KR100805109B1 - 플라즈마 표시장치 및 그 구동방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에 관한 것으로, 마지막 유지 방전 펄스를 점진적으로 상승시켜 약방전하여, 각 전극의 바깥 영역에 벽 전하가 형성되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드의 마지막 유지 방전 직전의 유지 방전 펄스 폭을 늘림으로써, 이어지는 어드레스에 적합한 벽 전하를 형성한다. 이로 인해, 어드레싱이 안정적으로 이루어져 오방전 및 저방전을 방지할 수 있다.

PDP, 전극, 방전, 벽 전하, 방전 셀, 유지 기간, 리셋 기간

Description

플라즈마 표시장치 및 그 구동방법{PLASMA DISPLAY DEVICE AND DRIVING METHOD THEREOF}

도 1a 내지 도1c는 각각 종래의 구동 파형에서 유지 기간에 형성되는 벽 전하 및 리셋 기간에서 형성되는 벽 전하를 나타내는 도면이다.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 평면도이다.

도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내는 도면이다.

도 4a 내지 도 4c는 도 3과 같은 파형이 인가되는 경우 각 전극에 형성되는 벽 전하를 나타내는 도면이다.

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내는 도면이다.

도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내는 도면이다.

본 발명은 플라즈마 표시장치 및 그 구동방법에 관한 것이다.

일반적으로 이러한 교류형 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은 하나의 필드(프레임)를 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드는 시간적인 동작 변화로 표현하면 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다.

리셋 기간은 셀에 어드레싱 동작이 원활히 수행되도록 하기 위해 각 셀의 상태를 초기화시키는 기간이며, 어드레스 기간은 패널에서 켜지는 셀과 켜지지 않는 셀을 선택하기 위하여 켜지는 셀(어드레싱된 셀)에 어드레스 전압을 인가하여 벽 전하를 쌓아두는 동작을 수행하는 기간이다. 유지 기간은 유지 방전 펄스를 인가하여 어드레싱된 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 방전을 수행하는 기간이다.

종래의 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법으로는 Kurata 등의 미국 특허 6,294,875호에 기재된 방법이 있다. '875호의 구동 방법은 1 필드를 8개의 서브필드로 나눈 후, 제1 서브필드와 제2 내지 제8 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 파형을 달리하는 방법이다.

즉, 종래의 '875호의 구동 방법은 제1 서브필드의 리셋 기간에서는 주사 전극에 완만하게 상상하는 램프 전압은 인가한 후 완만하게 하강하는 램프 전압을 인가하며, 이를 통해 모든 방전 셀을 초기화시킨다. 다음으로, 제2 서브필드의 리셋 기간에서는 주사 전극에 완만하게 하강하는 램프 전압만을 인가하여, 제1 서브필드의 어드레스 기간에서 방전된 셀만을 리셋 방전시켜 초기화한다. 그리고 이어지는 나머지 서브필드의 리셋 기간에서도 제2 서브필드의 리셋 기간과 동일한 파형이 인가된다. 한편, 제8 서브필드에서는 유지 기간 이후에 소거 기간이 형성된다.

이러한 종래의 구동 파형에서, 제2 내지 제8 서브필드의 리셋 기간에서는 이전 서브필드의 유지 방전 후 주사 전극에 하강 램프 전압만이 인가되어, 어드레싱에 적합한 벽 전하가 축적되지 않는 문제점이 발생한다. 즉, 리셋 기간 이전에 발생하는 방전은 유지 방전에 의한 방전이므로 강방전에 해당하며, 이러한 강방전으로 인해 각 전극의 바깥 영역(전극들간에 방전 셀을 형성하는 부분에서 바깥쪽 영역에 해당하는 부분을 말함, 이하 동일함)에 쌓이는 벽 전하가 많아 하강 램프 전압만을 가지는 리셋 파형에 의해서 벽 전하가 적절하게 제어되지 않는다.

도 1a 내지 도1c는 상기에서 설명한 종래 '875의 구동 파형에서 유지 기간에 형성되는 벽 전하 및 리셋 기간에서 형성되는 벽 전하를 나타내는 도면이다. 도 1a는 유지 전극에 유지 방전 펄스가 인가되는 경우의 벽 전하 상태이고, 도 1b는 마지막 유지 방전 펄스가 주사 전극에 인가되는 경우의 벽 전하 상태이고, 도 1c는 제2 서브필드의 리셋 기간 후의 벽 전하 상태를 나타내는 도면이다.

