KR100560505B1 - 플라즈마 표시 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래 플라즈마 표시 패널의 구동 파형도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 패널의 구동 파형도이다.
도 4는 제1 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 가변시키면서 제2 서브필드의 어드레스 기간에서의 어드레스 방전 지연을 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
본 발명은 플라즈마 표시 패널(plasma display panel, PDP)의 구동 방법에 관한 것이다.
교류형 플라즈마 표시 패널에는 그 한쪽 면에 서로 평행인 주사 전극 및 유지 전극이 형성되고 다른 쪽 면에 이들 전극과 직교하는 방향으로 어드레스 전극이 형성된다. 그리고 유지 전극은 각 주사 전극에 대응해서 형성되며, 그 일단이 서로 공통으로 연결되어 있다.
도 1은 종래 플라즈마 표시 패널의 구동 파형도이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 표시 패널의 구동 방법에 따르면, 각 서브필드는 리셋 기간(reset period), 어드레스 기간(address period) 및 유지 기간(sustain period)으로 이루어진다. 그리고 제1 서브필드의 리셋 기간이 상승 기간과 하강 기간으로 이루어지고, 제2 서브필드의 리셋 기간이 하강 기간으로 이루어진다.
리셋 기간은 이전의 유지방전으로 형성된 벽 전하를 소거하고 다음의 어드레스 방전을 안정적으로 수행하기 위해 벽 전하를 셋업(setup) 하는 역할을 한다. 어드레스 기간은 패널에서 켜지는 셀과 켜지지 않는 셀을 선택하여 켜지는 셀(어드레싱된 셀)에 벽 전하를 쌓아두는 동작을 수행하는 기간이다. 그리고 유지 기간은 어드레싱된 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 유지방전을 수행하는 기간이다.
도 1의 구동 파형을 보면, 제1 서브필드의 리셋 기간에서는 모든 방전 셀을 초기화하며, 제2 서브필드의 리셋 기간에서는 제1 서브필드에서 유지 방전이 일어난 방전 셀에 대해서 초기화를 수행한다.
그리고 어드레스 기간을 보면, 켜질 셀을 선택하기 위해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극에 각각 VscL 전압을 가지는 주사 펄스 및 Va 전압을 가지는 어드레스 펄스를 인가한다. 그러면 주사 전극(Y)과 Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A) 사이에서 방전이 일어나서, 주사 전극(Y)에 (+) 벽 전하, 어드레스 전극(A) 및 유지 전극(X)에 각각 (-) 벽 전하가 형성된다.
다음, 유지 기간에서는 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 차례로 Vs 전압의 유 지 방전 펄스를 인가하여 유지방전을 일으켜 해당 서브필드가 표시하고자 하는 계조를 표시한다. 이 때, 유지 방전 펄스의 폭은 대략 로 설정된다.
일반적으로 두 전극 사이에 전압을 인가하여 수행되는 방전은 전압이 인가된 시점보다 시간적으로 지연되어 방전이 발생하게 된다. 특히, 어드레스 방전은 일정한 주사 펄스와 어드레스 펄스의 폭 내에서 방전이 수행되어야 하므로, 방전 지연 시간이 주사 펄스와 어드레스 펄스의 폭보다 길어지면 방전이 일어나지 않는 문제점이 발생하게 된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 어드레스 방전 지연 시간을 단축시켜 안정적인 어드레스 방전을 일으킬 수 있는 플라즈마 표시 패널의 구동 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 한 특징에 따르면, 복수의 주사 전극 및 복수의 유지 전극을 포함하는 플라즈마 표시 패널에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동 방법은, 유지 기간에서, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 유지방전을 위한 유지방전 펄스를 교대로 인가하는 단계를 포함하며, 상기 제1 전극에 인가되는 마지막 방전 유지방전 펄스의 폭이, 상기 제1 전극에 인가되는 나머지 유지방전 펄스의 폭과 다르게 한다. 이 때, 상기 제1 전극에 인가되는 마지막 유지 방전 펄스의 폭이 근처이다. 그리고 각 서브필드의 유지 기간에서 마지막 유지방전 펄스는 상기 제2 전극에 인가되며, 상기 제1 전극은 유지 전극이고, 상기 제2 전극은 주사 전극이다.
