KR100563947B1 - 유기 인 화합물의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 프리델-크래프츠(Friedel-Crafts) 반응 생성물을 알콜 또는 페놀과 반응시키는 단계 및 생성된 부산물을 분리하여 제거하는 단계를 포함하는, 포스포나이트(phosphonite) 또는 포스피나이트(phosphinite)의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 양성자성 화합물, 또는 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염, 또는 질소 함유 화합물(제 1 항에 정의된 바와 같음), 또는 이들 화합물 1종 이상의 화합물들로 이루어진 임의의 배합물로 후처리를 수행함을 특징으로 한다. 본 발명에 의해, 적은 할라이드 함량 및 적은 알루미늄 함량을 가지며, 개선된 투명 용해도 및 중합체성 물질에 대한 안정화제로서의 개선된 작용을 가짐을 특징으로 하는 생성물을 수득할 수 있다.

Description

유기 인 화합물의 제조 방법{PROCESS FOR THE PRODUCTION OF PHOSPHOR ORGANIC COMPOUNDS}
본 발명은 중합체 물질을 안정화시키는 특성이 상당히 개선된 포스포나이트(phosphonite) 또는 포스피나이트(phosphinite), 특히 방향족 포스포나이트 또는 포스피나이트의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법으로 제조된 생성물은 활성이 높고, 개선된 가수분해 안정성 및 개선된 투명 용해도를 가지며, 바람직하지 않은 부산물이 매우 적음을 특징으로 한다.
당해 분야의 숙련자에게 공지된 바와 같이, 방향족 포스포나이트 또는 포스피나이트는 방향족 화합물을 할로겐-함유 인 화합물(예를 들어, 삼염화인, 삼브롬화인, 알킬디할로포스핀 또는 아릴디할로포스핀)과 프리델-크래프츠(Friedel-Crafts) 반응(하기 반응식 1a)시켜 제조할 수 있다. 초기에 생성된 알루미늄 할라이드는 문헌에 공지된 방법에 의해 절단되어 3급 아민 또는 염화인과 다시 착체를 형성한다(하기 반응식 1b). 생성된 아릴디할로포스핀, 알킬아릴할로포스핀 또는 디아릴할로포스핀을 불활성 용매 및/또는 산-결합제(예를 들어, 3급 아민)의 존재 또는 부재하에 알콜 또는 페놀과 반응시킴으로써(하기 반응식 2a 및 2b), 원하는 포스포나이트 또는 포스피나이트를 수득할 수 있다. 이 경우에, "할로겐"은 염화물 또는 브롬화물이지만, 염화물이 바람직하다. 이들 반응 경로는 오래 전에 공지되어 있거나 문헌에 기술되어 있다(예를 들어, 미카엘리스(Michaelis)의 문헌[Ann., 293, 193(1896)] 및 코솔라포프(Kosolapoff, G.M.)의 문헌[Organic Phosphorus Compounds, John Wiley & Sons, New York, 1972] 참조). 또한 하기 반응식 1a 및 1b, 및 2a 및 2b는, 예를 들어 디페닐과 2당량의 삼염화인의 프리델-크래프츠 반응과 같이 한 방향족 기재 물질상에 다수의 1 및 2 유형의 반응들을 분명하게 포함한다. 이 경우에, 개별적인 반응 파트너들은 부족한 양으로, 화학량론 양으로 또는 과량으로 사용할 수 있다. 이러한 유형의 반응들은, 예를 들어 영국 특허 제 1372528 호에 기술되어 있다.
Figure 112000006005779-pct00001
Figure 112000006005779-pct00002
Figure 112000006005779-pct00003
Figure 112000006005779-pct00004
상기 식들에서, 서로 독립적으로
Hal은 Cl 또는 Br이고;
R은 헤테로 원자(N, O, P, S)를 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 36의 지방족, 지환족 또는 방향족 유기 라디칼이고;
R'는 Hal 또는 R이고;
R"는 헤테로 원자(N, O, P, S)를 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 36의 지방족, 지환족 또는 방향족 유기 라디칼이고;
R"'는 헤테로 원자(N, O, P, S)를 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 36의 지방족, 지환족 또는 방향족 유기 라디칼이거나, 또는 N(R"')3 자체로서 피리딘 또는 알킬-치환된 피리딘이고;
n은 0 내지 5이고;
R'가 R인 경우 m은 1이고, R'가 Hal인 경우 m은 2이다.
또한 상기 반응 혼합물은 몇몇 환경하에서, 예를 들어 페놀, 알콜, 아민, 포스파이트, 포스포네이트, 인산염 등과 같이, 포스포나이트/포스피나이트 합성 반응중에 생성되어 반응이 종결될 때 과량으로 혼합물중에 잔존하거나 또는 아니면 의도적으로 첨가되는 유기 화합물 또는 유기 인 화합물을 추가로 포함할 수 있다.
프리델-크래프츠 반응 생성물을 알콜 또는 페놀과 반응시켜 포스포나이트 또는 포스피나이트를 수득하는 이러한 반응은 용매의 부재하에, 또는 불활성 비극성 용매(예를 들어, 지방족, 지환족 또는 이들의 혼합물)의 존재하에, 또는 선택적으로 화학량론 양 또는 화학량론 과량의 산 수용체(반응식 2a 참조)의 부재 또는 존재하에 행해진다.
