74° 근처에서 사용되는 편광 선택성 빔 스플리터를 생성시키기 위해 높은 굴절율 n_X 및 낮은 굴절율 n_L을 갖는 다른 층으로 기술된 무기질 박막(예컨데, 간섭층(또는 편광 필터))의 진공 증착을 기초로 하는 것이다. 이런 타입의 빔 스플리터는 표준 박막 실질적인 진공 증착 기술을 사용하는 1mm 두께의 유리 기판상에 층을 진공 증착함으로써 생성된다.

층(411)의 제2 타입은 다층 폴리머 막으로 이루어진다. 예컨데, 폴리머 막은 3M Co에서 제조된 공지의 DBEF(3M의 상표)일 수 있다. 이런 상용 제품에 관한 상세한 정보는 PCT 공개공보(WO95/17303 및 WO96/19347)에 개시되어 있다. 이런 막은 넓은 입사각 뿐만아니라 광의 수직 입사에도 사용될 수 있는 이점을 가지며, 제한된 편광축을 갖는 막을 가지며, 고체적 연속 제조 프로세스에 의해 생산될 수 있다. 이런 분포는 수직 입사 타입 시스템 또는 좁게 제한된 경사각과는 다른 부가적인 각도 및 막의 통과축의 배향에서 실험할 수 있게 한다.

스캐터링(다이폴 스캐터링과 같은)에 제한되지 않고 이중 굴절, 콜레스트릭(collestric) 액정, 및 박막 브루스터(Brewster) 스플리터를 포함하는 본 실시예에서 사용되는 편광 스플리팅 효과를 낼 수 있는 다른 공지된 많은 접근법이 있다.

상술한 바와 같이, 몇몇 광은 편광 상태 "b"를 가지며, 에어층(411), 기부층(400), 에어층(420), 변환층(예컨데, 1/4파 기판층), 에어층(424)을 통과하는 광(418)으로서 간섭층(411)(편광 스플리터)로부터 반사되고, Silverlux(3M 상표)와 같은 은막 또는 BEF(3M 상표) 타입 후면 반사층(426)과 같은 유전체 반사층인 반사기에 의해서 반사된다. 이런 BEF 층(426)은 층(426)을 통과하는 광의 작은 양을 확산하여 반사하기 위하여 흰 종이(425)(점선으로 도시됨)에 대향하여 또한 배치될 수 있다. 반사층(426)은 편광 프로세스에 기여하거나 또는 단순한 반사기로서 동작할 수 있다. 반사된 광(418)은 상술한 층을 통과하여 복귀하나, 간섭층(418)에 의해 반사되는 대신에, 광(418)은 투과되며 출력각이 전향층(416)에 의해 제어되는 편광 상태 "a" 의 광으로 변환층(422)에 의해 변환된다.

이상 지적한 바와 같이, 바람직한 편광 변환층(422)은 상용의 1/4파장 스트레칭된 복굴절율 폴리머막을 포함하며, 수직 입사시 550nm 파장으로 설계된다. 이런 형태의 변환 배체가 최적 설계에 필수적인 것은 아니나, 그 물질은 쉽게 구할 수 있어, 비직각 입사 및 지연에서 이런 가용 막이 사용되어 만들어진 많은 프로토타입은 엄밀히 1/4파장 타입이 아니다. 예컨데, 장치(10)의 많은 표면은 각을 벗어난 다양한 보상 효과를 나타낸다. 이런 보상들과 쌍으로 된 최적의 보상막은 여기서 평가된 시스템 대칭축에 배향된 1/4파장 타입의 막일 필요는 없다. 그러나, 상기 실시예들은 장치(10)의 기본적인 설계의 동작성을 예시한다.

변환층(422)의 이런 막은 많은 구성들로 사용된다. 막에 접착제가 제공되기 때문에, TAC(Triacetae cellulose) 막이 자유 "비적층" 막으로서 사용될 때 낮은 복굴절율을 갖는 TAC 막 중 어는 하나에 적층된다. 반사를 줄이기 위하여, 성능 및 안정성이 개선되며, 많은 구조는 막이 장치(10)의 다른 구성요소에 직접 적층되는 곳으로 구성된다.

두 편광 상태 "a" 및 "b"의 다른 광(423)은 기부층(400)의 상부면(432)에 의해 반사되고, 그 후 기부층(400), 에어층(420), 변환층(422), 에어층(424)을 통과하고, 간섭층에 충돌할때까지 층에 뒤로 통과하는 BEF 후면 반사기층(426)에 의해 반사된다. 이런 광(423)은 따라서 편광 상태 "a"의 출력광(434) 및 편광 상태 "b"의 반사광(436)을 생성하는 기부층(400)으로부터 출력된 광과 유사한 방식으로 동작한다. 이런 광(436)은 또한 편광 상태 "b"의 광(418)과 같은 방식으로 동작하여, 편광 상태 "a"(광(428)과 같이)의 출력광(438)이 나온다. 명세서를 통해 광빔 경로의 임의의 중요예가 장치(10)의 많은 실시예의 동작을 설명하기 위해 도시됨에 유의해야 한다. 연구 장치(10)의 성능을 정량화하기 위하여, 휘도 및 입체각(solid angle) 변화에 기인한 효율의 증가를 반영하는 일련의 이득 파라미터가 개발되였다. 따라서, 도 33의 실시예의 성능은 다음의 표 4(파라미터는 예로서 정의됨)에 도시되고, 측정 시스템 및 방법은 예 및 도 61 내지 63에 상세히 설명된다.

상술한 장치(10)는 따라서 내부 편광 변환 및 리사이클링 메카니즘을 포함하는 "캐비티"로서 동작하는 층의 어셈블리를 포함한다. 용어 "캐비티"는 예컨데, 광이 층간으로 이동하는 광 웨이브가이드를 포함할 수 있다. 장치(10)의 "캐비티" 또는 웨이브가이드에 기인하여 광빔의 경로는 많은 타입 및 조합을 가질 수 있다. 간섭층(411)으로부터 선택적으로 반사되는 상태 "b"에서 실질적인 내부 손실을 회피하기 위해 효율적으로 투과되는 상태 "a" 까지 광이 변환되도록 캐비티에 충분한 편광 변환이 있을 것이 요구된다. 결과적으로, 다중 프레넬(Fresnel) 반사 및 캐비티내에서 상태 "b"에서 "a" 상태까지의 비이상적 변환 메카니즘이 허용가능하다.

