KR100540346B1 - 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물 - Google Patents

플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR100540346B1
KR100540346B1 KR1020030061639A KR20030061639A KR100540346B1 KR 100540346 B1 KR100540346 B1 KR 100540346B1 KR 1020030061639 A KR1020030061639 A KR 1020030061639A KR 20030061639 A KR20030061639 A KR 20030061639A KR 100540346 B1 KR100540346 B1 KR 100540346B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
acrylate
weight
photosensitive resin
resin composition
meth
Prior art date
Application number
KR1020030061639A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050024790A (ko
Inventor
장한진
심한수
홍석현
Original Assignee
장한진
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 장한진 filed Critical 장한진
Priority to KR1020030061639A priority Critical patent/KR100540346B1/ko
Publication of KR20050024790A publication Critical patent/KR20050024790A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100540346B1 publication Critical patent/KR100540346B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1808—C8-(meth)acrylate, e.g. isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1811—C10or C11-(Meth)acrylate, e.g. isodecyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate or 2-naphthyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1812—C12-(meth)acrylate, e.g. lauryl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1818—C13or longer chain (meth)acrylate, e.g. stearyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/20—Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/281—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing only one oxygen, e.g. furfuryl (meth)acrylate or 2-methoxyethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/103—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of trialcohols, e.g. trimethylolpropane tri(meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/02—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates of isocyanates or isothiocyanates only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

본 발명은 플렉소 인쇄판(flexo printing plate)용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상이고 하이드록시기를 갖는 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트((meta)acrylate)를 1:0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 몰비로 반응시켜 제조되고, 분자 중에 하나 이상의 아크릴로일(acryloil) 또는 메타아크릴로일(metacryloil)기를 가지는 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머 40 내지 80중량%; 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 반응성 모노머 10 내지 50중량%; 광개시제 1 내지 15중량%; 레벨링제 0.01 내지 3중량%; 및 소포제 0.01 내지 3중량%를 포함하는 플렉소 인쇄판용 광경화성 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 수지막은 2차경화공정이 필요없을 정도로 경화성이 우수하여 제조공정 및 제조원가를 절감할 수 있고, 내용제성이 우수하며, 탄성이 높아 인쇄된 패턴의 정밀성이 우수하다.
플렉소 인쇄판, 감광성 수지, 폴리부타디엔 폴리올