제1 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극(X)에 인가되는 유지 방전 전압(Vs)에 의해 강방전이 발생하며, 이에 따라 도 1a와 같은 벽 전하가 형성된다. 또한, 마지막 유지 방전으로서 주사 전극(Y)에 상대적으로 높은 전압을 인가하여, 유지 방전인 강방전이 발생됨으로써 도 1b와 같은 벽 전하가 형성된다. 도 1b에 나타낸 바와 같이 강방전에 의해서는 벽 전하가 각 전극의 바깥 영역에도 많이 형성되어 있으므로 제2 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 하강 램프 전압만을 가지는 리셋 파형에 의해서는 도 1c의 점선으로 나타낸 부분과 같이 바깥 영역의 벽 전하가 잔존하며, 이에 따라 벽 전하가 적절하게 제어되지 않는다. 즉, 하강 램프 전압에 의 한 리셋 방전은 약방전으로 각 전극끼리의 가까운 영역에서 거의 발생하므로, 각 전극의 바깥 영역의 벽 전하는 거의 제어되지 못 하고 도 1c에 나타낸 바와 같이 잔존하게 된다. 이와 같이 리셋 기간에서 벽 전하를 적절하게 제어하지 못 하면 이후에 어드레싱에서 오방전 및 저방전이 발생한다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 유지 기간에서 벽 전하를 적절하게형성하여 이어지는 리셋 기간에서 리셋이 불안정하게 이루어져 발생되는 오방전 및 저방전을 방지하는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공한다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에서는 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법을 제공한다. 이 구동 방법은, 제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간에서, 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하는 단계, 상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서, 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 단계, 상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서, 상기 제2 전극의 전압에서 제1 전극의 전압을 뺀 전압을 제2 전압에서 제3 전압까지 상승시키는 단계, 제2 서브필드의 유지 기간 중 제4 기간에서, 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 단계, 상기 제2 서브필드의 유지 기간 중 상기 제4 기간과 연속되는 제5 기간에서, 상기 제2 전극의 전압에서 제1 전극의 전압을 뺀 전압을 제2 전압에서 제3 전압까지 상승시키는 단계를 포함한다. 이때, 상기 제1 서브필드의 서스테인 수가 상기 제2 서브필드보다 상대적으로 적을 경우에는 상기 제1 서브필드의 상기 제2 기간은 상기 제4 기간보다 길고, 상기 제3 기간 및 상기 제5 기간은 유지 기간에서 마지막 유지 방전 펄스가 인가되는 기간이다.

본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널, 구동부 및 제어부를 포함한다. 상기 플라즈마 표시 패널은 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함한다. 상기 구동부는 유지 기간 중 제1 기간에서 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서 상기 제1 전극에 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 상승하는 전압을 인가한다. 상기 제어부는 하나의 프레임을 복수의 서브필드로 구분하며, 설정된 서스테인 수보다 적은 서스테인 수가 할당된 제1 서브필드에서는 상기 제2 기간을 상기 제1 기간보다 길게 설정한다. 이때, 상기 제3 기간은 유지 기간에서 마지막 유지 방전 펄스가 인가되는 기간이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유 사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시장치의 개략적인 평면도이다.

도 2에 나타낸 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)를 포함한다.

플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(A1~Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(X1~Xn) 및 주사 전극(Y1~Yn)을 포함한다. 유지 전극(X1~Xn)은 각 주사 전극(Y1~Yn)에 대응해서 형성되며, 일반적으로 그 일단이 서로 공통으로 연결되어 있다. 그리고 플라즈마 표시 패널(100)은 유지 및 주사 전극(X1~Xn, Y1~Yn)이 배열된 기판(도시하지 않음)은 어드레스 전극(A1~Am)이 배열된 기판(도시하지 않음)으로 이루어진다. 두 기판은 주사 전극(Y1~Yn)과 어드레스 전극(A1~Am) 및 유지 전극(X1~Xn)과 어드레스 전극(A1~Am)이 각각 직교하도록 방전 공간을 사이에 두고 대향하여 배치된다. 이때, 어드레스 전극(A1~Am)과 유지 및 주사 전극(X1~Xn, Y1~Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 방전 셀을 형성한다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 파형이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.