이들 모든 제조 방법에는 특정 비율의 원하지 않는 부산물이 존재하는 것이 통상적인 현상인데, 부산물은, 예를 들어 할로 인 화합물의 불완전한 반응으로부터 생성되거나 또는 잔존하는 소량의 알루미늄 할라이드 또는 아민 하이드로할라이드 염에 기인한다. 통상적인 절차에 따라, 이들 부산물은 고비용의 복잡한 정제 방법, 예를 들어 결정화 방법, 증류 방법, 여과 방법 또는 멤브레인(membrane) 방법, 또는 순수한 생성물이 바람직한 경우, 이온 교환 방법에 의해 제거하여야 한다. 이들 부산물 염들이 생성물중에 남아있으면, 생성물의 특성이 열악해지고 생성물의 중합체 안정화제로서의 유용성이 저하될 수 있다. 따라서, 투명 용해도, 특히 비극성 용매중에서의 투명 용해도, 또는 아니면 중합체의 투명도가 감소되고, 금속의 부식성이 할라이드 이온에 의해 촉진되어 증가될 수 있으며, 또한 화합물 자체의 가수분해, 또는 폴리에스테르 또는 폴리카보네이트와 같은 가수분해가능한 중합체의 가수분해와 같은 바람직하지 않은 분해 공정이 촉진될 수 있다.
본 발명의 목적은 원하지 않는 부산물의 함량을 간단하고 경제적으로 효율적인 방식으로 감소시키며, 동시에 활성 성분의 양을 증가시키는 것이다.
놀랍게도, 포스포나이트 및/또는 포스피나이트를 함유하는 반응 혼합물을 전술한 바와 같이 제조한 후에, 알콜, 암모니아, 1급 또는 2급 아민 또는 물과 같은 1종 이상의 양성자성 화합물을 단독으로, 또는 바람직하게는 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염과 배합하여 소량 첨가한 다음 적절한 반응 시간 후에 소량의 고형물만을 간단하게 분리함으로써, 선행 기술에 따른 포스포나이트/포스피나이트에 비해 할라이드 함량이 매우 적고, 비극성 용매중에서의 투명 용해도가 개선되며, 알루미늄 함량이 적고, 중합체 물질에 대한 안정화제로서의 작용이 더욱 개선된 포스포나이트/포스피나이트를 수득할 수 있음을 발견하였다.
또 다르게는, 탄산 아미드, 티오탄산 아미드, 탄산 이미드, 티오탄산 이미드, 락탐, 티오락탐, 탄산 하이드라자이드, 우레아, 티오우레아, 대칭적으로 그리고 비대칭적으로 치환된, 우레아 유도체 및 티오우레아 유도체, 우레탄, 우레티이미드, 구아니딘 및 그의 염, 멜라민 및 그의 유도체, 및 이들의 중합체성 화합물로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 질소 함유 화합물, 또는 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염을 단독으로, 또는 바람직하게는 전술한 바와 같은 양성자성 화합물과 배합하여 소량 사용함으로써, 전술한 바와 같은 유사한 결과를 수득할 수 있다.
또한, 1종 이상의 양성자성 화합물 및/또는 1종 이상의 질소 함유 화합물(모두 전술한 바와 같음)과, 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염의 배합물을 사용하여 전술한 바와 같이 포스포나이트/포스피나이트의 특성들을 개선시킬 수 있다.
따라서, 본 발명은 하기 화학식 II의 프리델-크래프츠 반응 생성물을 하기 화학식 III의 화합물과 반응시키고 생성된 부산물을 분리하여 제거함으로써, 하기 화학식 I의 포스포나이트 또는 포스피나이트를 제조하는 방법으로서, 용매의 부재하에 또는 불활성, 비극성 용매의 존재하에, 알콜, 암모니아, 1급 또는 2급 아민 또는 물과 같은 양성자성 화합물; 또는 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염; 또는 탄산 아미드, 티오탄산 아미드, 탄산 이미드, 티오탄산 이미드, 락탐, 티오락탐, 탄산 하이드라자이드, 우레아, 티오우레아, 대칭적으로 그리고 비대칭적으로 치환된, 우레아 유도체 및 티오우레아 유도체, 우레탄, 우레티이미드, 구아니딘 및 그의 염, 멜라민 및 그의 유도체, 및 이들의 중합체성 화합물로 구성된 군에서 선택된 질소 함유 화합물; 또는 이들 화합물 1종 이상의 배합물로 후처리를 수행하고, 생성된 부산물을 추가로 분리하여 제거함을 특징으로 하는 방법에 관한 것이다:
Figure 112000006005779-pct00005
Figure 112000006005779-pct00006
R-OH
상기 식들에서,
아릴은 치환되거나 치환되지 않은 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이고;
R은 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 36의 유기 라디칼이고;
A는 R 또는 OR이고;
Hal은 할로겐이고;
A'는 Hal 또는 R이다.
본 발명의 화합물과의 반응은 용매의 부재하에 또는 불활성, 비극성 용매, 예를 들어 알칸 또는 방향족(예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 피리딘) 또는 이들의 혼합물의 존재하에 행해지며, 특히 바람직하게는 알칸(예를 들어, 헵탄, 사이클로헥산, 이소옥탄, 데칼린), 알칸 혼합물(예를 들어, 석유 에테르의 비등점 분획물) 또는 매우 소량의 방향족을 갖는 공학용 알칸 혼합물중에서 행해진다. 따라서, 상기 방법에서는 이전에 용매로서 바람직하게 사용하였던 클로로방향족, 예를 들어 클로로벤젠 또는 디클로로벤젠을 사용하지 않을 수 있다.