본 발명의 다른 한 특징에 따르면, 복수의 주사 전극 및 복수의 유지 전극을 포함하며, 상기 주사 전극 및 유지 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 패널, 그리고 상기 주사 전극 및 유지 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하는 플라즈마 표시 장치가 제공된다. 이 때, 상기 구동 회로는, 유지 기간에서, 상기 주사 전극과 유지 전극에 유지방전을 위한 복수의 유지방전 펄스를 교대로 인가하며, 상기 복수의 서브필드 중 적어도 하나의 서브필드의 유지 기간에서 상기 유지 전극에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 나머지 유지방전 펄스의 폭과 다르게 한다. 즉, 상기 복수의 서브필드 중 적어도 하나의 서브필드의 유지 기간에서 상기 유지 전극에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 근처로 설정한다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
이제 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 패널의 구동 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 구조에 대해서 도 2를 참조하여 자세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 구동부(300), 유지전극 구동부(400) 및 주사전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(A1∼Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(X1∼Xn) 및 주사 전극(Y1∼Yn)을 포함한다. X 전극(X1∼Xn)은 각 Y 전극(Y1∼Yn)에 대응해서 형성되며, 일반적으로 그 일단이 서로 공통으로 연결되어 있다. 그리고 플라즈마 표시 패널(100)은 유지 및 주사 전극(X1∼Xn, Y1∼Yn)이 배열된 유리 기판(도시하지 않음)과 어드레스 전극(A1∼Am)이 배열된 유리 기판(도시하지 않음)으로 이루어진다. 두 유리 기판은 주사 전극(Y1∼Yn)과 어드레스 전극(A1∼Am) 및 유지 전극(X1∼Xn)과 어드레스 전극(A1∼Am)이 각각 직교하도록 방전 공간을 사이에 두고 대향하여 배치된다. 이때, 어드레스 전극(A1∼Am)과 유지 및 주사 전극(X1∼Xn, Y1∼Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 방전 셀을 형성한다.
제어부(200)는 외부로부터 영상신호를 수신하여 어드레스구동 제어 신호, 유지 전극(X) 구동 제어신호 및 주사 전극(Y) 구동 제어신호를 출력한다. 그리고 제어부(200)는 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하며, 각 서브필드는 시간적인 동작 변화로 표현하면 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어 진다.
어드레스 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스구동 제어신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극에 인가한다.
유지전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 유지전극(X)구동 제어신호를 수신하여 유지 전극(X)에 구동 전압을 인가한다.
주사전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 주사전극(Y)구동 제어신호를 수신하여 주사 전극(Y)에 구동 전압을 인가한다.
아래에서는 도 3을 참조하여 각 서브필드에서 어드레스 전극(A1∼Am) 및 유지 전극(X1∼Xn) 및 주사 전극(Y1∼Yn)에 인가되는 구동 파형에 대하여 설명한다. 그리고 아래에서는 하나의 어드레스 전극, 유지 전극 및 주사 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 기준으로 설명한다. 그리고 아래에서 언급되는 벽 전하란 각 전극에 가깝게 방전 셀의 벽(예를 들어, 유전체층)에 형성되어 전극에 축적되는 전하를 말한다. 이러한 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 벽 전하가 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임"과 같이 설명된다. 또한 벽 전압은 벽 전하에 의해서 방전 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 패널의 구동 파형도이다. 도 3에서는 복수의 서브필드 중 두 개의 서브필드만을 도시하였으며, 각각 제1 서브필드 및 제2 서브필드로 표현하였다. 그리고 제1 서브필드의 리셋 기간이 상승 기간과 하강 기간으로 이루어지는 것으로 도시하였고, 제2 서브필드의 리셋 기간이 하강 기간으로 이루어지는 것으로 도시하였다. 또한, 도 3에서 제1 서브필드는 유지방전 펄스의 수가 총 5개인 것으로 도시하였으나 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스 이전에 더 많은 유지방전 펄스가 있을 수 있다. 이 때에 제1 서브필드는 유지방전에 의해 방전 프라이밍이 충분하게 형성된 서브필드라고 가정하고 설명한다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 제1 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어지며, 리셋 기간은 상승 기간 및 하강 기간을 포함한다.
