KR100568837B1

KR100568837B1 - suction unit assembly for flat display panel

Info

Publication number: KR100568837B1
Application number: KR1020040054421A
Authority: KR
Inventors: 박용석
Original assignee: 주식회사 디엠에스
Priority date: 2004-07-13
Filing date: 2004-07-13
Publication date: 2006-04-10
Also published as: JP2006026634A; JP4354434B2; TWI270923B; CN1721092A; TW200603238A; KR20060005577A; CN100551554C

Abstract

평판디스플레이용 기판의 처리시에 기판에 존재하는 세정액과 같은 각종 액체 이물질을 기체와 같은 압력유체의 흐름 분위기에 의한 흡입 작용으로 용이하게 제거할 수 있으며, 특히 액체 이물질의 흡입을 위한 복수개의 펌핑 구간들에 의해 기판의 전체 표면에 대응하는 균일한 흡입 작용이 이루어지므로 흡입 효율 및 흡입 품질 등을 대폭 향상시킬 수 있는 흡입유니트 어셈블리에 관한 것이다.Various liquid foreign substances such as cleaning liquid present on the substrate can be easily removed by the suction action by the flow atmosphere of the pressure fluid such as gas during the processing of the flat panel display substrate, and in particular, a plurality of pumping sections for suction of liquid foreign substances. The present invention relates to a suction unit assembly capable of greatly improving suction efficiency, suction quality, and the like, by performing uniform suction action corresponding to the entire surface of the substrate.

이러한 흡입유니트 어셈블리는, 기체와 같은 압력유체의 흐름 분위기에 의해 흡입 작용이 이루어지는 펌핑 구간을 갖는 복수개의 흡입유로를 통하여 기판에 존재하는 액체 이물질을 용이하게 제거할 수 있는 흡입유니트 어셈블리로서,The suction unit assembly is an suction unit assembly that can easily remove the liquid foreign substances present in the substrate through a plurality of suction passages having a pumping section in which suction is effected by a flow atmosphere of a pressure fluid such as gas,

상기 흡입유로들이 형성되고 기판의 표면측에 대응하여 액체 이물질의 제거를 위한 흡입 작용이 가능하게 위치하는 흡입유니트와, 이 흡입유니트의 흡입유로들에 대응하도록 위치하며 이 유로들을 통하여 액체 이물질을 흡입하기 위한 펌핑력이 작용하도록 상기 압력기체의 흐름을 가이드하는 복수개의 가이드유로가 형성되는 가이드유니트를 포함한다.A suction unit having the suction passages formed thereon, the suction unit being capable of suction operation for removing the liquid foreign substance corresponding to the surface side of the substrate, and positioned to correspond to the suction passages of the suction unit, and sucking the liquid foreign substance through the passages It includes a guide unit is formed a plurality of guide flow paths for guiding the flow of the pressure gas so that the pumping force to act.

평판디스플레이용 기판, 세정액이나 약액 등과 같은 각종 액체 이물질, 압력기체, 복수개의 펌핑 구간을 통한 흡입 작용, 가이드유니트, 흡입유니트, 가이드유로 및 흡입유로, 기판 처리품질 향상Various liquid foreign substances such as substrate for flat panel display, cleaning liquid or chemical liquid, pressure gas, suction action through a plurality of pumping sections, guide unit, suction unit, guide flow path and suction flow path, improve substrate processing quality

Description

Suction unit assembly {suction unit assembly for flat display panel}

도 1은 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 바림직한 설치실시예를 나타내는 전체사시도.1 is a perspective view showing a preferred installation embodiment of the suction unit assembly according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 구조를 설명하기 위한 부분 확대 분해사시도.Figure 2 is an enlarged exploded perspective view for explaining the structure of the suction unit assembly according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 내부 구조를 설명하기 위한 측단면도.Figure 3 is a side cross-sectional view for explaining the internal structure of the suction unit assembly according to the present invention.

도 4는 도 3의 흡입유니트에 형성되는 흡입유로의 배열 구조를 설명하기 위한 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating an arrangement structure of a suction channel formed in the suction unit of FIG. 3.

도 5는 도 4의 흡입유로들의 흡입 작용에 의해 기판에 대응하여 형성되는 흡입영역을 설명하기 위한 평면도.FIG. 5 is a plan view illustrating a suction region formed corresponding to a substrate by the suction action of the suction channels of FIG. 4; FIG.

도 6은 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 잔존 액체 제거를 위한 흡입 작용을 설명하기 위한 결합 단면사시도.Figure 6 is a cross-sectional perspective view for explaining the suction action for removing the remaining liquid of the suction unit assembly according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 다른 설치실시예를 설명하기 위한 사시도이다.7 is a perspective view for explaining another installation embodiment of the suction unit assembly according to the present invention.

본 발명은 흡입유니트 어셈블리에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판에 존재하는 세정액과 같은 각종 액체 이물질을 기체와 같은 압력유체의 흐름 분위기에 의한 흡입 작용으로 용이하게 제거할 수 있으며, 특히 액체 이물질의 흡입을 위한 복수개의 펌핑 구간들에 의해 기판의 전체 표면에 대응하는 균일한 흡입 작용이 이루어지므로 흡입 효율 및 흡입 품질 등을 대폭 향상시킬 수 있는 흡입유니트 어셈블리에 관한 것이다.The present invention relates to a suction unit assembly, and more particularly, it is possible to easily remove various liquid foreign substances such as a cleaning liquid present on a substrate by suction action by a flow atmosphere of a pressure fluid such as a gas, and in particular, suction of liquid foreign substances. The present invention relates to a suction unit assembly capable of significantly improving suction efficiency and suction quality since a uniform suction action corresponding to the entire surface of the substrate is achieved by a plurality of pumping sections.

일반적으로 평판디스플레이 등에 사용되는 기판은 일련의 기판 처리공정 예를들면, 감광제 도포공정, 노광공정, 현상공정, 부식공정, 박리공정 등을 행한 후 세정공정과 건조공정 등을 거치면서 처리된다.In general, a substrate used for a flat panel display or the like is subjected to a series of substrate processing steps, for example, a photoresist coating step, an exposure step, a developing step, a corrosion step, a peeling step, and the like, followed by a cleaning step and a drying step.