금속 기저 후면 반사기를 갖는 기본적인 테이퍼형 조명기구와 다양한 구조의 비교
도면	전향층 표시측	확산기	기부층(B 층)	후면 반사기	반사 편광기	회전자	g 조도 (휘도 이득)	g 레인지 (레인지 이득)	g 토탈(휘도 이득 및 레인지 이득의 이용가능한 이득-곱)
도 33	예	아니오	평평함	구성됨	증착됨	예	1.04	1.26	1.31
도 34	예	아니오	평평함	구성됨	증착됨	아니오	1.06	1.20	1.27
도 35	예	아니오	평평함	구성됨	없음	아니오	1.07	1.09	1.17
도 36	예	아니오	평평함	금속성	증착됨	후면 반사기에 적층됨	1.12	1.21	1.35
도 37	예	아니오	평평함	금속성	파이프상에 증착	후면 반사기에 적층됨	1.10	1.06	1.17
도 38	예	아니오	평평함	금속성	없음	없음	1.00	1.00	1.00
도 39	예	아니오	평평함	금속성	증착됨	파이프에 적층됨	1.16	1.12	1.30
도 40	예	아니오	평평함	금속성	없음	파이프에 적층됨	0.97	1.02	0.99
도 45	예	아니오	평평함	구성됨	증착됨	파이프에 적층됨	1.13	1.19	1.35
도 46	예	아니오	평평함	구성됨	없음	파이프에 적층됨	1.06	1.11	1.18
도 47	예	아니오	평평함	구성됨	파이프 입력에	없음	1.16	0.99	1.15
도 48	예	아니오	평평함	구성됨	파이프 입력에	파이프 입력에	1.08	1.01	1.09

장치(10)에서 편광 변환 메카니즘을 조사하기 위해서, 다양한 구성요소들이 TE(s) 및 TM(p) 상태의 변환광에 관해 평가되고, 직교 선형 편광 상태로 광의 45° 입사 선형 편광으로 평가된다. 이런 측정을 하기 위해 623.8mm 레이저 및 편광 분석기 쌍을 사용한다. 각각의 샘플은 기부층(400)을 떠난 빔 분포의 중심 근처의 74° 입사각으로 조명된다. 전향막(414)의 프리즘 형태에 대해서는 투과된 광이 측정되고, 모든 다른 부분에 대해 반사광이 측정된다. 아래 표의 결과는 이런 변환 효과를 설명한다.

시스템	TE	TM	45도
BEF 만	17%	18%	30%
BEF 및 분리 변환기	27%	25%	56%
적층된 변환기를 갖는 BEF	29%	39%	42%
금속 반사기만	0%	0%	29%
분리 변환기를 갖는 금속 반사기	35%	37%	49%
적층된 변환기를 갖는 금속 반사기	52%	59%	33%
거울 같은, 광 파이프	1%	6%	69%
프리즘 전향막	2%	5%	54%

일반적으로, 광 파이프 타입 구조에서 광의 변환은 많은 수의 메카니즘으로부터 기원할 수 있으며, 시스템에서 다양한 상호작용의 효과는 예컨데, TE, TM 및 45도 원형등의 지점에서 특정 편광에 의존한다. 따라서, 편광 변환 효과는 예컨데, 전반사, 유전체 계면으로부터 브루스터 각을 넘는 반사 및 복굴절 물질으로부터 얻어질 수 있다.

모든 투과 또는 반사는 정확한 주위 환경에 따라 편광을 변화할 가능성을 가지기 때문에, 보상/편광 변환막을 사용하여 변환을 증가시키고 특히, 다양한 요소의 자연적인 효과를 넘어서 제어 편광을 증가시킴으로써 유용하게 성능 개선할 수 있는 여러가지 방식들이 있다. 또한, 편광 스플리팅층의 각은 의도된 방식으로 편향 변환을 강화하기 위하여 중요한 파라미터로서 사용될 수 있다.

연구대상으로 채택된 구조의 예는 (1) 기부층(400) 및 전향층(414)이 낮은 변환을 하고 양호한 편광 제어를 하게 하는 시스템에 대하여 TE 또는 TM 편광의 조명기기의 중심선, 혹은 (2) 거의 모든 상호작용이 편광을 변환하는 45°에서, 편광 캐비티를 통한 광 리사이클의 비편광화 또는 변환의 전체 양인 모든 분리 변환의 순효과 중 하나이다. 다른 경우에서 행해진 경우에도, 45° 구조에서 편광 변환 프로세스를 제어할 수 있음을 이해해야 한다.

도 34에 도시된 발명의 다른 실시예에 있어서, 층 구조는 변환층(422)이 제거되는 점을 제외하고는 도 33의 실시에와 동일하다. 편광 리사이클 캐비티는 간섭층(411) 및 후면 반사기층(426)의 조합에 의해 여전히 실질적으로 형성된다. 변환층(422)을 제거한 결과 편광 "b"의 광(418)은 기부층(400) 및 에어층(420)을 통해 투과되며, "b" 상태의 몇몇이 "a" 상태로 변환되고, 편광 "b" 및 "a"의 광(440)으로서 반사된다. 편광 변환은 후면 반사기층(426) 등 다양한 요소로부터의 반사로부터 변환, 및 편광 상태 "a"의 광(442)으로 바람직하게 출력하도록 장치(10)의 여러 층의 잔여 복굴절에 의존한다. 본 실시예의 성능은 표 4에 표시된다.

도 35의 다른 실시예에 있어서는, 도 33의 실시예와 비교하여 변환층(422) 및 간섭층(440)이 제거된다. 본 실시예는 램프 캐비티(404)로부터 입력되는 광(402)의 비편광 형태를 포함한다. 따라서 본 실시예는 고휘도 방향이 기부층(400)에서 광의 전파 방향을 따라 있는 랜덤하게 단지 약 6% 이상의 편광 레벨을 나타낸다. 본 실시예의 성능은 표 4에 표시된다.

도 36의 다른 바람직한 실시예에 있어서, 층의 구성은 도 33의 실시예와 매우 유사하며, 다양한 편광 캐비티 요소를 갖는 특정 편광의 광선과 동일한 종류의 광선을 일반적으로 처리하도록 한다. 주요한 차이는 반사기층이 에어층의 개재 없이 변환층(422)에 적층되는 금속 후면 반사층(446)이라는 점이다. 바람직하게, 이 층(446)은 기판, 예컨데 알루미늄 또는 다른 적당한 지지체에 적층된 상용의 은코딩 폴리머막(예컨데, 이하 Silverlux라 함)을 포함한다. 본 실시예의 성능은 표 4에 표시된다.

도 37의 다른 바람직한 실시예에 있어서, 편광 스플리팅 간섭층(411)이 기부층(400)상에 직접 배치된다는 점을 제외하고는 도 36의 실시예와 구성이 매우 유사하다. 종래의 다른 박막 적층 기술로 동작층을 생성할 수 있지만 이 층(411)은 증착에 의해 생성하는 것이 바람직하다. 이 층(411)은 기부층(400)에서 광선을 크게 감쇄시키지 않고 낮은 손실을 갖는 반사기층 폴리머 또는 다른 편광 스플리터층을 적층함으로써 또한 얻어질 수 있다. 본 실시예의 상대적인 성능은 표 4에 예시된다.

도 38의 또 다른 실시예에 있어서, 후면 반사기층이 금속 후면 반사기층(446)이라는 점을 제외하고는 도 35의 실시예와 층의 구성이 매우 유사하다.
광선 경로는 또한 도 35의 것과 매우 유사하다. 편광도는 도 35의 장치(10)와 매우 유사하게 약 4%이다. 도 38의 이 실시예의 성능을 표 4에 나타내었다.