제어부(200)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 어드레스 전극 구동 제어신호, 유지 전극 구동 제어신호 및 주사 전극 구동 제어신호를 출력한다. 그리고 제어부(200)는 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하며, 각 서브필드는 시간적인 동작 변화로 표현하면 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다.

어드레스 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스 전극 구동 제어신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극에 인가한다.

주사 전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 주사 전극 구동 제어신호를 수산하여 주사 전극에 구동 전압을 인가한다.

유지 전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 유지 전극 구동 제어신호를 수신하여 유지 전극에 구동 전압을 인가한다.

아래에서는 도 3 내지 도 6을 참조하여 어드레스 전극(A1~Am), 유지 전극(X1~Xn) 및 주사 전극(Y1~Yn)에 인가되는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법에 대해서 설명한다. 또한, 아래 설명에서 어드레스 전극(A), 유지 전극(X) 및 주사 전극(Y)으로 도면 부호를 표시하는 것은 모든 어드레스 전극, 유지 전극 및 주사 전극에 동일한 전압이 인가되는 것을 나타내며, 어드레스 전극(Ai) 및 주사 전극(Yj)으로 표시하는 것은 어드레스 전극 및 주사 전극 중 일부에만 해당 전압이 인가되는 것을 나타낸다.

도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나 타낸 도면이며, 도 4a 내지 도 4c는 도 3과 같은 파형이 인가되는 경우 각 전극에 형성되는 벽 전하를 나타내는 도면이다. 도 3에서는 편의상 임의의 서브필드인 제1 서브필드의 유지 기간에서 인가되는 구동 파형과 제1 서브필드에 연속하여 인가되는 제2 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간에 인가되는 구동 파형을 나타내었으며, 나머지 부분은 생략하였다.

제1 서브필드의 유지 기간에서는 유지 방전 펄스 전압(Vs1)을 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 교대로 인가하여 제1 서브필드의 어드레스 기간(도시하지 않음)에서 선택된 셀을 유지 방전한다. 여기서, 유지 전극(X)에 유지 방전 펄스 전압(Vs1)이 인가되는 경우 도 4a에 나타낸 방전 셀에 벽전하가 형성된다. 즉, 유지 전극(X)에 유지 방전 펄스 전압(Vs1)을 인가하고 주사 전극(Y)에 기준 전압(이하, 0V라 가정함)을 인가할 경우, 강방전이 발생하여 유지 전극(X)에 많은 양의 (-)벽 전하가 넓게 형성되고 주사 전극(Y) 및 어드레스 전극(A)에 많은 양의 (+)벽 전하가 넓게 형성된다. 다음으로, 마지막 유지 방전을 발생시키기 위한 기간(S1)에서, 유지 전극(X)에 기준 전압(0V)을 인가한 상태에서 주사 전극(Y)의 전압을 Vsp 전압에서 Vsr 전압까지 점진적으로 상승시킨다. 그러면, 주사 전극(Y)으로부터 유지 전극(X)으로 약방전 발생하여, 도 4b에 나타낸 바와 같이 각 전극 사이의 바깥 영역에 벽 전하가 덜 형성된다. 일반적으로 방전의 세기가 약한 약방전은 방전이 전극 전체 영역으로 확대되지 않으므로 전극의 바깥 영역에는 벽 전하가 덜 형성된다. 따라서, 도 3과 같이 유지방전 시키기 위해 주사 전극(Y)에 점진적으로 상승하는 전압을 인가하는 경우 약방전이 발생하여 벽 전하가 바깥 영역에 덜 형성된다. 여 기서, Vsp 전압은 이전 유지 방전에 발생된 벽 전하와 전압 Vsp 의 인가로 인해 강방전 발생하지 않도록 하는 전압으로서 적절하게 설정되며, Vsr 전압은 제1 서브필드의 어드레스 기간(도시하지 않았음)에서 선택된 방전 셀만을 유지 방전시키기 위한 전압으로 적절하게 설정된다. 한편, Vsr 전압은 Vsr 전압을 발생시키는 전압원의 수를 줄이기 위해 Vs1 전압과 동일한 전압으로 설정될 수 있다.