상기에서 세정공정은 상기한 이전 공정들에서 기판 처리시에 사용된 화학 약액이나 이물질 등을 기판의 표면에서 제거하기 위한 것으로서, 세정액 등을 기판의 표면측에 일정한 압력으로 분사하여 이와 같은 세정액의 분사 작용에 의해 기판의 표면에 달라붙은 화학 약액이나 이물질 등의 제거가 가능하게 세정하는 것이다.The cleaning process is to remove the chemicals and foreign substances used in the substrate treatment in the previous processes in the surface of the substrate, and the cleaning liquid is sprayed at a constant pressure on the surface side of the substrate to spray such cleaning liquid. By action, it is possible to remove chemicals, foreign substances, etc. adhering to the surface of the substrate.

이때, 세정공정을 거쳐서 세정 처리된 대부분의 기판 표면에는 세정 처리시 사용된 세정액 등과 같은 액체 이물질 즉, 잔존 액체가 묻어 있을 뿐만 아니라, 이러한 잔존 액체 중에는 예를들면, 기판 처리시에 사용된 화학 약액 등과 같은 폐처리액이 함유된 상태일 수 있으므로 세정공정 후 이를 곧바로 제거하지 못하면 기판의 표면에 얼룩이 발생하거나 화학 작용 등에 의해 박막 등이 손상되어 기판의 처리 품질을 저하시키는 한 요인이 된다.At this time, the surface of most substrates cleaned through the cleaning process not only has liquid foreign substances such as the cleaning liquid used in the cleaning process, that is, the remaining liquid, but also the chemical liquids used in the substrate treatment, for example, in the remaining liquid. Since the waste treatment solution may be in a state of being contained, failure to remove it immediately after the cleaning process may cause stains on the surface of the substrate or damage of the thin film due to chemical action, thereby degrading the processing quality of the substrate.

따라서, 상기와 같이 세정영역에서 세정 처리된 기판의 표면에 존재하는 잔존 액체를 제거하기 위하여, 석션(suction) 즉, 공기의 강제 흡입 작용에 의해 제거가 가능한 흡입유니트가 주로 사용된다. 이러한 흡입유니트는 상기 세정공정의 세정 베스 내부에서 세정 구간과 연계되어 설치되거나 상기 세정공정과 건조공정 사이에 별도의 독립된 영역에서 기판의 이송구간에 대응하여 흡입 작용에 의해 잔존 액체의 제거가 가능하도록 설치된다.Therefore, in order to remove the remaining liquid present on the surface of the substrate cleaned in the cleaning area as described above, a suction unit, that is, a suction unit which can be removed by the forced suction action of air, is mainly used. The suction unit may be installed in association with the cleaning section in the cleaning bath of the cleaning process or may remove residual liquid by a suction action corresponding to the transfer section of the substrate in a separate area between the cleaning process and the drying process. Is installed.

상기한 흡입유니트의 일반적인 구조를 간략하게 설명하면, 장방형 모양의 유니트 본체에 잔존 액체를 흡입 제거하기 위한 흡입노즐이 기판의 표면을 향하는 자세를 갖으며 상기 본체의 길이 방향으로 다수개가 이격 설치된다.Briefly describing the general structure of the suction unit, the suction nozzle for suction suction removal of the remaining liquid in the rectangular unit body has a posture toward the surface of the substrate and a plurality of suction nozzles are spaced apart in the longitudinal direction of the main body.

그리고, 상기 흡입노즐들은 기판의 잔존 액체를 제거하기 위한 흡입 작용 즉, 기판 표면측의 공기가 강제로 흡입되면서 이와 같은 작용에 의해 잔존 액체를 빨아들일 수 있는 흡입 분위기가 되도록 예를들면, 공기의 일방향 흐름 및 유도를 위한 단일의 메인 흡입유로 구간과 연통되고, 이 메인 흡입유로는 상기와 같이 흡입노즐을 통한 공기의 강제 흡입이 가능한 단일의 구동장치와 연결된다.For example, the suction nozzles have a suction action for removing residual liquid from the substrate, that is, a suction atmosphere capable of sucking the remaining liquid by this action while forcibly sucking air on the surface of the substrate. In communication with a single main suction flow path section for unidirectional flow and induction, the main suction flow path is connected to a single driving device capable of forced suction of air through the suction nozzle as described above.

즉, 상기와 같은 상태에서 상기 구동장치가 구동하면, 상기 단일의 메인 흡입유로를 통하여 각각의 흡입노즐의 유로들에 흡입 작용을 위한 부하가 걸리면서 외부의 공기가 강제로 흡입되고 이와 같은 공기의 흡입 분위기에 의해 상기 흡입노즐들을 통하여 기판의 잔존 액체를 제거하는 것이다.That is, when the driving device is driven in the above state, external air is forcibly sucked while the load for the suction action is applied to the flow paths of the respective suction nozzles through the single main suction path and the suction of the air is performed. The remaining liquid is removed from the substrate through the suction nozzles by the atmosphere.

그러나, 상기한 종래의 흡입유니트는, 상기 흡입노즐들이 상기 유니트 본체 에서 단일의 메인 흡입유로 구간상에 각각 연결되고, 상기 구동장치의 흡입 구동에 의해 상기 메인 흡입유로 구간을 통하여 각각의 흡입노즐들에 펌핑(pumping)을 위한 부하가 걸리면서 기판의 잔존 액체를 제거하는 구조이므로, 이와 같이 1개의 메인 흡입유로 구간을 통한 흡입 작용으로 이 유로 구간상에 연통된 다수개의 흡입노즐들의 펌핑 작용을 직접 제어하는 구조로는 만족할 만한 흡입력 및 분위기의 형성이 어렵다.However, in the conventional suction unit, the suction nozzles are respectively connected to a single main suction flow path section in the unit body, and the respective suction nozzles through the main suction flow path section by suction driving of the drive device. As it is a structure that removes the remaining liquid from the substrate while a load for pumping is applied, the pumping action of a plurality of suction nozzles connected on this flow path is directly controlled by the suction action through one main suction flow path section. It is difficult to form a satisfactory suction force and atmosphere with the structure.