먼저, 제1 서브필드의 리셋 기간의 상승 기간에서는 유지 전극(X)을 0V로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)에 Vs 전압에서 Vset 전압까지 증가하는 상승 파형을 인가한다. 그러면, 주사 전극(Y)으로부터 어드레스 전극(A) 및 유지 전극(X)으로 각각 미약한 리셋 방전이 일어나면서, Y 전극에 (-)의 벽 전하가 쌓이고 어드레스 전극(A) 및 유지 전극(X)에 (+)의 벽 전하가 쌓인다.
그리고 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강 기간에서는 유지 전극(X)을 Ve 전압으로 유지시킨 상태에서 주사 전극(Y)에 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 감소하는 하강 파형을 인가한다. 그러면, 주사 전극(Y)의 전압이 감소하는 중에 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이 및 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이에서 미약한 리셋 방전이 일어나면서, Y 전극에 형성된 (-) 벽 전하와 X 전극 및 A 전극에 형성된 (+) 벽 전하가 소거된다.
다음, 제1 서브필드의 어드레스 기간에서 켜질 셀을 선택하기 위해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 각각 VscL 전압을 가지는 주사 펄스 및 Va 전압을 가 지는 어드레스 펄스를 인가한다. 그리고 선택되지 않는 주사 전극(Y)은 VscL 전압보다 높은 VscH 전압으로 바이어스하고, 켜지지 않을 셀의 어드레스 전극에는 기준 전압을 인가한다. 그러면, 어드레스 전압(Va)과 주사 전압(VscL)의 차이 및 어드레스 전극(A) 및 주사 전극(Y)에 형성된 벽 전하에 의한 벽 전압에 의해 어드레스 방전이 일어난다. 그 결과 주사 전극(Y)에는 (+)의 벽 전하가 형성되고 유지 전극(X)에는 (-) 벽 전하가 형성된다. 또한 어드레스 전극(A)에도 (-) 벽 전하가 형성된다.
이어서, 제1 서브필드의 유지 기간에서는 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 차례로 Vs 전압의 유지 방전 펄스를 인가한다. 그리고 각 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 근처로 설정한다. 그러면, 어드레스 기간에서 어드레스 방전에 의해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 벽 전압이 형성되어 있으면, 벽 전압과 Vs 전압에 의해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에서 방전이 일어난다. 이 때, 유지 기간에서는 주사 전극(Y)에 Vs 전압의 유지방전 펄스를 인가하는 과정과 유지 전극(X)에 Vs 전압의 유지방전 펄스를 인가하는 과정을 해당 서브필드가 표시하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 반복한다.
이와 같이 제1 서브필드의 유지 기간이 종료되면, 제2 서브필드가 시작된다. 그리고 제2 서브필드의 리셋 기간은 하강 기간으로만 이루어지며, 제2 서브필드의 리셋 기간에서는 제1 서브필드의 유지 기간에서 Vs 전압의 유지방전 펄스가 주사 전극(Y)에 인가된 상태에서 주사 전극(Y)의 전압을 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다.
그리고 제2 서브필드의 어드레스 기간 및 유지 기간은 제1 서브필드와 동일하며, 단, 제2 서브필드의 유지 기간에서 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X)에 Vs 전압의 유지방전 펄스를 제2 서브필드가 표시하고자 하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 교대로 인가한다는 점에서 차이가 있다.