Description

플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FLEXO PRINTING PLATE}
본 발명은 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상이고 하이드록시기를 갖는 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 ((meta)acrylate)를 1:0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 몰비로 반응시켜 제조되고, 분자 중에 하나 이상의 아크릴로일(acryloil) 또는 메타아크릴로일(metacryloil)기를 가지는 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머 40 내지 80중량%; 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 반응성 모노머 10 내지 50중량%; 광개시제 1 내지 15중량%; 레벨링제 0.01 내지 3중량%; 및 소포제 0.01 내지 3중량%를 포함하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
종래의 인쇄판용 감광성 수지 조성물로써는 광중합성 올리고머로 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 가지고 있으며 올리고머의 주사슬이 폴리에틸렌 글리콜이나 폴리프로필렌 글리콜을 주축으로 한 우레탄 아크릴레이트가 대부분이었다. 광중합성 모노머로는 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 물질, 광개시제로 구성되어 있다. 이 이외에 기타 첨가제로써 레벨링제(leveling), 소포제 등을 사용한다.
그러나, 이러한 감광성 수지 조성물을 사용하여 감광성 수지막을 형성하는 경우 1차 감광만으로는 원하는 물성이 얻어지지 않아 2차 감광공정을 필요로 하기 때문에 제조공정이 길어지고, 이로 인해 제조비용이 상승되며, 그럼에도 불구하고 내용제성이 약해 인쇄공정시 사용하는 엔-메틸 피로리돈이나 사이클로 헥사논등과 같은 비교적 강한 용제에 인쇄판이 침적될 경우 용제에 견디지 못하고 인쇄판이 부풀어오르는 스웰링현상이 생겨 사용시에 인쇄판의 망점이 없어지고 모양이 망가지는 등 많은 문제가 따르는 것으로 알려져 있다. 또한 인쇄판으로써의 탄성이 높지 않아 더 높은 탄성을 가지는 수지가 요구되어져 왔다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 상기 문제점을 해결하여 2차경화공정이 필요 없을 정도로 경화성이 우수하여 제조공정 및 제조원가를 절감할 수 있고, 내용제성이 우수하며, 탄성이 높은 수지막을 형성할 수 있는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상이고 하이드록시기를 갖는 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트((meta)acrylate)를 1:0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 몰비로 반응시켜 제조되고, 분자 중에 하나 이상의 아크릴로일(acryloil) 또는 메타아크릴로일(metacryloil)기를 가지는 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머 40 내지 80중량%; 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 반응성 모노머10 내지 50중량%; 광개시제 1 내지 15중량%; 레벨링제 0.01 내지 3중량%; 및 소포제 0.01 내지 3중량%를 포함하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물을 제공한다.
이하에서 본 발명에 대해 보다 자세히 설명한다.
본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물은 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상이고 하이드록시기를 갖는 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트((meta)acrylate)를 1:0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 몰비로 반응시켜 제조되고, 분자 중에 하나 이상의 아크릴로일(acryloil) 또는 메타아크릴로일(metacryloil)기를 가지는 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머를 포함한다. 전기한 바와 같이, 종래의 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 폴리올계의 감광성 수지 조성물은 경화성 및 내용제성이 좋지 않다. 또한, 폴리부타디엔 폴리올을 가지고 광경화성 올리고머를 제조하는 경우에도 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1미만일 때는 경화 수지막 내부의 가교밀도가 떨어져 원하는 물성을 가진 경화 수지막을 수득하기 힘든 것으로 밝혀졌다. 따라서, 본 발명의 감광성 수지 조성물의 폴리부타디엔 폴리올은 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트((meta)acrylate)의 몰비는 1:0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 범위인 것이 바람직하다. 상기 몰비를 벗어나는 경우에는 본 발명이 목표하는 경화성, 내용제성 및 탄성을 갖는 경화 수지막을 제조할 수 없다.
상기 폴리부타디엔 폴리올은 그 분자량이 1,000 내지 5,000인 것이 바람직하다. 분자량이 1,000미만인 경우에는 경도가 높아지는 문제가 있고, 5,000 이상인 경우에는 경화속도가 저하되는 문제가 있다. 본 명세서에서의 분자량은 수평균 분자량(Mn)을 의미한다.
또한, 상기 폴리이소시아네이트는 1,6-헥사메틸렌 이이소시아네이트, 메틸렌-비스(4-사이클로헥실이소시아네이트), 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토메틸-3,5,5-트리메틸사이클로헥산, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 메틸렌디페닐 디이소시아네이트, 노보란 디이소시아네이트 및 다이머산 디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로부터 제조되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 분자 말단에 하이드록시를 갖는 (메타)아크릴레이트는 2-하이드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산 디메탄올 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트 및 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로부터 제조되는 것이 바람직하다.
상기 올리고머는 전기한 몰비로 상기 성분을 혼합하고, 중합억제제 및 반응 촉매를 첨가하여 교반하에 80℃전후의 반응온도에서 8 내지 20시간 반응시켜 제조한다. 상기 중합억제제는 하이드로퀴논이 바람직하고, 사용량은 반응물 총중량을 기준으로 0.001 내지 0.1중량% 범위이다. 또한, 상기 반응촉매는 트리에틸아민, 트리에틸렌 디아민, 디부틸틴 디라우레이트, 염화제일주석, 테트라-엔-부틸틴, 트리-엔-부틸틴아세테이트, 엔-부틸틴트리클로라이드, 트리메틸틴하이드록사이드 및 디메틸틴디클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 바람직하고, 디부틸틴 디라우레이트가 보다 바람직하며, 사용량은 반응물 총중량을 기준으로 0.001 내지 0.1중량% 범위이다.
본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물은 상기 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머를 40 내지 80중량% 포함한다. 상기 올리고머의 함량이 40중량% 미만이면 경화물의 수축율 증가로 인쇄판의 두께가 일정하지 못하게 되고 내용제성이 떨어지는 문제가 있고, 80중량%를 초과하면 점도의 상승으로 인해 작업성이 현저히 떨어지는 문제가 있다.
또한, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물은 분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 반응성 모노머 10 내지 50중량%을 포함한다. 상기 반응성 모노머 중 1 관능기를 가진 모노머는 2-하이드록시 에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 이크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트 및 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고, 2 관능기를 가진 모노머는 트리프로필렌글 리콜 디 아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 비스 페놀 A 디아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이며, 3 관능기 이상을 가진 모노머는 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하며, 이들의 혼합물도 사용가능하다. 더욱 바람직하게는, 상기 반응성 모노머는 라우릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 2-에틸 헥실 메타아크릴레이트, 스테아릴 메타아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트. 트리프로필렌 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물은 광개시제 1 내지 15중량%를 포함한다. 광중합 개시제는 현재까지 알려진 일반적인 광개시제를 사용할 수 있으며, 그 중 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시- 2-메틸-1-페닐프로파-1-논 및 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물은 레벨링제 0.01 내지 3중량%를 포함한다. 레벨링제로는 실리콘 화합물이 많이 사용되며 그 예로는 비와이케이 #300, #333, #341(제조원; 비와이케이-케미사 제품)등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 수지 조성물은 소포제 0.01 내지 3중량%를 포함한다. 상기 소포제로는 실리콘 계통의 소포제가 바람직하고, 그 예로는 비와이케이 #022(제조원; 비와이케이-케미사 제품), 테고에어렉스 #931, 테고 포멕스엔(제조원; 테고-케미사), 에프카 #36(제조원; 에프카사)등을 들 수 있다.
