KR100573354B1 - Radiation Sensitive Compositions for Color Filter - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (A) 착색제, (B) 디카르복실산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 디카르복실산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체, 및 이 단량체와 공중합 가능한 다른 단관능성 단량체의 공중합체를 함유하여 이루어지는 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 또한, 이 조성물은 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 양호한 현상성을 나타낸다. 구체적으로는 미노광부의 기판상 및 차광층상에 현상시에 잔사 및 바탕 오염을 발생시키지 않고, 동시에 기판 및 차광층에 대한 밀착성이 우수한 화소를 제공한다.The present invention is at least one selected from the group consisting of (A) colorant, (B) dicarboxylic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and dicarboxylic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) The radiation sensitive composition for color filters containing alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer, and (D) photoinitiator containing a monomer and the copolymer of the other monofunctional monomer copolymerizable with this monomer is provided. In addition, the composition exhibits good developability even when the pigment is contained at a high concentration. Specifically, a pixel having excellent adhesion to the substrate and the light shielding layer is provided without generating residue and background contamination during development on the substrate and the light shielding layer of the unexposed portion.

감방사선성 조성물, 착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체, 광중합 개시제, 칼라 필터Radiation-sensitive composition, colorant, alkali-soluble resin, polyfunctional monomer, photopolymerization initiator, color filter

Description

칼라 필터용 감방사선성 조성물{Radiation Sensitive Compositions for Color Filter}Radiation sensitive composition for color filters

본 발명은 현상성 등이 우수한 칼라 필터용 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 투과성 또는 반사형 칼라 액정 표시 장치, 칼라 촬상관 소자 등에 사용되는 칼라 필터를 형성하기 위한 칼라 필터용 감방사선성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a radiation sensitive composition for color filters excellent in developability and the like. More specifically, it relates to the radiation sensitive composition for color filters for forming the color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube element, etc.

종래부터, 감방사선성 조성물을 사용하여 칼라 필터를 제조함에 있어서는 기판상 또는 미리 원하는 패턴의 차광층을 형성한 기판상에 감방사선성 조성물을 도포 및 건조한 후, 건조한 도막을 원하는 패턴으로 방사선 조사(이하, "노광"이라고 한다)하고 현상함으로써 여러 가지 색의 화소를 얻었다. 이렇게 하여 제조된 칼라 필터는 현상시, 미노광부 기판상 또는 차광층상에 잔사 및 바탕 오염이 발생하기 쉽다는 문제가 있었고, 그의 정도가 감방사선성 조성물에 포함되는 안료 농도가 높아짐에 따라서 현저해지는 경향이 있어 충분한 색 농도를 달성하는 것이 곤란하였다.Conventionally, in manufacturing a color filter using a radiation sensitive composition, after applying and drying a radiation sensitive composition on a board | substrate or the board | substrate in which the light shielding layer of a desired pattern was formed previously, a dry coating film is irradiated with a desired pattern Hereinafter, the pixel of various colors was obtained by developing and "exposure". The color filter manufactured in this way had a problem that residues and ground contamination were likely to occur on the unexposed part substrate or the light shielding layer at the time of development, and its degree tended to become remarkable as the pigment concentration contained in the radiation sensitive composition increased. This made it difficult to achieve sufficient color density.

본 발명의 목적은 칼라 필터용 감방사선성 조성물을 제공하는 데 있다.  An object of the present invention is to provide a radiation sensitive composition for color filters.

본 발명의 다른 목적은 안료를 높은 농도로 포함하는 경우에도 양호한 현상성을 보이는 칼라 필터용 감방사선성 조성물, 구체적으로는 미노광부의 기판상 및 차광층상에 현상시 잔사 및 바탕 오염이 생기지 않고, 동시에 기판 및 차광층에 대한 밀착성이 우수한 화소를 제공하는 신규한 칼라 필터용 감방사선성 조성물을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is a radiation-sensitive composition for a color filter showing good developability even when the pigment is contained in a high concentration, specifically, no residue and background contamination during development on the substrate and the light shielding layer of the unexposed portion, At the same time, there is provided a novel radiation sensitive composition for color filters that provides a pixel excellent in adhesion to a substrate and a light shielding layer.

본 발명의 또 다른 목적 및 잇점은 이하의 설명으로 확실해 질 것이다.Still other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명에 의하면 본 발명의 상기 목적 및 잇점은According to the present invention the above object and advantages of the present invention

(A) 착색제, (B) 디카르복실산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 디카르복실산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체 및 이 단량체와 공중합 가능한 다른 단관능성 단량체의 공중합체를 함유하여 이루어지는 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.At least one monomer selected from the group consisting of (A) a colorant, (B) dicarboxylic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and dicarboxylic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and It is achieved by the radiation sensitive composition for color filters containing alkali-soluble resin which consists of a copolymer of the other monofunctional monomer copolymerizable with a monomer, (C) polyfunctional monomer, and (D) photoinitiator. .

이하에 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, this invention is demonstrated in detail.

(A) 착색제(A) colorant

본 발명의 착색제는 색조가 특히 한정되는 것은 아니며, 얻어지는 칼라 필터의 용도에 따라서 적절히 선정된다. 또한, 유기 착색제 또는 무기 착색제일 수 있다. The coloring agent of this invention is not specifically limited in color tone, It selects suitably according to the use of the color filter obtained. It may also be an organic colorant or an inorganic colorant.

상기 유기 착색제는 구체적으로는 염료, 유기 안료, 천연 색소 등을 의미한 다. 또한, 상기 무기 착색제는 구체적으로는 무기 안료 외에 체질 안료라고 불리우는 무기염 등을 의미한다. 칼라 필터에는 고정밀한 발색과 내열성이 요구되기 때문에 본 발명의 착색제로서는 발색성이 높고, 동시에 내열성이 높은 착색제, 특히 내열분해성이 높은 착색제가 바람직하며, 통상 유기 착색제, 특히 바람직하게는 유기 안료가 사용된다.The organic colorant specifically means dyes, organic pigments, natural pigments and the like. In addition, the said inorganic coloring agent specifically means an inorganic salt etc. which are called a extender pigment other than an inorganic pigment. Since the color filter requires high color development and heat resistance, as the colorant of the present invention, a colorant having high color development and high heat resistance, particularly a high thermal decomposition resistance, is preferable, and an organic colorant, particularly preferably an organic pigment, is used. .

상기 유기 안료로서는 예를 들어 칼라 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 칼라 인덱스(C.I.) 번호가 붙여져 있는 것을 들 수 있다. Examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in the color index (C.I .; issued by The Society of Dyers and Colorists, Inc.), specifically those having the following color index (C.I.) numbers.

C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 128, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 151, C.I. 피그먼트 옐로우 152, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 155, C.I. 피그먼트 옐로우 156, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 175, C.I. 피그먼트 옐로우 185;C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 128, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 151, C.I. Pigment Yellow 152, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 155, C.I. Pigment Yellow 156, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 175, C.I. Pigment yellow 185;

C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38; C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Pigment violet 38;

C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 202, C.I. 피그먼트 레드 206, C.I. 피그먼트 레드 207, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 220, C.I. 피그 먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 226, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 243, C.I. 피그먼트 레드 245, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265;C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 202, C.I. Pigment Red 206, C.I. Pigment Red 207, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 220, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 226, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 243, C.I. Pigment Red 245, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment red 265;

C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6;C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment blue 15: 6;

C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36;C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment green 36;

C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7. C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7.

이들 유기 안료는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These organic pigments can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 상기 무기 착색제의 구체예로서는 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 아연화(chinese white), 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철(III), 카드뮴적, 군청, 감청, 산화크롬녹, 코발트녹, 인바르 강철(invar steel), 티탄블랙, 합성철흑, 카본블랙 등을 들 수 있다. Specific examples of the inorganic colorant include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, iron group (red iron oxide (III), cadmium, ultramarine blue, blue blue, chromium oxide). , Cobalt rust, invar steel, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like.

이들 무기 착색제는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다. These inorganic coloring agents can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명에서, 상기 각 착색제는 목적에 따라서 그의 입자 표면을 중합체로 개질하여 사용할 수 있다. 착색제 표면을 개질하는 중합체로서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제96-259876호 공보 등에 기재된 중합체 및 시판되고 있는 각종 안료 분산용 중합체 또는 올리고머 등을 들 수 있다.In the present invention, each colorant may be used by modifying its particle surface with a polymer according to the purpose. As a polymer which modifies a colorant surface, the polymer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 96-259876 etc., the polymer for various pigment dispersions, or oligomer etc. which are marketed are mentioned, for example.

또한, 본 발명의 착색제는 목적에 따라서 분산제와 함께 사용할 수 있다.In addition, the coloring agent of this invention can be used with a dispersing agent according to the objective.