이 때, 제1 서브필드의 유지 기간에서 유지방전이 일어난 경우에는 주사 전극(Y)에 (-) 벽 전하, 유지 전극(X)과 어드레스 전극(A)에 (+) 벽 전하가 형성되어 있으므로, 주사 전극(Y)의 전압이 점진적으로 감소하는 중에 셀에 형성된 벽 전압과 함께 방전 개시 전압을 넘게 되면 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강 기간에서와 같이 약 방전이 일어난다. 그리고 주사 전극(Y)의 최종 전압(Vnf)이 제1 서브필드의 하강 기간의 최종 전압(Vnf)과 동일하므로, 제2 서브필드의 하강 기간 종료 후의 셀의 벽 전하 상태는 제1 서브필드의 하강 기간 종료 후의 벽 전하 상태와 실질적으로 동일해진다.
그리고 제1 서브필드의 유지 기간에서 유지방전이 일어나지 않은 경우에는 어드레스 기간에서도 어드레스 방전이 일어나지 않았으므로, 셀의 벽 전하 상태는 제1 서브필드의 하강 기간 종료 후의 상태를 그대로 유지한다. 제1 서브필드의 하강 기간 종료 후에 셀에 형성된 벽 전압은 인가 전압과 함께 방전 개시 전압 근처로 형성되어 있으므로, 주사 전극(Y)의 전압이 Vnf 전압까지 감소하는 경우에는 방전이 일어나지 않는다. 따라서 제2 서브필드의 리셋 기간에서 방전이 일어나지 않으므로 제1 서브필드의 리셋 기간에서 설정된 벽 전하 상태를 그대로 유지한다.
이와 같이, 리셋 기간이 하강 기간으로 이루어진 서브필드는 직전 서브필드 에서 유지방전이 있는 경우에는 리셋 방전이 일어나고 유지방전이 없는 경우에는 리셋 방전이 일어나지 않는다. 따라서 한 필드에서 최초 서브필드를 제1 서브필드처럼 형성하고 나머지 서브필드를 제2 서브필드처럼 형성하면, 0계조(블랙 계조)를 표시할 때는 최초 서브필드의 리셋 기간에서만 리셋 방전(약 방전)이 일어나게 된다.
그리고 본 발명의 실시 예에 따르면, 제2 서브필드가 제1 서브필드처럼 유지 방전에 의해 방전 프라이밍이 많은 경우에는 제2 서브필드의 유지 기간에서도 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 근처로 설정한다.
일반적으로 유지 기간에 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 인가되는 유지방전 펄스는 앞서 설명한 것처럼 정도로 설정된다. 그런데, 제1 및 제2 서브필드와 같이 유지방전에 의한 방전 프라이밍이 많은 서브필드에서 종래와 동일하게 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 설정하게 되면 방전 프라이밍이 너무 많이 형성되어 다음 서브필드의 어드레스 기간에서 오방전이 발생할 수가 있다. 그리고 이러한 오방전을 방지하기 위해서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 너무 짧게 하면 방전이 잘 일어나지 않기 때문에 본 발명의 실시 예에서는 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 근처로 설정한다.
다음으로, 본 발명의 실시 예에 따른 구동 파형에서, 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지 방전 펄스의 폭을 근처로 설정하는 이유에 대해 서 도 4를 참고로 하여 상세하게 설명한다.
앞서 설명한 것처럼, 두 전극 사이에 전압을 인가하여 수행되는 방전은 전압이 인가된 시점보다 시간적으로 지연되어 방전이 발생하게 된다. 특히, 어드레스 방전은 주사 펄스와 어드레스 펄스의 폭 내에서 방전이 수행되어야 하므로, 어드레스 방전은 방전 지연 시간에 큰 영향을 받는다. 그리고 어드레스 방전은 리셋 기간 종료 후의 방전 공간에 형성된 벽 전하에 의한 벽 전압에 의하여 결정되므로, 어드레스 방전 지연은 리셋 기간 종료 후의 벽 전하 상태에 영향을 받게 된다. 그리고 리셋 기간 종료 후의 벽 전하 상태는 직전 서브필드의 마지막 유지 방전 이후의 벽 전하 상태에 따라 결정되므로, 어드레스 방전 지연 또한 직전 서브필드의 벽 전하 상태에 영향을 받게 된다.