게다가, 상기한 흡입노즐들은 상기 메인 흡입유로에서 이 메인 흡입유로 구간과 연결된 위치에 따라 서로 다른 흡입 분위기를 갖게 된다. 예를들면, 상기 메인 흡입유로에서 상기 구동장치와 가까운 위치에 연결되는 흡입노즐보다 먼 거리에 위치하는 흡입노즐들에는 흡입 작용을 위한 부하가 상대적으로 작게 작용하는 현상이 발생되며, 이와 같은 현상은 기판의 전체 표면에 대응하여 균일한 흡입 분위기의 형성이 어려울 뿐만 아니라, 이로 인하여 작업능률 및 기판의 처리 품질을 저하시키는 한 요인이 된다.In addition, the suction nozzles have different suction atmospheres according to positions connected to the main suction passage section in the main suction passage. For example, the suction nozzles located at a far distance from the suction nozzles connected to a position close to the driving device in the main suction flow path may have a relatively small load for suction action. Not only is it difficult to form a uniform suction atmosphere corresponding to the entire surface of the substrate, but it is also a factor that lowers work efficiency and processing quality of the substrate.

특히, 상기와 같은 현상은 대면적 기판의 처리시에 기판의 크기가 커지면 이에 대응하여 상기 유니트 본체는 물론이거니와 상기 메인 흡입유로의 구간 길이도 길게 형성되어야 하므로 상기와 같은 불균일한 흡입 분위기가 더욱 심화되어 작업능률 및 작업 호환성 등을 더욱 저하시키는 문제가 있다.In particular, the above phenomenon is that when the size of the substrate increases during processing of a large area substrate, the unit body as well as the section length of the main suction passage should be formed to be long. There is a problem that further lowers work efficiency and work compatibility.

그리고, 상기 종래의 흡입유니트는 상기 단일의 메인 흡입유로와 연결된 흡입노즐들의 유로를 통하여 잔존 액체를 흡입할 때에 예를들면, 기판의 표면에 잔존 액체가 일부 영역에만 부분적으로 묻어있으면 이에 해당하는 위치의 흡입노즐과 잔 존 액체가 없는 곳에 위치하는 흡입노즐 사이에는 서로 다른 흡입 분위기 즉, 잔존 액체가 없는 영역의 흡입노즐들에는 외부의 공기가 그대로 흡입되면서 잔존 액체가 묻어 있는 영역의 흡입노즐보다 부하가 적게 걸리는 현상이 발생되므로 이와 같은 구조로는 만족할 만한 제거 효율 및 능률 등을 얻기에는 한계가 있다.In the conventional suction unit, when the residual liquid is sucked through the flow path of the suction nozzles connected to the single main suction channel, for example, the remaining liquid is partially located on the surface of the substrate. Between the suction nozzle and the suction nozzle located in the absence of residual liquid, the suction nozzles in the different suction atmosphere, that is, the area where no residual liquid is inhaled, are sucked in the outside air, and the load is higher than the suction nozzle in the remaining liquid Since less phenomena occur, such a structure has a limit in obtaining satisfactory removal efficiency and efficiency.

또한, 상기한 흡입노즐들의 유로는 대부분 환상(環狀)의 형태로 이루어지므로 이와 같은 구조는 예를들면, 기판의 표면에서 잔존 액체를 제거할 때에 상기 노즐들에 의해 환상(環狀)의 모양들이 연결된 흡입영역을 갖게되므로 그 구조상 상기 흡입노즐들 사이사이에 균일한 흡입 작용이 이루어지지 못하여 작업 능률 등을 더욱 저하시키는 요인이 된다.In addition, since the passages of the suction nozzles are mostly formed in an annular shape, such a structure is, for example, an annular shape by the nozzles when removing the remaining liquid from the surface of the substrate. Since they have a suction area connected to each other, a uniform suction action may not be achieved between the suction nozzles due to their structure, which further reduces work efficiency.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기체와 같은 압력유체의 일방향 흐름 분위기에 의한 흡입 작용으로 기판의 표면으로부터 액체 이물질 등을 용이하게 제거할 수 있으며, 특히 기판의 전체 표면에 대응하여 균일한 흡입 분위기의 형성이 가능하여 액체 이물질의 제거를 위한 흡입 효율은 물론이거니와 처리 품질 등을 더욱 향상시킬 수 있는 흡입유니트 어셈블리를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is to easily remove the liquid foreign matter and the like from the surface of the substrate by the suction action by the one-way flow atmosphere of the pressure fluid, such as gas In particular, it is possible to form a uniform suction atmosphere corresponding to the entire surface of the substrate to provide a suction unit assembly that can further improve the treatment quality as well as the suction efficiency for removing liquid foreign matter.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 기체와 같은 압력유체의 흐름 분위기에 의해 흡입 작용이 이루어지는 펌핑 구간을 갖는 복수개의 흡입유로를 통하여 기판에 존재하는 액체 이물질을 용이하게 제거할 수 있는 흡입유니트 어셈블리로서,In order to realize the object of the present invention as described above, it is possible to easily remove the liquid foreign matter present on the substrate through a plurality of suction passages having a pumping section in which the suction action is performed by a flow atmosphere of a pressure fluid such as gas. Suction unit assembly,

상기 흡입유로들이 형성되고 기판의 표면측에 대응하여 액체 이물질의 제거 를 위한 흡입 작용이 가능하게 위치하는 흡입유니트와, 이 흡입유니트의 흡입유로들에 대응하도록 위치하며 이 유로들을 통하여 액체 이물질을 흡입하기 위한 펌핑력이 작용하도록 상기 압력기체의 흐름을 가이드하는 복수개의 가이드유로가 형성되는 가이드유니트를 포함하는 흡입유니트 어셈블리를 제공한다.A suction unit having the suction passages formed thereon, the suction unit having a suction action for removing the liquid foreign substance corresponding to the surface side of the substrate, and positioned to correspond to the suction passages of the suction unit, and sucking the liquid foreign substance through the passages It provides a suction unit assembly including a guide unit is formed with a plurality of guide flow paths for guiding the flow of the pressure gas to act to the pumping force to act.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.