삭제

도 39의 또 다른 바람직한 실시예에서, 층들의 배열은, 변환층(422)이 금속성 후면 반사기층(446)에 적층되어 있는 대신에 기부층(400)에 적층되어 있는 것을 제외하고는 도 36의 것과 유사하다. 대신에, 변환층(422)과 금속성 후면 반사층(446) 사이에 공기층이 있다. 또한, 광선 경로는, 평광되지 않은 광의 추가 편광이 발생되고 광이 기부층(400)을 여기시키기 전에 편광 변환이 발생되는 것을 제외하고는 도 36의 것과 매우 유사하다. 이들 추가 편광 및 변환 단계는 도 40의 실시예를 참조하여 후술될 것이다. 결과적인 출력은 전향층(416)에 의해 적절한 각도로 제어된 광(452)이다. 광(450)의 일부는 더 처리되어 상태 "a"의 광(438)으로 변환되는 편광 상태 "b"의 광(453)으로서 간섭층(411)에 의해 반사되어 출력된다. 도 39의 이 실시예의 성능을 표 4에 나타내었다.

도 40의 또 다른 바람직한 실시예에서는, 상이한 편광 리사이클링 및 변환 배열을 나타내고 있다. 이 실시예에서, 편광 리사이클링 캐비티는 기부층에 의해 형성되며 전반사(이하, "TIR"이라 칭함)에 의해 광을 제한하는 변환층(422)이 적층된 형태로 형성된다. 이 장치(10)에서, 광(402)이 웨지형 기부층(400)의 감소 두께를 이동할 때 입력광(402)은 변환층(422)에 의한 편광으로 연속적으로 변환된다. 상부 표면(432)에 대하여 p-편광(이 실시예에서는 "a" 상태)되는 광(402)의 이들 성분은 s-편광("b" 상태)과 비교하여 "a" 상태 광의 저 반사율에 기인하여 기부층(400)으로부터 우선적으로 결합되고; 광선 각도가 θc를 통과할 때(상술한 임계각 참조), 광(402)이 기부층(400)을 빠져나가기 사작한다. 다양한 광선 경로의 예를 도면에 나타내었다. 일례로, 편광 "a" 및 "b"의 광(402)이 θc가 이루어질 때까지 상부 표면 및 하부 표면(454)로부터 반사된다. 그 후, 편광 "a"의 광(456)은 공기층(407)을 통해 그리고 각도 범위가 제어된 전향층(416)을 통해 관찰자를 향해 출력된다. 편광 상태 "b"의 광(458)의 나머지 성분은 기부층(400)을 통해 반사되고 통과되어, 변환층(422)으로 광(458)이 결합된다. 층(422)의 반사 및 재통과시, 광(458)은 편광 상태 "a"의 광(456)이 되어, 공기층(407) 및 전향층(416)을 통해 동시에 출력된다. 다른 처리예는, 광(458)이 변환층(422)을 통해 한번 통과하고 공기층(448) 내로 아웃커플되며, 금속성 반사기층(446)에 의해 반사되고, 변환층(422)을 통해 재차 통과하여, 그 후 관찰자를 향하여 출력되는 편광 "a"의 광(462)이 되는 것이다. 그러나, 일반적으로 바람직한 출력은 아직 "a" 편광의 광이다. 따라서, "a"와 "b" 상태의 반사율 간의 차는 편광 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 결과적으로 생성된 편광은 약 13%이었다. 이 실시예의 성능을 표 4에 나타내었다.

도 41에 나타낸 또 다른 실시예에서, 층들의 배열은 도 40과 유사하지만, "a"와 "b" 상태의 반사율 간의 제한된 차가 편광 스플리팅층(464)을 기부층(400)의 상부 표면(432) 상에 직접 퇴적함으로써 더욱 향상된다.

도 40 및 도 41의 실시예에 관한 다른 변형으로, 도 42는 기부층(400)의 하부 표면층(454)에 또한 적층되는 변환층(422)에 직접 결합된 후면 반사기층(466)을 도시한다.

도 43에 나타낸 또 다른 실시예에서, 변환층은 상부 표면(432) 위의 기부층(400)의 다른 면에 배치될 수 있다. 또한, 이 배열은 광이 기부층(400)을 따라 이동할 때 광을 제한하는 목적을 달성한다. 편광 상태 "a" 및 "b"의 광(402)이 상부 표면(432)으로부터 아웃커플되고, 그 후 "b" 상태 성분이 1/4파장 판 변환층(422)에 의해 "a" 상태의 광(468)으로 변환되는 주된 차이를 갖는 몇가지 예의 광선 경로를 나타낸다.

도 43의 실시예의 다른 변형예에서, 도 44의 기부층(400)은 도 43의 변환층(422)의 편광 변환 기능을 갖도록 기능적으로 동작하는 복굴절 편광 변환 물질로 이루어진다. 도 44에 도시한 바와 같이, 광(402)은 편광 상태 "a"의 광(468)으로서 공기층(407) 내로 아웃커플된다.

표 4의 성능 측정을 고려하여, 편광 효율이 증가하는 만큼 시스템 이득이 증가할 필요가 없는 것이 주목할 만하다. 이는 다양한 층들을 결합하는 데 사용되는 부착 본드의 종류 및 품질로부터 또한 부착된 1/4파장 막 상에서 발생되는 산란 및 흡수 손실로부터 기인하는 것으로 보인다.

도 39의 실시예의 다른 변형에서, 도 45의 후면 반사기층은 금속성 후면 반사기(446)가 아니라 BEF형 후면 반사기층(426)이다. 층들간의 광선 경로는 매우 유사하며, 그 성능을 표 4에 나타내었다.

도 40의 실시예의 다른 변형에서, 도 46의 후면 반사층은 금속성 후면 반사기(446)가 아니라 BEF형 후면 반사기층(426)이다. 광선 경로들은 매우 유사하며, 그 성능을 표 4에 나타내었다.

본 발명의 다른 형태를 도 47에 나타내는데, 여기서, 편광 스플리팅층(470)은 기부층(400)에 입력으로 배치된다. 이 실시예에서, 편광 리사이클링 "캐비티"는 램프 캐비티(404)와 편광 스플리팅층(470)에 의해 형성된다. 따라서, 입력광(402)은 광 캐비티(404) 및 편광 스플리팅층(470)에 의해 처리되어, 편광 상태 "a"의 광(476)을 생성한다. 이러한 결과를 달성하기 위해, 편광 스플리팅층(470)은 기부층(400)의 대칭축의 방향에 실질적으로 평행하거나 또는 그에 수직인 통과축을 갖도록 배치되는 것이 가장 바람직하다. 이 배열은 기부층(400)으로 이동할 때 기부층(400) 내의 광을 실질적으로 1개의 편광 상태로 유지한다. 따라서, 입력광(402) [램프(406)에 의해 방출된 광]은 램프(406)를 비편광 상태로 두고 결국 편광 스플리팅층(470)과 만난다. 광(402)의 상당량은 편광 상태 "a"의 광(476)으로 투과되는 반면, 편광 상태 "b"의 나머지가 반사되거나 궁극적인 변환을 위해 램프 캐비티(404) 내로 리사이클링되어, 편광 "a"의 광(476)으로서 출력된다. 이 장치(10)의 성능을 표 4에 나타내었다.

도 47의 실시예의 변형에서, 도 48의 배열은 편광 스플리팅층(470)의 램프 캐비티측의 편광 변환층(478)의 특징을 더 포함한다. 이 실시예의 광선 경로는 도 46에 나타낸 경로와 매우 유사하다. 그 성능 결과를 표 4에 나타내었다.