이러한 분산제로서는 예를 들어 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 실리콘계, 불소계 등의 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of such dispersants include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, and fluorine-based compounds.

상기 계면 활성제의 구체예로서는 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류; 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류; 폴리에틸렌글리콜디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트 등의 폴리에틸렌글리콜디에스테르류; 솔비탄 지방산 에스테르류; 지방산 변성 폴리에스테르류; 3급 아민 변성 폴리우레탄류; 폴리에틸렌이민류 등 이외에, 하기 상품명, KP(신에쓰 가가꾸 고교(주) 제품), 폴리 플로우(교에이사 가가꾸(주) 제품, 에프 톱(토켐 프로덕츠사 제품), 메가 팩(다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제품), 플로라드(스미또모 쓰리엠(주) 제품), 아사히 가드, 서프론(이상, 아사히 가라스(주) 제품), 디스퍼 BYK(빅 케미사 제품), EFKA-46, 동 47(EFKA사 제품), 솔스퍼스(제네카사 제품) 등을 들 수 있다.As a specific example of the said surfactant, Polyoxyethylene alkyl ether, such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as polyoxyethylene octylphenyl ether and polyoxyethylene nonylphenyl ether; Polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; Sorbitan fatty acid esters; Fatty acid-modified polyesters; Tertiary amine-modified polyurethanes; In addition to polyethyleneimines, the following trade names, KP (produced by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), poly-flow (Produced by Kyoeisa Chemical, Co., Ltd.), F-Top (made by Tochem Products, Inc.), and Mega Pack (Dininipbon Inks) Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Florad (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Supron (above, Asahi Glass Co., Ltd.), Disper BYK (Big Chemisa Co., Ltd.), EFKA- 46, 47 (made by EFKA), Solsperth (made by Geneca), etc. are mentioned.

이들 계면 활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.

계면 활성제의 사용량은 착색제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 30 중량부이다.The amount of the surfactant used is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 0 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant.

(B) 알칼리 가용성 수지(B) alkali soluble resin

본 발명의 알칼리 가용성 수지는 디카르복실산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 디카르복실산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체(이하, 이 단량체를 "단관능성 단량체(b1)"이라고 한다)와 공중합 가능한 다른 단관능성 단량체의 공중합체(이하, 「공중합체(B1)」이라고 함)를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The alkali-soluble resin of the present invention is at least one monomer selected from the group consisting of dicarboxylic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and dicarboxylic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) (hereinafter, The monomer is characterized by containing a copolymer of another monofunctional monomer copolymerizable with "monofunctional monomer (b1)" (hereinafter referred to as "copolymer (B1)").

단관능성 단량체(b1)의 디카르복실산으로서는 예를 들어 옥살산, 말론산, 숙 신산, 글루타르산, 아디프산 등의 탄소수 2 내지 20, 바람직하게는 탄소수 2 내지 10의 지방족 디카르복실산류; 헥사히드로프탈산, 헥사히드로이소프탈산, 헥사히드로테레프탈산 등의 탄소수 7 내지 24, 바람직하게는 탄소수 8 내지 14의 지환족 디카르복실산류; 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 탄소수 8 내지 24, 바람직하게는 탄소수 8 내지 14의 방향족 디카르복실산류 등을 들 수 있다.As the dicarboxylic acid of the monofunctional monomer (b1), for example, aliphatic dicarboxylic acids having 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid and adipic acid ; Alicyclic dicarboxylic acids having 7 to 24 carbon atoms, preferably 8 to 14 carbon atoms such as hexahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid and hexahydroterephthalic acid; And aromatic dicarboxylic acids having 8 to 24 carbon atoms, preferably 8 to 14 carbon atoms such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid.

이들 디카르복실산 중 탄소수 2 내지 8의 지방족 디카르복실산류가 바람직하고, 특히 숙신산이 바람직하다.Among these dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids having 2 to 8 carbon atoms are preferable, and succinic acid is particularly preferable.

본 발명에서 단관능성 단량체(b1)은 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.In the present invention, the monofunctional monomer (b1) may be used alone or in combination of two or more thereof.

또한, 상기 다른 공중합 가능한 단관능성 단량체는 단관능성 단량체(b1)과 공중합 가능한 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 단량체가 바람직하고, 단관능성 단량체(b1)과 공중합하여 얻어지는 공중합체(B1)이 알칼리 가용성이 되는 한, 한정되는 것은 아니지만, 특히 단관능성 단량체(b1) 이외의 1개 이상의 카르복실기를 갖는 단관능성 단량체(이하, "단관능성 단량체(b2)"라 한다)와 카르복실기를 갖지 않는 공중합 가능한 단관능성 단량체(이하, 간단히 "단관능성 단량체(b3)"이라고 한다)로 이루어지는 단량체 혼합물이 바람직하다.The other copolymerizable monofunctional monomer is preferably a monomer having one polymerizable unsaturated bond copolymerizable with the monofunctional monomer (b1), and the copolymer (B1) obtained by copolymerizing with the monofunctional monomer (b1) is alkali-soluble. As long as it is not limited, especially the monofunctional monomer which has one or more carboxyl groups other than a monofunctional monomer (b1) (henceforth "monofunctional monomer (b2)"), and the copolymerizable monofunctional which does not have a carboxyl group A monomer mixture consisting of monomers (hereinafter, simply referred to as "monofunctional monomer (b3)") is preferable.

단관능성 단량체(b2)로서는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-크롤아크릴산, 신남산 등의 불포화 모노카르복실산류; 말레인산, 무수 말레인산, 푸말산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물류; 3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물류; ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a monofunctional monomer (b2), For example, unsaturated monocarboxylic acids, such as acrylic acid, methacrylic acid, a crotonic acid, (alpha) -croacrylic acid, cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid or anhydrides thereof; Trivalent or higher unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof; (omega) -carboxy polycaprolactone monoacrylate, (omega) -carboxy polycaprolactone monomethacrylate, etc. are mentioned.

이들 단관능성 단량체(b2)는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These monofunctional monomers (b2) can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 카르복실기를 갖지 않는 다른 단관능성 단량체(b3)로서는, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, 인덴, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;Moreover, as another monofunctional monomer (b3) which does not have a carboxyl group, For example, styrene, (alpha) -methylstyrene, o-vinyl toluene, m-vinyl toluene, p-vinyl toluene, p-chloro styrene, o-methoxy styrene, for example , m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, indene, o-vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzylmethyl ether, p-vinylbenzylmethyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glyc Aromatic vinyl compounds such as cydyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether;

메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크 릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류;Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl Relate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxy Ethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol Methacrylate, methoxy propylene glycol acrylate, methoxy propylene glycol methacrylate, methoxy dipropylene glycol acrylate, methoxy dipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopenta Dienyl acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy Unsaturated carboxylic acid esters such as propyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, and glycerol monomethacrylate;

2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류;2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxyl such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate Acid aminoalkyl esters;

글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류;Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate;

아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류;Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르, 메타크릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류;Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether, and methacryl glycidyl ether;

아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화비닐 화합물;Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류;Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethylacrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide;

말레이미드 및 N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 치환 말레이미드 등의 불포화 이미드류;Unsaturated imides such as maleimide and substituted maleimide such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류;Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 매크로 모노머류 등을 들 수 있다.Polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, polysiloxane having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of the molecular chain Macromonomers; and the like.

이들의 다른 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These other monofunctional monomers can be used individually or in combination of 2 or more types.

공중합체(B1)으로서는 특히 단관능성 단량체(b1)과 아크릴산 및(또는) 메타크릴산 및 경우에 따라 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 및(또는) ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트를 함유하는 단관능성 단량체(b2)와 스티렌, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페닐아크릴레 이트, 페닐메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 매크로 모노머 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체(b3)과의 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(I)"이라고 한다)가 바람직하다.As the copolymer (B1), in particular, the monofunctional monomer (b1) and acrylic acid and / or methacrylic acid and optionally ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and / or ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate are used. Monofunctional monomer (b2) containing, styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl acrylate , Air with at least one monomer (b3) selected from the group consisting of phenyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macro monomers and polymethyl methacrylate macro monomers Cohesion (henceforth "alkali-soluble resin (I)") is preferable.