전술한 절차에서는 부산물이 보조제와 함께 극히 소량으로 즉시 제거될 수 있는 형태로 생성되기 때문에, 부산물을 상당히 간단하게 제거할 수 있다.
알콜 또는 물; 및 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 아연의 산화물, 수산화물 또는 탄산염, 또는 질소 함유 화합물의 시약 혼합물을 포스포나이트/포스피나이트의 제조 방법의 후처리에 사용하는 것이 바람직하고, 이 경우 포스파이트, 페놀 및 아민과 같은 다른 화합물들도 존재할 수 있다.
물; 및 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 산화물 또는 수산화물, 또는 탄산 아미드, 이미드, 락탐, 우레아, 티오우레아, 치환된 우레아, 멜라민 및 그의 유도체, 및 이들 모든 화합물 계열의 중합체성 화합물로 구성된 군에서 선택된 질소 함유 화합물의 혼합물을 방향족 포스포나이트/포스피나이트 제조 방법의 후처리에 사용하는 것이 특히 바람직하며, 이 경우 포스파이트, 페놀 및 아민과 같은 다른 화합물들도 존재할 수 있다.
포스파이트, 페놀 및 아민과 같은 화합물의 존재하에, 물; 및 마그네슘 또는 칼슘의 산화물, 또는 나트륨, 칼륨, 마그네슘 및 칼슘의 수산화물, 또는 탄산 아미드, 우레아 또는 멜라민의 혼합물을 방향족 포스포나이트/포스피나이트 제조 방법의 후처리에 사용하는 것이 특히 더욱 바람직하다.
포스포나이트/포스피나이트의 양을 기준으로, 양성자성 화합물의 사용량은 0.1 내지 50 몰%이고, 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산염, 또는 질소 함유 화합물의 사용량은 0.1 내지 50 몰%이다.
포스포나이트/포스피나이트의 양을 기준으로, 0.5 내지 35 몰%의 양성자성 화합물, 및 0.5 내지 35 몰%의, 원소 주기율표 I족, II족 및 III족 금속 및 아연의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산염, 또는 질소 함유 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
포스포나이트/포스피나이트의 양을 기준으로, 1 내지 25 몰%의 양성자성 화합물, 및 1 내지 25 몰%의 원소 주기율표 I족 및 II족 금속의 산화물 또는 수산화물 또는 5 내지 30 몰%의 질소 함유 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
본 발명은 디페닐 및 삼염화인의 프리델-크래프츠 반응 생성물과, 2,4-디-3급-부틸페놀의 반응 생성물을 함유하는 반응 혼합물의 후처리에 특히 적합하다(비교: 이와 관련하여 케미칼 업스트랙츠 넘버(Chemical Abstracts Number)[119345-01-6]; 상표명 산도스탭(Sandostab, 등록상표) P-EPQ(등록상표)).
질소 함유 화합물, 양성자성 화합물, 및 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염의 배합물을 또한 본 발명의 방법의 후처리에 사용할 수 있다. 바람직한 화합물은 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 아연의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염이다. 이러한 배합물의 사용량은 포스포나이트/포스피나이트의 양을 기준으로 0.1 내지 50 몰%, 바람직하게는 0.5 내지 35 몰%, 가장 바람직하게는 1 내지 25 몰%이다.
본 발명의 방법에 의해 수득한 포스포나이트 또는 포스피나이트는 상당히 저하된 할라이드 함량, 비극성 용매중에서의 개선된 투명 용해도, 감소된 알루미늄 함량, 및 중합체 물질에 대한 안정화제로서의 개선된 작용을 가짐을 특징으로 한 다. 은적정법에 의해 측정시 염화물 또는 가수분해가능한 염소를 0.8% 이상 함유하는 선행 기술의 포스포나이트 또는 포스피나이트에 비해, 본 발명의 포스포나이트 또는 포스피나이트는 상기 염화물을 0.5% 미만, 특히 순수한 형태의 경우 0.3% 미만으로 함유한다. AES/ICP(원자방출 분광학/유도결합 플라즈마) 방법으로 측정시 알루미늄 함량은 선행 기술에서 800ppm 이상이고, 본 발명에서 500ppm 미만이다. 비극성 용매중에서의 투명 용해도는 이소옥탄내 10% 농도 용액에서의 혼탁도로 측정할 수 있다.
개선된 특성을 갖는 생성된 포스포나이트 또는 포스피나이트, 또는 이들과 전술한 다른 화합물의 혼합물을 사용하여 중합체 물질을 안정화시킬 수 있다. 본 발명의 포스포나이트 또는 포스피나이트에 의해 안정화될 수 있는 중합체 물질은 하기와 같다.