이하에서는 본 발명의 바람직한 태양인 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명에 대한 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 하기 실시예로만 제한되는 것은 아니다.
합성예 1
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:1000) 590.4g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 262.5g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 136.9, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온하여, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 960g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 15500cps이었다.
합성예 2
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:2000) 739.6g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 164.4g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 856.8, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온하여, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 950g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 28000cps이었다.
합성예 3
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:3000) 807.6g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 119.7g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 62.5, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온하여, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 920g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 45300cps이었다.
(합성)비교예 1
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 미만인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:1000) 590.4g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 262.5g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 136.9, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 960g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 18500cps이었다.
(합성)비교예 2
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 미만인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:2000) 739.6g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 164.4g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 856.8, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온하여, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 950g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 32000cps이었다.
(합성)비교예 3
1 리터 4구 반응플라스크에 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 미만인 폴리부타디엔 폴리올(분자량:3000) 807.6g, 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토 메틸-3,5,5 -트리메틸 사이클로헥산 119.7g, 2-하이드록시 에틸아크릴레이트 62.5, 하이드로퀴논 1g, 디부틸틴디라우레이트 0.2g을 넣고 교반하면서 서서히 승온하여, 80℃에서 14시간 반응시켰다. 그 결과, 중합생성물 920g을 수득하였고, 생성물의 점도는 25℃에서 52000cps이었다.
실시예 1 내지 3
각각 상기 (합성)실시예 1 내지 3에서 얻은 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머 70중량부, 반응성 모노머로서 헥산디올아크릴레이트 13 중량부 및 라우릴아크릴레이트 10 중량부, 광개시제로서 1-하이드록시 사이클로헥실 페닐 케톤(시바가이기사 제품) 5 중량부, 레벨링제로서 비와케이 #300(비와이케이-케미사 제품) 1중량부 및 소포제로서 비와이케이 #22(비와이케이-케미사 제품) 1중량부를 혼합한 조성물을 2×2인치(inch) 크기의 플렉소 인쇄판에 두께 3mm로 코팅한 후 120 W의 고압 수은등으로 된 자외선 경화 장치인 퓨전 램프로 350 mJ/㎠에서 경화시켰다.
<비교예 1 내지 3>
각각 상기 합성비교예 1 내지 3에서 얻은 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 미만인 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머을 사용한 것을 제외하고는 실시예와 동일한 방법으로 감광성 수지조성물을 제조하여 2×2인치(inch) 크기의 플렉소 인쇄판에 두께 3mm로 코팅한 후 자외선 경화시켰다.
<비교예 4>
합성실시예 1에서 얻은 광경화성 올리고머 대신 폴리프로필렌계 우레탄 아크릴레이트를 사용한 것을 제외하고는 실시예와 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하여 2×2인치(inch) 크기의 플렉소 인쇄판에 두께 3mm로 코팅한 후 자외선 경화시켰다.
<비교예 5>
합성실시예 1에서 얻은 광중합성 올리고머 대신 폴리에틸렌계 우레탄 아크릴 레이트를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하여 2×2인치(inch) 크기의 플렉소 인쇄판에 두께 3mm로 코팅한 후 자외선 경화시켰다.
상기 각 실시예 및 비교예에서 제조된 조성물의 성분비는 다음의 표 1에 기재하였다.
Figure 112003033112579-pat00001
상기 실시예에서 제조된 1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상인 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머와 비교예의 광경화성 올리고머의 점도 및 상기 실시예 및 비교예에서 형성된 경화된 수지층의 내용제성 및 경도 등의 물성을 평가하였다. 점도 및 물성의 측정은 하기와 같은 기준으로 이루어졌으며, 측정결과는 표 2에 나타내었다.
1) 점도 : 25℃에서 브룩필드 회전 점도계 스핀들 No. 4, 30rpm으로 측정하였다.
2) 내용제성 1 : 실시예 및 비교예에서 제조된 경화수지층이 덮인 인쇄판을 N-메틸피로리돈 용액에 완전히 침적시켜 48시간 후에 꺼내어 인쇄판에 묻은 용제를 헝겊이나 가제로 닦아내고 난 후 스웰링되기 전과 후의 셀의 좌우 길이를 전자현미경으로 ㎛단위까지 측정하여 그 차이를 퍼센트(%)비로 나타내는 방법으로 내용제성을 측정하였다.
3) 내용제성 2 : 실시예 및 비교예에서 제조된 경화수지층이 덮인 인쇄판을
사이클로 헥사논 용액에 완전히 침적시켜 48시간 후에 꺼내어 인쇄판에 묻은 용제를 헝겊이나 가제로 닦아내고 난 후 스웰링되기 전과 후의 셀의 좌우 길이를 전자현미경으로 ㎛단위까지 측정하여 그 차이를 퍼센트(%)비로 나타내는 방법으로 내용제성을 측정하였다.
4) 경도: 경화 수지층을 Shore A 경도계로 경도를 측정하였다.
Figure 112003033112579-pat00002
상기 표 2에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물로 제조된 경화 수지층의 내용제성, 경도 등의 물성이 기존의 감광성 수지 조성물로 제조된 수지층의 물성보다 훨씬 우수함을 알 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물을 이용하여 경화수지막을 제조할 경우, 2차경화공정이 필요없을 정도로 경화성이 우수하여 제조공정 및 제조원가를 절감할 수 있고, 내용제성이 우수하며, 탄성이 높아 인쇄된 패턴의 정밀성이 우수한 플렉소 인쇄판을 제조할 수 있다.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.