알칼리 가용성 수지(I)의 구체예로서는,As a specific example of alkali-soluble resin (I),

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체와 같은 삼원 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(Ia)"라고 한다);Ternary copolymers such as (meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate copolymer (hereinafter referred to as " alkali-soluble resin (Ia) ");

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/ 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페 닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체 (b1)/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노 (메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체와 같은 4원 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(Ib)"라고 한다);Quaternary copolymers such as (meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer (hereinafter referred to as “alkali soluble resin (Ib)”);

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/메틸(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / methyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/스티렌/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / styrene / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/N-페닐말레이미드/글리세롤모노 (메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / N-phenylmaleimide / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/N-페닐말레이미드/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/N-페닐말레이미드/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / N-phenylmaleimide / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/메틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/단관능성 단량체(b1)/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체와 같은 5원 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(Ic)"라고 한다.);5-membered copolymers such as (meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / monofunctional monomer (b1) / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer (hereinafter, "Alkali soluble resin (Ic)";

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/페닐(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체 또는,(Meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / polystyrene macro monomer copolymer, or

(메타)아크릴산/단관능성 단량체(b1)/스티렌/페닐(메타)아크릴레이트/글리세롤모노(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체와 같은 6원 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(Id)"라고 한다) 등을 들 수 있다.6-membered copolymers such as (meth) acrylic acid / monofunctional monomer (b1) / styrene / phenyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer (hereinafter “alkali soluble Resin (Id) "and the like.

본 발명에서는 상기 알칼리 가용성 수지(Ia), 알칼리 가용성 수지(Ib), 알칼리 가용성 수지(Ic) 및 알칼리 가용성 수지(Id) 중, 이들을 구성하는 단관능성 단량체(b1)이 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및(또는) 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)인 수지가 특히 바람직하다.In the present invention, of the alkali-soluble resin (Ia), alkali-soluble resin (Ib), alkali-soluble resin (Ic) and alkali-soluble resin (Id), the monofunctional monomer (b1) constituting these is monosuccinic acid (2-acrylic acid). Particular preference is given to resins which are oxyethyl) and / or succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl).

공중합체(B1)에서의 단관능성 단량체(b1)의 공중합 비율은 바람직하게는 5 내지 35 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 25 중량%이다. 이 경우, 단관능성 단량체(b1)의 공중합 비율이 5 중량% 미만에서는 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 잔사, 바탕 오염 등을 발생시킬 우려가 있고, 35 중량%를 넘으면 알칼리 현상액에 의한 현상시, 형성된 화소가 기판에서 탈락하기 쉬운 경향이 있다.The copolymerization ratio of the monofunctional monomer (b1) in the copolymer (B1) is preferably 5 to 35% by weight, more preferably 10 to 25% by weight. In this case, when the copolymerization ratio of the monofunctional monomer (b1) is less than 5% by weight, there is a fear that residues, ground contamination, etc. may occur on the substrate or the light shielding layer of the unexposed part. The formed pixels tend to fall off the substrate.

또한, 공중합체(B1)이 단관능성 단량체(b1)과 단관능성 단량체(b2)와 다른 불포화 단량체의 공중합체인 경우, 단관능성 단량체(b2)의 공중합 비율은 바람직하 게는 5 내지 50 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량%이고, 다른 불포화 단량체의 공중합 비율은 바람직하게는 15 내지 90 중량%, 보다 바람직하게는 35 내지 80 중량%이다. 이 경우, 단관능성 단량체(b2)의 공중합 비율이 5 중량% 미만에서는 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 50 중량%를 넘으면 알칼리 현상액에 의한 현상시 형성된 화소가 기판에서 탈락하거나 화소 표면막이 거칠어지는 경향이 있다. 단관능성 단량체(b1)과 함께 단관능성 단량체(b2)를 상기 특정한 공중합 비율로 함유하는 공중합체(B1)은 알칼리 현상액에 대하여 우수한 용해성을 갖는 것으로, 당해 공중합체를 바인더로서 사용한 감방사선성 조성물은 알칼리 현상액에 의한 현상 후, 미용해물이 잔존하는 일이 매우 적고, 미노광부 기판상 또는 차광층상에 잔사, 바탕 오염 등이 발생하기 어려우며, 나아가 이 조성물로부터 얻어지는 화소는 알칼리 현상액에 과잉 용해되지 않고, 기판에 대하여 우수한 밀착성을 가지며, 기판에서 탈락할 우려도 없는 것이 된다.In addition, when the copolymer (B1) is a copolymer of a monofunctional monomer (b1), a monofunctional monomer (b2) and another unsaturated monomer, the copolymerization ratio of the monofunctional monomer (b2) is preferably 5 to 50% by weight, More preferably, it is 10 to 40 weight%, and the copolymerization ratio of another unsaturated monomer is preferably 15 to 90 weight%, More preferably, it is 35 to 80 weight%. In this case, when the copolymerization ratio of the monofunctional monomer (b2) is less than 5% by weight, the solubility in the alkaline developer of the obtained radiation-sensitive composition tends to decrease, and when it exceeds 50% by weight, the pixels formed during development by the alkaline developer are It tends to fall off the substrate or to roughen the pixel surface film. The copolymer (B1) containing the monofunctional monomer (b2) together with the monofunctional monomer (b1) at the above specific copolymerization ratio has excellent solubility in an alkali developer, and the radiation-sensitive composition using the copolymer as a binder is After the development by the alkaline developer, undissolved matters remain very little, and residues, ground contamination, etc. are less likely to occur on the unexposed part substrate or the light shielding layer, and the pixels obtained from the composition are not excessively dissolved in the alkaline developer, It is excellent in adhesiveness with respect to a board | substrate, and there exists no possibility of falling out of a board | substrate.

상기 공중합체(B1)은 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.The said copolymer (B1) can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명에서는 경우에 따라 상기 공중합체(B1)과 함께 다른 알칼리 가용성 수지를 병용할 수도 있다.In this invention, another alkali-soluble resin can also be used together with the said copolymer (B1) as needed.

상기 다른 알칼리 가용성 수지로서는 예를 들어 카르복실기, 페놀성 수산기 등의 산성 관능기를 갖는 수지를 들 수 있다.As said other alkali-soluble resin, resin which has acidic functional groups, such as a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group, is mentioned, for example.

이러한 다른 알칼리 가용성 수지로서는 카르복실기를 갖는 수지가 바람직하다. 또한, 바람직하게는 공중합체(B1)에 대하여 예시한 단관능성 단량체(b2)와 상 기 다른 단관능성 단량체와의 공중합체로, 특히 아크릴산 및(또는) 메타크릴산 및 경우에 따라 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 및(또는) ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트를 함유하는 단관능성 단량체(b2)와, 스티렌, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 매크로 모노머 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물과의 공중합체(이하, "알칼리 가용성 수지(II)"라고 한다)가 바람직하다.As such other alkali-soluble resin, resin which has a carboxyl group is preferable. Furthermore, preferably a copolymer of the monofunctional monomer (b2) exemplified for the copolymer (B1) with the other monofunctional monomers, in particular acrylic acid and / or methacrylic acid and optionally ω-carboxypoly Monofunctional monomer (b2) containing caprolactone monoacrylate and / or ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2 Hydroxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macro monomers and polymethylmeth Copolymer with at least one compound selected from the group consisting of acrylate macromonomers (hereinafter referred to as " alkali soluble resin (II) " Is preferred.

알칼리 가용성 수지(II)의 구체예로서는 As a specific example of alkali-soluble resin (II)

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로 모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)크릴산/스티렌/벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) crylic acid / styrene / benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트/스티렌/알릴(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메타)아크릴산/스티렌/벤질메타크릴레이트/글리세롤(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다.(Meth) acrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, etc. are mentioned.

이들 알칼리 가용성 수지(II)는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These alkali-soluble resins (II) can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 다른 알칼리 가용성 수지를 사용할 때의 이 수지의 사용량은, 알칼리 가용성 수지의 합계량에 대하여 바람직하게는 50 중량% 이하, 보다 바람직하게는 30 중량% 이하이다. 이 경우, 다른 알칼리 가용성 수지의 사용량이 50 중량%를 넘으면 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 잔사, 바탕 오염 등이 발생하기 쉬운 경향이 있다.The usage-amount of this resin at the time of using the said other alkali-soluble resin becomes like this. Preferably it is 50 weight% or less, More preferably, it is 30 weight% or less with respect to the total amount of alkali-soluble resin. In this case, when the usage-amount of other alkali-soluble resin exceeds 50 weight%, there exists a tendency for residue, background contamination, etc. to occur easily on the board | substrate or light shielding layer of an unexposed part.