1. 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔, 및 사이클로올레핀(예를 들어, 사이클로펜텐 또는 노르보넨)의 중합체; 또한 폴리에틸렌(이는 선택적으로 가교결합될 수 있음), 예를 들어 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 분지된 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE). 폴리올레핀, 즉 모노올레핀의 중합체, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌을 다양한 방법, 특히 하기 (a) 및 (b)의 방법으로 제조할 수 있다:
(a) 유리-라디칼 방법(통상적으로 고압 및 고온에서 수행됨); 및
(b) 통상적으로 IVb족, Vb족, Vlb족 또는 VIII족 금속 하나 이상을 함유하는 촉매를 사용하는 방법. 이들 금속은 통상적으로 π-배위되거나 α-배위될 수 있는, 산화물, 할라이드, 알콕사이드, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴과 같은 리간드 하나 이상을 갖는다. 이들 금속 착체는 유리된 형태로 존재하거나, 또는 활성 염화마그네슘, 염화티탄, 산화알루미늄 또는 산화규소와 같은 지지체상에 고정될 수 있다. 이들 촉매는 중합 반응 매질에 가용성이거나 불용성일 수 있다. 이들 촉매는 중합 반응에서 자체적으로 활성이거나, 또는 다른 활성화제, 예를 들어 금속 알킬, 금속 하이드라이드, 금속 알킬할라이드, 금속 알킬옥사이드 또는 금속 알킬옥산을 사용할 수 있으며, 이때 금속은 Ia족, IIa족 및/또는 IIIa족 원소이다. 상기 활성화제는, 예를 들어 추가의 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 그룹에 의해 개질될 수 있다. 이들 촉매계는 통상적으로 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 지글러(나타)(Ziegler(Natta)), TNZ(듀퐁(DuPont)), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)로 칭해진다.
2. 상기 1번에 개시된 중합체의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예를 들어, PP/HDPE, PP/LDPE) 및 상이한 유형의 폴리에틸렌의 혼합물(예를 들어, LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀 및 디올레핀 서로간의 공중합체, 또는 이들과 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예를 들어 에틸렌-프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 그와 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)의 혼합물, 프로필렌-부트-1-엔 공중합체, 프로필렌-이소부틸렌 공중합체, 에틸렌-부트-1-엔 공중합체, 에틸렌-헥센 공중합체, 에틸렌-메틸펜텐 공중합체, 에틸렌-헵텐 공중합체, 에틸렌-옥텐 공중합체, 프로필렌-부타디엔 공중합체, 이소부틸렌-이소프렌 공중합체, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 및 그와 일산화탄소의 공중합체, 에틸렌-아크릴산 공중합체 및 그의 염(이오노머(ionomer)), 및 에틸렌, 프로필렌 및 디엔(예를 들어, 헥사디엔, 디사이클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보넨)의 삼원공중합체; 또한 상기 공중합체 서로간의 혼합물, 또는 이들과 상기 1번에 개시된 중합체와의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LLDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교번 또는 랜덤(random) 폴리알킬렌-일산화탄소 공중합체, 및 이들과 다른 중합체, 예를 들어 폴리아미드와의 혼합물.
4. 탄화수소 수지(예를 들어, C5-C9) 및 그의 수소화된 개질물(예를 들어, 점착제 수지), 및 폴리알킬렌과 전분의 혼합물.
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌, 및 디엔 또는 아크릴산 유도체의 공중합체, 예를 들어 스티렌-부타디엔; 스티렌-아크릴로니트릴; 스티렌-알킬 메타크릴레이트; 스티렌-부타디엔-알킬 아크릴레이트; 스티렌-부타디엔-알킬 메타크릴레이트; 스티렌-말레산 무수물; 스티렌-아크릴로니트릴-메타크릴레이트; 스티렌 공중합체 및 또다른 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원공중합체의 고충격 강도 혼합물; 및 스티렌의 블록 공중합체, 예를 들어 스티렌-부티디엔-스티렌, 스티렌-이소프렌-스티렌, 스티렌-에틸렌/부틸렌-스티렌 또는 스티렌-에틸렌/프로필렌-스티렌.
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그래프트 공중합체, 예를 들어 폴리부타디엔상의 스티렌; 폴리부타디엔-스티렌 공중합체 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체상의 스티렌; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 말레산 무수물; 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 알킬 메타크릴레이트; 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원공중합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴. 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트상의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 아크릴레이트-부타디엔 공중합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 및 이들과 상기 6번에 개시된 공중합체의 혼합물, 예를 들어 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 바와 같은 혼 합물.
8. 할로겐-함유 중합체, 예를 들어 폴리클로로프렌, 염소화된 고무, 염소화되거나 황화염소화된 폴리에틸렌, 에틸렌과 염소화된 에틸렌의 공중합체, 에피클로로하이드린 단독중합체 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물의 중합체, 예를 들어 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드; 및 할로겐-함유 비닐 화합물의 공중합체, 예를 들어 비닐 클로라이드-비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드-비닐 아세테이트.
9. α,β-불포화 산 및 그의 유도체로부터 유도된 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드, 및 부틸 아크릴레이트로 충격성-개질된 폴리아크릴로니트릴.
10. 상기 9번에 개시된 단량체 서로간의 공중합체, 또는 이들과 다른 불포화 단량체와의 공중합체, 예를 들어 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴-알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴-알콕시알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴-비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴-알킬 메타크릴레이트-부타디엔 삼원공중합체.
11. 불포화 알콜, 불포화 아민 또는 아실 유도체 또는 이들의 아세탈로부터 유도된 중합체, 예를 들어 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말리에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 및 이들과 상기 1번에 개시된 올레핀과의 공중합체.
12. 환상 에테르의 단독중합체 및 공중합체, 예를 들어 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 이들과 비스글리시딜 에테르와의 공중합체.
13. 폴리아세탈, 예를 들어 폴리옥시메틸렌 및 공단량체(예를 들어, 에틸렌 옥사이드)를 함유하는 폴리옥시메틸렌; 및 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질된 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 폴리페닐렌 설파이드, 및 이들과 스티렌 중합체 또는 폴리아미드와의 혼합물.
15. 하이드록실-말단 폴리에테르, 폴리에스테르 및 폴리부타디엔으로부터 유도된 폴리우레탄 및 다르게는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도된 폴리우레탄, 및 이들의 전구체.