도 33의 실시예의 다른 변형에서, 도 49의 장치(10)는 전향층(416)을 포함하지 않고, 기부층(400)은 광학적으로 편평한 표면을 갖는 것이 아니라 텍스쳐드(textured) 광 파이프이며, 막형 반사성 편광층(480)은 간섭층(410)의 대용으로 편광 상태를 분리하고 반사시킨다. 기부층(400) 상(또는 동등한 범위 내)의 텍스쳐 효과는 광이 기부층(400)으로 이동할 때와 또한 광이 존재하고 기부층(400)을 통해 리사이클될 때 광(402)을 확산(또는 잘못된 방향으로 전달)시키는 것이다. 텍스쳐드 기부층(400)은, 예를 들면, 평평한 기부층(400) 상에 개량 가능형 코팅을을 도포하거나, 또는 텍스쳐드 몰드를 이용하여 평평한 기부층(400) 상에 텍스쳐드 형태를 생성할 수 있다. 이들 텍스쳐에 의해 광선 경로가 다소 방향의 불일치를 겪는다. 이러한 상호 작용은 약한 산란 상태를 포함하며 이만큼 변화될 때. 광선 경로는 급격히 변화되지 않는다. 이러한 맥락에서, 상기 텍스쳐는 기부층(400)의 표면 상의 기울기 변동 또는 기부층(400) 상이나 기부층(400) 내의 굴절률 변동과 관련이 있으며, 이러한 텍스쳐가 존재하지 않는 경로로부터 약 1차 내지 수차의 비율 정도의 양만큼 광선 경로를 경감시킬 것이다. 이 실시예는 장치(10)의 편광 소자들에 의해 제공된 넓은 각도의 조명를 처리하는 전향층(416)으로부터 일어나는 손실의 평가에 관한 것이다. 표 6을 참조하여 알 수 있듯이, 전향층(416)을 제거하면 효율 향상을 가져온다. 다음의 광선 경로는 전향층(416)을 사용하지 않고 광선이 보다 넓은 각도로 장치(10)를 빠져 나가는 것을 제외하고는 도 33의 경로와 상당히 유사하다.

도 49의 실시예의 다른 형태에서, 도 50의 장치(10)는 상술된 텍스쳐드 형태의 기부층(400)을 포함한다. 표 6에 비교 성능을 나타내었고, 광선 경로는 도 49와 상당히 유사하다. 표 4 및 표 6의 데이터는 각 표마다 서로 다른 기준 아기텍쳐를 사용하였기 때문에 직접 비교될 수 없다. 표 6의 데이터와 비교하기 위해서는, 표 4의 데이터에 1.17을 곱함으로써 하나의 표의 데이터를 다른 것과 개략적으로 비교할 수 있다.

도 49의 실시예의 다른 형태에서, 도 51의 장치(10)는 BEF형 후면 반사층(426)이 아닌 금송성 후면 반사기(446)를 사용한다. 또한, 층(426)은 공기층없이 변환층(422)에 적층된다. 광선 경로는 도 49의 것과 상당히 유사하며, 표 6에 비교 성능을 나타내었다.

*도 51의 실시예의 변형에서, 도 52의 장치(10)는 텍스쳐드 형태의 기부층(400)을 사용하지 않는다. 광선 경로는 매우 유사하며, 비교 성능을 표 6에 나타내었다.

도 33의 실시예의 다른 형태에서, 도 53의 장치(10)는 간섭층(411)이 아닌 반사성 편광층(480)을 사용하고; 텍스쳐드 형태의 기부층(400)이 사용된다. 광선 경로는 상당히 유사하며, 비교 성능을 표 6에 나타내었다.

도 54에 나타낸 본 발명의 다른 형태에서, 장치(10)는 전향층(416)이 반사성 편광층(480) [간섭층(411)과 같은 편광 스플릿터]과 샌드위치되는 것을 제외하고는 도 53에 나타낸 것과 유사하다.

후면 반사기가 구성되어 있는 기본적인 테이퍼형 조명 기구와 다양한 구조의 비교
도면	전향층	기부층 (B층)	후면 반사기	반사 편광기	회전자	g 휘도 (밝기 이득)	g 레인지 (레인지 이득)	g 토탈 (이용 가능 이득)
도 49	예	텍스쳐드	구성됨	B층 위	B층 아래	0.71	1.92	1.37
도 50	예	평평함	구성됨	B층 위	B층 아래	0.68	2.02	1.38
도 51	예	텍스쳐드	거울 같음	B층 위	B층 아래	0.67	2.41	1.62
도 52	예	평평함	거울 같음	B층 위	B층 아래	0.77	2.36	1.81
도 53	예	텍스쳐드	구성됨	B층 위	B층 아래	1.10	1.09	1.2
도 54	예	텍스쳐드	구성됨	N막 위	B층 아래	0.97	1.13	1.1
도 55	예	텍스쳐드	구성됨	B층 위	반사기 아래	0.96	1.16	1.11
도 56	예	텍스쳐드	구성됨	B층 위	적층됨	1.06	1.14	1.21
도 57	예	텍스쳐드	구성됨	없음	없음	1.00	1.00	1.00
도 58	예/D막	텍스쳐드	구성됨	D막 @45 위	없음	1.08	1.1	1.19
도 59	예/D막	텍스쳐드	구성됨	N막 @45 위	없음	1.04	1.08	1.12
도 60	예/D막	텍스쳐드	구성됨	웨지 @45 위	없음	1.15	1.09	1.25

기부층(400)으로의 입력광(402)은 도면의 실시예와 같이 전향층(416) 및 반사성 편광층(480)을 통해 출력되는 편광 "a"의 광(405)의 일부와 기부층(400)의 상부 표면(432)을 통해 결합될 수 있다. 편광 상태 "b"의 광(405)의 일부는 광(482)으로서 반사되어 기부층(400), 공기층(420), 변환층(422), 공기층(424)을 통과하여, BEF형 후면 반사층(426)에 의해 반사된다. 변환층(422)을 통과하여 복귀됨에 따라, 광(482)은 편광 상태 "a"의 광(484)으로 변화되고, 기부층(400), 전향층(416) 및 반사성 편광층(480)을 통해 관찰자에게 출력된다. 전향층(416) 및 반사성 편광층(480)의 교환 위치는 도 54에 도시한 바와 같이 전향층(416)이 정방향과 역방향 둘다의 방향으로 이동하는 넓은 각도의 광에 동작하게 한다. 정방향 이동 광은 도 52에 도시한 것과 마찬가지로 기부층(400)을 통과하지만, 역방향 이동광은 기부층(400)을 통해 뒤로 통과한다. 즉, 이 광의 일부는 램프 캐비티(409) 를 통해 규칙적으로 리사이클될 것이다. 수개의 오버래핑 광로의 예를 도 54에 도시하였지만, 다수의 다른 광로가 또한 존재한다. 이 장치(10)의 성능을 표 6에 나타내었다.

도 53의 실시예의 다른 변형에서, 도 55의 장치(10)는 기부층(400) 위에 변환층(422)을 놓는다. 광선 경로는 기부층(400) 위에 편광 변환이 발생하는 것을 제외하고는 도 53의 것과 유사하다. 예를 들면, 광(405)이 변환층(422)을 통과하여 편광 상태를 변환시켰을 때 광(402)은 상부 표면(432) 이외에서 결합되고, 편광 상태 "a"의 광(409)은 반사성 편광층(480) 및 전향층(416)을 통해 출력된다. 또한, 편광 상태 "b"의 광(482)은 공기층(407), 변환층(422), 공기층(485), 기부층(400), 공기층(420)을 통과하는 반사성 편광층(480)에 의해 반사되고, 출력을 위해 BEF형 후면 반사층(426)에 의해 반사되고 이들 층들을 통해 복귀되어 변환층(422)에 의해 편광 상태 "a"의 광(484)으로 변환된다. 장치(10)의 비교 성능을 표 6에 나타내었다.

