KR100501478B1 - Method of manufacturing shadow mask and apparatus for depositing etching resistance layer therefor - Google Patents

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KR100501478B1 KR10-2003-0007383A KR20030007383A KR100501478B1 KR 100501478 B1 KR100501478 B1 KR 100501478B1 KR 20030007383 A KR20030007383 A KR 20030007383A KR 100501478 B1 KR100501478 B1 KR 100501478B1
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Abstract

본 발명은 섀도우마스크의 제조방법과 섀도우마스크 제조용 내(耐)에칭층 도포장치에 관한 것으로서, 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판(7)의 제 1 주면에, 제 1 그라비어롤(16)로 내에칭층 도포액(22)을 도포하는 공정, 상기 띠형상 금속 박판(7)을 제 2 주면측에서 백업롤(29)로 지지한 상태로 압입롤(28)에 의해 상기 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액(22)을 충전하는 공정 및 상기 띠형상 금속박판(7)의 제 1 주면의 내에칭층 도포액(22)의 막두께를 제 2 그라비어롤(16)로 제어하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask and to an inner etching layer coating device for manufacturing a shadow mask, the method comprising: a first layer having a plurality of recesses and a resist layer having a plurality of openings opposite to the first main surface; A step of applying the inner layer coating liquid 22 with the first gravure roll 16 to the first main surface of the strip-shaped metal sheet 7 having two main surfaces, and the strip-shaped metal sheet 7 with the second main surface. A step of filling the etched layer coating liquid 22 in the recessed portion of the first main surface by the press-in roll 28 in a state supported by the backup roll 29 on the side and the agent of the band-shaped metal thin plate 7. It is characterized by including the process of controlling the film thickness of the etch-in layer coating liquid 22 of one main surface by the 2nd gravure roll 16. It is characterized by the above-mentioned.

Description

섀도우마스크의 제조방법 및 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치{METHOD OF MANUFACTURING SHADOW MASK AND APPARATUS FOR DEPOSITING ETCHING RESISTANCE LAYER THEREFOR}TECHNICAL FIELD OF MANUFACTURING SHADOW MASK AND APPARATUS FOR APPLICATION OF SHADOW MASK TECHNICAL FIELD

본 발명은 띠형상 금속박판에 내에칭층을 형성하는 섀도우마스크의 제조방법과 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a shadow mask which forms an etching layer on a strip-shaped metal sheet, and to an apparatus for applying an etching layer for shadow mask production.

최근, 칼라 디스플레이관에 이용하는 섀도우마스크에서는 고정세화(高精細化) 및 고품질화가 강하게 요구되고 있지만, 디지털 방송의 개시에 의해 마찬가지로 칼라수상관에 이용하는 섀도우마스크에서도 고정세화 및 고품질화가 강하게 요구되어, 섀도우마스크의 개구 치수의 미세화 및 개구 치수 편차의 저감화가 도모되고 있다.Recently, high definition and high quality have been strongly demanded in the shadow mask used for the color display tube.However, high definition and high quality are also required in the shadow mask used in the color water pipe as well, with the start of digital broadcasting. Miniaturization of the opening dimension of a mask and reduction of the opening dimension deviation are aimed at.

또, 섀도우마스크는 문자나 도형 등을 표시하는 칼라디스플레이관에서는 개구 형상이 원형상이고, 일반가정에서 사용되는 칼라수상관에서는 개구 형상이 직사각형 형상이다.The shadow mask has a circular shape in a color display tube displaying characters, graphics, and the like, and a rectangular shape in a color water tube used in a general home.

그리고, 섀도우마스크의 개구는 포토에칭법에 의해 형성되고, 고정세 및 고품질이 요구되는 섀도우마스크는 주로 2단 에칭법에 의해 형성되어 있다.The opening of the shadow mask is formed by the photoetching method, and the shadow mask requiring high definition and high quality is mainly formed by the two-stage etching method.

이 2단 에칭에서는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면이 되는 한쪽의 주면에 에칭에 의해 전자총 측의 작은 구멍에 대응하는 오목부를 형성한다. 이 작은 구멍에 대응하는 오목부가 형성된 면 상에 내에칭층을 형성한다. 그 후, 제 2 주면이 되는 한쪽의 주면과는 반대측의 다른 쪽의 주면을 큰 구멍에 대응하는 패턴으로 에칭하고, 큰 구멍측에서 작은 구멍에 대응하는 오목부를 관통시켜 개구를 형성한다. 또, 상기 개구의 직경은 작은 구멍 측에서 제어되어 있다.In this two-stage etching, the recessed part corresponding to the small hole of the electron gun side is formed in one main surface used as the 1st main surface of a strip-shaped metal thin plate by etching. A etched layer is formed on the surface in which the recessed part corresponding to this small hole was formed. Thereafter, the other main surface on the side opposite to one main surface serving as the second main surface is etched in a pattern corresponding to the large hole, and the opening is formed by passing through the recess corresponding to the small hole on the large hole side. In addition, the diameter of the said opening is controlled on the small hole side.

또, 작은 구멍과 큰 구멍을 양면에서 동시에 에칭하는 양면 에칭법에서는 레지스트의 개구 치수에 비해 에칭으로 얻어진 오목부의 개구 치수가 커지는 사이드에칭 현상의 제어가 어렵고, 작은 구멍과 큰 구멍이 연결된 이후에도 작은 구멍의 에칭이 진행되므로 개구 직경의 제어가 어렵다. 이에 대해, 2단 에칭법에서는 제 2 에칭 공정에서는 작은 구멍은 재에칭이 되지 않도록 작은 구멍측의 오목부에 내에칭층을 충전하여, 최초의 에칭 공정의 정확한 작은 구멍 패턴을 유지할 수 있도록 하고, 금속박판 두께 보다도 작은 개구를 가능하게 하고 있다. 또, 내에칭층 도포액의 도포에는 스프레이 코터(coater), 다이 코터, 바 코터, 롤 코터, 그라비어 코터 또는 파이프덕터 노즐(PDN) 코터 등이 사용되고 있다.In addition, in the double-sided etching method in which small and large holes are simultaneously etched on both sides, it is difficult to control the side etching phenomenon in which the opening dimension of the concave portion obtained by etching becomes larger than that of the resist, and even after the small and large holes are connected, Since the etching proceeds, it is difficult to control the opening diameter. In contrast, in the two-stage etching method, the etching layer is filled in the recesses on the small hole side so that the small holes are not reetched in the second etching step, so that the accurate small hole pattern of the first etching process can be maintained. The opening smaller than the thickness of the metal sheet is made possible. Moreover, a spray coater, a die coater, a bar coater, a roll coater, a gravure coater, a pipe duct nozzle (PDN) coater, etc. are used for application | coating of an etching-resistant layer coating liquid.

그리고, 칼라 디스플레이관용의 섀도우마스크의 2단 에칭에 있어서는 자외선 경화형 수지와 그라비어롤을 이용하는 그라비어 코터를 조합한 내에칭층 형성방법이 내에칭층 도포액의 충전 성능이 높고, 에너지 절약화도 가능하고, 공정 비용도 저렴하므로 주목받고 있다. 그라비어롤을 이용하는 그라비어 코터에서는 그라비어롤은 직경 약 20mm∼60mm의 소직경의 것을 이용하여 섀도우마스크의 오목부로의 내에칭층의 형성의 누르는 힘을 증가시켜, 용이하게 섀도우마스크의 오목부 내의 공기와 치환하여, 오목부에 확실히 내에칭층 도포액을 충전하고 있다.In the two-stage etching of the shadow mask for color display tubes, a method of forming a etch-resistant layer using a combination of an ultraviolet curable resin and a gravure coater using a gravure roll has a high filling performance of the etch-resistant layer coating liquid, and energy saving is also possible. The process cost is also attracting attention because it is cheap. In gravure coaters using gravure rolls, gravure rolls use a small diameter of about 20 mm to 60 mm in diameter to increase the pressing force of the formation of the etched layer into the recesses of the shadow mask, so that the air in the recesses of the shadow mask is easily It substitutes and fills the recessed part with quenching layer coating liquid reliably.

그러나, 칼라디스플레이관용 섀도우마스크에 비해 칼라수상관용 섀도우마스크는 판두께가 두껍고, 최초의 에칭에서의 소직경에 대응하는 오목부의 깊이도 깊고, 개구 형상이 등방적인 원형이 아니라 이방성을 가진 직사각형으로 되어 있어 내에칭층 형성공정에 있어서도 도포가 매우 어렵게 된다.However, the shadow mask for color water pipes is thicker than the shadow mask for color display tubes, and the depth of the concave portion corresponding to the small diameter in the initial etching is deep, and the opening shape is not an isotropic circular shape but an anisotropic rectangular shape. The coating becomes very difficult even in the etching-resistant layer forming step.

따라서, 예를 들면 일본 특개평11-92962호 공보에 기재되어 있는 바와 같이, 띠형상 금속 박판의 반송방향을 따라서 띠형상 금속 박판에 과잉인 내에칭층 도포액을 그라비어롤에 의해 도포하는 도포부와, 이 도포부의 반송방향 하류측에 위치하여 도포부에서 도포된 과잉인 내에칭층 도포액의 막두께를 소정 막 압력으로 일정해지도록 그라비어롤로 제어하는 막두께 제어부를 갖는 구성이 알려져 있다.Therefore, as described in, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-92962, an application portion for applying an excessive anti-etching layer coating liquid to a strip-shaped metal sheet along the conveying direction of the strip-shaped metal sheet by gravure rolls. And a film-thickness control part which controls the gravure roll so that the film thickness of the excess etch-resistant layer coating liquid apply | coated in the conveyance direction downstream of this application part and apply | coated by the application part is fixed to predetermined | prescribed film pressure.

그러나, 일본 특개평11-92962호 공보에 기재된 바와 같이 띠형상 금속 박판에 과잉인 내에칭층 도포액을 도포부의 그라비어롤에 의해 도포하고, 도포부에서 도포된 과잉인 내에칭층 도포액의 막두께를 소정 막 압력으로 일정해지도록 막두께 제어부의 그라비어롤로 제어하는 것이라도 디지털 방송 대응에 사용하는 칼라수상관에 사용하는 섀도우마스크에서는 유효면에서는 오목부가 직사각형이고 소직경화되어 있기 때문에, 또 유효면 외에서는 면적이 크고 깊은 오목부가 되기 때문에 충분히 내에칭층 도포액을 오목부에 충전할 수 없는 우려가 있는 문제를 갖고 있다.However, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-92962, an excessive anti-etching layer coating liquid is applied to a strip-shaped metal sheet by means of a gravure roll of the coating portion, and a film of the excess etching-resistant layer coating liquid applied at the coating portion. In the shadow mask used for the color water pipe used for digital broadcasting, even if the thickness is controlled by the gravure roll of the film thickness control unit so that the thickness is fixed at a predetermined film pressure, since the concave portion is rectangular and small diameter in the effective surface, the effective surface Outside, it has a problem that there is a possibility that the etching-resistant coating liquid cannot be sufficiently filled into the recess because it becomes a large and deep recess.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 내에칭층 도포액의 충전성을 향상시키고, 충전 잔여가 없는 내에칭층을 형성하여 품위를 향상시키는 섀도우마스크의 제조방법과 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and improves the filling property of the etch-resistant layer coating liquid, and forms a etch-resistant layer with no residual residue, thereby improving the quality and applying the etch-resistant layer for shadow mask production. It is an object to provide a device.

본 발명의 제 1 태양에 의하면 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 이 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면에 제 1 그라비어롤로 내에칭층 도포액을 도포하는 공정 및 상기 띠형상 금속 박판을 제 2 주면측에서 지지재로 지지한 상태로 압입 롤에 의해 상기 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 공정을 구비하는 섀도우마스크의 제조방법이 제공된다.According to the 1st aspect of this invention, a 1st main surface of the strip | belt-shaped metal thin plate which has a 1st main surface which has a some recessed part, and the 2nd main surface in which the resist layer which has a some opening on the opposite side to this 1st main surface was formed was 1st. A step of applying the etching layer coating liquid with a gravure roll and filling the etching layer coating liquid into the recessed portion of the first main surface by a press-in roll while the band-shaped metal thin plate is supported by the supporting material on the second main surface side. Provided is a method of manufacturing a shadow mask having a step.

또, 본 발명의 제 2 태양에 의하면 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 이 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면에 제 1 그라비어롤로 내에칭층 도포액을 도포하는 공정, 상기 띠형상 금속 박판을 제 2 주면측에서 지지재로 지지한 상태로 압입롤에 의해 상기 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 공정 및 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 내에칭층 도포액의 막두께를 제 2 그라비어롤로 제어하는 공정을 구비하는 섀도우마스크의 제조방법이 제공된다.Moreover, according to the 2nd aspect of this invention, in the 1st main surface of the strip | belt-shaped metal thin plate which has the 1st main surface which has a some recessed part, and the 2nd main surface in which the resist layer which has a some opening on the opposite side to this 1st main surface was formed. The step of applying the etching layer coating liquid with the first gravure roll, the etching layer coating liquid is applied to the recessed portion of the first main surface by the indentation roll while the band-shaped metal thin plate is supported by the supporting material on the second main surface side. There is provided a method for producing a shadow mask, comprising a step of filling and a step of controlling the film thickness of the coating layer coating liquid on the first main surface of the strip-shaped metal sheet with a second gravure roll.

또, 본 발명의 제 3 태양에 의하면 여러 개의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 이 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 도포하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 있어서, 상기 띠형상 금속 박판의 제 1 주면에 내에칭층 도포액을 도포하는 그라비어롤을 갖는 도포부 및 상기 띠형상 금속박판의 제 2 주면을 지지재로 지지한 상태에서 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 압입 롤을 갖는 압입부를 구비하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치가 제공된다.According to the third aspect of the present invention, the first main surface of the strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings on the side opposite to the first main surface. An anti-etching layer coating device for producing a shadow mask, wherein the anti-etching layer coating liquid is applied to a recess, wherein the coating portion has a gravure roll for applying the anti-etching layer coating liquid to the first main surface of the strip-shaped metal sheet and the strip shape. Application of an etching-resistant layer for shadow mask production, comprising a press-fitting part having a press-fitting roll for filling the coating layer coating liquid into the concave portion of the first main surface of the strip-shaped metal sheet in a state where the second main surface of the metal thin plate is supported by the support material. An apparatus is provided.

또, 본 발명의 제 4 태양에 의하면 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 이 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 도포하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 있어서, 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면에 내에칭층 도포액을 도포하는 그라비어롤을 갖는 도포부 및 상기 띠형상 금속박판의 제 2 주면을 지지재로 지지한 상태에서 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 압입롤을 갖는 압입부 및 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 내에칭층 도포액의 막두께를 제어하는 그라비어롤을 갖는 막두께 제어부를 구비한 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치가 제공된다.Further, according to the fourth aspect of the present invention, the first main surface of the strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings on the side opposite to the first main surface is formed. An anti-etching layer coating apparatus for producing a shadow mask, wherein the anti-etching layer coating liquid is applied to a recess, wherein the coating portion has a gravure roll for applying the anti-etching layer coating liquid to the first main surface of the strip-shaped metal sheet and the strip shape. A press-fitting part having a press-in roll for filling the coating layer coating liquid into the concave portion of the first main surface of the strip-shaped metal sheet in a state in which the second main surface of the sheet metal is supported by a supporting material and the first of the strip-shaped sheet metal An anti-etching layer coating apparatus for producing a shadow mask having a film thickness control unit having a gravure roll for controlling the film thickness of the etching-resistant layer coating liquid on the main surface is provided.

이하, 본 발명의 실시예에 대해 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

우선, 칼라수상관에 대해 도 4를 참조하여 설명한다.First, the color water pipe will be described with reference to FIG. 4.

도 4에 도시한 바와 같이, 칼라수상관(1)은 내부를 진공으로 유지하는 진공 외관용기로서의 유리벌브(2)를 갖고, 이 유리벌브(2)내의 기단(基端)측에는 3개의 전자빔을 형성, 변조 및 수속시키는 전자총(3)이 설치되고, 유리벌브(2)의 선단(先端)측에는 유리벌브(2)의 일부를 구성하는 패널(4)이 배치되어 있다. 또, 이 패널(4)의 내면에는 전자총(3)으로부터의 3개의 전자빔이 각각 사돌하는 것에 의해 적, 녹 및 청의 3색을 각각 발광하는 형광체층을 갖는 형광스크린(5)이 설치되어 있다. 또, 이 전자총(3) 및 형광스크린(5) 사이의 유리벌브(2)의 외측에는 전자빔의 위치를 컨트롤하여 화면 전체에 전자빔을 주사하는 도시하지 않은 편향요크가 설치되어 있다.As shown in Fig. 4, the color water pipe 1 has a glass bulb 2 serving as a vacuum outer container which holds the interior in a vacuum, and three electron beams are provided on the base end side of the glass bulb 2. The electron gun 3 for forming, modulating and converging is provided, and the panel 4 which comprises a part of the glass bulb 2 is arrange | positioned at the front-end side of the glass bulb 2. In addition, a fluorescent screen 5 having a phosphor layer that emits three colors of red, green, and blue is provided on the inner surface of the panel 4 by three electron beams from the electron gun 3 respectively. Moreover, the deflection yoke (not shown) which controls the position of an electron beam and scans an electron beam in the whole screen is provided in the outer side of the glass bulb 2 between this electron gun 3 and the fluorescent screen 5.

또, 형광스크린(5)으로부터 소정 간격 떨어져 대향하고, 전체 면에 다수의 직사각형 형상의 개구가 소정 크기, 피치로 배열되어 있는 색선별 전극으로서의 섀도우마스크(6)가 설치되어 있다. 또, 섀도우마스크(6)는 상기 개구에 의해 전자총(3)으로부터 방출된 3개의 빔을 선별하여 각각 대응하는 형광체층에 기하학적으로 1대 1로 대응시키도록 각각 소정의 형광체층에 정확히 사돌시키는 역할을 갖는다.In addition, a shadow mask 6 serving as a color discriminating electrode, which faces away from the fluorescent screen 5 at a predetermined interval, and has a plurality of rectangular openings arranged in a predetermined size and pitch on the entire surface thereof, is provided. In addition, the shadow mask 6 selects three beams emitted from the electron gun 3 by the opening and accurately rounds each predetermined phosphor layer so as to correspond to the corresponding phosphor layer in a geometrical one-to-one correspondence. Has

섀도우마스크(6)는 칼라수상관(1)의 제조공정에서 형광스크린(5)을 형성할 때의 포토마스크로서도 사용되므로, 섀도우마스크(6)의 개구 직경의 편차나 불균형의 품위는 그대로 형광스크린(5)의 스트라이프 직경이나 불균형의 품위에 영향을 미친다. 이 때문에 칼라수상관(1)의 표시 품위를 올리기 위해서는 섀도우마스크(6)의 품위를 올릴 필요가 있다.Since the shadow mask 6 is also used as a photomask when forming the fluorescent screen 5 in the manufacturing process of the color receiving tube 1, the variation or unbalanced quality of the opening diameter of the shadow mask 6 is maintained as it is. It affects stripe diameter and imbalance quality of (5). For this reason, it is necessary to raise the quality of the shadow mask 6 in order to raise the display quality of the color water pipe 1.

본 실시예의 제조방법 및 제조장치에 의해 얻어진 섀도우마스크(6)는 개구의 형상 및 직경에 편차가 없고, 불균형 품위가 양호하기 때문에 표시 품위가 양호한 칼라수상관의 제조를 가능하게 한다.The shadow mask 6 obtained by the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present embodiment has no variation in the shape and diameter of the opening, and because of the unbalanced quality, it is possible to manufacture the color water pipe with good display quality.

또, 이 섀도우마스크(6)는 도 5에 도시한 바와 같이 띠형상 금속 박판(7)으로부터 그 길이방향을 따라서 복수개 연속적으로 형성된다. 그리고, 섀도우마스크(6)의 둘레 테두리에는 불필요 부분으로 잘라버리는 경계가 되는 테두리 선부(8)가 형성되며, 이 테두리 선부(8)로 섀도우마스크(6)를 띠형상 금속 박판(7)으로부터 잘라낸다. 또, 테두리선부(8)의 안쪽 중앙부에는 거의 직사각형 형상으로 다수의 개구가 형성되는 영역인 유효부(9)가 있고, 또 프레스 성형성을 확보하기 위한 하프에치부나 노치부 또는 제조 정보가 기재되는 악세사리부 등의 기타 부분(10)이 있다.In addition, as shown in Fig. 5, the shadow mask 6 is formed in plural in succession along the longitudinal direction from the strip-shaped metal thin plate 7. Then, at the circumferential edge of the shadow mask 6, an edge tip 8 serving as a boundary to be cut into unnecessary portions is formed, and the shadow mask 6 is cut out of the band-shaped metal thin plate 7 by the edge tip 8. Serve In addition, there is an effective portion 9, which is an area in which a plurality of openings are formed in a substantially rectangular shape in the inner central portion of the edge line portion 8, and a half-etch portion, notch portion or manufacturing information for securing press formability is described. There are other parts 10, such as an accessory part.

계속해서, 도 1을 참조하여 섀도우마스크(6)를 제조하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 대해 설명한다.Subsequently, with reference to FIG. 1, the etching-resistant layer coating apparatus for shadow mask manufacture which manufactures the shadow mask 6 is demonstrated.

이 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치는 도 1에 도시한 바와 같이 2단의 도포부가 되는 상류측의 도포장치(11) 및 막두께 제어부가 되는 하류측의 도포장치(12)를 갖고 있고, 상기 상류측의 도포장치(11) 및 하류측의 도포장치(12)에는 섀도우마스크의 기재인 예를 들면 36중량%의 니켈을 함유하는 철 니켈 합금인 인바(invar)재로 이루어진 띠형상 금속 박판(7)이 걸려 있다. 즉, 각각의 도포장치(11, 12)는 도시하지 않은 구동장치에 대해 상하방향의 이동이 가능한 2개의 전장(展張) 롤(13, 14)를 갖고 있고, 이들 전장 롤(13, 14)의 하면에 띠형상 금속 박판(7)이 설치되고, 이들 전장 롤(13, 14)에 의해 아래쪽을 향해 힘이 가해진 상태로 반송되어, 이들 도포장치(11, 12)의 부분에서는 띠형상 금속 박판(7)은 거의 수평으로 주행하고 있다.As shown in FIG. 1, this etch-resistant layer coating apparatus for shadow mask manufacture has the upstream coating apparatus 11 used as a two-stage coating part, and the downstream coating apparatus 12 used as a film thickness control part, and The upstream coating device 11 and the downstream coating device 12 are formed of a strip-shaped metal sheet 7 made of an invar material, for example, an iron nickel alloy containing 36% by weight of nickel, which is a substrate of a shadow mask. ) Is hanging. That is, each coating device 11, 12 has two full length rolls 13, 14 which can be moved up and down with respect to the drive device which is not shown in figure, and each of these full length rolls 13, 14 A strip-shaped metal thin plate 7 is provided on the lower surface thereof, and is conveyed in a state where a force is applied downward by these electric rolls 13 and 14, and a band-shaped metal thin plate ( 7) runs almost horizontally.

또, 전장롤(13, 14)사이의 띠형상 금속박판(7)의 아래쪽에는 약 20mm∼약60mm의 직경의 그라비어롤(16)이 배치되어 있다. 이 그라비어롤(16)은 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 중심에 예를 들면 스텐레스강으로 이루어진 금속롤(17)을 갖고, 필요에 따라서 이 금속롤(17)의 주위에 바탕 처리를 하고, 이 바탕 처리된 금속롤(17)의 주위에 비커스 경도 1000이상, 공공율(空孔率) 5%이하, 바람직하게는 3.5% 이하의 산화크롬으로 이루어진 세라믹스재(18)을 용사하여, 표면을 연마하는 것에 의해 형성되어 있다. 또, 세라믹스재(18)의 외주에는 내에칭층 도포액을 충전하는 조각부(19)가 레이저 가공에 의해 형성되어 있다.Further, a gravure roll 16 having a diameter of about 20 mm to about 60 mm is disposed below the band-shaped metal thin plate 7 between the electric rolls 13 and 14. As shown in Figs. 2 and 3, the gravure roll 16 has a metal roll 17 made of, for example, stainless steel at the center thereof, and a background treatment is applied around the metal roll 17 as necessary. Then, by spraying the ceramic material 18 made of chromium oxide having a Vickers hardness of 1000 or more and a porosity of 5% or less, preferably 3.5% or less, around the ground metal roll 17, It is formed by polishing the surface. Moreover, on the outer periphery of the ceramic material 18, the engraving part 19 which fills a etch-resistant layer coating liquid is formed by laser processing.

그리고, 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)의 조각부(19)에는 예를 들면 피치가 약 0.35mm∼0.50mm, 깊이가 약 0.15mm∼0.3mm이고, 그라비어롤(16)의 중심축에 대해 약 45°∼70°경사진 홈이 나선형상으로 설치되어 있다. 한편, 하류측의 도포장치(12)의 그라비어롤(16)의 조각부(19)에는 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)보다 눈이 촘촘한, 예를 들면 피치가 약 0.15mm∼0.20mm, 깊이가 약 0.04mm∼0.08mm이고 그라비어롤(16)의 중심축에 대해 약 45°∼70°경사진 홈이 나선형상으로 설치되어 있다.The engraving portion 19 of the gravure roll 16 of the upstream coating device 11 has a pitch of about 0.35 mm to 0.50 mm, a depth of about 0.15 mm to 0.3 mm, and the gravure roll 16. The grooves inclined at about 45 ° to 70 ° with respect to the central axis are formed in a spiral shape. On the other hand, the engraving 19 of the gravure roll 16 of the downstream coating device 12 has a closer eye than the gravure roll 16 of the upstream coating device 11, for example, a pitch of about 0.15 mm. A groove is formed in a spiral shape with a diameter of about 0.20 mm, a depth of about 0.04 mm to 0.08 mm, and inclined at about 45 ° to 70 ° with respect to the central axis of the gravure roll 16.

그리고, 그라비어롤(16)은 도시하지 않은 구동모터에 의해 직접 또는 간접적으로 고속으로 띠형상 금속 박판(7)의 주행방향과 역방향으로 회전된다.The gravure roll 16 is rotated in the opposite direction to the traveling direction of the strip-shaped metal sheet 7 at high speed directly or indirectly by a drive motor (not shown).

또, 이 그라비어롤(16)의 아래쪽에는 도시하지 않은 기대 상에 얹어 설치된 내에칭층 도포액의 과다분을 받는 용기(21)가 고정되어 있다.Moreover, below this gravure roll 16, the container 21 which receives the excessive part of the etch-resistant layer coating liquid provided on the base which is not shown in figure is being fixed.

그리고, 이 용기(21)상에는 그라비어롤(16)에 예를 들면 무용제 타입의 자외선 경화성 수지를 함유하는 내에칭층 도포액(22)을 공급하는 도포액 공급 노즐(23)이 설치되어 있다. 또, 이 도포액 공급 노즐(23)에는 그라비어롤(16)의 조각부(19)상의 도포액 공급 노즐(23)로부터 공급된 내에칭층 도포액(22)이 띠형상 금속 박판(7)으로 이동하기 직전의 위치에, 잉여의 내에칭층 도포액(22)을 닦아내는 덕터블레이드(24)가 덕터블레이드 누름기(25)에 의해 눌려져 설치되어 있다. 한편, 도포액 공급노즐(23)의 하부에는 내에칭층 도포액(22)의 공급량을 규제하고, 또 액체 떨어짐을 방지하는 나일론 블레이드(26)가 부착되어 있다.And on this container 21, the coating liquid supply nozzle 23 which supplies the etch-resistant layer coating liquid 22 containing the non-solvent type ultraviolet curable resin, for example to the gravure roll 16 is provided. In addition, in this coating liquid supply nozzle 23, the anti-etching layer coating liquid 22 supplied from the coating liquid supply nozzle 23 on the engraving part 19 of the gravure roll 16 turns into the strip | belt-shaped metal thin plate 7. In the position just before moving, the duct blade 24 which wipes off the excess internal etching layer coating liquid 22 is pressed down by the duct blade presser 25, and is provided. On the other hand, a nylon blade 26 is attached to the lower portion of the coating liquid supply nozzle 23 to regulate the supply amount of the etching resistant layer coating liquid 22 and to prevent the liquid from falling off.

내에칭층 도포액(22)의 도포시에는 전장 롤(13, 14)의 하면은 그라비어롤(16)과 접해 있는 띠형상 금속박판(7)의 상측 표면보다 아래쪽에 위치하도록 되어 있고, 그라비어롤(16)과 띠형상 금속 박판(7)이 이루는 각도 및 접촉 면적을 규제하여, 띠형상 금속박판(7)의 윗쪽의 그라비어롤에 대향하는 부분에는 백롤 등의 지지부재가 설치되어 있으므로 주행하고 있는 띠형상 금속박판(7)의 제 2 주면은 자유상태이다. 한편, 내에칭층 도포액(22)의 비도포시에는 전장 롤(13, 14)은 상측으로 이동하여, 띠형상 금속박판(7)의 하면을 그라비어롤(16)로부터 떨어지게 하고 있다.At the time of application of the anti-etching layer coating liquid 22, the lower surface of the electrical-length rolls 13 and 14 is located below the upper surface of the strip-shaped metal thin plate 7 which contact | connects the gravure roll 16, and the gravure roll Since the angle and contact area which the 16 and the strip | belt-shaped metal plate 7 make | forms are regulated, the part which opposes the gravure roll on the upper side of the strip | belt-shaped metal plate 7 is provided because support members, such as a back roll, are running. The second main surface of the strip-shaped metal thin plate 7 is free. On the other hand, when the anti-etching layer coating liquid 22 is not coated, the electrical rolls 13 and 14 move upward, and the lower surface of the strip-shaped metal thin plate 7 is separated from the gravure roll 16.

그리고, 상류측의 도포장치(11)와 하류측의 도포장치(12) 사이에는 압입부(27)가 있다.There is a press-fitting portion 27 between the upstream coating device 11 and the downstream coating device 12.

이 압입부(27)에는 띠형상 금속박판(7)의 제 1 주면에 대향하여 압입 롤(28)이 설치되고, 이 압입 롤(28)의 바로 위에 대향하여 띠형상 금속 박판(7)을 끼워 띠형상 금속 박판(7)의 상면인 제 2 주면상에 압입 롤(28)의 지지재로서의 백업 롤(29)이 설치되어 있다. 또, 압입롤(28)은 그라비어롤(16)과 마찬가지로 금속롤의 주위에 산화크롬 등의 무구(無垢)의 세라믹스재가 용사되어 있다.The press-fitting part 27 is provided with a press-fit roll 28 facing the first main surface of the band-shaped metal thin plate 7, and the band-shaped metal thin plate 7 is inserted directly opposite the press-fit roll 28. On the second main surface, which is the upper surface of the strip-shaped metal thin plate 7, a backup roll 29 as a supporting material of the press-in roll 28 is provided. In addition, as for the gravure roll 16, the indentation roll 28 is sprayed with an innocent ceramic material, such as chromium oxide, around the metal roll.

한편, 백업 롤(29)은 탄성체로 형성되어 있다. 또, 압입 롤(28)과 백업 롤(29)의 틈은 조정 가능하며, 상기 압입 롤(28)과 백업 롤(29)의 틈을 조정하는 것으로 압입 롤(28)에 의한 내에칭층 도포액(22)의 누르는 힘이 설정된다. 또, 압입롤(28) 및 백업 롤(29)은 자유 회전하고, 띠형상 금속 박판(7)의 반송 속도와 거의 동일 주속으로 띠형상 금속 박판(7)의 반송방향과 같은 방향으로 회전하고 있다.On the other hand, the backup roll 29 is formed with an elastic body. The gap between the press-in roll 28 and the backup roll 29 can be adjusted, and the etch-in layer coating liquid by the press-in roll 28 is adjusted by adjusting the gap between the press-in roll 28 and the backup roll 29. The pressing force of 22 is set. In addition, the press-in roll 28 and the backup roll 29 are free to rotate, and rotate in the same direction as the conveying direction of the strip-shaped metal sheet 7 at a circumferential speed substantially the same as the conveying speed of the strip-shaped metal sheet 7. .

그리고, 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)로 과잉으로 충전·도포된 내에칭층 도포액(22)을 백업 롤(29)에 의해 띠형상 금속박판(7)의 상면인 제 2 주면측을 지지하고, 압입롤(28)에 의해 내에칭층 도포액(22)을 누르면서 보충 충전하고, 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)로 충전 잔여부를 강제적으로 내에칭 도포액으로 치환하여 내에칭층 도포액(22)을 충전한다.Then, the etched layer coating liquid 22 that is excessively filled and coated with the gravure roll 16 of the upstream coating device 11 is made of the upper surface of the strip-shaped metal thin plate 7 by the backup roll 29. 2 The main surface side is supported, and the filling residue is supplemented and filled by pressing the etching layer coating liquid 22 by the press-in roll 28, and the filling remaining portion is forcibly etched by the gravure roll 16 of the upstream application device 11. Substitution of the coating liquid 22 is performed by replacing with the coating liquid.

계속해서, 상기 실시예의 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치의 동작에 대해 도 6∼도 14를 참조하여 설명한다.Subsequently, the operation of the etching-resistant layer coating device for producing the shadow mask of the above embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 14.

우선, 띠형상 금속박판(7)의 표면에 부착하는 압연유나 녹방지유를 탈지하고, 세정하여 건조한다. 그 후, 도 6에 도시한 바와 같이, 띠형상 금속 박판(7)의 하면의 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의 상면인 제 2 주면의 양면에 카제인 및 중크롬산염을 주성분으로 하는 수용성 감광제를 소정 두께로 도포하고, 건조하는 것에 의해 두께 수㎛의 감광막(31, 32)을 형성한다.First, the rolling oil and antirust oil adhering to the surface of the strip-shaped metal thin plate 7 are degreased, washed and dried. Then, as shown in FIG. 6, the water-soluble photosensitive agent which has casein and dichromate as a main component on both surfaces of the 1st main surface of the lower surface of the strip | belt-shaped metal thin plate 7, and the 2nd main surface which is the upper surface on the opposite side to the said 1st main surface. Is applied to a predetermined thickness and dried to form photosensitive films 31 and 32 having a thickness of several micrometers.

계속해서, 섀도우마스크(6)의 개구의 전자총(3)측의 오목부인 작은 구멍(33)에 대응하는 패턴이 형성된 원판(34) 및 형광스크린(5)측의 큰 구멍(35)에 대응하는 패턴이 형성된 원판(36)을 갖는 한쌍의 포토마스크를 이용하여, 도 7에 도시한 바와 같이 양면의 감광막(31, 32)에 원판(34, 36)을 각각 밀착시킨 상태로 노광하여, 상기 원판(34, 36)의 패턴을 인화한다.Subsequently, the disk 34 and the large hole 35 on the side of the fluorescent screen 5, on which the pattern corresponding to the small hole 33, which is a recess on the electron gun 3 side of the opening of the shadow mask 6, were formed, were formed. Using a pair of photomasks having a patterned disk 36 formed thereon, as shown in FIG. 7, the disks 34 and 36 are exposed to each other in a state where the disks 34 and 36 are brought into close contact with each other. The pattern of (34, 36) is printed.

그 후, 각각의 패턴이 인화된 감광막(31, 32)을 물로 현상하고, 미감광부를 제거하여 띠형상 금속박판(7)의 표면의 일부를 노출시켜서, 도 8에 도시한 바와 같이 한쌍의 원판(34, 36)의 패턴에 대응하는 레지스트층으로서의 레지스트 패턴(37, 38)을 형성한다.Thereafter, the photosensitive films 31 and 32, each pattern of which is printed, are developed with water, and the unsensed portion is removed to expose a part of the surface of the band-shaped metal thin plate 7, and as shown in FIG. The resist patterns 37 and 38 as a resist layer corresponding to the pattern of (34, 36) are formed.

또, 도 9에 도시한 바와 같이 레지스트 패턴(38)이 형성된 제 2 주면측에 CPP 등의 내에칭성 수지 필름에 점착재를 도포한 구성을 갖는 보호필름(41)을 점착한다. 한편, 레지스트 패턴(37)이 형성된 제 1 주면측에는 염화 제 2 철용액으로 이루어진 에칭액을 분무하여 제 1 에칭을 실시하고, 이 제 1 에칭에 의해 레지스트 패턴(37)이 형성된 제 1 주면측의 금속 노출부분에 섀도우마스크(6)의 전자총(3)측의 작은 구멍(33)을 형성한다.Moreover, as shown in FIG. 9, the protective film 41 which has a structure which apply | coated the adhesive material to the etch-resistant resin film, such as CPP, is adhere | attached on the 2nd main surface side in which the resist pattern 38 was formed. On the other hand, an etching solution made of ferric chloride solution is sprayed on the first main surface side on which the resist pattern 37 is formed, and the first etching is performed, and the metal on the first main surface side on which the resist pattern 37 is formed by this first etching. In the exposed portion, a small hole 33 on the electron gun 3 side of the shadow mask 6 is formed.

그리고, 이 제 1 에칭의 종료 후에 물을 띠형상 금속박판(7)에 산포하여, 도 10에 도시한 바와 같이 띠형상 극속박판(7)의 제 1 주면, 특히 작은 구멍(33)내에 잔존하는 에칭액을 균일하고 고속으로 치환 세정하여 작은 구멍(33)내에 잔존하는 에칭액을 제거한다.After the end of the first etching, water is dispersed in the band-shaped metal thin plate 7 and remains in the first main surface of the band-shaped ultrafast thin plate 7, particularly in the small hole 33, as shown in FIG. Subsequently, the etching liquid to be substituted and washed at a high speed is removed to remove the etching liquid remaining in the small hole 33.

계속해서, 제 1 에칭이 종료된 제 1 주면측의 레지스트 패턴(37)을 수산화나트륨 수용액으로 박리 제거하고, 물세척 및 건조시킨 후, 레지스트 패턴(38)측에 형성한 보호필름(41)을 제거한다. 그리고, 도 11에 도시한 바와 같이 도포장치(11, 12) 및 압입부(27)를 이용하여 작은 구멍(33)내를 포함하는 제 1 주면측에 내에칭층 도포액(22)을 도포한 후, 도포된 내에칭층 도포액(22)에 도시하지 않은 UV램프에 의해 자외선을 조사하고, 내에칭층 도포액을 UV 경화하여 내에칭층(42)을 형성한다.Subsequently, the resist pattern 37 on the first main surface side where the first etching is completed is peeled off with an aqueous sodium hydroxide solution, washed with water and dried, and then the protective film 41 formed on the resist pattern 38 side is removed. Remove As shown in FIG. 11, the etching-resistant layer coating liquid 22 is applied to the first main surface side including the inside of the small hole 33 by using the coating devices 11 and 12 and the press-fitting portion 27. Subsequently, ultraviolet rays are irradiated to the applied etch-resistant layer coating liquid 22 with a UV lamp not shown, and the etch-resistant layer coating liquid is UV cured to form the etch-resistant layer 42.

이 내에칭층(42)을 형성할 때는 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)의 눈이 촘촘한 조각부(19)에서 내에칭층 도포액(22)을 대량으로 유지하고, 제 1 주면의 작은 구멍(33)내에 내에칭층 도포액(22)을 압입하면서 작은 구멍(33)내의 공기와 내에칭층 도포액(22)을 충분히 치환한다. 계속해서, 이 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)에 의해 과잉으로 도포된 내에칭층 도포액(22)을 백업롤(29)에 의해 띠형상 금속박판(7)의 상면인 제 2 주면측을 지지한 상태로 압입롤(28)에 의해 내에칭층 도포액(22)을 압입하면서 상류측의 도포장치(11)에서 충전 잔여가 된 부분의 작은 구멍(33)에, 및 유효면 외에서는 면적이 크고 더 깊은 오목부에 내에칭층 도포액(22)을 보충 충전한다.When forming the etch-resistant layer 42, the etch-resistant layer coating liquid 22 is hold | maintained in a large quantity in the dense part 19 of the gravure roll 16 of the upstream coating apparatus 11, The air in the small hole 33 and the etching-resistant layer coating liquid 22 are fully substituted, while injecting the etching-resistant coating liquid 22 into the small hole 33 of one main surface. Subsequently, the anti-etching layer coating liquid 22 applied excessively by the gravure roll 16 of this upstream application apparatus 11 which is the upper surface of the strip | belt-shaped metal thin plate 7 by the backup roll 29 is carried out. Into the small hole 33 of the portion remaining filled in the upstream coating device 11 while press-fitting the etching-resistant layer coating liquid 22 by the press-in roll 28 while supporting the second main surface side, and Outside the effective surface, the etching layer coating liquid 22 is supplemented and filled in the deeper and deeper recesses.

그 후, 하류측의 도포장치(12)의 그라비어롤(16)의 눈이 촘촘한 조각부(19)에 의해 잉여의 내에칭층 도포액(22)을 닦아내고, 내에칭층 도포액(22)의 막두께를 제어한다.Thereafter, the eye of the gravure roll 16 of the downstream coating device 12 is wiped off by the dense engraving 19, and the excess etching-resistant layer coating liquid 22 is wiped off. Control film thickness.

이와 같이 2개의 도포장치(11, 12) 및 압입부(27)을 이용하면 작은 구멍(33)의 깊은 오목부, 보다 깊고 면적의 깊은 노치부, 스커트부의 큰 직경의 하프 도트부, 그외 악세사리부에도 내에칭층 도포액(22)의 충분한 충전이 가능해진다. 또, 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)의 조각부(19)쪽이 하류측의 도포장치(12)의 그라비어롤(16)의 조각부(19)보다 눈이 성기고, 보다 많은 내에칭층 도포액(22)을 대량으로 유지할 수 있도록 되어 있으므로 작은 구멍(33)이 깊어도 상류측의 도포장치(11)의 그라비어롤(16)로 내에칭층 도포액(22)을 충분히 공급할 수 있다. 한편, 하류측의 도포장치(12)의 그라비어롤(16)은 조각부(19)의 눈이 촘촘하기 때문에 잉여의 내에칭층 도포액(22)을 닦아낼 수 있다. 이와 같이 하여 내에칭층 도포액(22)을 평탄화하여 막두께를 균일하게 제어할 수 있다.In this way, when the two coating devices 11 and 12 and the press-fitting portion 27 are used, the deep concave portion of the small hole 33, the deeper notch portion of the deeper area, the large half dot portion of the skirt portion, and other accessory portions Sufficient filling of the etching resistant layer coating liquid 22 becomes possible. In addition, the engraving portion 19 of the gravure roll 16 of the upstream side coating apparatus 11 has a larger eye than the engraving portion 19 of the gravure roll 16 of the downstream side coating apparatus 12, Since the etch-in layer coating liquid 22 can hold | maintain a lot in large quantities, even if the small hole 33 is deep, the etch-in layer coating liquid 22 is carried out with the gravure roll 16 of the upstream application apparatus 11. FIG. We can supply enough. On the other hand, the gravure roll 16 of the downstream coating apparatus 12 can wipe off the excess etching-resistant coating liquid 22 because the eye of the engraving part 19 is dense. In this manner, the etching-resistant layer coating liquid 22 can be flattened to uniformly control the film thickness.

그 후, 내에칭층(42)상에 보호필름(43)을 점착한다.Thereafter, the protective film 43 is adhered on the etching-resistant layer 42.

계속해서, 도 12에 도시한 바와 같이 레지스트 패턴(38)이 형성되어 있는 제 2 주면측을 염화 제 2 철용액의 에칭액을 스프레이하는 것에 의해 제 2 에칭을 실시하고, 레지스트 패턴(38)이 형성되어 있는 제 2 주면측에 섀도우마스크(6)의 형광스크린(5)측의 큰 구멍(35)을 형성하여, 작은 구멍(33)과 관통시켜 개구(44)를 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 12, the second main surface is formed by spraying the etching solution of the ferric chloride solution on the second main surface side on which the resist pattern 38 is formed, and the resist pattern 38 is formed. The large hole 35 on the side of the fluorescent screen 5 of the shadow mask 6 is formed on the second main surface side, and the opening 44 is formed by passing through the small hole 33.

그리고, 이 제 2 에칭의 종료 후, 띠형상 금속박판(7)에 물을 산포하고, 도 13에 도시한 바와 같이 띠형상 금속 박판(7)의 표면, 특히 큰 구멍(35)내에 잔존하는 내에칭층 도포액(22)을 물로 균일하게, 또 고속으로 치환하여 내에칭층 도포액(22)을 제거한다.After the completion of the second etching, water is dispersed in the strip-shaped metal thin plate 7 and remains in the surface of the strip-shaped metal thin plate 7, particularly in the large hole 35, as shown in FIG. 13. The etching layer coating liquid 22 is replaced with water uniformly and at high speed, and the etching resistant layer coating liquid 22 is removed.

그 후, 띠형상 금속박판(7)의 제 1 주면측에 점착된 보호필름(43)을 제거하고, 그 후 도시하지 않은 박리장치에서 고온의 수산화나트륨 수용액에 의해 큰 구멍(35)이 형성된 제 2 주면측의 레지스트 패턴(38) 및 작은 구멍(33)이 형성된 제 1 주면측의 내에칭층(42)을 박리 제거한다. 또, 띠형상 금속 박판(7)을 물세척하여 건조하는 것에 의해 도 14에 도시한 바와 같이 작은 구멍(33) 및 큰 구멍(35)이 연통된 복수의 직사각형 형상의 개구(44)가 띠형상 금속박판(7)에 형성된다.Subsequently, the protective film 43 adhered to the first main surface side of the strip-shaped metal thin plate 7 is removed, and then, a large hole 35 is formed by a hot sodium hydroxide aqueous solution in a peeling apparatus (not shown). 2 The etch-out layer 42 of the 1st main surface side in which the resist pattern 38 and the small hole 33 on the main surface side were formed is peeled off. In addition, as the strip-shaped metal thin plate 7 is washed with water and dried, a plurality of rectangular openings 44 in which the small holes 33 and the large holes 35 communicate with each other are formed in a band shape. It is formed in the metal foil (7).

상기 실시예에 의하면 그라비어롤(16)을 직경 약 20mm∼약 60mm의 소직경으로 하여 띠형상 금속박판(7)과의 접촉 면적을 작게 하고, 또 띠형상 금속박판(7)의 반송방향에 대해 그라비어롤(16)을 역방향으로 고속으로 회전시키는 것에 의해 큰 전단력이 발생하고, 소직경(33)으로의 내에칭층 도포액(22)의 압입력을 증대시켜, 소직경(33)내의 공기와 치환을 용이하게 하고, 요철이 있는 띠형상 금속박판(7)을 이용해도 소직경(33)에 용이하게 내에칭층 도포액(22)을 충전할 수 있고, 또 그것으로도 충전이 불충분한 경우는 압입롤(28)에서 보충 충전이 가능하므로 내에칭층의 형성이 용이해진다.According to the above embodiment, the gravure roll 16 has a small diameter of about 20 mm to about 60 mm in diameter to reduce the contact area with the strip-shaped metal thin plate 7, and the conveyance direction of the strip-shaped metal thin plate 7. By rotating the gravure roll 16 at high speed in the reverse direction, a large shear force is generated, increasing the pressing force of the etched layer coating liquid 22 into the small diameter 33, and the air in the small diameter 33. When the substitution is easy, and even when the strip-shaped metal thin plate 7 having irregularities is used, the small-diameter 33 can be easily filled with the anti-etching layer coating liquid 22, and the filling is insufficient even therewith. Since the replenishment filling is possible in the indentation roll 28, the formation of the etching-resistant layer becomes easy.

또, 그라비어롤(16)은 표면이 비커스 경도 1000이상, 공공율 5% 이하의 세라믹스재(18)로 형성되어 있기 때문에, 마모가 감소하고, 또 파편의 발생이 방지된다. 또, 세라믹스재(18)의 내에칭층 도포액(22)을 유지하는 조각부(19)가 레이저 가공으로 조각되어 있기 때문에 띠형상 금속 박판(7)으로의 손상이 적고, 그라비어롤(16) 자체도 수명이 길어지게 된다.In addition, since the surface of the gravure roll 16 is made of the ceramic material 18 having a Vickers hardness of 1000 or more and a porosity of 5% or less, wear is reduced and generation of debris is prevented. Moreover, since the engraving part 19 holding the etching-resistant layer coating liquid 22 of the ceramic material 18 is carved by laser processing, there is little damage to the strip | belt-shaped metal thin plate 7, and the gravure roll 16 is carried out. It also has a long lifespan.

또, 모든 도포장치(11, 12)의 모든 그라비어롤(16)의 표면에 세라믹스재(18)를 형성할 필요가 없고, 마모가 큰 그라비어롤(16)의 표면에만 세라믹스재(18)를 형성해도 좋다. 또, 금속롤(17)에 세라믹스재(18)를 용이하게 용사할 수 있는 것이면 그라비어롤(16)의 표면에 세라믹스재(18)를 용사하기 전에 금속롤(17)의 외부둘레면에 바탕 처리를 하지 않아도 좋다.In addition, it is not necessary to form the ceramic material 18 on the surfaces of all the gravure rolls 16 of all the coating apparatuses 11 and 12, and the ceramic material 18 is formed only on the surface of the gravure roll 16 with abrasion. Also good. In addition, if the ceramic material 18 can be easily sprayed on the metal roll 17, the surface treatment is performed on the outer circumferential surface of the metal roll 17 before spraying the ceramic material 18 on the surface of the gravure roll 16. You do not have to.

또, 모든 그라비어롤(16)도 금속롤에 전조나 레이조 조각으로 내에칭층 도포액을 유지하는 조각부를 가공한 것, 또는 금속롤(16)상에 경질의 크롬 도금 등의 내마모 처리를 한 것이라도 관계없다.Moreover, all the gravure rolls 16 also processed the engraving part which hold | maintains a coating layer coating liquid with a metal roll or a rolled piece to a metal roll, or wear-resistant treatment, such as hard chromium plating, on the metal roll 16 is carried out. It doesn't matter if you do it.

또, 그라비어롤(16)의 세라믹스재(18)에 산화크롬을 사용하는 것에 의해 경제정이 있고 내마모성이 있는 동시에 레이저 가공도 용이해지지만, 레이저 가공이 가능하면 산화크롬 이외의 것을 사용할 수도 있다.In addition, the use of chromium oxide in the ceramic material 18 of the gravure roll 16 provides economical efficiency and wear resistance, and facilitates laser processing. However, other than chromium oxide may be used if laser processing is possible.

또, 압입롤(28) 및 백업롤(29)은 어느 하나 또는 양쪽에 금속롤을 사용해도 좋고, 압입롤(28)은 세라믹스재로서 산화크롬에 한정되지 않고 지르코니아라도 좋고, 압입성이 좋고 공회전이 없는 것이라면 좋다.In addition, the press-in roll 28 and the back-up roll 29 may use a metal roll for any one or both, and the press-in roll 28 is not limited to chromium oxide as a ceramic material, but may be zirconia, and press-fitting property and idling are good. If it is not good.

또, 덕터블레이드(24)에 의해 그라비어롤(16)의 조각부(19)상의 내에칭층 도포액(22)의 두께를 항상 소정의 균일한 두께로 조정하고 나서 띠형상 금속 박판(7)에 공급하고 있기 때문에 안정된 막두께, 도공상태가 얻어진다.In addition, the duct blades 24 always adjust the thickness of the etch-in layer coating liquid 22 on the engraving portion 19 of the gravure roll 16 to a predetermined uniform thickness, and then onto the strip-shaped metal thin plate 7. Since it supplies, a stable film thickness and a coating state are obtained.

상기 실시예에서는 내에칭층 도포액(22)으로서는 무용제 타입의 UV경화형 수지를 이용했지만, 수용성 열경화형 수지, 수용성 카제인 수지, 카제인과 아크릴수지의 혼합물, 용제 타입의 열경화형 수지 또는 핫멜트 수지 등 어떤 것도 사용할 수 있다.In the above embodiment, as the anti-etching layer coating liquid 22, a solvent-free type UV curable resin was used, but a water-soluble thermosetting resin, a water-soluble casein resin, a mixture of casein and acrylic resin, a solvent type thermosetting resin or hot melt resin, etc. It can also be used.

또, 상기 실시예에서는 상류측의 도포장치(11) 및 하류측의 도포장치(12) 모두 덕터블레이드(24)를 사용했지만, 상류측의 도포장치(11)에서는 내에칭층 도포액(22)을 충분히 공급하기 때문에 덕터블레이드를 설치하지 않고 내에칭층 도포액(22)을 띠형상 금속박판(7)상에 과잉으로 공급해도 좋다.In addition, although the duct blades 24 used both the upstream coating apparatus 11 and the downstream coating apparatus 12 in the said Example, in the upstream coating apparatus 11, the etching-resistant layer coating liquid 22 was used. In this case, the etched layer coating liquid 22 may be excessively supplied onto the strip-shaped metal thin plate 7 without providing a duct blade.

여기서, 상기 실시예에 기초한 실험결과에 대해 하기 표 1을 참조하여 설명한다.Here, the experimental result based on the said Example is demonstrated with reference to Table 1 below.

도포장치Coating device 대상object 판두께[mm]Plate thickness [mm] 깊이[㎛]Depth [μm] 충전율(%)% Filled 유효부Effective part 기타Etc 실시예 1Example 1 2단2-stage CPTCPT 0.200.20 130130 100100 100100 실시예 2Example 2 2단2-stage CPTCPT 0.250.25 160160 100100 100100 실시예 3Example 3 2단2-stage CPTCPT 0.250.25 200200 100100 100100 비교예 1Comparative Example 1 2단2-stage CPTCPT 0.120.12 5050 100100 100100 비교예 2Comparative Example 2 2단2-stage CPTCPT 0.200.20 130130 9595 5050 비교예 3Comparative Example 3 2단2-stage CPTCPT 0.250.25 160160 9090 3535

우선, 압입부(27)를 설치한 실시예 1, 2, 3과 압입부를 설치하지 않은 비교예 1, 2, 3에 대해 실험을 실시했다.First, the experiment was performed about Example 1, 2, 3 which provided the press-fit part 27, and Comparative Example 1, 2, 3 which did not install the press-fit part.

비교예 1에서는 판두께 0.12mm의 띠형상 금속 박판으로 두께 50㎛의 작은 구멍(33) 그외의 오목부를 갖는 칼라디스플레이관(CDT)의 섀도우마스크에 내에칭층 도포액(22)을 도포한 바, 개구(44)가 형성되는 유효부(9) 및 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10)의 전부에 내에칭층 도포액(22)이 100% 충전되었다.In Comparative Example 1, the etching solution coating layer 22 was applied to a shadow mask of a color display tube (CDT) having a strip-shaped sheet metal having a sheet thickness of 0.12 mm and having a small hole 33 having a thickness of 50 μm and other concave portions. The etched layer coating liquid 22 was filled in 100% of all the effective parts 9 and the edge part 8 in which the opening 44 is formed, and other parts 10, such as the edge part 8, the notch part, and the accessory part.

계속해서, 실시예 1 및 비교예 2에서는 판두께 0.20mm의 띠형상 금속박판으로 깊이 130㎛의 작은 구멍(33) 그외의 오목부를 갖는 칼라수상관(CPT)의 섀도우마스크에 내에칭층 도포액을 도포했다.Subsequently, in Example 1 and Comparative Example 2, the etched layer coating liquid was applied to a shadow mask of a color water pipe (CPT) having a strip-shaped thin metal plate having a plate thickness of 0.20 mm and having a small hole 33 having a depth of 130 µm and other concave portions. Was applied.

그 결과, 비교예 2의 압입부를 갖지 않은 장치에서는, 개구(44)가 형성되는 유효부(9)에서는 내에칭층 도포액(22)이 95%밖에 충전되지 않고, 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10)에서는 내에칭층 도포액(22)이 50% 밖에 충전되지 않았다.As a result, in the apparatus which does not have the indentation part of the comparative example 2, in the effective part 9 in which the opening 44 is formed, only 95% of the etching-resistant layer coating liquid 22 is filled, and the edge line part 8 and the furnace are filled. In other portions 10 such as teeth and accessories, only 50% of the etching-resistant layer coating liquid 22 was filled.

이에 대해, 실시예 1의 압입부(27)를 갖는 장치에서는, 개구(44)가 형성되는 유효부(9) 및 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10) 전부에 내에칭층 도포액(22)이 100% 충전되어, 압입부(27)를 설치하는 것에 의해 내에칭층 도포액(22)의 충전을 확실히 할 수 있었다.In contrast, in the apparatus having the press-fit portion 27 of the first embodiment, all of the other portions 10, such as the effective portion 9 and the edge portion 8, the notch portion and the accessory portion, in which the opening 44 is formed, are provided. Etching layer coating liquid 22 was 100% filled, and by providing press-fitting part 27, filling of etching resistance layer coating liquid 22 was ensured.

또, 실시예 2 및 비교예 3에서는 판두께 0.25mm의 띠형상 금속 박판으로 깊이 160㎛의 소직경(33) 그외의 오목부를 갖는 칼라수상관(CPT)의 섀도우마스크에 내에칭층 도포액을 도포했다.In Example 2 and Comparative Example 3, the anti-etching layer coating liquid was applied to a shadow mask of a color water pipe (CPT) having a strip-shaped thin metal plate having a plate thickness of 0.25 mm and having a small diameter 33 and other concave portions having a depth of 160 µm. Applied.

그 결과, 비교예 3의 압입부를 갖지 않은 장치에서는, 개구(44)가 형성되는 유효부(9)에서는 내에칭층 도포액(22)이 90% 밖에 충전되지 않고, 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10)에서는 내에칭층 도포액(22)이 35% 밖에 충전되지 않았다.As a result, in the apparatus which does not have the indentation part of the comparative example 3, in the effective part 9 in which the opening 44 is formed, only 90% of the etching-resistant layer coating liquid 22 is filled, and the edge part 8 and the furnace are filled. In other portions 10, such as teeth and accessories, only 35% of the etching-resistant layer coating liquid 22 was filled.

이에 대해, 실시예 2의 압입부(27)를 갖는 장치에서는 개구(44)가 형성되는 유효부(9) 및 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10) 전부에 내에칭층 도포액(22)이 100% 충전되어 압입부(27)를 설치하는 것에 의해 내에칭층 도포액(22)의 충전을 확실히 할 수 있었다.In contrast, in the apparatus having the press-fitting portion 27 of the second embodiment, the effective portion 9 and the edge portion 8 in which the opening 44 is formed, and all other portions 10 such as the notch portion and the accessory portion are provided. The etching resistant layer coating liquid 22 was 100% filled and the press fitting part 27 was provided, and the filling of the etching resistant layer coating liquid 22 was ensured.

또, 실시예 3에서는 판두께 0.25mm의 띠형상 금속 박판에서 깊이 200㎛의 작은 구멍(33) 그외의 오목부를 갖는 칼라수상관(CPT)의 섀도우마스크에 내에칭층 도포액을 도포한 바, 개구(44)가 형성되는 유효부(9) 및 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10) 전부에 내에칭층 도포액(22)이 100% 충전되어, 압입부(27)를 설치하는 것에 의해 내에칭층 도포액(22)의 충전을 확실히 할 수 있었다.Further, in Example 3, the coating layer coating liquid was applied to a shadow mask of a color water pipe (CPT) having a small hole 33 and other concave portions having a depth of 200 μm in a strip-shaped metal sheet having a plate thickness of 0.25 mm. The etched layer coating liquid 22 is 100% filled in the effective part 9 and the edge part 8 in which the opening 44 is formed, and all other parts 10, such as the edge part 8, the notch part, and the accessory part, By providing (27), filling of the etching-resistant layer coating liquid 22 was assured.

그리고, 섀도우마스크(6)의 개구(44)의 직경은 2단 에칭의 경우에는 작은 구멍(33)으로 제어되기 때문에, 유효부(9)의 작은 구멍(33)에 확실히 내에칭층 도포액(22)을 충전하는 것에 의해 작은 구멍(33)의 직경을 일정하게 할 수 있고, 개구구멍(44)의 직경 편차가 적은, 불균형 품위가 양호한 섀도우마스크(6)를 형성할 수 있었다.Since the diameter of the opening 44 of the shadow mask 6 is controlled by the small hole 33 in the case of the two-stage etching, the etching layer coating liquid (reliably in the small hole 33 of the effective portion 9). By filling 22), the diameter of the small hole 33 can be made constant, and the shadow mask 6 with a good unbalanced quality with little diameter variation of the opening hole 44 can be formed.

또, 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10) 전부에도 내에칭층 도포액(22)이 확실히 충전되는 것에 의해 테두리선부(8), 노치부 및 악세사리부 등의 그외의 부분(10)이 에칭되어 제조공정 중에 분리되어 버리는 것을 방지할 수 있어 제조 수율을 향상할 수 있었다.In addition, all the other portions 10, such as the edge portion 8, the notch portion, and the accessory portion, are reliably filled with the etching solution coating layer 22, such as the edge portion 8, the notch portion, and the accessory portion. The other part 10 can be prevented from being etched and separated in the manufacturing process, and the manufacturing yield was improved.

또, 본 실시예에서는 제 1 에칭이 종료된 제 1 주면측의 레지스트 패턴(37)을 수산화나트륨 수용액으로 박리 제거하여, 물세척 및 건조시킨 후 레지스트 패턴(38)측에 형성된 보호 필름(41)을 제거하고, 내에칭층(42)을 형성했지만, 제 1 에칭전에 보호필름(41)을 부착하지 않고 제 1 에칭을 실시해도 관계없다.In addition, in the present embodiment, the resist pattern 37 on the first main surface side where the first etching is completed is peeled off and removed with an aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, and dried, followed by the protective film 41 formed on the resist pattern 38 side. Although the etch-resistant layer 42 was formed and the etch-resistant layer 42 was formed, you may perform a 1st etching, without attaching the protective film 41 before a 1st etching.

또, 제 1 에칭이 종료된 제 1 주면측의 레지스트 패턴(37)을 박리 제거하지 않고 내에칭층을 형성해도 관계없다.Moreover, you may form a etch-resistant layer, without peeling and removing the resist pattern 37 of the 1st main surface side in which 1st etching was complete | finished.

이상과 같이, 본 발명의 태양에 의하면 그라비어롤로 과잉인 내에칭 도포액을 충전·도포한 후, 압입롤로 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 보충 충전하는 것에 의해 오목부의 기포가 잔존하지 않고 오목부에 강제적으로 내에칭 도포액을 충전할 수 있어 충전 불균형이 없어지고, 또 이 내에칭층 도포액이 충전된 띠형상 금속 박판의 제 1 주면의 내에칭층 도포액의 막두께를 그라비어롤로 제어하는 것에 의해 내에칭층 도포액을 더 평탄화하여 도포할 수 있고, 이에 의해 섀도우마스크의 편차가 적어져 품위가 향상된다.As mentioned above, according to the aspect of this invention, after filling and apply | coating excess etching coating liquid with a gravure roll, the bubble of a recessed part remain | survives by replenishing and filling a etching-layer coating liquid in the recessed part of a 1st main surface with a press-in roll. The etched coating liquid can be forcibly filled in the concave portion without filling, so that there is no filling imbalance, and the film thickness of the etched layer coating liquid on the first main surface of the strip-shaped metal sheet filled with the etching resistant layer coating liquid is eliminated. By controlling with a gravure roll, a etch-resistant layer coating liquid can be further flattened and apply | coated, and the dispersion | variation of a shadow mask becomes small by this, and quality improves.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치를 나타내는 개략도,1 is a schematic view showing a etch-resistant layer coating device for producing a shadow mask according to an embodiment of the present invention,

도 2는 도 1에 도시한 장치의 그라비어롤(gravure roll)의 외관을 나타내는 사시도,FIG. 2 is a perspective view showing the appearance of a gravure roll of the apparatus shown in FIG. 1;

도 3은 도 1에 도시한 장치의 그라비어롤을 나타내는 단면도,3 is a cross-sectional view showing a gravure roll of the apparatus shown in FIG.

도 4는 칼라수상관을 나타내는 개략도,4 is a schematic view showing a color water pipe;

도 5는 띠형상 금속 박판에 형성되는 섀도우마스크를 나타내는 개략도,5 is a schematic view showing a shadow mask formed on a strip-shaped metal sheet;

도 6은 섀도우마스크의 하나의 제조공정을 나타내는 단면도,6 is a cross-sectional view showing one manufacturing process of a shadow mask;

도 7은 도 6에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,7 is a cross-sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 6;

도 8은 도 7에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,8 is a cross-sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 7;

도 9는 도 8에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,9 is a sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 8;

도 10은 도 9에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 9;

도 11은 도 10에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,11 is a cross-sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 10;

도 12는 도 11에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도,12 is a cross-sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 11;

도 13은 도 12에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도 및FIG. 13 is a sectional view showing a manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG. 12;

도 14는 도 13에 도시한 제조공정의 다음 제조공정을 나타내는 단면도이다.FIG. 14 is a cross-sectional view showing the manufacturing process following the manufacturing process shown in FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

7 : 띠형상 금속 박판 13, 14 : 전장(展張) 롤7: strip-shaped metal sheet 13, 14: electric field roll

17 : 금속롤 21 : 용기17 metal roll 21 container

22 : 도포액 23 : 도포액 공급 노즐22: coating liquid 23: coating liquid supply nozzle

24 : 덕터블레이드 27 : 압입부24: duct blades 27: indentation

28 : 압입 롤 29 : 백업 롤28: indentation roll 29: backup roll

31, 32 : 감광막 34, 36 : 원판31, 32: photosensitive film 34, 36: disc

38 : 레지스트 패턴 42 : 내에칭층38: resist pattern 42: etched layer

Claims (16)

복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면에 제 1 그라비어롤(gravure roll)로 내에칭층 도포액을 도포하는 공정 및Into a first gravure roll on a first main surface of a strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings opposite to the first main surface. Applying the etching layer coating liquid and 상기 띠형상 금속 박판을 제 2 주면측에서 지지재로 지지한 상태로 압입 롤에 의해 상기 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.Manufacturing a shadow mask, comprising: filling a coating layer coating liquid into a concave portion of the first main surface by a press-in roll in a state in which the band-shaped thin metal plate is supported by a supporting material on the second main surface side; Way. 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면에 제 1 그라비어롤로 내에칭층 도포액을 도포하는 공정,The etching layer coating liquid was applied to the first gravure roll on the first main surface of the strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings on the side opposite to the first main surface. Application process, 상기 띠형상 금속 박판을 제 2 주면측에서 지지재로 지지한 상태로 압입롤에 의해 상기 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 공정 및A step of filling the coating layer coating liquid into the concave portion of the first main surface by a press-in roll in a state in which the band-shaped thin metal plate is supported by the supporting material on the second main surface side; and 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 내에칭층 도포액의 막두께를 제 2 그라비어롤로 제어하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.And a step of controlling the film thickness of the coating layer coating liquid on the first main surface of the strip-shaped metal thin plate with a second gravure roll. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제 1 및 제 2 그라비어롤의 적어도 한쪽이 띠형상 금속 박판의 반송속도의 4배∼25배의 주속으로 띠형상 금속박판의 반송방향과 역방향으로 회전하고 있는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.At least one of the first and second gravure rolls is rotated in a direction opposite to the conveying direction of the strip-shaped metal sheet at a circumferential speed of 4 to 25 times the conveying speed of the strip-shaped metal sheet. . 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제 1 및 제 2 그라비어롤의 적어도 한쪽이 외주면에 설치된 세라믹스재의 표면에 형성되고, 내에칭층 도포액을 유지하는 조각부를 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.At least one of the said 1st and 2nd gravure roll is formed in the surface of the ceramic material provided in the outer peripheral surface, The manufacturing method of the shadow mask characterized by including the engraving part which hold | maintains a etching-resistant layer coating liquid. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 제 1 및 제 2 그라비어롤은 각각 표면에 내에칭층 도포액을 유지하는 조각부를 갖고, 상기 제 1 그라비어롤의 표면의 조각부가 상기 제 2 그라비어롤의 조각부보다 눈이 성긴 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.Each of the first and second gravure rolls has an engraving portion for retaining the coating layer coating solution on the surface thereof, and the shadow portion of the surface of the first gravure roll has a thinner eye than the engraving portion of the second gravure roll. Method of manufacturing a mask. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 지지재는 백업롤로 구성되며, 상기 백업롤 및 상기 압입롤은 띠형상 금속박판의 반송속도와 거의 같은 주속으로 띠형상 금속 박판의 반송방향과 같은 방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.The support material is composed of a backup roll, the backup roll and the press-in roll is a method of manufacturing a shadow mask, characterized in that rotating in the same direction as the conveying direction of the strip-shaped metal sheet at a circumferential speed substantially the same as the conveying speed of the band-shaped metal sheet. . 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 백업롤은 탄성체인 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.The backup roll is a method of manufacturing a shadow mask, characterized in that the elastic body. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 압입롤은 금속롤과 상기 금속롤의 외부둘레면에 피복된 세라믹스재를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크의 제조방법.The press-in roll is a method of manufacturing a shadow mask, characterized in that it comprises a metal roll and a ceramic material coated on the outer peripheral surface of the metal roll. 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속 박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 도포하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 있어서,A coating layer coating liquid is applied to the recesses of the first main surface of the strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings on the side opposite to the first main surface. In the shadow mask coating device for producing a shadow mask, 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면에 내에칭층 도포액을 도포하는 그라비어롤을 갖는 도포부, 및An applicator having a gravure roll for coating the coating layer coating liquid on the first main surface of the strip-shaped metal sheet; and 상기 띠형상 금속박판의 제 2 주면을 지지재로 지지한 상태로 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 압입롤을 갖는 압입부를 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.And a press-fitting part having a press-in roll for filling the coating layer coating liquid into the concave portion of the first main surface of the strip-shaped metal sheet in a state in which the second main surface of the strip-shaped metal sheet is supported by a supporting material. Apparatus for applying a etch-resistant layer for the manufacture of shadow masks. 복수의 오목부를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의, 복수의 개구를 갖는 레지스트층이 형성된 제 2 주면을 갖는 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 도포하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치에 있어서,A coating layer coating liquid is applied to the concave portion of the first main surface of the strip-shaped metal sheet having a first main surface having a plurality of recesses and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings on the side opposite to the first main surface. In the shadow mask coating device for producing a shadow mask, 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면에 내에칭층 도포액을 도포하는 그라비어롤을 갖는 도포부,An applicator having a gravure roll for applying an anti-etching layer coating liquid to the first main surface of the strip-shaped metal sheet; 상기 띠형상 금속박판의 제 2 주면을 지지재로 지지한 상태로 상기 띠형상 금속 박판의 제 1 주면의 오목부에 내에칭층 도포액을 충전하는 압입롤을 갖는 압입부, 및A press-fitting part having a press-in roll for filling the coating layer coating liquid into the concave portion of the first main surface of the strip-shaped metal sheet in a state in which the second main surface of the strip-shaped metal sheet is supported by a support material; 상기 띠형상 금속박판의 제 1 주면의 내에칭층 도포액의 막두께를 제어하는 그라비어롤을 갖는 막두께 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.And a film thickness control unit having a gravure roll for controlling the film thickness of the coating layer coating liquid on the first main surface of the strip-shaped metal thin plate. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,The method according to claim 9 or 10, 상기 제 1 및 제 2 그라비어롤의 적어도 한쪽이 띠형상 금속 박판의 반송속도의 4배∼25배의 주속으로 띠형상 금속 박판의 반송방향과 역방향으로 회전하고 있는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 에칭층 도포장치.At least one of the first and second gravure rolls is rotated in the opposite direction to the conveying direction of the strip-shaped metal sheet at a circumferential speed of 4 to 25 times the conveying speed of the strip-shaped metal sheet. Coating device. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,The method according to claim 9 or 10, 상기 제 1 및 제 2 그라비어롤의 적어도 한쪽이 외주면에 설치된 세라믹스재의 표면에 형성되고, 내에칭층 도포액을 유지하는 조각부를 구비하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.At least one of said 1st and 2nd gravure roll is formed in the surface of the ceramic material provided in the outer peripheral surface, The etched layer coating apparatus for shadow mask manufacture characterized by including the engraving part which hold | maintains a etch-resistant layer coating liquid. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 제 1 및 제 2 그라비어롤은 각각 표면에 내에칭층 도포액을 유지하는 조각부를 갖고, 상기 제 1 그라비어롤의 표면의 조각부가 상기 제 2 그라비어롤의 조각부보다 눈이 성긴 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.Each of the first and second gravure rolls has an engraving portion for retaining the coating layer coating solution on the surface thereof, and the shadow portion of the surface of the first gravure roll has a thinner eye than the engraving portion of the second gravure roll. Anti-etching layer coating apparatus for mask manufacture. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,The method according to claim 9 or 10, 상기 지지재는 백업롤로 구성되며, 상기 백업롤 및 상기 압입롤은 띠형상 금속박판의 반송속도와 거의 같은 주속으로 띠형상 금속 박판의 반송방향과 같은 방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.The support member is composed of a backup roll, and the backup roll and the press-in roll are etched in the same direction as the conveying direction of the strip-shaped metal sheet at a circumferential speed substantially the same as the conveying speed of the strip-shaped metal sheet. Layer applicator. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 백업롤은 탄성체인 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.The back-up roll is an etching-resistant layer coating device for producing a shadow mask, characterized in that the elastic body. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,The method according to claim 9 or 10, 상기 압입롤은 금속롤과, 상기 금속롤의 외주면에 피복된 세라믹스재를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우마스크 제조용 내에칭층 도포장치.The press-in roll includes a metal roll and a ceramic material coated on the outer circumferential surface of the metal roll.
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