16. 디아민 및 디카복실산으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 및/또는 아미노카복실산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예를 들어 나일론 4, 나일론 6, 나일론 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 나일론 11 및 나일론 12; m-크실렌, 디아민 및 아디프산으로부터 출발하는 방향족 폴리아미드; 개질제로서 엘라스토머의 존재 또는 부재하에 헥사메틸렌디아민과 이소프탈산 및/또는 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드, 예를 들어 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드; 전술한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 그래프트화된 엘라스토머의 블록 공중합체; 또는 전술한 폴리아미드와 폴리에테르, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜의 블록 공중합체. 또한, EPDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드, 및 가공중에 축합된 폴리아미드("RIM 폴리아미드 시스템").
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드, 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카복실산 및 디알콜로부터 유도된 폴리에스테르, 및/또는 하이드록시카복실산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸롤사이클로헥산 테레프탈레이트, 폴리하이드록시벤조에이트, 및 하이드록실-말단 폴리에테르로부터 유도된 블록 폴리에테르 에스테르; 또한 폴리카보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카보네이트 및 폴리에스테르 카보네이트.
20. 폴리설폰, 폴리에테르 설폰 및 폴리에테르 케톤.
21. 알데하이드로부터 유도된 가교결합 중합체, 및 다르게는 페놀, 우레아 또는 멜라민으로부터 유도된 가교결합 중합체, 예를 들어 페놀-포름알데하이드 수지, 우레아-포름알데하이드 수지 및 멜라민-포름알데하이드 수지.
22. 무수 알키드 수지 및 함수 알키드 수지.
23. 포화 및 불포화 디카복실산과 다가 알콜의 코폴리에스테르와, 가교결합제로서 비닐 화합물로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지, 및 그의 할로겐-함유 저-인화성 개질물.
24. 치환된 아크릴레이트, 예를 들어 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트로부터 유도된 가교결합가능한 아크릴계 수지.
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아날 또는 에폭시 수지로 가교결합된, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
26. 폴리에폭사이드, 예를 들어 비스-글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭사이드로부터 유도된 가교결합된 에폭시 수지.
27. 천연 중합체, 예를 들어 셀룰로스, 천연 고무, 젤라틴, 중합체-동족화 방식으로 화학적으로 개질된 이들의 유도체, 예를 들어 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 프로피오네이트 및 셀룰로스 부티레이트, 또는 셀룰로스 에테르(예를 들어, 메틸 셀룰로스), 및 로진 및 그의 유도체.
28. 전술한 중합체의 혼합물(폴리블렌드), 예를 들어 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO.
29. 순수한 단량체 화합물 또는 이들의 혼합물로 구성된 천연 및 합성 유기 화합물, 예를 들어 광유, 동물성 또는 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르(예를 들어, 프탈레이트, 아디페이트, 인산염 또는 트리멜리테이트)에 기초한 오일, 왁스 및 지방, 및 또한 예를 들어 스핀 피니쉬(spin finish)로서 사용되는 바와 같은, 광유와 합성 에스테르의 임의의 바람직한 중량비의 블렌드 및 그의 수성 유화액.
30. 천연 또는 합성 고무의 수성 유화액, 예를 들어 천연 고무 라텍스 또는 카복실화된 스티렌-부타디엔 공중합체의 라텍스.
이들 중합체에서, 하기와 같은 첨가제를 추가로 첨가할 수 있다.
1. 산화방지제
1.1 알킬화된 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데실)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3 하이드로퀴논 및 알킬화된 하이드로퀴논, 예를 들어 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아 니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)아디페이트.
1.4 토코페롤, 예를 들어 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E).
1.5 하이드록실화된 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-2급-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디설파이드.
1.6 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비 스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-1,2-메틸페놀), 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-3급-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실-메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스'(3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디-메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7 O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-3급-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질 에테르, 옥타데실 4-하이드록시-3,5-디메틸벤질 메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드, 이소옥틸 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 메르캅토아세테이트.
1.8 하이드록시벤질화된 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실 2-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디도데실 메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 디[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐], 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트.
1.9 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)페놀.
1.10 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스-옥틸메르캅토-6-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사하이드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11 벤질포스포네이트, 예를 들어 디메틸 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디에틸 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실 5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 및 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 Ca 염.
1.12 아실아미노페놀, 4-하이드록시오르아미드, 4-하이드록시스테아르아닐라이드, 옥틸 N-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)카바메이트.
1.13 β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.14 β-(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.15 β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산과, 1가 또는 다가 알 콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.16 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐아세트산과, 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.17 β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라진.
2. 자외선(UV) 흡수제 및 광 안정화제
2.1 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸류, 예를 들어 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 및 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질-2'-하이드록시페닐)-벤조트리아졸; 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-(에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐벤조트리아졸의 혼합물; 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3-3급-부틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]벤조트리아졸과 폴리에틸 렌 글리콜 300, 즉 [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2(이때, R은 3'-3급-부틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐이다)의 에스테르 교환반응 생성물.
2.2 2-하이드록시벤조페논류, 예를 들어 4-하이드록시 유도체, 4-메톡시 유도체, 4-옥틸옥시 유도체, 4-데실옥시 유도체, 4-도데실옥시 유도체, 4-벤질옥시 유도체, 4,2',4'-트리하이드록시 유도체 및 2'-하이드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3 치환되거나 치환되지 않은 벤조산의 에스테르류, 예를 들어 4-3급-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레소르시놀, 비스(4-3급-부틸벤조일)레소르시놀, 벤조일레소르시놀, 2,4-디-3급-부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-3급-부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트.