도 53의 실시예의 다른 변형에서, 도 56의 장치(10)는 기부층(400)에 적층된 변환층(422)을 갖는다. 따라서, 광선 경로는 상당히 유사하며, 이 실시예의 성능을 표 6에 나타내었다.

도 35의 실시예의 다른 형태에서, 도면의 장치(10)는 텍스쳐드 형태의 기부층(400)을 사용한다. 광선 경로는 상당히 유사하고 그 성능을 표 6에 나타내었다.

도 58 내지 도 60에 도시된 본 발명의 다른 형태에서, 편광 조명 장치로서의 장치(10)의 동작을 분리된 형태의 변환층(422)을 사용하지 않고서 나타낸다. 이는 광 반사가 브루스터 각도를 초과하고, 오프-앵글(off-angle) 금속 반사 이벤트에서 각도를 벗어난 편광 변환, 최초 전향층(416)과 BEF형 후면 반사층(426)으로 된 신장막 기부층에서의 전반사 및 내부 복굴절에 기인하는 편광에 의해 달성된다. 이들 각 메카니즘은 장치(10)의 대칭축에 동일한 각도로 반사성 편광층(480)을 위치시킬 때 편광 변환에 기여한다. 간단화를 위해, 편광층(480)의 통과 축에 대하여 45°각도가 선택된다.

도 58에는 상부 표면(432) 또는 하부 표면(457) 중 하나에서, 그 각도가 θc를 초과하여 증가할 때까지 기부층(400)을 따라 이동하는 실질적으로 편광되지 않은 광(486)을 갖는 장치(10)가 도시되어 있다. 광(486)은 공기층(407), 광(486)의 각도를 변화시키는 프리즘 전향층(416)을 통과하고; 공기층(487)을 통과한 후, 다른 전향/확산층(488)이 광(486)의 각도 분포를 넓힌다. 그 후, 광(486)은 공기층(489)을 통과하여 편광 스플리팅층으로서 작용하는 반사성 편광층(490)과 만난다. 이 편광층(490)은, 통과축이 이 특정예에서 장치(10)의 최초 전파 방향인 장치(10)의 대칭축에 45°가 되도록 방향이 정해진다. 편광층(490)은 광(486)을 2개의 성분으로 분리한다: 하나의 상태 "a"의 광(492)이 통과되고 상태 "b"의 광(494)이 반사되는 것이 바람직하다. 따라서, 광(494)은 전향/확산층(488)을 통과함으로써 넓은 각도 분포로 리사이클된다. 이 광(494)의 넓은 각도 분포는 다양한 리사이클링 경로를 갖는다. 예를 들면, 일부 광(494)는 도 54에 나타낸 일반적으로 방법으로 전향/확산층(488)을 통해 리사이클링될 것이다. 이 경우의 편광 변환은 기부층(488)의 면들로부터의 프레넬 반사, 전향/확산층(488)에서의 전반사, 전향/확산층에서의 복굴절에 의한 변환 및 램프 캐비티(404)에서의 확산 스캐터링에 의해 발생될 수 있다. 이 경로를 이동하는 광(494)은 전향/확산층(488)을 통해 결국 재결합될 수 있고 장치(10)의 다른 성분들을 통해 복귀될 수 있다. 다양한 리사이클된 광선이 시스템 이득의 결과로 축적된 소정의 편광 변환으로 편광층(490)에 도달한다. 이 장치(10)의 성능을 표 6에 나타내었다.

도 58의 실시예의 변형에서, 도 59의 장치(10)는 도 58의 실시예에 존재하는 넓은 각도 확산 효과없이 도 54의 실시예와 유사한 일반적인 방법으로 광선을 리사이클링하도록 전향/확산층(488) 아래에 배치된 편광판(490)을 갖는다. 또한, 도 59의 이 실시예는 오프-앵글 반사의 이점을 가지며, 도 54의 명시된 편광 변환층(422)보다 광(486)의 편광 상태를 변환하도록 산란된다. 이 실시예의 성능을 표 6에 나타내었다.

도 53의 것과 유사한 다른 실시예에서, 도 60의 장치(10)는 반사성 편광층(480)이 장치(10)의 대칭축에 대하여 45°이기 때문에, 오프-앵글 반사에 의한 편광 변환을 달성한다. 따라서, 장치(10)는 변환층(422)을 포함하지 않고, 공기층(491)을 개재하고 전향/확산층(488)을 추가한다. 이 장치(10)의 성능을 표 6에 나타내었다.

조명 기구 시스템의 복굴절층

복굴절 물질은 상술한 편광 조광 기구 시스템에 이점을 주기 위해 사용될 수 있다. 도 31A에 도시된 실시예에서, 제1 층(214)은 2개의 서로 다른 편광 상태 "a" 및 "b"의 광(212)에 대하여 1보다는 작은 2개의 서로 다른 광학 계수 n_2α 및 n_2β를 갖는 계수 n₂의 복굴절 물질일 수 있다. 이 광(212)은 이들 2개의 편광 상태에 대하여 각각의 임계각 부근의 층(214)과 만난다.

*그리고

수학식 10의 조건은 독립적으로 n_2α와 n_2β둘다와 같은 n₂에 대하여 만족되어야 한다. 편광 상태의 광(212)은 상술한 바와 같이 제1 표면(208) 및 제2 표면(210)으로부터 각 사이클릭 반사에 대하여 각 2Φ만큼 입사각을 감소시킨다. 이 실시예에서, n_2α ＞ n_2β이고, 따라서 θ_cα ＞ θ_cβ이다.

수학식 10의 조건은 독립적으로 n_2α와 n_2β둘다와 같은 n₂에 대하여 만족되어야 한다. 편광 상태의 광(212)은 상술한 바와 같이 제1 표면(208) 및 제2 표면(210)으로부터 각 사이클릭 반사에 대하여 각 2Φ만큼 입사각을 감소시킨다. 이 실시예에서, n_2α ＞ n_2β이고, 따라서 θ_cα ＞ θ_cβ이다. 양 편광 상태에 대하여 입사각이 감소할 때, 양 편광 상태의 광(212)은 제1 임계각 θ_cα보다 작고 제2 임계각 θ_cβ를 초과하는 입사각을 갖는 광으로 복굴절 제1 층(214)과의 계면과 만날 수 있다. 따라서, 제1 편광 상태의 광(218)은 복굴절 제1 층(214)을 통해서 적어도 부분적으로는 투과되는 한편, 제2 상태의 광(220)은 전반사에 의해 우선적으로 반사된다. 이 반사된 제2 상태의 광(220) 및 나머지 제1 상태의 광(218)은 연속적인 반사로 입사각을 계속해서 감소시킨다. 제1 편광 상태의 광(218)은 제1 층(214)과 제2 층(206) 사이의 계면과 만나는 연속하는 각 지점에서 투과된다. 제2 상태의 광(220)은 입사각이 제2 상태 광(220)이 복굴절 제1 층(214)을 통해 적어도 부분적으로 투과되는 지점에서, 제2 임계각 θ_cβ보다 작아질 때까지 이 계면에서 전반사를 한다. 이 메카니즘 및 굴절율 n_2α와 n_2β 의 차이 덕분에, 제1 복굴절층(214)을 통과하는 광은 2개의 편광 상태 "a" 및 "b"에 대하여 서로 다른 각도 분포를 갖는다.