본 발명의 알칼리 가용성 수지는 공중합체(B1)을 필수 성분으로서 포함하는 것인데, 이 알칼리 가용성 수지를 구성하는 각 성분의 겔 투과 크로마토그래피 (GPC; 용출 용매-테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, 간단히 "중량 평균 분자량"이라고 한다)은 바람직하게는 3,000 내지 300,000, 특히 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다. 이러한 특정한 중량 평균 분자량을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써 현상성이 우수한 감방사선성 조성물을 얻을 수 있고, 그에 따라 샤프한 패턴 엣지를 갖는 화소를 형성할 수 있음과 동시에 현상시에 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 잔사, 바탕 오염, 막 잔류 등이 좀처럼 발생하지 않는다. 본 발명의 알칼리 가용성 수지의 사용량은 (A)착색제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 내지 1,000 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 500 중량부이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만에서는 예를 들어 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 잔사, 바탕 오염 등이 발생할 우려가 있고, 한편 1000 중량부를 넘으면 상대적으로 착색제 농도가 저하되기 때문에 박막으로서 목적하는 색 농도를 달성하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.Alkali-soluble resin of this invention contains copolymer (B1) as an essential component, The polystyrene conversion weight measured by the gel permeation chromatography (GPC; elution solvent-tetrahydrofuran) of each component which comprises this alkali-soluble resin. The average molecular weight (hereinafter simply referred to as "weight average molecular weight") is preferably 3,000 to 300,000, particularly preferably 5,000 to 100,000. By using an alkali-soluble resin having such a specific weight average molecular weight, a radiation-sensitive composition excellent in developability can be obtained, whereby a pixel having a sharp pattern edge can be formed, and at the same time, on the substrate of the unexposed portion or at the time of development, Residues, background contamination, and film residues rarely occur on the light shielding layer. The use amount of the alkali-soluble resin of the present invention is preferably 10 to 1,000 parts by weight, more preferably 20 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) coloring agent. In this case, when the usage-amount of alkali-soluble resin is less than 10 weight part, alkali developability may fall, for example, residue or ground contamination may arise on the board | substrate or light-shielding layer of an unexposed part, and when it exceeds 1000 weight part, Therefore, since a coloring agent density | concentration falls, it may become difficult to achieve target color density as a thin film.

(C) 다관능성 단량체(C) polyfunctional monomer

본 발명의 다관능성 단량체는 중합성 불포화 결합을 2개 이상 갖는 단량체로, 그 예로서는 The polyfunctional monomer of the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류;Diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;

폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류;Diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트류 및 그들의 디카르복실산 변성물;Polyacrylates or polymethacrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and dicarboxylic acid modified substances thereof;

폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등의 올리고아크릴레이트 또는 올리고메타크릴레이트류;Oligoacrylates or oligomethacrylates such as polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins and spiran resins;

양말단 히드록시폴리-1,3-부타디엔, 양말단 히드록시폴리이소프렌, 양말단 히드록시폴리카프로락톤 등의 양말단 히드록실화 중합체의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류;Diacrylates or dimethacrylates of sock end hydroxylated polymers such as sock end hydroxypoly-1,3-butadiene, sock end hydroxypolyisoprene and sock end hydroxy polycaprolactone;

트리스(2-아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 트리스(2-메타크릴로일옥시에틸)포스페이트 등을 들 수 있다.Tris (2-acryloyloxyethyl) phosphate, a tris (2-methacryloyl oxyethyl) phosphate, etc. are mentioned.

이들 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트류 및 이들의 디카르복실산 변성물이 바람직하다. 구체적으로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 등이 바람직하다. 특히, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리 아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트가 화소 강도가 높고, 화소 표면의 평활성이 우수하며, 동시에 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 바탕 오염, 막 잔류 등을 발생시키지 않으므로 바람직하다.Among these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modified substances are preferable. Specifically, trimethylol propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate , Dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and the compound represented by the following formula (1) are preferable. In particular, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high pixel intensity, excellent smoothness of the pixel surface, and at the same time, background contamination and film residue on the unexposed substrate or the light shielding layer. It is preferable because it does not occur.

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상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.The said polyfunctional monomer can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 본 발명에서는 경우에 따라 상기 다관능성 단량체와 함께 단관능성 단량체를 병용할 수도 있다.Moreover, in this invention, you may use together a monofunctional monomer with the said polyfunctional monomer as needed.

이러한 단관능성 단량체의 구체예로서는 공중합체(B1)에 대해서 예시한 단관능성 단량체(b2) 및 상기 다른 단관능성 단량체 외에 시판품으로서 M-5400, M-5600(상품명, 도아 고세이(주) 제품) 등을 들 수 있다.Specific examples of such monofunctional monomers include M-5400 and M-5600 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as commercially available products other than the monofunctional monomer (b2) exemplified for the copolymer (B1) and the other monofunctional monomers. Can be mentioned.

이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.These monofunctional monomers can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 단관능성 단량체의 사용 비율은 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계에 대하여 바람직하게는 90 중량% 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 50 중량%이다. 이 경우, 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량%를 넘으면 얻어지는 화소의 강도 및 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다.The use ratio of the monofunctional monomer is preferably 90% by weight or less, and more preferably 0 to 50% by weight, based on the sum of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of monofunctional monomer exceeds 90 weight%, there exists a possibility that the intensity and surface smoothness of the pixel obtained may become inadequate.

본 발명의 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 사용량은 (B)알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대하여 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하 게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 상기 사용량이 5 중량부 미만에서는 화소의 강도 및 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 넘으면 예를 들어, 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 바탕 오염, 막 잔류 등이 발생하기 쉬운 경향이 있다.The total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer of the present invention is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the (B) alkali-soluble resin. In this case, when the amount of use is less than 5 parts by weight, the intensity and surface smoothness of the pixel tends to be lowered. On the other hand, when the amount is more than 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered, or on the substrate or light shielding layer of the unexposed part. There is a tendency for contamination, film residue and the like to occur easily.

(D) 광중합 개시제(D) photoinitiator

본 발명의 광중합 개시제란 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 노광에 의해 분해 또는 결합 균열을 일으키고, 라디칼, 양이온, 음이온 등의 상기 (C) 다관능성 단량체 중합을 개시할 수 있는 활성 종을 발생하는 화합물을 의미한다.The photoinitiator of the present invention is capable of causing decomposition or bond cracking by exposure to visible light, ultraviolet light, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, etc., and initiating polymerization of the (C) polyfunctional monomers such as radicals, cations, and anions. It means a compound which generates an active species.

이러한 광중합 개시제로서는 하기 화학식 2, 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 주요 골격 중 1종 이상의 골격 구조를 갖는 비이미다졸계 화합물 외에 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 트리아진계 화합물, 인계 화합물 등을 들 수 있다.As such a photoinitiator, in addition to the biimidazole type compound which has at least 1 sort (s) of skeletal structure in the main skeleton represented by following formula (2), (3) or (4), a benzoin type compound, acetophenone type compound, benzophenone type compound, and (alpha)-diketone type A compound, a polynuclear quinone type compound, a xanthone type compound, a triazine type compound, a phosphorus type compound etc. are mentioned.

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상기 비이미다졸계 화합물의 구체예로서는, 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스 (2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5, 5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.Specific examples of the biimidazole-based compound include 2,2-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-ratio Imidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2, 2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichloro Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4', 5,5 ' -Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'- Biimidazole etc. are mentioned.

상기 비이미다졸계 화합물은 용제에 대한 용해성이 우수하고, 미용해물, 석출물 등의 이물질을 발생시키지 않으며 감도가 높고, 적은 에너지량의 노광에 의해 경화 반응을 충분히 진행시킴과 동시에 콘트라스트가 높고 미노광부에서 경화 반응이 발생하지 않기 때문에 노광 후의 도막은 현상액에 대하여 불활성의 경화 부분과, 현상액에 대하여 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확하게 구분되어 이에 따라 언더 커트가 없는 화소 패턴이 소정 배열에 따라 배치된 고정밀한 화소 어레이를 형성할 수 있다.The biimidazole-based compound is excellent in solubility in solvents, does not generate foreign matters such as undissolved seafood, precipitates, and the like, and has high sensitivity, and sufficiently proceeds the curing reaction by exposure of a small amount of energy. Since no hardening reaction occurs at, the coated film after exposure is clearly divided into an inert hardened part with respect to the developer and an uncured part having high solubility with the developer, thereby arranging pixel patterns without undercuts according to a predetermined arrangement. The highly precise pixel array can be formed.

또한, 상기 벤조인계 화합물의 구체예로서는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인i-프로필에테르, 벤조인i-부틸에테르, 메틸-2-벤조일벤조에이트 등을 들 수 있다.Moreover, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin i-propyl ether, benzoin i-butyl ether, methyl-2-benzoyl benzoate etc. are mentioned as a specific example of the said benzoin type compound.

상기 아세토페논계 화합물의 구체예로서는 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로 판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.Specific examples of the acetophenone-based compound include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1- (4-i-propylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2 Diethoxyacetophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino Phenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, and the like.

상기 벤조페논계 화합물의 구체예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.As a specific example of the said benzophenone type compound, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc. are mentioned.

상기 α-디케톤계 화합물의 구체예로서는 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the α-diketone compound include diacetyl, dibenzoyl, methylbenzoyl formate, and the like.