도 1, 도 2, 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리는, 기판(G)에 존재하는 잔존 액체(W)의 제거를 위한 펌핑 작용이 가능한 구간을 갖는 복수개의 흡입유로(H1)가 형성되고 기판(G)의 표면측에 대응하여 잔존 액체(W)의 제거를 위한 흡입 작용이 가능하게 위치하는 흡입유니트(2)와, 이 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)들에 대응하도록 위치하고 이 유로(H1)들의 펌핑 구간들을 통하여 잔존 액체(W)를 흡입하기 위한 분위기가 형성되도록 압력기체(A)의 흐름을 가이드하는 가이드유로(H2)가 형성되는 가이드유니트(4)를 포함하며, 본 실시예에서는 기판(G) 처리공정에서 세정을 위한 영역 예를들면, 세정용 베스 내부에서 도 1에서와 같이 기판이송장치(M)를 따라 이동하는 기판(G)의 이동 구간에 대응하여 도면에서와 같은 자세로 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.1, 2, and 3, the suction unit assembly according to the present invention includes a plurality of suction passages H1 having a section in which a pumping action for removing the residual liquid W present in the substrate G is possible. ) Is formed and the suction unit 2 and the suction flow paths H1 of the suction unit 2 which are positioned to enable the suction action for the removal of the remaining liquid W corresponding to the surface side of the substrate G. A guide unit (4) formed so as to correspond to the guide channel (H2) for guiding the flow of the pressure gas (A) to form an atmosphere for sucking the remaining liquid (W) through the pumping sections of the flow path (H1) In the present embodiment, the movement section of the substrate G, which moves along the substrate transfer device M, as shown in FIG. Corresponding to the installation as shown in the drawing as an example Out there.

상기 흡입유니트(2)는, 후술하는 가이드유니트(4)에 의한 압력기체(A)의 일방향 흐름 작용에 의해 기판(G)의 잔존 액체(W)를 흡입 유도하기 위한 것으로서, 도 1에서와 같이 세정영역에서 이송 구간을 따라 이동하는 기판(G)을 가로지르는 방향으로 흡입 영역이 형성되도록 도면에서와 같은 장방형 형태의 구조일 수 있다.The suction unit 2 is for suction-inducing the residual liquid W of the substrate G by the one-way flow action of the pressure gas A by the guide unit 4 described later, as shown in FIG. It may have a rectangular structure as shown in the drawing so that the suction region is formed in the direction crossing the substrate G moving along the transfer section in the cleaning region.

상기 흡입유니트(2) 재질은 예를들면, SUS계열의 금속이거나 엔지니어링 플라스틱과 같은 합성수지 등이 사용될 수 있다.The suction unit 2 may be made of, for example, a SUS-based metal or a synthetic resin such as an engineering plastic.

상기 흡입유니트(2)에는 잔존 액체(W)의 흡입을 유도하기 위한 펌핑 작용이 이루어지는 구간을 갖는 다수개의 흡입유로(H1)가 형성된다. 본 실시예에서는 도 3에서와 같이 상기 흡입유로(H1)들이 상기 흡입유니트(2) 내부에서 후술하는 가이드유니트(4)의 가이드유로(H2)에 대응하여 잔존 액체(W)의 흡입 유도가 가능한 펌핑 구간 즉, 수직유로구간(6a)과 수평유로구간(6b)이 도면에서와 같은 모양으로 연결되면서 뚫려진 것을 일예로 나타내고 있다.The suction unit 2 is provided with a plurality of suction passages H1 having a section in which a pumping action for inducing the residual liquid W is induced. In this embodiment, as shown in FIG. 3, the suction passages H1 may induce suction of the remaining liquid W in response to the guide passage H2 of the guide unit 4 described later in the suction unit 2. For example, the pumping section, that is, the vertical flow path 6a and the horizontal flow path 6b are connected to each other in the shape as shown in the drawing.

그리고, 상기 흡입유로(H1)들은 상기 흡입유니트(2)의 길이방향으로 도 2 및 도 4에서와 같이 다수개가 이격 형성되며, 이때, 흡입유로(H1)들의 이격된 거리는 기판(G)의 크기에 대응하여 전체 표면 영역에 대응하여 균일한 흡입 작용이 이루어지면서 기판(G)을 가로지르는 방향으로 도 5에서와 같은 장방형 모양의 흡입 영역이 형성될 수 있는 범위내로 이루어진다.In addition, a plurality of the suction passages H1 are formed to be spaced apart in the longitudinal direction of the suction unit 2 as shown in FIGS. 2 and 4, wherein the distances of the suction passages H1 are the size of the substrate G. In response to the uniform suction action is made corresponding to the entire surface area, the rectangular suction area as shown in FIG. 5 may be formed in the direction crossing the substrate G.

상기 흡입유니트(2)에는 상기 흡입유로(H1) 즉, 수직유로구간(6a)들의 흡입측이 서로 연통되도록 도 4에서와 같은 유도홈(8)이 형성될 수 있다, 이와 같은 구조는 상기 흡입유로(H1)를 통하여 작용하는 흡입력으로 기판(G)의 잔존 액체(W)를 제거할 때에 상기 유도홈(8)을 통하여 상기 유로(H1)들 사이사이의 영역에도 균일하게 흡입력이 작용하게 되므로 기판(G)의 전체 표면 영역에 대응하여 잔존 액체(W)의 제거를 위한 최적의 흡입영역 및 분위기를 용이하게 형성할 수 있는 구 조가 된다.The suction unit 2 may be formed with an induction groove 8 as shown in FIG. 4 so that the suction side of the suction channel H1, that is, the suction side of the vertical channel sections 6a communicate with each other. When the residual liquid W of the substrate G is removed by the suction force acting through the flow path H1, the suction force is uniformly applied to the area between the flow paths H1 through the guide groove 8. Corresponding to the entire surface area of the substrate G, there is a structure that can easily form an optimal suction area and atmosphere for the removal of the remaining liquid W.