복굴절 물질은 일반적으로 이방성 굴절률을 갖는 결정 물질을 포함할 수 있다. 바람직한 물질은 신장 불소막과 같은 신장 폴리머막이다. 신장은 막을 배향하고 그 방향을 따라 서로 다른 굴절률을 만드는 것이다. 이들 신장 불소 폴리머막은 0.030-0.054 범위의 Δn을 복굴절율로 한다. 다른 막으로는 PVA(폴리비닐알콜), 폴리프로필렌, 폴리올레핀 또는 폴리에스테르(마일라; Mylar)가 있다. 마일라는 실제로 2축(biaxial)이지만, 편광을 회전시키는 데 이용될 수도 있다. 통상의 1축 복굴절 물질들은: 방해석(calcite) 및 수정이다. 이들은 신장막으로서 실용적이지 못하다. 실제로, 2개의 편광 상태는 2개의 굴절율이 충분히 다른 경우에만 잘 분리된다. 이 조건은 다음의 수학식 17로 표현될 수 있다.

여기서, s는 적어도 1이어야 하며 4보다 큰 것이 바람직하다. 이 조건은 예를들면, 복굴절층으로서의 단축 배향된 불소 폴리머, 기부층(206)으로서의 아크릴 폴리머 및 Φ(1과

사이가 노트북 컴퓨터 LCD 백라이팅으로서 전혁적임)의 공진값을 이용하여 달성될 수 있다.
도 31B는 도 31A와 마찬가지이지만, 전향층(224)이 추가되고, 바람직한 실시예는 굴절율 n₃을 갖는 층(207)에 대하여 공기를 사용한다. 광(218) 및 광(220)은 시스템(204)으로부터 서로 다른 각도로 출력된다.
도 31C는 도 31A 및 도 31B의 다른 변형을 도시하지만, 전향층(224)은 평평한 마면을 갖는 반사기층(340)을 포함한다. 광(218)과 광(220)은 그 편광 상태를 실질적으로 변화시키지 않고서 광(218)을 투과하는 변환층(346)으로 유도되지만, 편환층(346)은 광(220)을 원하는 제1 편광 상태의 광(218)으로 변환시킨다. 도 31C에 도시한 변환층(346)은 광(220)에 의해 점유된 각도 범위 내에서만 편광을 변환하도록 동작하는 구성을 갖는다. 따라서, 변환층(346)은 광(218) 및 광(220)의 모식적으로 도시된 각도 분리를 이용하여, 광(218)을 광(220)으로 변환시키지 않고서 광(220)의 광(218)으로의 변환을 수행한다.

삭제

도 31D 및 도 31E의 실시예에서, 반사된 형태의 광(220)은 제1 복굴절 층(214)과 기부층(206)의 계면로 복귀된다. 이는 광(220)을 제1 편광 상태의 광(218)으로 적어도 부분적으로 변환하는 변환층(346)을 적어도 2번 통과시키고 광(220)을 전반사시킴으로써 가능하게 된다. 이 광(218)은 제1 임계각 θ_cα보다 작은 입사각으로 가지므로, 광(218)은 기부층(206)과 제1층(214) 사이의 계면을 통해 투과된다. 이 광(218)은 이후 전향층(224)의 특질에 따라, 전향층(224)에 의해 반사되거나 투과될 수 있다.

반복적으로 투과되고 반사되는 광이 도 31A와 도 31E에 점선으로 도시되어 있다. 또한, 도 31D의 실시예에 있어서, 변환층(346)은 제1 복굴절층(214)과 같이 기부층(206)의 동일 측상에 있다. 변환층(346)은 기부층(206)과 복굴절성 제1층(214) 사이에도 배치된다. 도 31E의 실시예는 기부층(206)의 반대 측들 상에 배치된 변환층(226)과 제1 복굴절층을 갖는 도 31D의 또 다른 변형예를 도시한다.

도 31F의 실시예에 있어서, 시스템(204)은 도 31D의 실시예와 유사하지만, 전향층(224)이 작은 면들의 층(311)을 포함한다. 도 31G의 실시예에 있어서, 시스템(204)은 LCD층(302), 정합층(232)을 더 포함하고, 확산층(304)은 광이 LCD층(302)을 통해 통과한 다음의 공간적 위치에 배치된다. 전향층(224)은 편평한 면들을 갖는 마이크로프리즘들의 층(251), 및 광에 대한 높은 반사율을 갖는 금속 코팅(342)을 포함한다. 또한 시스템(204)으로부터 출력된 광의 공간적 분산을 제어하기 위한 각도 변환층(238)이 도시되어 있다. 도 31H의 실시예는 도 31G의 실시예와 유사하지만, 시스템(204)이 출력된 광(250)을 바람직한 시야 영역에 포커스하기 위해 전향층 (224)용으로 다른 공간적 위치들로 조정된 면 각도를 갖는 곡면들을 사용한다. 각도 변환기(238)는 CPC로서 예시된다.

LCD층 프로세싱 이후의 광 확산기

도 12N과 도 12O의 실시예들에 있어서, LCD 표시(216 또는 236)는 관측자에게 출력광을 제공한다. 이 실시예들의 더 향상된 예들에 있어서, 후치 확산층(350)이 LCD 층(302)으로부터 출력된 광(250)의 경로에 배치된다 (도 32A 및 도 32B를 참조). 이 도면들에 도시된 바람직한 실시예들에 있어서, 그 대략적인 동작은 도 26B, 28D, 28E, 29A, 29B, 및 도 31G에 도시된 실시예들과 유사하지만, 편광 필터 층(216)은 갖지 않는다. 앞서 설명한 바와 같이, 조준된 각도 범위에서, 바람직하게는 실질적으로 LCD층(302)에 수직하게 광을 입사시켜 그로부터 출력되는 화상을 최적화하는 것이 유용하다. 후치 확산층(350)의 사용은 출력광(253)이 관측자들에게 넓은 각도 범위에 걸쳐 광의 콘트라스트와 컬러의 정확도를 절충하지 않은 화상을 제공하게 해준다.

후치 확산층(350)을 포함하는 시스템에서 바람직하게 제어되는 한가지 특징은 LCD층(302)을 통해 투과되는 각도 분포의 xz-평면 상의 폭이다. 출력 각도 분포는 총 폭이

보다 작은 것이 바람직하고, 또한 총 폭이 이 값의 반보다 작은 것이 더 바람직하다. 이 수학식에서, △

_pd는 라디안이고, n_LCD은 LCD층(302) 내의 평균 굴절율이고, p는 z-방향의 디스플레이 픽셀 로우들의 반복 주기이고, d는 LCD층(302)의 두께이다. 노트북 컴퓨터에 사용되는 전형적인 LCD에서, n_LCD은 대략 1.5이고, l=0.3mm이고, d=3mm이다. 이 예에서, △

_pd는 바람직하게 18도 이하이고, 총 폭이 9도 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 비교해보면, 수학식(8)은 도 32A(층(359)) 또는 도 28B(층(262))에 도시된 바와 같이, 편면형 마면의 프리즘 전향층을 사용하는 본 발명의 출력 각도 폭을 계산하는데 사용될 수 있다. 전형적인 노트북 컴퓨터의 백라이팅 시스템에서,

=1.3도이고 n=1.49이다. 이 예에서, 수학식(8)은 18도의 출력 각도 분포를 준다.