상기 다핵 퀴논계 화합물의 구체예로서는 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다.Specific examples of the multinuclear quinone compound include anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone and the like.

상기 크산톤계 화합물의 구체예로서는 크산톤, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등을 들 수 있다.Specific examples of the xanthone compound include xanthone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 구체예로서는, 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-메톡시페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-(2'-푸릴에틸리덴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클 로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2'-브로모-4'-메틸페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2'-티오페닐에틸리덴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Specific examples of the triazine-based compound include 1,3,5-tris (trichloromethyl) -s-triazine and 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) -s-tri Azine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-chlorophenyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-methoxyphenyl)- s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2- (2'-furylethylidene) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxysty Reyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( 2'-bromo-4'-methylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2'-thiophenylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl ) -s-triazine and the like.

상기 인계 화합물로서는 루실린 등, 또한 상품명으로 IRGANOX 1700, 동 819(이상 시바·스페셜·케미칼즈(주) 제품)를 들 수 있다.As said phosphorus compound, IRGANOX 1700 and copper 819 (above Ciba special Chemicals Co., Ltd. product) are mentioned by brand names, such as rucillin.

이들 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다. These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 광중합 개시제의 사용량은 (C) 다관능성 단량체와 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 200 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 120 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 100 중량부이다. 이 경우, 광중합 개시제의 사용량이 0.01 중량부 미만에서는 노광에 의한 경화가 불충분해져 화소 패턴이 소정의 배열에 따라서 배치된 화소 어레이를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 200 중량부를 넘으면 형성된 화소가 현상시 기판에서 탈락하기 쉽고, 또한 미노광부의 기판상 또는 차광층상에 바탕 오염, 막 잔류 등이 발생하기 쉽다.The amount of the photopolymerization initiator used in the present invention is preferably 0.01 to 200 parts by weight, more preferably 1 to 120 parts by weight, especially based on 100 parts by weight of the total amount of the (C) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer used in some cases. Preferably it is 1-100 weight part. In this case, when the amount of the photopolymerization initiator used is less than 0.01 part by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which the pixel pattern is arranged in accordance with a predetermined arrangement. It is easy to drop off from the substrate, and background contamination, film residue, etc. are likely to occur on the substrate or the light shielding layer of the unexposed part.

또한, 본 발명에서는 상기 광중합 개시제와 함께 필요에 따라서 증감제, 경화 촉진제 또는 고분자 광가교·증감제의 1종 이상을 병용할 수도 있다.Moreover, in this invention, you may use together the said photoinitiator together with 1 or more types of a sensitizer, a hardening accelerator, or a polymer photocrosslinking and sensitizer as needed.

본 발명에서 광중합 개시제로서 특히 비이미다졸계 화합물과 아세토페논계 화합물 및(또는) 벤조페논계 화합물을 조합하여 사용하는 것은 형성된 화소가 현상시에 기판에서 좀처럼 탈락하지 않고, 화소 강도 및 감도가 높기 때문에 바람직하다.In the present invention, the use of a combination of a biimidazole-based compound, an acetophenone-based compound, and / or a benzophenone-based compound as a photopolymerization initiator in the present invention does not drop off the substrate during development, resulting in high pixel intensity and sensitivity. It is preferable because of that.

본 발명에서 광중합 개시제로서 비이미다졸계 화합물과 다른 성분을 병용하는 경우, 다른 성분의 사용 비율은 광중합 개시제 전체의 80 중량% 이하인 것이 바람직하다.When using a biimidazole type compound and another component together as a photoinitiator in this invention, it is preferable that the use ratio of another component is 80 weight% or less of the whole photoinitiator.

여기에서, 본 발명의 특히 바람직한 광중합 개시제를 그 구성 성분의 조합으로서 나타내면 하기의 것을 들 수 있다.Here, when the especially preferable photoinitiator of this invention is shown as a combination of the component, the following are mentioned.

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2' -비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (Diethylamino) benzophenone,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2' -비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논/2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (Diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2' -비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논/1-히드록시시클로헥실페닐케톤,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (Diethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논,2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone ,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논/2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온,2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one,

2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논/2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온,2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) Benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one,

2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논/1-히드록시시클로헥실페닐케톤.2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) Benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenylketone.

<첨가제><Additive>

본 발명의 칼라 필터용 감방사선성 조성물은 필요에 따라서 여러 가지 첨가제를 함유할 수도 있다.The radiation sensitive composition for color filters of this invention may contain various additives as needed.

상기 첨가제로서는 칼라 필터용 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성을 보다 개선하고, 동시에 현상 후의 미용해물의 잔류를 보다 억제하는 작용을 갖는 유기산을 들 수 있다.As said additive, the organic acid which has the effect which further improves the solubility to the alkaline developing solution of the radiation sensitive composition for color filters, and at the same time suppresses the residual of the undissolved matter after image development is mentioned.

이러한 유기산으로서는 분자량이 1,000 이하인 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다.As such organic acid, aliphatic carboxylic acid or phenyl group containing carboxylic acid whose molecular weight is 1,000 or less is preferable.

상기 지방족 카르복실산의 구체예로서는, As a specific example of the said aliphatic carboxylic acid,

포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프론산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 모노카르복실산류;Monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, capronic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, and caprylic acid;

옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디핀산, 피메린산, 스베르산, 아젤라인산, 세바크산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레인산, 푸말산, 메사콘산 등의 디카르복실산류;Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, subric acid, azelaic acid, sebacic acid, brasyl acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methyl succinic acid, tetramethylsuccinic acid Dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid and mesaconic acid;

트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 트리카르복실산류 등을 들 수 있다.Tricarboxylic acids, such as tricarvalic acid, aconitic acid, and camphoronic acid, etc. are mentioned.

또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로서는 카르복실기가 직접 페닐기에 결 합된 방향족 카르복실산 및 카르복실기가 탄소쇄를 개재하고 페닐기에 결합된 카르복실산 등을 들 수 있고, 이들의 구체예로서는 Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include aromatic carboxylic acid in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group, and carboxylic acid in which a carboxyl group is bonded to a phenyl group via a carbon chain, and examples thereof

벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤메리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산류;Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemeric acid, and mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카르복실산류;Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 3가 이상의 방향족 폴리카르복실산류 및Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid and pyromellitic acid;

페닐아세트산, 히드로아트로파산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로파산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠말산, 운벨산 등을 들 수 있다. Phenylacetic acid, hydroatroic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropaic acid, cinnamic acid, cinnamiledic acid, cumalic acid, unbelic acid, and the like.

이들 유기산 중, 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸말산, 메사콘산, 프탈산 등의 지방족 디카르복실산류 및 방향족 디카르복실산류는 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판상 또는 차광층상의 바탕 오염 및 막 잔류 방지 등의 관점에서 바람직하다.Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and phthalic acid are alkali soluble, solubility in a solvent to be described later, and mino It is preferable from the standpoint of preventing the background contamination and film residue on the substrate or the light shielding layer of the miner.

상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다. The said organic acid can be used individually or in combination of 2 or more types.

유기산의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대하여 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다. 이 경우, 유기산의 사용량이 10 중량%를 넘으면 형성된 화소의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.The amount of the organic acid used is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, particularly preferably 1% by weight or less based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, when the usage-amount of an organic acid exceeds 10 weight%, adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed pixel tends to fall.

또한, 상기 유기산 이외의 첨가제의 구체예로서는,Moreover, as a specific example of additives other than the said organic acid,

구리 프탈로시아닌 유도체 등의 청색 안료 유도체 및 황색 안료 유도체 등의 분산 보조제;Dispersion aids such as blue pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives and yellow pigment derivatives;

유리, 알루미나 등의 충전제;Fillers such as glass and alumina;

폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 폴리(플로로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물;Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, and poly (fluoroalkyl acrylates);

2-아미노에탄올 등의 아민류;Amines such as 2-aminoethanol;

비이온계, 양이온계, 음이온계 등의 계면 활성제;Surfactants such as nonionic, cationic and anionic systems;

비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제;Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Adhesion promoters such as hexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane ;

2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제;Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol;

2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제;Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;

폴리아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제;Aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate;

에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 비스아지드 화합물 등의 열 가교제 등을 들 수 있다.Thermal crosslinking agents, such as an epoxy compound, a melamine compound, and a bisazide compound, etc. are mentioned.

<용매><Solvent>

본 발명의 칼라 필터용 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하고, 필요에 따라서 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 바람직하게는 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.Although the radiation sensitive composition for color filters of this invention makes the said (A)-(D) component an essential component, and contains the said additive component as needed, Preferably it mixes a solvent and is manufactured as a liquid composition.