2.4 아크릴레이트류, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5 니켈 화합물류, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에탄올아민과 같은 추가의 리간드를 포함하거나 포함하지 않은 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착체(예를 들어, 1:1 또는 1:2 착체); 니켈 디부틸디티오카바메이트; 모노알킬 에스테르, 예를 들어 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈 염; 4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질포스폰산의 니켈 염; 추가의 리간드를 포함하거나 포함하지 않은, 케트옥심(예를 들어, 2-하이드록시-4-메틸페닐 운데실 케트옥심)의 니켈 착체 또는 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시피라졸의 니켈 착체.
2.6 입체장애된 아민류, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트, 1-하이드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-헥사메틸렌디아민과 4-3급-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-s-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2, 6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라오에이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) 2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메 틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2, 6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온.
2.7 옥살아미드류, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐라이드, 2,2'-디에톡시옥사닐라이드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부틸옥사닐라이드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부틸-옥사닐라이드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐라이드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥살아미드, 2-에톡시-5-3급-부틸-2'-에틸옥사닐라이드 및 이와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급-부틸옥사닐라이드의 혼합물, o-메톡시-이치환된 옥사닐라이드와 p-메톡시-이치환된 옥사닐라이드의 혼합물, 및 o-에톡시-이치환된 옥사닐라이드와 p-에톡시-이치환된 옥사닐라이드의 혼합물.
2.8 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진류, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-하이드록 시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스 (2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
그밖의 첨가제들
3. 금속 불활성화제, 예를 들어 N,N'-디페닐옥살아미드, N-살리실랄-N'-살리실로일하이드라진, N,N'-비스(살리실로일)하이드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디하이드라자이드, 옥사닐라이드, 이소프탈로일 디하이드라자이드, 세바코일 비스페닐하이드라자이드, N,N'-디아세틸아디포일 디하이드라자이드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디하이드라자이드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디하이드라자이드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트 리스(2,4-디-3급-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스이소데실옥시 펜타에티트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-3급-부틸페닐) 4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12H-디벤조[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트-3급-부틸-12-메틸-디벤조[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4,-디-3급-부틸-6-메틸페닐)메틸포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트.
5. 퍼옥사이드 제거제, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르(예를 들어, 라우릴 에스테르, 스테아릴 에스테르, 미리스틸 에스테르 또는 트리데실 에스테르), 메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카바메이트, 디옥타데실 디설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
6. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과 조합된 구리 염, 및 2가 망간 염.
7. 염기성 조안정화제, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 하이드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염, 예를 들어 Ca 스테아레이트, Zn 스테아레이트, Mg 베헤네이트, Mg 스테아레이트, Na 리시놀리에이트, K 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜레이트 또는 주석 피로카테콜레이트.
8. 핵형성제, 예를 들어 벤조산, 4-3급-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산 및 이들의 염; 인산염, 포스포네이트 및 포스피네이트, 및 이들의 에스테르 및 염, 또는 청정제, 예를 들어 디벤질리덴 소르비톨의 유도체.
9. 충진재 또는 강화제, 예를 들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물, 금속 수산화물, 카본블랙, 석영.
10. 가소화제, 윤활제, 유화제, 안료, 형광 증백제, 방염제, 정전기 방지제, 취입제와 같은 기타 첨가제.
이들 추가의 첨가제는 본 발명의 안정화제 물질을 첨가하기 전에, 또는 첨가하면서 동시에, 또는 첨가한 후에 중합체에 첨가할 수 있다. 이 경우에, 이들 첨가제 및 또한 본 발명의 안정화제 물질은 고형물로서, 용액으로서 또는 용융물로서 첨가할 수 있고, 또한 고형 혼합물 또는 액체 혼합물 또는 마스터배치(masterbatch)/농축물의 형태로 첨가할 수 있다.
본 발명에 따라 제조된 화합물의 유리한 작용을 하기 실시예에서 기술하겠지만, 유사한 분야에 대한 본 발명의 화합물의 적용성은 하기 실시예에 의해 제한되지 않을 것이다.
제조예 1(생성물 1)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.026몰의 산화칼슘 및 0.026몰의 물과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 2(생성물 2)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액 을 0.032몰의 수산화칼슘 및 0.032몰의 물과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 3(생성물 3)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.016몰의 산화칼슘 및 0.016몰의 수산화나트륨 용액(30 중량%)과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 4(생성물 4)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.016몰의 수산화나트륨(30 중량%)과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 5(생성물 5)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.016몰의 우레아 및 0.008몰의 물과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 6(생성물 6)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.045몰의 우레아와 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
제조예 7(생성물 7)
0.16몰의 디페닐, 0.42몰의 염화알루미늄 및 0.35몰의 삼염화인의 프리델-크래프츠 생성물을 220㎖의 이소옥탄내 0.63몰의 2,4-디-3급-부틸페놀 및 102㎖의 피 리딘의 용액에 첨가하였다. 2시간 동안 약 85℃에서 반응시킨 후에, 220㎖의 이소옥탄을 첨가하여 생성된 알루미늄 착체를 분리하여 제거하고, 생성된 생성물 용액을 0.0065몰의 산화칼슘 및 0.026몰의 물과 함께 혼합하였다. 이 혼합물을 1시간 동안 교반하고, 존재하는 고형물을 실온에서 여거하였다. 진공하에 용매를 제거하여 용융물을 수득한 후, 이것을 따라내어 담황색을 띠는 투명한 유리로 고형화시켰다.