도 4는 제1 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 가변시키면서 제2 서브필드의 어드레스 기간에서의 어드레스 방전 지연을 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
우선, 이러한 측정 결과를 얻기 위해서 제1 서브필드의 유지 기간에서 방전 프라이밍이 충분히 발생하도록 유지방전 펄스 수를 충분히 인가하며, 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지 방전 펄스의 폭을 가변시키면서 제2 서브필드의 어드레스 기간에서의 어드레스 방전 지연을 측정하였다.
도 4를 보면, 제1 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가된 마지막 유지방전 펄스의 폭에 따라 제2 서브필드의 어드레스 방전 지연에 영향을 미치는 것을 알 수 있다. 즉, 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스 폭의 변수가 어드레스 방전 지연에 관계가 있음을 알 수 있다.
또한, R, G, B 형광체에 따라 어드레스 방전 지연에 각각 차이가 있으며, R과 B 형광체는 어드레스 방전 지연이 유사하나, G 형광체는 약간의 차이가 있는 것을 알 수 있었다. 따라서, 도 4에서는 R 형광체와 G 형광체만을 도시하였다.
구체적으로 살펴보면, G 형광체의 경우에는 마지막 유지방전 펄스의 폭이 이상에서는 어드레스 방전 지연에 큰 차이가 발생하지 않으며, R 형광체의 경우에는 마지막 유지방전 펄스의 폭이 작아질수록 어드레스 방전 지연이 감소하다가 마지막 유지방전 펄스의 폭이 근처에서 다시 어드레스 방전 지연이 커지는 경향을 나타냈다.
결과적으로, 방전 프라이밍이 충분히 생성되었을 경우, 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 마지막 유지방전 펄스 폭을 근처에서 설정하면 마지막 유지방전 펄스 폭을 다른 값으로 설정하는 것보다 도 4에 나타낸 바와 같이 이후 서브필드에서의 어드레스 방전 지연이 감소되므로 안정적인 어드레스 방전을 일으킬 수 있는 것을 알 수 있다.
따라서, 본 발명의 실시 예와 같이, 복수의 서브필드 중 유지방전 펄스에 의해 방전 프라이밍이 충분한 서브필드에서는 유지 전극(X)의 마지막 유지방전 펄스의 폭을 근처로 설정하면 다음 서브필드의 어드레스 기간에서의 어드레스 방전 지연 시간을 단축시킬 수 있으므로 좀 더 안정적인 어드레스 방전을 수행할 수가 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
Claims (6)
- 복수의 제1 전극 및 복수의 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 패널에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,유지 기간에서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 유지방전을 위한 유지방전 펄스를 교대로 인가하는 단계를 포함하며,적어도 상기 제1 전극에 인가되는 마지막 방전 유지방전 펄스의 폭을 1㎲ 근처로 설정하는 플라즈마 표시 패널의 구동 방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서,각 서브필드의 유지 기간에서 마지막 유지방전 펄스는 상기 제2 전극에 인가되는 플라즈마 표시 패널의 구동 방법.
- 제1항 또는 제3항에 있어서,상기 제1 전극은 유지 전극이고, 상기 제2 전극은 주사 전극인 플라즈마 표시 패널의 구동 방법.
- 복수의 주사 전극 및 복수의 유지 전극을 포함하며, 상기 주사 전극 및 유지 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 패널, 그리고상기 주사 전극 및 유지 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하며,상기 구동 회로는,유지 기간에서, 상기 주사 전극과 유지 전극에 유지방전을 위한 복수의 유지방전 펄스를 교대로 인가하며,상기 복수의 서브필드 중 적어도 하나의 서브필드의 유지 기간에서 적어도 상기 유지 전극에 인가되는 마지막 유지방전 펄스의 폭을 1㎲ 근처로 설정하는 플라즈마 표시 장치.
- 삭제
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