상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분 및 첨가제 성분을 분산 또는 용해하고, 동시에 이들 성분과 반응하지 않고 적당한 휘발성을 갖는 것이면 적절히 선택하여 사용할 수 있다.As said solvent, if (A)-(D) component and additive component which comprise a radiation sensitive composition are disperse | distributed or melt | dissolved, and it does not react with these components simultaneously, and if it has moderate volatility, it can select suitably and can use.

이러한 용매의 구체예로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르,, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모 노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류;Specific examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl ether di. Ethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n -Propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene (Poly) alkylenes such as glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether Glycol monoalkyl ethers;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류;(Poly) alkylenes such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate Glycol monoalkyl ether acetates;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류;Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran;

메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류;Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone;

2-히드록시프로피온산 메틸, 2-히드록시프로피온산 에틸 등의 젖산 알킬에스테르류;Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate;

2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시아세트산 에틸, 히드록시아세트산 에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테르류;Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 Methyl hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, acetic acid n -Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-pyruvate Other esters such as propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate;

톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류;Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다.Amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like.

이들 용매 중, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 관점에서 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메 틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 2-히드록시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 에틸 등이 바람직하다. 상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.Among these solvents, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coating properties, etc. Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3 Methyl-3-methoxybutylpropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, Ethyl pyruvate and the like are preferred. The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한 상기 용매와 함께 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산 벤질, 벤조산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트 등의 고비점 용매를 병용할 수도 있다.  Also benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, capric acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, together with the solvent High boiling point solvents, such as diethyl maleate, (gamma) -butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate, can also be used together.

이들의 고비점 용매 중 γ-부티로락톤 등이 바람직하다.Among these high boiling point solvents, gamma -butyrolactone is preferable.

상기 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다. 용매의 사용량은 특히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서 당해 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 바람직하게는 5 내지 50 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량%가 되는 양이 바람직하다.The high boiling point solvents may be used alone or in combination of two or more thereof. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, From the viewpoint of the applicability | paintability, stability, etc. of the radiation sensitive composition obtained, the total concentration of each component except the solvent of the said composition becomes like this. Preferably it is 5-50 weight%, More preferably, it is 10 The amount is preferably from 40% by weight.

<칼라 필터의 형성 방법><Formation method of the color filter>

이어서, 본 발명의 칼라 필터용 감방사선성 조성물을 사용하여 칼라 필터를 형성하는 방법에 대하여 설명한다.Next, the method to form a color filter using the radiation sensitive composition for color filters of this invention is demonstrated.

우선, 기판 표면상에 필요에 따라서 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층을 형성하고, 이 기판상에 예를 들어 적색 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 프리 베이킹을 행하여 용제를 증발시키고 도막을 형성한다. 이어서, 이 도막에 포토 마스크를 개재하여 방사선을 노광한 후, 알칼리 현상액을 사용하여 현상하고, 도막의 미노광부를 용해 제거한 후, 포스트 베이킹함으로써 적색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 형성한다.First, a light shielding layer is formed on the surface of the substrate so as to partition a portion for forming a pixel as necessary, and a liquid composition of a radiation-sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed is applied onto the substrate, and then prebaking is performed. To evaporate the solvent to form a coating film. Subsequently, after exposing radiation to a coating film through a photo mask, it develops using alkaline developing solution, removes and removes the unexposed part of a coating film, and post-bakes the pixel array in which the red pixel pattern was arrange | positioned in the predetermined | prescribed arrangement. Form.

그 후, 녹색 또는 청색 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 사용하여 상기와 동일하게 하여 각 액상 조성물의 도포, 프리 베이킹, 노광 및 현상을 행한 후, 포스트 베이킹을 행하여 녹색 화소 어레이 및 청색 화소 어레이를 동일 기판상에 순차 형성함으로써 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 어레이가 기판상에 배치된 칼라 필터를 얻는다.Thereafter, the liquid composition of each radiation-sensitive composition in which green or blue pigments are dispersed is applied in the same manner as described above to perform application, prebaking, exposure and development of each liquid composition, and then post-baking to perform green pixel array and By sequentially forming a blue pixel array on the same substrate, a color filter in which pixel arrays of three primary colors of red, green, and blue are arranged on a substrate is obtained.

칼라 필터를 형성할 때 사용되는 기판으로서는 예를 들어, 유리, 실리콘, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 이들 기판에는 목적에 따라서 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착법 등의 적절한 전처리를 행할 수도 있다.As a board | substrate used at the time of forming a color filter, glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, etc. are mentioned, for example. Depending on the purpose, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition, or the like.

감방사성선 조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포 등의 적절한 도포법을 채용할 수 있다.When apply | coating the liquid composition of a radiation sensitive composition to a board | substrate, the appropriate application | coating methods, such as rotational coating, casting | flow_spread coating, roll coating, can be employ | adopted.

도포 두께는 건조 후의 막 두께로서 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 5.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 3.0 ㎛이다.The coating thickness is preferably 0.1 to 10 µm, more preferably 0.2 to 5.0 µm, and particularly preferably 0.2 to 3.0 µm as the film thickness after drying.

칼라 필터를 제작할 때 사용되는 방사선으로서는 예를 들어 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있다. 이들 중, 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다.As a radiation used when producing a color filter, visible light, an ultraviolet-ray, far ultraviolet rays, an electron beam, X-rays, etc. can be used, for example. Of these, radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferred.

방사선의 조사 에너지량은 바람직하게는 1 내지 1,000 mJ/㎠이다. 또, 상기 알칼리 현상액으로서는 예를 들어 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드로옥시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 바람직하다.The amount of irradiation energy of the radiation is preferably 1 to 1,000 mJ / cm 2. As the alkaline developer, for example, sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydrooxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-dia Aqueous solutions, such as xabicyclo- [4.3.0] -5-nonene, are preferable.

상기 알칼리 현상액에는 예를 들어 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제 및 계면 활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다.A suitable amount of water-soluble organic solvents such as methanol and ethanol, surfactants, and the like may be added to the alkaline developer.

현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 침지 현상법, 패들(액 담금) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300초가 바람직하다.As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, an immersion developing method, a paddle (liquid soaking) developing method and the like can be applied. As for image development conditions, 5 to 300 second is preferable at normal temperature.

또한, 알칼리 현상 후에는 통상 물로 세정한다.In addition, after alkali development, it wash | cleans normally with water.

이와 같이 하여 형성된 칼라 필터는 예를 들어 투과형 또는 반사형 칼라 액정 표시 장치, 칼라 촬상관 소자, 칼라 센서 등에 매우 유용하다.The color filter thus formed is very useful, for example, in a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube element, a color sensor, and the like.

이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an Example is given and embodiment of this invention is described further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

<실시예 1><Example 1>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 177을 120 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/벤질메타크릴레이트 /글리세롤모노메타크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체(공중합 중량비 = 15.0/ 10.0/11.2/35.0/10.0/18.8, 중량 평균 분자량 = 20,000) 60 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 40 중량부, (D) 광중합 개시제로서 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10 중량부와 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 10 중량부와 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 50 중량부 및 용매로서 3-에톡시프로피온산 에틸 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(1)을 제조하였다. 액상 조성물(1)의 안료 농도는 전체 고형분의 약 43 중량%였다.120 parts by weight of CI Pigment Red 177 as (A) coloring agent, (B) methacrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate as alkali-soluble resin 60 parts by weight of / N-phenylmaleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15.0 / 10.0 / 11.2 / 35.0 / 10.0 / 18.8, weight average molecular weight = 20,000), (C) dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer, 40 parts by weight (D) 10 parts by weight of 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole as a photopolymerization initiator and 4,4 10 parts by weight of '-bis (diethylamino) benzophenone and 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent 1,000 parts by weight were mixed to prepare a liquid composition (1) of the radiation sensitive composition. The pigment concentration of the liquid composition (1) was about 43% by weight of the total solids.

<칼라 필터의 형성><Formation of color filter>

액상 조성물(1)을 표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성된 소다 유리 기판 표면상에 스핀 코터를 사용하여 도포한 후, 80 ℃에서 10분간 프리 베이킹을 행하여 막 두께 2.0 ㎛의 도막을 형성하였다.After applying the liquid composition (1) using a spin coater on the surface of a soda glass substrate on which a SiO 2 film was formed to prevent elution of sodium ions on the surface, prebaking was performed at 80 ° C. for 10 minutes to form a coating film having a thickness of 2.0 μm. Formed.

