KR100530742B1 - 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치 - Google Patents
반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치 Download PDFInfo
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
- B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
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Abstract
Description
Claims (2)
- 소정의 회전력을 발생하기 위한 구동원과;상기 구동원으로부터 전달받은 회전력을 외측으로 전달할 수 있도록 회전 가능하게 지지된 중심회전축과, 상기 중심회전축의 외주에 동축상으로 배치되어 고정 지지되고 내측으로 다수의 유체통로가 형성된 유체공급관체와, 상기 유체공급관체에 형성된 유체통로들과 연통되는 다수의 유체통로가 내부에 형성된 고정용의 매니폴드판과, 상기 유체공급관체의 외주에 동축상으로 배치되어 회전 가능하도록 지지되고 상기 유체공급관체의 각 유체통로와 대응되는 위치마다 외부로 통하는 통공이 각각 형성되며 상기 각 통공의 내주면을 따라 작동유체를 유통시킬 수 있는 다수의 유통홈이 형성된 밀봉하우징과, 상기 유체공급관체와 밀봉하우징 사이의 기밀을 유지할 수 있도록 상호 유기적으로 적층되어 삽입된 밀봉유닛을 포함하여 이루어진 구동측 로터리 유니언과;상기 유체공급관체의 외측에 회전 가능하도록 설치되어지되 그 내측으로 소정 장치부를 수용할 수 있는 공간이 마련되어 있고 상기 중심회전축과는 독립적으로 상기 구동원과 연결되어 그 회전력을 전달받는 스핀들과;상기 스핀들의 외주에서 상기 스핀들을 지지해주는 비회전의 스핀들 하우징과;상기 구동측 로터리 유니언의 중심회전축으로부터 회전력을 전달받아 소정의 속도로 회전되며, 내부에는 다수의 유체통로가 형성된 적어도 하나 이상의 캐리어연결축과;상기 캐리어연결축의 하단에 고정결합되는 캐리어와;상기 캐리어연결축의 상단부에 일체로 결합되어 상기 캐리어연결축으로부터 전달되는 회전력에 의한 회전을 하면서 상기 캐리어연결축의 내측에 형성한 유체연통로에 유체를 유통시키기 위한 다수의 유체통로가 형성된 중심회전축과, 상기 중심회전축의 외주에 동축상으로 배치됨과 아울러 일단부가 상기 스핀들의 내측에 고정되어 상기 중심회전축이 안정적으로 회전될 수 있도록 지지하고 상기 중심회전축의 각 유체통로와 대응되는 위치마다 외부로 통하는 통공이 각각 형성되며 상기 각 통공의 내주면을 따라 작동유체를 유통시킬 수 있는 다수의 유통홈이 형성된 비회전의 밀봉하우징과, 상기 중심회전축과 밀봉하우징 사이의 기밀을 유지할 수 있도록 상호 유기적으로 적층되어 삽입된 밀봉유닛을 포함하여 이루어진 적어도 하나 이상의 종동측 로터리 유니언; 및상기 구동측 로터리 유니언과 종동측 로터리 유니언의 각 밀봉하우징에 형성된 통공 간을 상호 연결시켜주는 다수의 도관;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 구동측 로터리 유니언 내에 개재된 밀봉유닛은, 상기 유체공급관체의 외주에 각각 밀착되어 적층되고 유체를 유통시키기 위한 통공이 형성된 한 쌍의 내측 적층지지링과, 상기 내측 적층지지링의 사이에 개재되어 상기 유체공급관체와 각 인접 밀봉하우징의 통공 간을 연통시켜주는 순수순환링과, 상기 순수순환링의 상하 외주면과 접촉되어 기밀을 유지하기 위한 한 쌍의 패킹링과, 상기 각 패킹링의 상하 외부에 배치되는 한 쌍의 개스킷링과, 상기 각 패킹링을 순수순환링의 상하 외주면쪽으로 각각 가압할 수 있는 가압력을 제공하기 위한 탄성가압수단으로서 상기 각 개스킷링의 상하 외부에 배치되는 한 쌍의 벨로우즈링과, 상기 각 밀봉하우징의 내주에 밀착되어 적층됨과 아울러 상기 개스킷링 및 벨로우즈링을 고정 및 지지해주는 한 쌍의 외측 적층지지링을 포함하여 구성하되, 상기 각 부재가 상호 결합된 채로 상기 유체공급관체와 각 인접 밀봉하우징 사이의 공간부에 다수 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2003-0102112A KR100530742B1 (ko) | 2003-12-31 | 2003-12-31 | 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR10-2003-0102112A KR100530742B1 (ko) | 2003-12-31 | 2003-12-31 | 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050069735A KR20050069735A (ko) | 2005-07-05 |
KR100530742B1 true KR100530742B1 (ko) | 2005-11-23 |
Family
ID=37260097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2003-0102112A KR100530742B1 (ko) | 2003-12-31 | 2003-12-31 | 반도체 웨이퍼 표면연마장비의 캐리어용 다중 유체공급장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100530742B1 (ko) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101039566B1 (ko) * | 2003-12-11 | 2011-06-09 | 주식회사 케이씨텍 | 다중 유체공급장치용 로터리 유니언 |
CN1934212B (zh) | 2004-04-19 | 2010-12-22 | Lg化学株式会社 | 包括离子液体的胶凝聚合物电解质以及使用该电解质的电致变色器件 |
WO2007001100A1 (en) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Doosan Mecatec Co., Ltd. | Multiple fluid supplying apparatus for carrier of semiconductor wafer polishing system |
CN101891116A (zh) * | 2010-08-18 | 2010-11-24 | 海克力斯(上海)液压机械有限公司 | 一种分体式旋转轴接头 |
KR102060400B1 (ko) | 2018-02-13 | 2020-02-11 | 씰링크 주식회사 | 직선운동 로터리 유니온 |
CN110561241B (zh) * | 2019-09-02 | 2021-07-09 | 浙江久立特材科技股份有限公司 | 一种砂带抛光机 |
KR102378581B1 (ko) * | 2020-06-19 | 2022-03-24 | 씰링크 주식회사 | 회전축 밀폐장치 및 이를 이용하는 반도체 기판처리장치 |
-
2003
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050069735A (ko) | 2005-07-05 |
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A201 | Request for examination | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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