한편, 상기 가이드유니트(4)는 상기 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)를 통하여 잔존 액체(W)의 제거를 위한 흡입 작용이 유발되도록 압력기체(A)의 흐름을 가이드하기 위한 것으로서, 이를 위하여 상기 가이드유니트(4)가 도 2에서와 같이 다수개의 박판(10)들로 이루어지고, 이 박판(10)들에 의해 분할된 구간들이 연결되면서 압력기체(A)의 흐름을 가이드하기 위한 가이드유로(H1)가 도 3에서와 같은 모양으로 형성된 구조일 수 있다.On the other hand, the guide unit 4 is for guiding the flow of the pressure gas (A) so that the suction action for the removal of the remaining liquid (W) is induced through the suction flow path (H1) of the suction unit (2), To this end, the guide unit 4 is composed of a plurality of thin plates 10 as shown in FIG. 2, and the sections divided by the thin plates 10 are connected to guide the flow of the pressure gas A. The guide passage H1 may have a structure formed in the shape as shown in FIG. 3.

이때, 상기 압력기체(A)는 일체의 이물질 등이 함유되지 않은 상태의 순수 기체나 기판(G)의 세정 등에 사용되는 CDA(CLEAN DRY AIR) 등이 사용될 수 있고, 이 압력기체(A)는 도 2를 기준으로 할 때에 상기 가이드유니트(4)를 사이에 두고 상기 흡입유니트(2)와 마주하는 반대편측에 위치하는 기체공급유니트(12)를 통하여 공급되는 구조일 수 있다.At this time, the pressure gas (A) may be used, such as CDA (CLEAN DRY AIR) used to clean the pure gas or the substrate (G) in the state that does not contain any foreign substances, etc., the pressure gas (A) 2 may be a structure that is supplied through the gas supply unit 12 located on the opposite side facing the suction unit 2 with the guide unit 4 therebetween.

상기 기체공급유니트(12)는 상기 가이드유니트(4)에 대응하는 장방형 모양의 박스 형태로 이루어지고 내부에는 압력기체(A)가 흐르기 위한 공급유로(H3)가 외부의 공급관(P1)과 연결되어 이 관(P1)으로부터 압력기체(A)를 공급받아서 상기 공급유로(H3)의 구간을 통하여 상기 각각의 가이드유로(H2)측에 균일하게 공급되도록 이루어진다.The gas supply unit 12 is formed in the shape of a rectangular box corresponding to the guide unit 4 and the supply passage H3 for the pressure gas A to flow therein is connected to an external supply pipe P1. The pressure gas A is supplied from the pipe P1 and uniformly supplied to the respective guide flow paths H2 through the section of the supply flow path H3.

상기 가이드유니트(4) 즉, 박판(10)들은 상기 흡입유니트(2)에 대응하는 장방형 모양으로 이루어지며, 압력기체(A)가 가이드되면서 흐르기 위한 가이드유로(H1)의 분할된 유로 구간을 제공하는 유로홈(14)들이 도 2에서와 같이 이격 형성된다. 이때, 상기 유로홈(14)들은 도 4에서와 같이 상기 흡입유니트(2)에 이격 형성되는 각각의 흡입유로(H1)들에 대응하여 원활한 흡입 작용의 유도가 가능한 위치에 형성된다.The guide unit 4, that is, the thin plates 10 has a rectangular shape corresponding to the suction unit 2, and provides a divided flow path section of the guide flow path H1 for flowing while the pressure gas A is guided. The flow path grooves 14 are spaced apart as shown in FIG. At this time, the flow path grooves 14 are formed at positions capable of inducing a smooth suction action corresponding to the respective suction flow paths H1 formed in the suction unit 2, as shown in FIG. 4.

상기한 구조의 유로홈(14)들은 상기 박판(10)들의 결합에 의해 분할된 구간들이 연결되면서 압력기체(A)의 일방향 흐름에 의해 상기 흡입유니트(2)측에서 잔존 액체(W)의 제거를 위한 흡입 작용 및 분위기의 형성이 가능한 구조의 가이드유로(H2) 구간을 형성한다. 이를 위하여 본 실시예에서는 도 2를 기준으로 할 때에 압력기체(A)가 공급되는 상부측에 인접한 박판(10)의 유로홈(14)은 원형 모양으로 타공되고, 나머지 3개의 박판(10)에는 도면에서와 같이 일측이 개구된 예를들면, "∩"자 모양으로 타공되어 상기 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)들에 대응하여 도 3에서와 같은 모양의 가이드 구간을 형성하는 구조를 일예로 나타나고 있다.The flow path grooves 14 of the above structure are connected to the sections divided by the combination of the thin plates 10, and the residual liquid W is removed from the suction unit 2 by the one-way flow of the pressure gas A. Guide flow path (H2) of the structure capable of forming the suction action and the atmosphere for forming a section. To this end, in the present embodiment, the flow path grooves 14 of the thin plate 10 adjacent to the upper side to which the pressure gas A is supplied are perforated in a circular shape when the pressure gas A is supplied, and the remaining three thin plates 10 For example, as shown in the drawing, one side is opened, for example, a hole having a shape of “∩” to form a guide section having a shape as shown in FIG. 3 corresponding to the suction flow paths H1 of the suction unit 2. It is shown as an example.

상기 유로홈(14)들은 상기 박판(10)에서 예를들면, 부식 작용에 의한 포토 에칭(etching) 등과 같은 방법으로 형성될 수 있으며, 이와 같은 에칭 가공에 적합하고 내구성이 우수한 이미 잘 알려진 금속 재질 등이 사용될 수 있다.The flow path grooves 14 may be formed in the thin plate 10 by, for example, a method such as photo etching due to a corrosive action, and is a well-known metal material suitable for such an etching process and excellent in durability. And the like can be used.

그리고, 상기와 같이 박판(10)에서 "∩"자 모양으로 타공된 유로홈(14)들은 도 2에서와 같이 타공 영역의 중간부분이 유선형태로 연결되면서 오목하게 들어간 모양으로 제작될 수 있다. 이와 같은 구조는 압력기체(A)가 상기 가이드유로(H2) 구간을 통과할 때에 이 구간내에서 유로의 직경차에 의해 압력기체(A)의 흐름 압력을 증대시킬 수 있으므로 상기 흡입유니트(2)측에 잔존 액체(W)의 흡입을 위한 흡입력을 더욱 향상시킬 수 있는 구조가 된다.In addition, as described above, the flow path grooves 14 bored in the shape of “∩” in the thin plate 10 may be manufactured in a concave shape while the middle portion of the perforated area is connected in a streamlined shape as shown in FIG. 2. In this structure, when the pressure gas A passes through the section of the guide flow path H2, the flow pressure of the pressure gas A can be increased by the diameter difference of the flow path in the section, so that the suction unit 2 It becomes a structure which can further improve the suction force for suction of the residual liquid W at the side.