그 후, 이 기판을 실온에서 냉각한 후, 고압 수은 램프를 사용하여 포토마스크를 개재하고 도막에 365 nm, 405 nm 및 436 nm의 각 파장을 포함하는 자외선을 100 mJ/㎠의 노광량으로 노광하였다. 이어서, 이 기판을 23 ℃의 0.04 중량% 수산화칼륨 수용액에 1분간 침지하고, 현상한 후 초순수로 세정하고 바람에 건조하였다. 그 후, 230 ℃의 깨끗한 오븐 내에서 30분간 포스트 베이킹을 행하여 기판상에 적색 스트라이프상 칼라 필터를 형성하였다.Subsequently, after cooling the substrate at room temperature, an ultraviolet ray including each wavelength of 365 nm, 405 nm and 436 nm was exposed to the coating film through a photomask using a high pressure mercury lamp at an exposure dose of 100 mJ / cm 2. . Subsequently, this board | substrate was immersed in 23 degreeC 0.04 weight% potassium hydroxide aqueous solution for 1 minute, and after developing, it was wash | cleaned with ultrapure water and dried in air. Thereafter, post-baking was performed in a clean oven at 230 ° C. for 30 minutes to form a red striped color filter on the substrate.

얻어진 칼라 필터를 광학 현미경에 의해 관찰했더니, 미노광부의 기판상에 현상 잔사가 확인되지 않았고, 또한 투광기를 사용하여 관찰했더니 미노광부의 기 판상에 바탕 오염도 확인되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 미노광부의 기판 표면을 에탄올을 포함시킨 트레시(상품명, 도레(주)제 렌즈 크리너)로 10회 문질렀더니 트레시가 적색으로 착색되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 화소와 기판과의 밀착성도 우수하였다.When the obtained color filter was observed by an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed part, and when observed using a light projector, no background contamination was also observed on the substrate of the unexposed part. In addition, when the substrate surface of the unexposed part of this color filter was rubbed 10 times with the trecy (brand name, lens cleaner made by Toray Corporation) containing ethanol, the trecy was not colored red. Moreover, the adhesiveness of the pixel of this color filter and a board | substrate was also excellent.

<실시예 2><Example 2>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 177을 120 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트/벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체(공중합 중량비 = 15.0/ 10.0/11.2/10.0/35.0/18.8, 중량 평균 분자량 = 25,000) 60 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 40 중량부, (D) 광중합 개시제로서 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10 중량부와 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 10 중량부와 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 50 중량부 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(2)를 제조하였다. 액상 조성물(2)의 안료 농도는 전체 고형분의 약 43 중량%였다.120 parts by weight of CI Pigment Red 177 as (A) colorant, (B) methacrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl as alkali-soluble resin Methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer (copolymer weight ratio = 15.0 / 10.0 / 11.2 / 10.0 / 35.0 / 18.8, weight average molecular weight = 25,000) 60 parts by weight, (C) dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer 40 parts by weight of (D) 10 parts by weight of 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole as a photopolymerization initiator; 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 3-in as a solvent 1,000 parts by weight of ethyl oxypropionate was mixed to prepare a liquid composition (2) of the radiation sensitive composition. The pigment concentration of the liquid composition (2) was about 43% by weight of the total solids.

<칼라 필터의 형성><Formation of color filter>

액상 조성물(1) 대신에 액상 조성물(2)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 적색 스트라이프상 칼라 필터를 형성하였다.A red striped color filter was formed in the same manner as in Example 1 except that the liquid composition (2) was used instead of the liquid composition (1).

얻어진 칼라 필터를 광학 현미경에 의해 관찰했더니, 미노광부의 기판상에 현상 잔사가 확인되지 않았고, 또 투광기를 사용하여 관찰했더니 미노광부의 기판 상에 바탕 오염도 확인되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 미노광부의 기판 표면을 에탄올을 포함시킨 트레시로 10회 문질렀더니 트레시가 적색으로 착색되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 화소와 기판과의 밀착성도 우수하였다.When the obtained color filter was observed with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed part, and when observed using a light projector, no background contamination was also observed on the substrate of the unexposed part. In addition, when the substrate surface of the unexposed part of the color filter was rubbed ten times with a trash containing ethanol, the trash was not colored in red. Moreover, the adhesiveness of the pixel of this color filter and a board | substrate was also excellent.

<실시예 3><Example 3>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 그린 36을 110 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)/벤질메타크릴레이트/글리세롤모노메타크릴레이트 공중합체(공중합 중량비 = 15.0/10.0/60.0/15.0, 중량 평균 분자량 = 30,000) 60 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 40 중량부, (D) 광중합 개시제로서 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10 중량부와 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 10 중량부와 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 50 중량부 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(3)을 제조하였다. 액상 조성물(3)의 안료 농도는 전체 고형분의 약 41 중량%였다.110 parts by weight of CI Pigment Green 36 as (A) colorant, (B) methacrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer as alkali-soluble resin (Copolymerization weight ratio = 15.0 / 10.0 / 60.0 / 15.0, weight average molecular weight = 30,000) 60 weight part, (C) 40 weight part of dipentaerythritol hexaacrylates as a polyfunctional monomer, (D) 2,2'- as a photoinitiator 10 parts by weight of bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone Part and 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 1,000 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent are mixed and the liquid composition of the radiation-sensitive composition (3) was prepared. The pigment concentration of the liquid composition (3) was about 41% by weight of the total solids.

<칼라 필터의 형성><Formation of color filter>

액상 조성물(1) 대신에 액상 조성물(3)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 녹색 스트라이프상 칼라 필터를 형성하였다.The green stripe-like color filter was formed like Example 1 except having used the liquid composition (3) instead of the liquid composition (1).

얻어진 칼라 필터를 광학 현미경에 의해 관찰했더니, 미노광부의 기판상에 현상 잔사가 확인되지 않았고, 또 투광기를 사용하여 관찰했더니 미노광부의 기판상에 바탕 오염도 확인되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 미노광부의 기판 표면 을 에탄올을 포함시킨 트레시로 10회 문질렀더니 트레시가 녹색으로 착색되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 화소와 기판과의 밀착성도 우수하였다.When the obtained color filter was observed with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed part, and when observed using a light projector, no background contamination was also observed on the substrate of the unexposed part. In addition, when the substrate surface of the unexposed part of the color filter was rubbed ten times with a trash containing ethanol, the trash was not colored green. Moreover, the adhesiveness of the pixel of this color filter and a board | substrate was also excellent.

<실시예 4><Example 4>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 블루 15:6을 100 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트/벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체(공중합 중량비 = 15.0/10.0/11.2/10.0/35.0/18.8, 중량 평균 분자량=35,000) 60 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 40 중량부, (D) 광중합 개시제로서 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10 중량부와 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 10 중량부와 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 50 중량부 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물(4)를 제조하였다. 액상 조성물(4)의 안료 농도는 전체 고형분의 약 38 중량%였다.(A) 100 parts by weight of CI pigment blue 15: 6 as a colorant, (B) methacrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate as alkali-soluble resin / Benzyl methacrylate / N-phenylmaleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15.0 / 10.0 / 11.2 / 10.0 / 35.0 / 18.8, weight average molecular weight = 35,000) 60 parts by weight, (C) dipentaerythritol hexa as polyfunctional monomer 40 parts by weight of acrylate, (D) 10 parts by weight of 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole as photopolymerization initiator 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 3 as a solvent -1,000 parts by weight of ethyl ethoxypropionate was mixed to prepare a liquid composition (4) of the radiation sensitive composition. The pigment concentration of the liquid composition 4 was about 38% by weight of the total solids.

<칼라 필터의 형성><Formation of color filter>

액상 조성물(1) 대신에 액상 조성물(4)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 청색 스트라이프상 칼라 필터를 형성하였다.A blue striped color filter was formed in the same manner as in Example 1 except that the liquid composition (4) was used instead of the liquid composition (1).

얻어진 칼라 필터를 광학 현미경에 의해 관찰했더니, 미노광부의 기판상에 현상 잔사가 확인되지 않았고, 또 투광기를 사용하여 관찰했더니 미노광부의 기판상에 바탕 오염도 확인되지 않았다. 또한, 이 칼라 필터의 미노광부의 기판 표면을 에탄올을 포함시킨 트레시로 10회 문질렀더니 트레시가 청색으로 착색되지 않았 다. 또한, 이 칼라 필터의 화소와 기판과의 밀착성도 우수하였다.When the obtained color filter was observed with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed part, and when observed using a light projector, no background contamination was also observed on the substrate of the unexposed part. Further, the substrate surface of the unexposed portion of the color filter was rubbed ten times with a trash containing ethanol, and the trash was not colored in blue. Moreover, the adhesiveness of the pixel of this color filter and a board | substrate was also excellent.