이어지는 제2 서브필드의 리셋 기간에서는 유지 전극(X)에 Ve 전압을 인가한 상태에서 주사 전극(Y)의 전압을 Vsf 전압에서 Vn 전압까지 점진적으로 하강시킨다. 그러면, 제1 서브필드에서 선택되어 유지 방전된 방전 셀에서만 미약한 리셋 방전이 발생되고 선택되지 않은 방전 셀에서는 방전이 일어나지 않는다. 제1 서브필드에서 유지 방전한 셀의 벽 전하 상태는 도 4b에 나타낸 바와 같이 전극의 바깥 영역에 벽 전하가 거의 형성되지 않으므로, 제2 서브필드의 리셋 기간의 파형과 같이 점진적으로 하강하는 전압만을 인가하더라도 도 4c에 나타낸 바와 같이 벽 전하의 제어가 가능해져 어드레싱에 적합한 벽 전하 상태가 된다. 제2 서브필드의 리셋 기간의 파형과 같이 점진적으로 하강하는 전압만을 인가하는 경우에는 약방전이 발생하여 전극의 안쪽영역에서 주로 방전이 발생하더라도, 제1 서브필드의 마지막 유지 방전이 강방전이 아닌 약방전이므로 도 4b에 나타낸 바와 같이 전극의 바깥 영역에 벽 전하가 거의 형성되지 않는다. 이에 따라 어드레싱에 적절한 벽 전하가 형성된다. 따라서 본 발명의 제1 실시 예에서는 어드레스 기간에서의 오방전 및 저방전을 막을 수 있다. 한편, Vsp 전압은 전원 수를 감소시키기 위해 Vsf 전압과 동일한 전압으로 설정될 수 있다.

제2 서브필드의 어드레스 기간에서는 방전 셀을 선택하기 위해서 주사 전극(Yj)에 순차적으로 VscL 전압을 가지는 주사 펄스를 인가하고 VscL 전압이 인가되지 않는 주사 전극을 VscH 전압으로 바이어스 한다. 이때, VscL 전압을 주사 전압이라 하며, VscH 전압을 비주사 전압이라고도 한다. 그리고 VscL 전압이 인가된 주사 전극에 의해 형성되는 복수의 방전 셀 중에서 선택하고자 하는 방전 셀을 통과하는 어드레스 전극(Ai)에 Va 전압을 가지는 어드레스 펄스를 인가하고, 선택하지 않는 어드레스 전극은 기준 전압(0V)으로 바이어스한다. 그러면, Va 전압이 인가된 어드레스 전극과 VscL 전압이 인가된 주사 전극에 의해 형성되는 방전 셀에서 어드레스 방전이 일어나면서 주사 전극에는 (+)벽 전하가 형성되고 유지 전극에는 (-)벽 전하가 형성된다.

본 발명의 제1 실시 예와 같이 이전 서브필드의 유지 기간에서 발생하는 마지막 유지 방전을 강방전이 아닌 약방전을 발생시키는 경우, 전극의 바깥 쪽 영역에 벽 전하가 덜 형성되므로, 이어지는 서브필드의 리셋 기간에서의 리셋 파형으로서 점진적으로 하강하는 전압만을 인가하더라도 리셋 방전에 의해 어드레싱에 적합한 벽 전하가 형성된다.

그러나, 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드의 경우에는 유지 기간에서 유지 방전 횟수가 적어서 서스테인 수가 많이 할당된 서브필드에 비해 프라이밍 입자(priming particle)와 벽 전하가 적다. 프라이밍 입자 및 벽 전하가 적게 형성된 상태에서는 본 발명의 제1 실시 예와 같이 마지막 유지 방전의 약 방전 및 리셋 기간만으로는 벽 전하가 적절하게 제어되지 않으며, 이에 따라 어드레싱에 부적합한 벽 전하 상태가 된다. 그리고 이와 같은 현상은 고온의 경우에 더욱 많이 발생한다. 이하, 이를 해결하는 본 발명의 제2 및 제3 실시 예에 따른 구동 파형에 대해서 알아본다.

도 5 및 도 6에서는 편의상 임의의 서브필드인 제1 서브필드의 유지 기간에서 인가되는 구동 파형과 제1 서브필드에 연속하여 인가되는 제2 서브필드의 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간에 인가되는 구동 파형을 나타내었으며, 나머지 부분은 생략하였다. 또한, 제1 서브필드는 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드이고, 제2 서브필드는 제1 서브필드에 비해 많은 서스테인 수가 할당된 서브필드이다.