도 32A는 LCD층(302)을 중첩하도록 배치되는 평행한 형태의 후치 확산기(350)를 갖는 시스템(204)의 바람직한 실시예를 나타낸다. 후면(211)에 배치된 홀로그래픽 각도 변환기(364)가 또한 포함된다.

도 32B에 도시된 다른 실시예에 있어서, 굴절/내부 반사층(360)은 LCD층(302)을 통해 입사된 광(364)의 xz-평면에서의 각도 분포를 좁히기 위한 굴곡형 마면들(362)을 포함하고, 이것에 의해 후치 확산층(350)에서의 시차(parallax)를 감소시킴으로써 화질을 향상시킨다. 본 실시예는 반사 곡면들(362)을 가지나, 도 32C에 도시된 바와 같이, 편평한 굴절 마면들이 원하는 기능을 달성할 수도 있다. 이 두 경우에 있어서, 곡률형 마면들(362)은 바람직하게 각각의 면들(362) 사이의 반복 주기보다 작은 초점 거리를 갖는다. xz-평면에서의 각도 분포는 바람직하게 수학식(8)에 주어진 폭 이상으로 좁혀지는 것이 바람직하고, 상기 수학식에 주어진 폭 이상으로 좁혀지는 것이 가장 바람직하다. 또한, 전향층(224)의 마면각도는 시스템(204)의 다른 부분들로부터 출력된 광을 바람직한 시야 영역 상에 집광하도록 배열된다. 이 도면은 또한 마이크로-프리즘 각도 변환층(274)을 나타낸다.

도 32C에는 도 32B의 실시예에 대한 변형예가 도시되어 있다. 시스템(204)에서는 LCD층 배열(370)이 도 30에 도시된 종래 기술의 LCD층 배열(310)과 다르다. 특히, 평행 광 확산층(372) (홀로그래픽 확산기와 같은 확산층)이 LCD층 (도 30의 층(316))과 제2 편광 필터층(322)(도 30의 층(314)) 사이에 배치된다. 이러한 배열은, 이러한 배열이 아니라면 확산층(372)에 의해 반사되는 주위의 광에 의해 야기될 수 있는 섬광을 제2 편광 필터층(322)이 줄일 수 있도록 해준다. 도 32C는 도 32B에 도시된 반사 곡면들(376)과 같은 각도 협소화 기능을 수행하는 광 전향층(374)을 더 나타낸다.

다음의 예는 장치(10)의 변형들에 대한 측정 시스템 및 방법을 설명한다.

예

여러 장치들(10)의 성능이 유용한 시스템 이득 개념을 도입하여 정량화되었다. 장치들(10)로부터 출력된 광출력 분포는 확산 람베르트 백그라운드와, 한정된 각도의 람베르트 분포로 구성된 1차원적으로 조준조준기으로 근사된다. 이 모델에서, 조명 장치(10)로부터 제한된 각도(I_Limited)로 방출되는 휘도는 전체 분포 중 최고 휘도(L_max), 확산 람베르트 백그라운드(

), 및 제한 각도들(θ⁺, θ^-)에 의해 지정된 제한된 각도의 람베르트 분포의 폭에 관하여 다음과 같은 식으로 표시될 수 있다.

이것은 각도 변환막들과 확산기들과 같은 다양한 전향층들을 사용하여 재분포될 수 있는 총 조도를 나타내는 유용한 양이다. 비록, 확산 백그라운드에서 총 조도의 분율이 꽤 클지라도, 대부분의 피크 조도는 전형적으로 제한된 각도 범위의 경우에 조도에 의해 커버되는 훨씬 더 작은 입체각에 기인하여 장치(10)에 의해 방출된 제한된 각도의 광에 의한다.

삭제

이러한 아이디어가 수학식에 지정된 +/- 각도들이 스폿-포토미터(498)를 사용하여 측정된 반조도점들이라고 가정하고 실제 장치(10)에 적용되었다. 각각의 측정 세트에 대해, 우리는 최대 휘도, 반조도점들의 각도 위치를 측정하였다. 이 측정에 사용된 시스템(500)이 도 61A 및 도 61B에 도시되어 있다. 같은 조도를 유지하면서 몇개의 다른 확산기들이 반조도점들의 위치를 변화시키도록 채택되었다. 이 모델로 데이터를 구해본 결과 확산 백그라운드에서 전력의 분율에 대한 값을 얻었다. 우리는 실험 작업에 사용된 기본 형태의 장치(10)에 대해 이 값이 60.1%임을 알아냈다. 도 62는 기본 형태의 장치(10)에 대해 측정된 데이터와 피팅된 커브들을 나타낸다.

남은 연구 과정에서, 상기의 조도 평가를 기초로 이득 인자들의 세트를 얻어 장치(10)의 성능을 정량화하였다. 이 이득 인자들은 전체 시스템 이득(g_total), 휘도 이득(g_luminance), 및 조명의 입체각에 있어서의 증가로 인한 이득(g_range)이었다. 이들은 이하에서 정의되는 측정된 조도(L_ref)와 각도 범위 인자 (Ru)에 관해 주어진다. 매우 제한된 각도의 조명만을 장치(10)의 단일 방향으로 하고 있었으므로, 분석의 기초로서 상기 1차원 공식을 사용하였다. 특히, 우리는 다음의 항들을 정의하였다.

동작시, 이러한 측정들은 조명 장치를 반(502 와 504)으로 나누어 (도 61B) 샘플 광파이프를 사용하여 행해졌고, 이 둘은 동일한 CCFT 램프에 의해 구동되었다. 광파이프 상에 코팅이나 박층화가 필요한 측정들에 대해서는, 광파이프의 반쪽에만 박층화 또는 코팅이 행해졌다. 이렇게 반조명 측정을 시도한 결과 그 효과가 있다면 그것은 이득값들을 저하시킬 것으로 믿는다. 목표는 달성 가능한 이득들을 입증하는 것이었기 때문에, 이러한 잠재적인 불이익은 수용할 수 있었다.