<비교예 1>Comparative Example 1

실시예 1의 (B)알칼리 가용성 수지 60 중량부 대신에 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/2-히드록시에틸메타크릴레이트/벤질메타크릴레이트 공중합체(공중합 중량비 = 15/15/70, 중량 평균 분자량 = 28,000) 60 중량부를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 제조하고, 기판상에 적색 스트라이프상 칼라 필터를 형성하였다.Methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate copolymer (copolymer weight ratio = 15/15/70, weight average as alkali-soluble resin instead of 60 weight part of alkali-soluble resins of Example 1) Molecular weight = 28,000) The liquid composition of a radiation sensitive composition was produced like Example 1 except having used 60 weight part, and the red striped color filter was formed on the board | substrate.

얻어진 칼라 필터를 광학 현미경에 의해 관찰했더니, 미노광부의 기판상에 잔사가 확인되었고, 또한 투광기를 사용하여 관찰했더니 미노광부의 기판상에 바탕 오염도 확인되었다. 또한, 이 칼라 필터의 미노광부의 기판 표면을 에탄올을 포함시킨 트레시로 10회 문질렀더니 트레시가 적색으로 착색되었다.When the obtained color filter was observed by the optical microscope, the residue was confirmed on the board | substrate of the unexposed part, and the background contamination was also confirmed on the board | substrate of the unexposed part when it observed using the light projector. Further, the substrate surface of the unexposed portion of the color filter was rubbed ten times with a trash containing ethanol, and the trash colored red.

이상과 같이, 본 발명의 칼라 필터용 감방사선성 조성물은 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 우수한 현상성을 나타내고, 현상시에 미노광부의 기판상 및 차광층상에 잔사 및 바탕 오염을 발생시키지 않고, 동시에 기판 및 차광층에 대한 밀착성이 우수한 화소를 제공할 수 있다.As mentioned above, the radiation sensitive composition for color filters of this invention shows the outstanding developability even when it contains a pigment in high concentration, and does not generate | occur | produce residue and ground contamination on the board | substrate and light shielding layer of an unexposed part at the time of image development, At the same time, a pixel excellent in adhesion to the substrate and the light shielding layer can be provided.

따라서, 본 발명의 칼라 필터용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야의 칼라 액정 표시 장치용 칼라 필터를 비롯한 각종 칼라 필터 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다.Therefore, the radiation sensitive composition for color filters of this invention can be used very favorably for manufacture of various color filters including the color filter for color liquid crystal display devices of the electronic industry.

Claims (12)

(A) 착색제, (B) 디카르복실산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 디카르복실산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체, 및 이 단량체와 공중합 가능한 다른 단관능성 단량체의 공중합체를 함유하여 이루어지는 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물.At least one monomer selected from the group consisting of (A) a colorant, (B) dicarboxylic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and dicarboxylic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and The radiation-sensitive composition for color filters containing alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer, and (D) photoinitiator containing the copolymer of the other monofunctional monomer copolymerizable with this monomer. 제1항에 있어서, 디카르복실산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 디카르복실산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)의 디카르복실산이 탄소수 2 내지 20의 지방족 디카르복실산, 탄소수 7 내지 24의 지환족 디카르복실산 또는 탄소수 8 내지 14의 방향족 디카르복실산인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The dicarboxylic acid of claim 1, wherein the dicarboxylic acid of dicarboxylic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and dicarboxylic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) is an aliphatic dicarboxyl having 2 to 20 carbon atoms. The radiation sensitive composition for color filters which is an acid, a C7-C24 alicyclic dicarboxylic acid, or a C8-C14 aromatic dicarboxylic acid. 제2항에 있어서, 상기 디카르복실산이 탄소수 2 내지 8의 지방족 디카르복실산인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 2 whose said dicarboxylic acid is C2-C8 aliphatic dicarboxylic acid. 제3항에 있어서, 지방족 디카르복실산이 숙신산인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 3 whose aliphatic dicarboxylic acid is succinic acid. 제1항에 있어서, 상기 다른 단관능성 단량체가 분자 내에 카르복실기를 갖는 단량체로서, 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 디카르복실산 무수물, 3가 이상의 다가 불포화카르복실산, 3가 이상의 다가 불포화 카르복실산 무수물, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 및 ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물로 이루어지는 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The monomer of claim 1, wherein the other monofunctional monomer is a monomer having a carboxyl group in a molecule, and includes unsaturated monocarboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid anhydride, trivalent or higher polyvalent unsaturated carboxylic acid, and trivalent. The radiation sensitive composition for color filters which consists of at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of the above polyunsaturated carboxylic anhydride, (omega) -carboxypolycaprolactone monoacrylate, and (omega) -carboxypolycaprolactone monomethacrylate. 제1항에 있어서, 상기 다른 단관능성 단량체가 불포화 모노카르복실산이고, 불포화 모노카르복실산이 아크릴산 또는 메타크릴산인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 whose said other monofunctional monomer is unsaturated monocarboxylic acid, and unsaturated monocarboxylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. 제1항에 있어서, 상기 다른 단관능성 단량체가 분자 내에 카르복실기를 갖지 않는 단량체로서, 불포화 카르복실산 에스테르 또는 불포화 이미드인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 whose said other monofunctional monomer is a monomer which does not have a carboxyl group in a molecule | numerator, and is unsaturated carboxylic ester or unsaturated imide. 제7항에 있어서, 상기 불포화 카르복실산 에스테르가 벤질아크릴레이트 또는 벤질메타크릴레이트이고, 불포화 이미드가 N-치환 말레이미드인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 7 whose said unsaturated carboxylic acid ester is benzyl acrylate or benzyl methacrylate, and unsaturated imide is N-substituted maleimide. 제1항에 있어서, 다관능성 단량체가 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스 리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The polyfunctional monomer according to claim 1, wherein the polyfunctional monomer is trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacryl. At least one compound selected from the group consisting of latex, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and the compound represented by the following general formula (1): Radiation-sensitive composition for color filters. <화학식 1><Formula 1>
Figure 111999008932822-pat00005
Figure 111999008932822-pat00005
제1항에 있어서, (A) 착색제 100 중량부에 대하여 (B) 알칼리 가용성 수지를 10 내지 1,000 중량부로 함유하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 containing 10-1,000 weight part of (B) alkali-soluble resin with respect to 100 weight part of (A) coloring agents. 제1항에 있어서, (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부 당 (C) 다관능성 단량체를 5 내지 500 중량부 함유하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 which contains 5-500 weight part of (C) polyfunctional monomers per 100 weight part of (B) alkali-soluble resin. 제1항에 있어서, (C) 다관능성 단량체 100 중량부 당 (D) 광중합 개시제를 0.01 내지 200 중량부 함유하는 칼라 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 containing 0.01-200 weight part of (D) photoinitiators per 100 weight part of (C) polyfunctional monomers.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001272524A (en) * 2000-03-24 2001-10-05 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display device
JP2002258027A (en) * 2001-02-28 2002-09-11 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter and method of manufacturing the same, color filter and color liquid crystal display element
JP2003002924A (en) * 2001-06-19 2003-01-08 Hitachi Chem Co Ltd Alkali-soluble acrylic resin composition, photosensitive transparent insulating film-forming material, method for manufacturing color filter protection membrane, method for manufacturing reflective base layer, colored image-forming material, method for manufacturing color filter and color filter
JP4775535B2 (en) * 2004-01-21 2011-09-21 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition for color filter defect repair and color filter defect repair method
JP5523642B1 (en) * 2013-07-26 2014-06-18 太陽インキ製造株式会社 Photocurable composition for producing printed wiring board, cured product thereof and printed wiring board
TWI675907B (en) 2015-01-21 2019-11-01 日商Jsr股份有限公司 Solid imaging device
US10272426B2 (en) 2015-04-21 2019-04-30 Jsr Corporation Method of producing microfluidic device, microfluidic device, and photosensitive resin composition
EP3147335A1 (en) 2015-09-23 2017-03-29 BYK-Chemie GmbH Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number
KR102348810B1 (en) * 2015-10-01 2022-01-07 동우 화인켐 주식회사 A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
CN111344319B (en) 2017-11-15 2022-12-23 毕克化学有限公司 Block copolymer
US20200347171A1 (en) 2017-11-15 2020-11-05 Byk-Chemie Gmbh Block co-polymer
JP7338051B2 (en) 2019-09-27 2023-09-04 アルタナ アクチェンゲゼルシャフト Composition for preparing color filters

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5368976A (en) * 1992-03-27 1994-11-29 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
JPH08114917A (en) * 1994-09-30 1996-05-07 Hercules Inc Liquid resist capable of rorming photographic image
JPH1068814A (en) * 1996-08-26 1998-03-10 Chisso Corp Color filter forming material

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5368976A (en) * 1992-03-27 1994-11-29 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
JPH08114917A (en) * 1994-09-30 1996-05-07 Hercules Inc Liquid resist capable of rorming photographic image
JPH1068814A (en) * 1996-08-26 1998-03-10 Chisso Corp Color filter forming material

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