Claims (5)

1,2-vinyl:1,4-vinyl의 비가 9:1 이상이고 하이드록시기를 갖는 폴리부타디엔 폴리올(poly-butadiene polyol)과, 폴리이소시아네이트(poly-isocyanate) 및 분자 말단에 하이드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트((meta)acrylate)를 1: 0.5 내지 1: 0.5 내지 1.5의 몰비로 반응시켜 제조되고, 분자 중에 하나 이상의 아크릴로일(acryloil) 또는 메타아크릴로일(metacryloil)기를 가지는 폴리부타디엔계 광경화성 올리고머 40 내지 80중량%;
분자 중에 1개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 반응성 모노머10 내지 50중량%;
광개시제 1 내지 15중량%; 레벨링제 0.01 내지 3중량%; 및 소포제 0.01 내지 3중량%를 포함하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 폴리부타디엔 폴리올의 분자량이 1,000 내지 5,000임을 특징으로 하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 폴리이소시아네이트는 1,6-헥사메틸렌 이소시아네이트, 메틸렌-비스(4-사이클로헥실이소시아네이트), 1-이소시아네이토-3-이소시아네이토메틸-3,5,5-트리 메틸사이클로헥산, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 메틸렌디페닐 디이소시아네이트, 노보란 디이소시아네이트 및 다이머산 디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로부터 제조됨을 특징으로 하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 분자 말단에 하이드록시를 갖는 (메타)아크릴레이트는 2-하이드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산 디메탄올 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트 및 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로부터 제조됨을 특징으로 하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 반응성 모노머는 라우릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 2-에틸 헥실 메타아크릴레이트, 스테아릴 메타아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트. 트리프로필렌 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타 에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
KR1020030061639A 2003-09-04 2003-09-04 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물 KR100540346B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030061639A KR100540346B1 (ko) 2003-09-04 2003-09-04 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030061639A KR100540346B1 (ko) 2003-09-04 2003-09-04 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050024790A KR20050024790A (ko) 2005-03-11
KR100540346B1 true KR100540346B1 (ko) 2006-01-11