하기 용도 실시예에 사용된 비교 생성물은 클라리안트 후닌그 S.A.(Clariant Huningue S.A.)로부터 산도스탭 P-EPQ로서 상업적으로 시판중인, 영국 특허 제 1372528 호의 실시예 12에 따라 제조된 포스포나이트이다.
용도 실시예 A
투명 용해도의 비교
90g의 이소옥탄에 생성물 1 내지 6, 및 비교 생성물을 각각 10g씩 용해시켜 각 성분의 10% 농도 용액을 제조하였다. 본 발명에 따라 제조된 생성물 1 내지 6의 용액은 무색이고 투명한 반면, 비교 생성물의 용액은 불투명하였고 단시간 정치시 침전물이 침착하였다. 따라서, 본 발명의 생성물은 균질 용액으로서, 균질한 피복물 시스템에의 첨가제로서, 그리고 그의 초기중합체성 성분으로서 첨가하기에 특히 적합할 뿐만 아니라, 통상적으로는 투명한 최종 생성물, 예를 들어 피복물, 분말 피복물, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리비닐 클로라이드, 폴리메틸메타크릴레이트 또는 환상 올레핀 공중합체(COC), 즉 매우 소량의 결정질 함량을 갖는 고도의 비결절징 상태로 존 재하는 임의의 중합체성 물질에 사용하기에 특히 적합하다.
용도 실시예 B
염화물 함량의 비교
염화물 또는 가수분해가능한 염소의 함량은 물중의 생성물 현탁액에서 전위차계 종말적 결정법을 사용하여 은적정법으로 측정하였다. 본 발명에 따라 제조된 생성물 1 내지 4는 비교 생성물에 비해 상당히 적은 염화물 함량을 나타내었다.
염화물 함량 생성물 1 생성물 2 생성물 3 생성물 4 생성물 5 생성물 6 비교 생성물
% 0.08 0.07 0.17 0.19 0.15 0.29 0.86

상기 표에서 본 발명의 생성물은 비교 생성물보다 한 자리 이하의 수치만큼 더 적은 양의 염화물을 함유하였고, 따라서 본 발명의 방법이 선행 기술에 비해 자원을 실질적으로 더 많이 사용하지 않으면서 비용면에서 효율적으로 수행할 수 있는 상당히 개선된 방법임을 알 수 있다.
용도 실시예 C
알루미늄 함량의 비교
알루미늄 함량을 AES/ICP 방법으로 측정하였다. 본 발명에 따라 제조된 생성물 1 내지 6은 비교 생성물에 비해 상당히 감소된 알루미늄 함량을 나타내었다.
알루미늄 함량 생성물 1 생성물 2 생성물 3 생성물 4 생성물 5 생성물 6 비교 생성물
ppm 275 330 450 400 250 500 940

상기 표에서 본 발명의 생성물은 비교 생성물보다 더 적은 양의 알루미늄을 함유하였고, 따라서 본 발명의 방법이 선행 기술에 비해 자원을 실질적으로 더 많 이 사용하지 않으면서 비용면에서 효율적으로 수행할 수 있는 상당히 개선된 방법임을 알 수 있다.
용도 실시예 D
적용 시험
샘플 제조물: 혼합기에서 100부의 LLDPE(선형 저밀도 폴리에틸렌, 미츠비시(Mitsubishi) F-30FG-N) 분말, 0.07부의 입체장애된 페놀(이르가녹스(Irganox) 1076) 및 각각 0.075부, 0.100부 또는 0.125부의 적절한 안정화제를 함께 건조 상태로 혼합하고, 초기에 210℃에서 콜린(Collin) 단축 압출기에서 균질화시키고 과립화시킨 후, 고트페르트 익스트루시오미터(Gottfert Extrusiometer)(압축비 1:3, 70분-1)에서 240℃에서 총 5회 압출시키고 과립화시켰다. 1회, 3회 및 5회 통과시킨 후에, 용융 유동 지수(MFI)를 각 회마다 측정하였다(츠비크(Zwick), 190℃, 2.16kg). 수득한 결과를 하기 표에 요약하였다.
MFI[g/10분] 농도[phr] 생성물 1 생성물 2 비교 생성물
1회 통과 0.075 1.00 0.99 0.98
0.100 0.99 0.97 0.98
0.125 0.98 0.98 0.98
3회 통과 0.075 0.93 0.94 0.91
0.100 0.97 0.99 0.99
0.125 0.99 0.99 0.98
5회 통과 0.075 0.74 0.76 0.70
0.100 0.93 0.97 0.87
0.125 0.94 0.97 0.82

본 발명의 생성물 1 및 2는 둘다, 특히 5회 압출 통과 후에도 가능한 큰 MFI 수치(LLDPE는 주로 가교결합이 분해되어 작은 MFI 수치를 나타낸다) 및 거의 일정 한 MFI 수치로서 나타낸 바와 같이, 비교 생성물에 비해 개선된 안정화 작용을 나타내었고, 특히 안정화제의 작용이 매우 요구되는 상태에서 더욱 개선된 안정화 작용을 나타내었다.