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.

도 5에 나타낸 바와 같이 본 발명의 제2 실시 예에서는 서스테인 수가 적게 할당된 제1 서브필드의 유지 기간에서 마지막 유지 방전 직전의 유지 방전 펄스가 인가되는 기간(S2)을 마지막 유지 방전으로부터 2번째 유지 방전 펄스가 인가되는 기간(S3)보다 길게 한다. 즉, 본 발명의 제2 실시 예는 제1 서브필드의 유지 기간에서 기간(S2) 동안 유지 전극에 Vs1 전압이 인가되는 것을 제외하고, 본 발명의 제1 실시 예와 동일한 구동 파형을 갖는다.

제1 서브필드의 유지 기간 중 기간(S3)에서, 주사 전극(Y)에 유지 방전 펄스전압(Vs1)을 인가하고 유지 전극(X)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 그러면, 주사전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 유지 방전이 발생하여 주사 전극(Y)에는 (-)벽 전하 가 형성되고 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에는 (+)벽 전하가 형성된다.

제1 서브필드의 유지 기간 중 기간(S2)에서, 유지 전극(X)에 유지 방전 펄스 전압(Vs1)을 인가하고 주사 전극(Y)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 그러면, 유지 전극(X)과 주사 전극(Y)간의 방전이 기간(S3)보다 길게 발생하여 유지 전극(X)에는 기간(S3)에 비해 더 많은 양의 (-)벽 전하가 형성되고 주사 전극(Y) 및 어드레스 전극(A)에는 기간(S3)에 비해 더 많은 양의 (+)벽 전하가 형성된다. 따라서, 이어지는 서브필드의 리셋 기간에서 벽 전하가 소거되더라도 어드레싱에 적절한 벽 전하를 유지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제2 실시 예는 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드의 어드레스 기간에서의 오방전 및 저방전을 방지할 수 있다.

이하, 제1 서브필드의 기간(S1) 및 제2 서브필드는 본 발명의 제1 실시 예와 구동 파형이 동일하므로 동일한 효과를 기대할 수 있으며, 그 설명은 생략한다.

도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.

도 6에 나타낸 바와 같이 본 발명의 제3 실시 예에서는 서스테인 수가 적게 할당된 제1 서브필드의 유지 기간에서 마지막 유지 방전 직전의 유지 방전 펄스 전압(Vs2)을 마지막 유지 방전으로부터 2번째 유지 방전 펄스 전압(Vs1)보다 높게 한다. 즉, 본 발명의 제3 실시 예는 제1 서브필드의 유지 기간에서 기간(S4) 동안 유지 전극에 Vs2 전압을 인가하는 것을 제외하고, 본 발명의 제1 실시 예와 동일한 구동 파형을 갖는다.

제1 서브필드의 유지 기간 중 기간(S3)에서, 주사 전극(Y)에 유지 방전 펄스 전압(Vs1)을 인가하고 유지 전극(X)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 그러면, 주사전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 유지 방전이 발생하여 주사 전극(Y)에는 (-)벽 전하가 형성되고 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에는 (+)벽 전하가 형성된다.

기간(S4)에서, 유지전극(X)에 유지 방전 펄스 전압(Vs2)을 인가하고, 주사 전극(Y)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 그러면, 유지 전극(X)과 주사 전극(Y)간의 전압 차(Vs2)로 인해 유지 전극(X)에는 기간(S3)에 비해 많은 양의 (-)벽 전하가 형성되고 주사 전극(Y) 및 어드레스 전극(A)에는 기간(S3)에 비해 많은 양의 (+)벽 전하가 형성된다. 그리고 프라이밍 입자도 더욱 많이 형성된다. 이로 인해, 서스테인 수가 적게 할당될 경우 유지 방전 횟수가 적어 벽 전하 및 프라이밍 입자가 적게 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드의 각 전극(X, Y 및 A)에 형성된 벽 전하가 서스테인 수가 많이 할당된 서브필드의 벽 전하와 유사하도록, 유지 방전 펄스 전압(Vs2)은 설정된다.

이하, 제1 서브필드의 기간(S1) 및 제2 서브필드는 본 발명의 제1 실시 예와 구동 파형이 동일하므로 동일한 효과를 기대할 수 있으며, 그 설명은 생략한다.