상기 가이드유니트(4) 즉, 박판(10)들은 상기 기체공급유니트(12)와 흡입유니트(2) 사이에 셋팅될 때에 예를들면, 상기 박판(10)들이 도 3에서와 같은 가이드핀(16)에 끼워지면서 상기 기체공급유니트(12)와 흡입유니트(2) 사이에 끼움 결합으로 고정될 수 있고, 이와 같은 상태에서 상기 기체공급유니트(12)와 흡입유니트(2)를 예를들면, 볼트 및 너트와 같은 체결부재로 체결하여 도 1에서와 같은 단일의 유니트 어셈블리를 구성하는 구조일 수 있다.When the guide unit 4, ie, the thin plates 10, is set between the gas supply unit 12 and the suction unit 2, for example, the thin plates 10 are guide pins 16 as shown in FIG. 3. The gas supply unit 12 and the suction unit 2 in this state can be fixed by fitting coupling between the gas supply unit 12 and the suction unit (2), for example, bolts And a fastening member such as a nut to configure a single unit assembly as shown in FIG. 1.

상기한 구조로 이루어지는 가이드유니트(4)는 상기 기체공급유니트(12)측에서 압력기체(A)가 공급되어 상기 가이드유로(H2)들의 구간을 경유하면서 일방향 흐름으로 흐를 때에 예를들면, 이미 잘 알려진 벤츄리관과 같은 유체의 흐름 및 작용이 유발되면서 도 6에서와 같이 상기 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)를 통하여 잔존 액체(W)가 흡입되면서 제거될 수 있는 흡입분위기의 형성이 가능하도록 상기 압력기체(A)의 흐름을 가이드하는 구조이다. The guide unit 4 having the above-described structure, for example, is already well when the pressure gas A is supplied from the gas supply unit 12 and flows in one direction while passing through the sections of the guide passages H2. It is possible to form a suction atmosphere that can be removed while the remaining liquid (W) is sucked through the suction flow path (H1) of the suction unit (2) as shown in Figure 6 while causing the flow and action of the fluid, such as known venturi tube It is a structure for guiding the flow of the pressure gas (A) so as to.

이때, 상기 흡입유로(H1)들은 상기 흡입유니트(2)에 의해 도 4에서와 같이 기판(G)의 이송 방향에 대응하여 가로지르는 방향으로 다수개가 이격 형성되고 상기 가이드유니트(4) 즉, 가이드유로(H2)들에 의해 가이드되는 압력기체(A)의 일방향 흐름 작용에 의해 각각의 흡입유로(H1)측에 균일한 흡입력이 작용하게 되므로 예를들면, 도 1에서와 같이 기판(G)이 세정영역 등에서 잔존 액체(W)의 제거를 위한 구간을 통과할 때에 도 5에서와 같이 기판(G)의 폭방향 전체 길이의 커버가 가능한 장방형 모양의 균일한 흡입영역을 형성하므로 잔존 액체(W)의 제거 효율을 더욱 향상시킬 수 있는 것이다.At this time, the suction flow path (H1) is formed by a plurality of spaced apart in the transverse direction corresponding to the transfer direction of the substrate (G) as shown in Figure 4 by the suction unit (2) and the guide unit (4), that is, the guide Since a uniform suction force acts on each suction flow path H1 by the one-way flow action of the pressure gas A guided by the flow paths H2, for example, as shown in FIG. When passing through the section for removing the residual liquid W in the cleaning area or the like, as shown in FIG. 5, a rectangular suction area having a rectangular shape capable of covering the entire length in the width direction of the substrate G is formed, thereby remaining liquid W It is possible to further improve the removal efficiency.

그리고, 상기와 같은 작용시에 상기 가이드유니트(4)의 가이드유로(H2) 구간을 경유하면서 흐르는 압력기체(A)와 이 기체(A)에 의한 간접 흡입 작용에 의해 상기 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)들을 통하여 흡입된 잔존 액체(W)는 상기 가이드유로(H2)와 흡입유로(H1)의 배출측을 통하여 원활하게 배출될 수 있도록 이루어진다.In the above operation, the suction unit 2 is operated by indirect suction action by the pressure gas A and the gas A flowing through the guide passage H2 section of the guide unit 4. The remaining liquid W sucked through the suction passages H1 may be smoothly discharged through the discharge side of the guide passage H2 and the suction passage H1.

예를들면, 도 3에서와 같이 상기 흡입유니트(2)와 기체공급유니트(12)의 압력기체(A) 및 잔존 액체(W) 배출측에 대응하여 도면에서와 같은 연장부(2a, 12a,)가 각각 형성되고 이 연장부(2a,12a)들에 의해 형성되는 배출공간부(18)의 개방측이 도면에서와 같은 커버(20)로 개폐 가능하게 밀폐된 구조일 수 있다.For example, as shown in FIG. 3, the extensions 2a, 12a, as shown in the drawing, correspond to the pressure gas A and the remaining liquid W discharge side of the suction unit 2 and the gas supply unit 12. ) May be formed and the open side of the discharge space 18 formed by the extension parts 2a and 12a may be sealed to be opened and closed by the cover 20 as shown in the drawing.

그리고, 상기 배출공간부(18)에는 압력기체(A)와 잔존 액체(W)가 분리 배출될 수 있도록 도 3 및 도 6에서와 같이 기체배출관(P2)과 액체배출관(P3)이 각각 설치되어 상기 압력기체(A)는 상기 기체배출관(P2)에 의해 순환되면서 재사용되거나 정화필터 등을 통하여 대기중에 배출되고, 잔존 액체(W)는 상기 액체배출관(P3)에 의해 별도의 액체 저장조 등에 수거되도록 셋팅될 수 있다.In addition, a gas discharge pipe P2 and a liquid discharge pipe P3 are respectively installed in the discharge space 18 so as to separate and discharge the pressure gas A and the remaining liquid W. The pressure gas (A) is circulated by the gas discharge pipe (P2) and reused or discharged to the atmosphere through a purifying filter, etc., the remaining liquid (W) is to be collected in a separate liquid storage tank, etc. by the liquid discharge pipe (P3). Can be set.