용도 실시예 E
적용 시험
샘플 제조물: 혼합기에서 100부의 PP(폴리프로필렌, 솔베이 폴리올레핀즈 엘텍스(Solvay Polyolefins Eltex) P HL 001PF) 분말, 0.05부의 입체장애된 페놀(이르가녹스 1010), 및 각각 0.04부 및 0.07부의 적절한 안정화제를 함께 건조 상태로 혼합하고, 초기에 210℃에서 콜린 단축 압출기에서 균질화시키고 과립화시킨 후, 고트페르트 익스트루시오미터(압축비 1:3, 50분-1)에서 270℃에서 총 5회 압출시키고 과립화시켰다. 1회, 3회 및 5회 통과시킨 후에, 용융 유동 지수(MFI)를 각 회마다 측정하였다(츠비크, 230℃, 2.16kg). 수득한 결과를 하기 표에 요약하였다.
MFI[g/10분] 0.04부의 안정화제 생성물 2 생성물 7 비교 생성물
1회 통과 3.17 3.48 4.34
3회 통과 4.61 5.83 8.80
5회 통과 7.22 10.20 15.10

MFI[g/10분] 0.07부의 안정화제 생성물 2 생성물 7 비교 생성물
1회 통과 2.58 2.75 2.81
3회 통과 2.80 3.72 4.15
5회 통과 3.76 4.62 6.11

본 발명의 생성물 2 및 7은 둘다, 특히 5회 압출 통과 후에도 가능한 작은 MFI 수치(PP는 쇄 절단에 의해 분해되어 큰 MFI 수치를 나타낸다) 및 거의 일정한 MFI 수치로서 나타낸 바와 같이, 비교 생성물에 비해 개선된 안정화 작용을 나타내었고, 특히 안정화제의 작용이 매우 요구되는 상태에서 더욱 개선된 안정화 작용을 나타내었다.
안정화 효과는 농도와 무관하며, 즉 안정화 효과가 좁은 농도 범위로 제한되지 않으며, 이러한 결과로부터 본 발명에 따라 제조된 안정화제가 다양한 중합체에서 선행 기술의 안정화제(비교 생성물)에 비해 뛰어나게 개선된 특이적 안정화 작용을 가짐을 알 수 있다.

Claims (10)

  1. 하기 화학식 II의 프리델-크래프츠(Friedel-Crafts) 반응 생성물을 하기 화학식 III의 화합물과 반응시키고 생성된 부산물을 분리하여 제거함으로써 하기 화학식 I의 포스포나이트(phosphonite) 또는 포스피나이트(phosphinite)를 제조하는 방법으로서, 용매의 부재하에 또는 불활성, 비극성 용매의 존재하에, 알콜, 암모니아, 1급 또는 2급 아민 또는 물과 같은 양성자성 화합물; 또는 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염; 또는 탄산 아미드, 티오탄산 아미드, 탄산 이미드, 티오탄산 이미드, 락탐, 티오락탐, 탄산 하이드라자이드, 우레아, 티오우레아, 대칭적으로 그리고 비대칭적으로 치환된, 우레아 유도체 및 티오우레아 유도체, 우레탄, 우레티이미드, 구아니딘 및 그의 염, 멜라민 및 그의 유도체, 및 이들의 중합체성 화합물로 구성된 군에서 선택된 질소 함유 화합물; 또는 이들 화합물 1종 이상의 배합물로 후처리를 수행하고, 생성된 부산물을 추가로 분리하여 제거함을 특징으로 하는 방법:
    화학식 I
    Figure 112000006005779-pct00007
    화학식 II
    Figure 112000006005779-pct00008
    화학식 III
    R-OH
    상기 식들에서,
    아릴은 치환되거나 치환되지 않은 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이고;
    R은 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 탄소수 1 내지 36의 유기 라디칼이고;
    A는 R 또는 OR이고;
    Hal은 할로겐이고;
    A'는 Hal 또는 R이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    후처리를 양성자성 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음)과, 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염의 배합물로 수행함을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    후처리를 양성자성 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음)과, 질소 함유 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음)의 배합물로 수행함을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    후처리를 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염과, 질소 함유 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음)의 배합물로 수행함을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    후처리를 양성자성 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음), 금속의 산화물, 수산화물, 탄산(수소)염 또는 인산(수소)염, 및 질소 함유 화합물(제 1 항에서 정의한 바와 같음)의 배합물로 수행함을 특징으로 하는 방법.
  6. 은적정법으로 측정시 0.5% 미만의 염화물 또는 가수분해가능한 염소 함량을 가짐을 특징으로 하는, 제 1 항에 따라 화학식 II의 프리델-크래프츠 반응 생성물을 화학식 III의 하이드록실 화합물과 반응시킨 후 정제하여 수득한 화학식 I의 포스포나이트 또는 포스피나이트.
  7. AES/ICP(원자방출 분광학/유도결합 플라즈마) 방법으로 측정시 500ppm 미만의 알루미늄 함량을 가짐을 특징으로 하는, 제 1 항에 따라 화학식 II의 프리델-크래프츠 반응 생성물을 화학식 III의 하이드록실 화합물과 반응시킨 후 정제하여 수득한 화학식 I의 포스포나이트 또는 포스피나이트.
  8. 디페닐 및 삼염화인의 프리델-크래프츠 반응 생성물과, 2,4-디-3급-부틸페놀의 반 응 생성물인 제 6 항 또는 제 7 항에 따른 포스포나이트.
  9. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에서 정의되거나 제조된 포스포나이트 또는 포스피나이트를 이용하여 유기 기재를 안정화시키기 위한 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    투명한 물질을 안정시키기 위한 방법.
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