이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 실시 예에 따르면 유지 기간에서 마지막 유지 방전을 약방전하여 각 전극의 바깥 영역에 벽 전하가 형성되는 것을 방지함으로써 리셋 기간에서 벽 전하가 적절하게 제어된다. 또한, 서스테인 수가 적게 할당된 서브필드의 유지 방전에 의한 벽 전하를 제어하여 어드레싱에 적합한 벽 전하를 형성한다. 이를 통해 오방전 및 저방전을 막을 수 있다.

Claims (12)

1. 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,

   제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간에서, 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하는 단계,

   상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서, 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 단계,

   상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제2 전압에서 제3 전압까지 상승시키는 단계,

   제2 서브필드의 유지 기간 중 제4 기간에서, 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 단계, 그리고

   상기 제2 서브필드의 유지 기간 중 상기 제4 기간과 연속되는 제5 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 상승시키는 단계를 포함하며,

   상기 제1 서브필드의 서스테인 수가 상기 제2 서브필드보다 상대적으로 적을 경우에는 상기 제1 서브필드의 상기 제2 기간은 상기 제4 기간보다 긴 기간인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 제1기간, 상기 제2 기간 및 상기 제4 기간은 각각 하나의 유지 방전 펄스가 인가되는 기간인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
3. 제1항에 있어서,

   상기 제3 전압은 상기 제1 전압과 동일한 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
4. 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,

   제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간에서, 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하는 단계,

   상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서, 상기 제2 전극에 제2 전압을 인가하는 단계,

   상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 상승시키는 단계,

   제2 서브필드의 유지 기간 중 제4 기간에서, 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 단계, 그리고

   상기 제2 서브필드의 유지 기간 중 상기 제4 기간과 연속되는 제5 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압에서 상기 제4 전압까지 상승시키는 단계를 포함하며,

   상기 제1 서브필드의 서스테인 수가 상기 제2 서브필드보다 상대적으로 적을 경우에는 상기 제1 서브필드의 상기 제2 전압은 상기 제1 전압보다 높은 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
5. 제4항에 있어서,

   상기 제1 기간, 상기 제2 기간 및 상기 제4 기간은 각각 하나의 유지 방전 펄스가 인가되는 기간인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
6. 제4항에 있어서,

   상기 제4 전압은 상기 제1 전압과 동일한 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
7. 플라즈마 표시 패널, 제어부 및 구동부를 포함하며,

   상기 플라즈마 표시 패널은 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함하고,

   상기 구동부는 유지 기간 중 제1 기간에서 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서 상기 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서 상기 제1 전극에 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 상승하는 전압을 인가하고,

   상기 제어부는 하나의 프레임을 복수의 서브필드로 구분하며, 설정된 서스테인 수보다 적은 서스테인 수가 할당된 제1 서브필드에서는 상기 제2 기간을 상기 제1 기간보다 길게 설정하는 플라즈마 표시 장치.
8. 제7항에 있어서,

   상기 제1 기간 및 상기 제2 기간은 각각 하나의 유지 방전 펄스가 인가되는기간인 플라즈마 표시 장치.
9. 제7항에 있어서,

   상기 제3 전압은 상기 제1 전압과 동일한 전압인 플라즈마 표시 장치.
10. 플라즈마 표시 패널, 구동부 및 제어부를 포함하고,

    상기 플라즈마 표시 패널은 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극을 포함하고,

    상기 구동부는 유지 기간 중 제1 기간에서 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제1 기간과 연속되는 제2 기간에서 상기 제2 전극에 제2 전압을 인가하고, 유지 기간 중 상기 제2 기간과 연속되는 제3 기간에서 상기 제1 전극에 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 상승하는 전압을 인가하고,

    상기 제어부는 하나의 프레임을 복수의 서브필드로 구분하며, 설정된 서스테인 수보다 적은 서스테인 수가 할당된 제1 서브필드에서는 상기 제2 전압을 상기 제1 전압보다 높게 설정하는 플라즈마 표시 장치.
11. 제10항에 있어서,

    상기 제1 기간 및 상기 제2 기간은 각각 하나의 유지 방전 펄스가 인가되는기간인 플라즈마 표시 장치.
12. 제10항에 있어서,

    상기 제4 전압은 상기 제1 전압과 동일한 전압인 플라즈마 표시 장치.

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