상기한 구조로 이루어지는 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리는 세정영역에서 세정액 등으로 세정된 기판(G)이 도 1에서와 같이 기판이송장치(M)에 의해 일방향으로 이동하면서 잔존 액체(W)의 제거를 위한 구간을 통과할 때에 다음과 같은 작용에 의해 기판(G)의 표면에 존재하는 세정액이나 폐약액과 같은 잔존 액체(W)를 제거하는 것이다.In the suction unit assembly according to the present invention having the above-described structure, the substrate G cleaned with the cleaning liquid or the like in the cleaning area is moved in one direction by the substrate transfer device M as shown in FIG. When passing through the section for removing the remaining liquid (W), such as the cleaning liquid or waste liquid present on the surface of the substrate (G) by the following action.

먼저, 상기 기체공급관(P1)을 통해 상기 기체공급유니트(12)에 압력기체(A) 가 공급되면 이 압력기체(A)가 공급유로(H3)를 경유하면서 도 3에서와 같이 가이드유니트(4) 즉, 각각의 가이드유로(H2) 구간을 따라 일정한 압력을 갖으며 도면에서와 같은 일방향 흐름으로 플로우된다.First, when the pressure gas A is supplied to the gas supply unit 12 through the gas supply pipe P1, the pressure gas A passes through the supply flow path H3, and the guide unit 4 as shown in FIG. That is, each guide flow path (H2) has a constant pressure along the section flows in one direction as shown in the drawing.

이때, 상기와 같이 압력기체(A)가 상기 가이드유로(H2)들을 따라 흐르면서 통과할 때에 상기 가이드유로(H2)들과 연통된 흡입유니트(2) 즉, 각각의 흡입유로(H1)들의 수평유로구간(6b)에는 상기 압력기체(A)의 일방향 흐름에 의해 저압 분위기가 형성되므로 이와 같은 저압분위기에 의해 상기 수평유로구간(6b)과 연결된 수직유로구간(6a)에는 기판(G)의 표면에 달라붙은 잔존 액체(W)의 흡입이 가능한 흡입력이 도 3 및 도 6에서와 같은 방향으로 작용하면서 이러한 작용에 의해 상기 흡입유로(H1)를 통하여 잔존 액체(W)가 흡입된 후 상기 가이드유로(H2)측의 압력기체(A)와 함께 상기 배출공간부(18)에 담겨진 후 상기 기체배출관(P2)과 액체배출관(P3)에 의해 분리 배출되는 것이다.At this time, when the pressure gas (A) flows along the guide passages (H2) as described above, the suction unit (2) communicating with the guide passages (H2), that is, the horizontal passages of the respective suction passages (H1) Since the low pressure atmosphere is formed by the one-way flow of the pressure gas A in the section 6b, the vertical flow path 6a connected to the horizontal flow path section 6a is formed on the surface of the substrate G by the low pressure atmosphere. While the suction force capable of suctioning the remaining residual liquid W acts in the same direction as in FIGS. 3 and 6, the residual liquid W is sucked through the suction passage H1 by this action, and then the guide passage ( After being contained in the discharge space 18 together with the pressure gas A on the H2) side, the gas is discharged separately by the gas discharge pipe P2 and the liquid discharge pipe P3.

따라서, 상기와 같이 가이드유니트(4)의 가이드유로(H2)들을 따라 흐르는 압력기체(A)의 일방향 흐름에 의한 간접 흡입 작용에 의해 상기 흡입유니트(2)에서 펌핑 작용을 위한 구간을 갖는 각각의 흡입유로(H1)들을 통하여 기판(G)에 달라붙은 잔존 액체(W)를 용이하게 제거할 수 있는 것이다.Accordingly, each of the sections having a section for pumping action in the suction unit 2 by indirect suction action by the one-way flow of the pressure gas A flowing along the guide passages H2 of the guide unit 4 as described above. The remaining liquid W adhering to the substrate G through the suction passages H1 can be easily removed.

특히, 상기 가이드유니트(4)에는 상기 흡입유니트(2)의 흡입유로(H1)들에 대응하는 위치에 각각 가이드유로(H2)들이 형성되어 상기 기체공급유니트(12)에 형성되는 단일의 기체 공급유로(H3)를 통하여 공급되는 압력기체(A)에 의해 1개의 흡입유로(H1)가 1개의 가이드유로(H2)에 의해 흡입 작용이 직접 제어되는 구조이므로 기판(G)의 표면에 대응하여 도 5에서와 같은 균일한 흡입 영역의 형성이 가능할 뿐만 아니라, 흡입력이 더욱 증대되어 잔존 액체(W)의 제거 효율 등을 대폭 향상시킬 수 있다.In particular, the guide unit (4) is formed in each of the guide passage (H2) in the position corresponding to the suction passage (H1) of the suction unit (2) to supply a single gas formed in the gas supply unit 12 Since one suction passage H1 is directly controlled by one guide passage H2 by the pressure gas A supplied through the passage H3, the suction gas H1 corresponds to the surface of the substrate G. In addition to the formation of a uniform suction region as in 5, the suction force can be further increased to significantly improve the removal efficiency of the remaining liquid W and the like.

그리고, 이와 같은 구조는 기판(G)의 표면에 부분적으로 달라붙은 잔존 액체(W)를 제거할 때에 상기 흡입유니트(2)에 형성된 흡입유로(H1)들의 위치에 관계없이 각각의 유로에서 균일한 펌핑 작용이 이루어지므로 흡입 효율은 물론이거니와 잔존 액체(W)의 제거 품질을 대폭 향상시킬 수 있다.Such a structure is uniform in each flow path regardless of the positions of the suction flow paths H1 formed in the suction unit 2 when removing the residual liquid W partially stuck to the surface of the substrate G. Since the pumping action is performed, as well as the suction efficiency, the removal quality of the remaining liquid (W) can be greatly improved.

상기에서는 흡입유니트(2)가 단일의 형태로 이루어지고 이 유니트(2)에 형성된 흡입유로(H1)의 구간이 일체로 관통 형성된 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 예를들면, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 가이드유니트(4)와 동일한 유로 구조 즉, 다수개의 박판들에 의해 잔존 액체(W)의 흡입을 위한 유로 구간들이 분할 형성된 구조로 이루어질 수도 있다. 이와 같은 흡입유니트(2)의 구조는 제작이 용이할 뿐만 아니라, 물리적인 충격 등에도 더욱 향상된 내구성을 얻을 수 있으며, 특히 분할된 박판들에 의해 흡입유로(H1) 구간을 다양한 모양으로 셋팅할 수 있으므로 더욱 향상된 작업호환성 및 제작성, 유지보수성 등을 얻을 수 있다.In the above description, the suction unit 2 is formed in a single shape and the section of the suction passage H1 formed in the unit 2 is integrally formed in the description and drawings, but is not limited thereto. For example, although not shown in the drawing, the same flow path structure as the guide unit 4, that is, a plurality of thin plates may have a structure in which flow path sections for suction of the residual liquid W are divided. Such a structure of the suction unit 2 is not only easy to manufacture, but also improved durability can be obtained even in physical impact, etc. In particular, the suction flow path (H1) can be set in various shapes by the divided thin plates. Therefore, improved work compatibility, manufacturability, and maintainability can be obtained.

그리고, 상기에서는 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리가 세정영역에서 기판(G)의 이송방향에 대응하여 상측 표면에 달라붙은 잔존 액체(W)의 제거가 가능한 자세로 1개가 설치된 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, in the above description, one suction unit assembly according to the present invention is provided with a posture capable of removing the remaining liquid W adhering to the upper surface corresponding to the transfer direction of the substrate G in the cleaning region. Although it is shown to but is not limited thereto.

예를들면, 기판(G)의 이송구간에 대응하여 2개가 도 7에서와 같이 설치될 수 있으며, 이외에도 요구되는 잔존 액체(W)의 제거 환경에 따라 그 이상이 이격 설치되거나 기판(G)의 일측면에 한정되지 않고 양측 표면에 대응하여 동시에 잔존 액체(W)의 제거가 가능하도록 셋팅될 수도 있다.For example, two may be installed as shown in FIG. 7 to correspond to the transfer section of the substrate G. In addition, two or more may be spaced apart depending on the required removal environment of the residual liquid W or the substrate G. It is not limited to one side but may be set so as to enable removal of the remaining liquid W at the same time corresponding to both surfaces.

상기에서는 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.In the above, a preferred embodiment of the suction unit assembly according to the present invention has been described, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. This also belongs to the scope of the present invention.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 흡입유니트 어셈블리는 가이드유니트의 유로를 통하여 압력기체가 일방향 흐름으로 가이드되면서 이와 같은 압력기체의 흐름 분위기에 의해 기판의 표면에 대응하는 흡입유니트 즉, 흡입을 위한 펌핑 구간을 갖는 복수개의 흡입유로측에 잔존 액체의 제거를 위한 흡입력 및 분위기를 용이하게 형성할 수 있으며, 이와 같은 작용에 의해 예를들면, 세정 구간을 통과한 기판의 표면에 존재하는 세정액이나 폐약액 등과 같은 잔존 액체를 용이하게 제거할 수 있다.As described above, the suction unit assembly according to the present invention is a suction unit corresponding to the surface of the substrate by the flow atmosphere of the pressure gas while the pressure gas is guided in one direction through the flow path of the guide unit, that is, a pumping section for suction. A suction force and an atmosphere for removing the remaining liquid can be easily formed on the plurality of suction flow paths having, for example, a cleaning liquid or a waste chemical solution present on the surface of the substrate passing through the cleaning section. The same remaining liquid can be easily removed.

게다가, 상기 흡입유니트에서 기판의 잔존 액체를 직접 흡입하는 복수개의 흡입유로들은 이에 대응하는 상기 가이드유니트측의 가이드유로들에 의해 각각 흡입 분위기가 형성되는 구조이므로 처리되는 기판의 크기에 따라 이에 대응하는 균일한 흡입 영역 및 흡입분위기 등의 형성이 용이하고, 특히, 이와 같은 구조는 대 면적 기판의 잔존 액체를 제거하거나 기판의 표면에 부분적으로 달라붙은 잔존 액체를 제거할 때에 더욱 향상된 제거 효율 및 작업능률을 얻을 수 있다.In addition, the plurality of suction flow paths that directly suck the remaining liquid of the substrate in the suction unit have a structure in which a suction atmosphere is formed by the guide flow paths on the side of the guide unit. It is easy to form a uniform suction area, suction atmosphere, and the like, and in particular, such a structure further improves the removal efficiency and work efficiency when removing the remaining liquid of a large area substrate or partially remaining liquid that adheres to the surface of the substrate. Can be obtained.

Claims

A suction unit assembly that can easily remove liquid foreign matter present on a substrate through a plurality of suction passages having a pumping section in which a suction action is performed by a flow atmosphere of a pressure fluid such as gas,

A suction unit having the suction passages formed thereon, the suction unit being capable of suction operation for removing the liquid foreign substance corresponding to the surface side of the substrate, and positioned to correspond to the suction passages of the suction unit, and sucking the liquid foreign substance through the passages And a guide unit having a plurality of guide flow paths for guiding the flow of the pressure gas so that a pumping force is applied.

The suction unit assembly of claim 1, wherein the guide flow passage comprises a single section or two or more divided sections.

The suction unit assembly of claim 1, wherein the suction passage and the guide passage are set such that the discharge side of these sections has a single section in communication with each other.

The suction unit of claim 1, wherein the suction passage and the guide passage are spaced apart from each other in the suction unit and the guide unit so as to have a suction region having a rectangular shape in a direction crossing the substrate in a direction corresponding to the transfer direction of the substrate.

The suction unit according to claim 1, wherein the plurality of suction passages are set by the guide passages of the guide unit so that one suction passage can be controlled by the one guide passage to control the suction atmosphere for the removal of the liquid foreign matter.

The suction unit assembly of claim 1, wherein the suction unit has a groove formed so that the inlet side sections for suctioning the liquid foreign substances of the suction passages communicate with each other.