상기 표들에 보고된 최종 이득값들을 얻기 위해, 같은 구조의 두개의 반조명장치(502, 504)를 만들어 측정된 이득들에 의해 관측값들을 수집하였다. 이것은 우리가 관측했던 신뢰도를 조금씩 교정하는 것이었다. 이렇게 보정된 이득들 (g_corrected)은 측정된 샘플들의 이득들(g_measured)과 반조명 장치(502)의 측들로써 측정된 교정 이득들(g_calibration)로부터 다음의 식을 참조하여 계산되었다.

g_corrected= g_measured/g_measured

이러한 방법을 사용하여, 다양한 조명 장치들이 Photo Research Pritchard Spot Photometer를 사용하여 측정되었다. 이러한 측정을 하기 위해, 장치(10)가 회전 동안 우리의 측정 스폿이 안정하도록 배열된 회전 스테이지를 구비한 스탠드 상에 배치되었다 (도 61A 참조). 조명 기구의 램프가 반쪽 조명 장치들(502, 504) 각각의 중앙에 있었다 (도 61B 참조). 각각의 측정을 위해, 선형 편광기가 최대량의 광이 통과하도록 배치된 포토미터(498)의 앞에서 사용되었다. 대부분의 측정들에 있어서, 이 방향은 장치(10)와 기구에 대해 수평 방향이거나 또는 수직 방향이어서, 이러한 경우들에 있어서 내부 편광기들이 기구 내부에서 사용되었다. 이들 반쪽들 각각에 대해서 최대 휘도가 형성되었음을 찾아낸 다음 장치(10)를 회전축에 대해 회전시켜 반휘도점들의 각도 위치를 알아냈다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예들이 개시되고 설명되었으나, 당해 분야의 통상의 기술자들에게는 다양한 변형과 변경들이 이하에 주어진 청구항들에 의해 지정된 본 발명의 더 넓은 범위의 특징들을 벗어나지 않고 만들어질 수 있음을 명백히 알 것이다.

Claims

광원으로부터의 광에 대해 작용하고 관측자에게 광을 선택적으로 출력하기 위한 광학 장치로서,

적어도 제1 및 제2 표면을 갖는 기부층(base layer) - 상기 기부층은 상기 제1, 및 제2 표면들에 걸쳐 있는 후면을 더 포함하고, 상기 기부층 내에서 반사된 광이 광 입사점에서 상기 제1 및 제2 표면들 중 적어도 한 표면의 법선에 대한 각도를 감소시켜 상기 표면들 상의 상기 광 입사점의 상기 법선에 대해 임계각θ_c보다 작은 입사각을 얻을 때 상기 광은 상기 기부층으로부터 방출됨 - ;

상기 기부층에 대해 상기 제1 및 제2 표면들 중 적어도 한 표면 위에 배치되고, 상기 기부층 내의 광이 상기 기부층과 상기 제1층 사이의 계면의 임계각 θ_c특성보다 작은 입사각을 얻을 때, 상기 기부층으로부터 출력된 후에 상기 광이 제1층 수단에 입사하여 이를 가로질러 통과할 수 있게 하는 제1층 수단; 및

제2 편광 상태에 비해 제1 편광 상태의 광을 우선적으로(preferably) 출력하는 제2층 수단 - 상기 제2층 수단은 상기 기부층의 후면과 광원 캐비티(cavity) 사이에 배치되고, 상기 제2층 수단은 또한 상기 제2 편광 상태를 갖는 광의 적어도 일부를 반사할 수 있음 -

을 포함하는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 관측자에게 표시하기 위해 상기 제1 편광 상태의 광으로부터 화상을 형성하는 화상 형성층을 더 포함하는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 출력 장치로부터 출력된 광의 각도 분포를 제어하기 위해 마면 층(faceted layer)을 포함하는, 광을 전향(redirecting)시키기 위한 광 제어층을 더 포함하는 광학 장치.
제2항에 있어서,

광을 확산시키기 위한 광 제어층을 더 포함하며, 상기 광 제어층은 (a) 상기 기부층과 상기 화상 형성층 사이, 및 (b) 상기 관측자와 상기 화상 형성층 사이 중 적어도 하나에 배치되는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 제2 편광 상태의 광을 상기 제1 편광 상태로 변화시키는 변환층을 더 포함하는 광학 장치.
제5항에 있어서,

상기 변환층은 (a) 화상 형성층과 상기 기부층 사이에 배치되는 것과, (b) 상기 제1 표면에 비해 상기 제2 표면으로부터 더 멀리 배치되면서 화상 형성층이 상기 제2 표면에 비해 상기 제1 표면으로부터 멀리 배치되는 것 중 적어도 하나에 따라 배치되는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 기부층은 웨지 형상의 층, 디스크, 편구(oblate) 형상체, 평행 육면체, 및 실린더 중 적어도 하나를 포함하는 광학 장치.
제1항에 있어서, 화상 형성층은 투명 디스플레이, 홀로그래픽 화상, 액정층, 및 CCD층 중 적어도 하나를 포함하는 광학 장치.
제1항에 있어서, 산란을 감소시키는 반사 방지층들을 더 포함하는 광학 장치.
제3항에 있어서, 상기 마면층은 가변의 면 각도들을 갖는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 제2층 수단은 광학적 간섭층, 브루스터 스택(Brewster stack), 간섭 코팅과 브루스터 스택의 조합체, 거칠게 처리된 표면, 거울 반사층, 이색성 층(dichroic layer), 및 복굴절 층으로 구성된 군으로부터 선택되는 광학 장치.
제1항에 있어서, 상기 기부층은 그 내부에 상기 제1 표면 및 제2 표면과의 입사각을 점증적으로 변화시키기 위한 수단을 포함하는 광학 장치.
제12항에 있어서, 상기 기부층 내부의 수단은 가변 굴절율을 가지는 기부층을 포함하는 광학 장치.
제5항에 있어서, 상기 변환층은 화상 형성층에 대한 바람직한 편광 상태를 제공하기 위한 정합층을 포함하는 광학 장치.
제1항에 있어서, (a) 광을 반사시킬 수 있는 반사층, (b) 통과하는 광의 각도 분포를 변경할 수 있는 투과층, 및 (c) 가변 마면 각도를 갖는 마면층 중 적어도 하나를 포함하는 광 전향층을 더 포함하는 광학 장치.
제4항에 있어서, 제어된 각도 범위로 상기 광을 퍼지게 하여 상기 관측자에게 시야각 범위들에 걸쳐 광을 제공하기 위해 상기 화상 형성층 위에 배치된 제2 광 확산층을 더 포함하는 광학 장치.
광원으로부터의 광에 대해 작용하고 관측자에게 광을 선택적으로 출력하기 위한 광학 장치로서,

적어도 제1 및 제2 표면을 갖는 기부층 - 상기 기부층은 상기 제1, 및 제2 표면들에 걸쳐 있는 후면을 더 포함하고, 상기 기부층 내에서 반사된 광이 광 입사점에서 상기 제1 및 제2 표면들 중 적어도 한 표면의 법선에 대한 각도를 감소시켜 상기 표면들 상의 상기 광 입사점의 상기 법선에 대해 임계각θ_c보다 작은 입사각을 얻을 때 상기 광은 상기 기부층으로부터 방출되며, 상기 기부층은 복굴절 편광 변환 물질로 형성됨 - ;

상기 기부층에 대해 상기 제1 및 제2 표면들 중 적어도 한 표면 위에 배치되고, 상기 기부층 내의 광이 상기 기부층과 상기 제1층 사이의 계면의 임계각 θ_c특성보다 작은 입사각을 얻을 때, 상기 기부층으로부터 출력된 후에 상기 광이 상기 제1층 수단에 입사하여 이를 가로질러 통과할 수 있게 하는 제1층 수단; 및

제2 편광 상태에 비해 제1 편광 상태의 광을 우선적으로(preferably) 출력하는 제2층 수단 - 상기 제2층 수단은 상기 기부층에 대해 상기 제1 및 제2 표면들 중 적어도 한 표면 위에 배치되고, 상기 제2층 수단은 또한 상기 제2 편광 상태를 갖는 광의 적어도 일부를 반사할 수 있음 -

을 포함하는 광학 장치.
삭제
삭제
삭제