Family

ID=37231864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030061639A KR100540346B1 (ko) 2003-09-04 2003-09-04 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100540346B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101923300B1 (ko) 2017-02-24 2018-11-29 (주)켐베이스 폴리카보네이트 디올을 함유하는 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4403073A (en) * 1980-05-06 1983-09-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable resin composition
KR890005237A (ko) * 1987-09-19 1989-05-13 정상영 우레탄 수지계 접착제 조성물
US5246816A (en) * 1990-09-03 1993-09-21 Nippon Oil Co., Ltd. Cationic electrodeposition negative type resist composition
JPH08134376A (ja) * 1994-11-04 1996-05-28 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性防湿絶縁塗料および防湿絶縁された電子部品の製造法
EP1182236A1 (en) * 2000-08-25 2002-02-27 Kusumoto Chemicals, Ltd. Vinyl resin additive comprising urethane functionality

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4403073A (en) * 1980-05-06 1983-09-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable resin composition
KR890005237A (ko) * 1987-09-19 1989-05-13 정상영 우레탄 수지계 접착제 조성물
US5246816A (en) * 1990-09-03 1993-09-21 Nippon Oil Co., Ltd. Cationic electrodeposition negative type resist composition
JPH08134376A (ja) * 1994-11-04 1996-05-28 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性防湿絶縁塗料および防湿絶縁された電子部品の製造法
EP1182236A1 (en) * 2000-08-25 2002-02-27 Kusumoto Chemicals, Ltd. Vinyl resin additive comprising urethane functionality

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050024790A (ko) 2005-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1200647A (en) Actinic radiation cured polyurethane acrylic copolymer
WO2000077065A1 (fr) Oligomere d&#39;urethanne (meth)acrylate, son procede d&#39;elaboration, et composition photodurcissable
RU2009100924A (ru) Сшиваемые термопластичные полиуретаны
CN102186924A (zh) 光聚合的树脂组合物和使用该光聚合的树脂组合物制造的光纤
CN107722215A (zh) 含二醇脂肪族聚氨酯丙烯酸酯树脂制造方法、用于导光板的可光固化涂料组合物
KR20090122908A (ko) 광학 렌즈 시트용 에너지선 경화형 수지 조성물 및 그의 경화물
KR20140046062A (ko) 중합성 조성물, 중합물, 화상 표시 장치 및 그 제조 방법
US6555292B1 (en) Liquid photopolymer useful in fabricating printing plates which are resistant to solvent based ink
KR20100100783A (ko) 경화성 시트 조성물
CN101918466B (zh) 可辐射固化组合物
JP5083830B2 (ja) 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及び光学レンズシート
KR100540346B1 (ko) 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물
JP5698566B2 (ja) シリコーン樹脂組成物及びその成形体
JP7054753B1 (ja) ハードコート樹脂組成物
CN113423746B (zh) 可固化组合物
US5861234A (en) Photopolymer useful in fabricating printing plates which are resistant to polar solvent based ink
TW202142580A (zh) 從可固化液體組成物製備之彈性材料
KR101255661B1 (ko) 내마모성이 우수한 광경화형 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 광학필름
JPH101529A (ja) 活性エネルギー線硬化型樹脂の製造方法及び活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
WO2022019256A1 (ja) 硬化性化合物、硬化性組成物、及び、硬化性組成物の製造方法
JPS6354412A (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP4072880B2 (ja) （メタ）アクリル酸エステル、これを用いた樹脂組成物
WO2021117804A1 (ja) 硬化性組成物
JP3835867B2 (ja) 印刷版製造用液状感光性樹脂組成物
JP3807650B2 (ja) 新規（メタ）アクリル酸エステル、これを用いた樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110111

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee