KR100496130B1 - 분말코팅용안정화제 - Google Patents

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KR100496130B1
KR100496130B1 KR10-1998-0003220A KR19980003220A KR100496130B1 KR 100496130 B1 KR100496130 B1 KR 100496130B1 KR 19980003220 A KR19980003220 A KR 19980003220A KR 100496130 B1 KR100496130 B1 KR 100496130B1
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Abstract

a) 유기 필름-형성 결합제 및 b) 안정화제로서 하나 이상의 벤조푸란-2-온 유형의 화합물을 포함하는 분말 코팅 조성물을 기재하고 있다. 상기 방식으로 안정화된 분말 코팅 조성물은 열경화, 특히 가스 오븐 경화 과정에 있어서 변색을 감소시킨다.

Description

분말 코팅용 안정화제
본 발명은 유기 필름-형성 결합제 및 안정화제로서 하나 이상의 벤조푸란-2-온 유형의 화합물을 포함하는 분말 코팅 조성물, 및 이들의 열-경화성 분말 코팅의 변색을 감소시키기 위한 용도에 관한 것이다.
분말 코팅은 공지 기술이고, 예컨대 "Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Fifth, Completely Revised Edition, Volume A 18", 438 내지 444쪽(1991)에 기재되어 있다. 분말 코팅 방법에서, 분말은 통상적으로 공기를 공급함으로써 유동화되고, 정전기적으로 대전되며 또 토류, 바람직하게는 금속 기판에 도포된다. 기판은 후속적으로 가열되고, 부착된 분말이 용융되는 과정에서 응집되며 또 금속 기판상에 밀착성이 큰 필름을 형성한다. 분말 코팅이 바람직하게는 용매 부재하에서 작용하므로, 상기 기술은 특히 환경 친화적이다.
승온 상태에서, 특히 가스 오븐에서 분말 코팅 조성물의 경화는 난점이 있다. 가스 오븐내에 존재하는 산화질소 기체는 종종 코팅의 바람직하지 않은 변색을 초래한다.
선행 기술에 있어서, 분말 코팅 조성물은 입체 장애 페놀, 예컨대 3-(3,5-디삼차부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 옥타데실 에스테르, 및 유기 포스파이트, 예컨대 트리스(2,4-디-삼차부틸-페닐) 포스파이트의 혼합물로 안정화된다. 그러나, 상기 안정화 작용에 있어서 분말 코팅 조성물이 승온 상태, 특히 가스 오븐에서 경화되는 경우 코팅의 바람직하지 않은 심각한 변색이 관찰된다. 입체 장애 페놀을 제거하고 또 단지 유기 포스파이트만으로 안정화시킨다면 이러한 변색을 억제할 수 있다. 그러나, 유기 포스파이트만으로 분말 코팅을 안정화시키면 산화 작용에 대한 코팅의 안정성은 크게 감소된다.
또한, 오버베이킹으로부터 분말 코팅을 안정화시키는 것이 바람직하다. 예컨대 컨베이어 벨트가 가열된 오븐에서 정체되거나 또는 코팅 흠결 때문에 재코팅이 요구되면 오버베이킹이 일어날 수 있다.
공지의 안정화제는 안정화제 또는 안정화제 혼합물이 순응해야 하는 까다로운 요건, 특히 열경화성(특히 가스 오븐에서) 분말 코팅 조성물의 변색에 대한 요건을 모든 면에서 만족시키지 못하고 있다.
유기 중합체에 대한 안정화제로서 벤조푸란-2-온 유형의 화합물의 용도는 예컨대 U.S. 4,325,863호; U.S. 4,388,244호; U.S. 5,175,312호; U.S. 5,252,643호; U.S. 5,216,052호; U.S. 5,369,159호; U.S. 5,488,117호; U.S. 5,356,966호; U.S. 5,367,008호; U.S. 5,428,162호; U.S. 5,428,177호 또는 U.S. 5,516,920호에 공지되어 있다.
벤조-2-온 유형의 화합물은 열, 특히 가스 오븐에서 경화될 수 있는 분말 코팅 조성물의 변색을 감소시키기 위한 안정화제로서 특히 적합하다.
열경화성 분말 코팅의 변색을 감소시키고자 하는 것이 본 발명의 과제이다.
따라서, 본 발명은
a) 유기 필름-형성 결합제 및
b) 안정화제로서 하나 이상의 벤조푸란-2-온 유형의 화합물을 포함하는 분말 코팅 조성물에 관한 것이다.
성분 (b)가 하기 화학식 (1)의 화합물인 분말 코팅 조성물이 중요하다:
[화학식 1]
상기 식에서,
n이 1이면,
R1은 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-알킬티오-, 히드록시-, 할로겐-, 아미노-, C1-C4알킬아미노-, 페닐아미노- 또는 디(C1-C4-알킬)아미노-치환된 나프틸, 페난트릴, 안트릴, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸, 티에닐, 벤조[b]티에닐, 나프토[2,3-b]티에틸, 티안트레닐, 디벤조푸릴, 크로메닐, 크산테닐, 페녹사티이닐, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 푸리닐, 퀴놀리지닐, 이소퀴놀릴, 퀴놀릴, 프탈라지닐, 나프티리디닐, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, β-카르볼리닐, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페리미디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 이소티아졸릴, 페노티아지닐, 이속사졸릴, 푸라자닐, 비페닐, 테르페닐, 플루오레닐 또는 페녹사지닐이거나, 또는 R1은 하기 화학식 (2)의 라디칼이고,
[화학식 2]
n이 2이면,
R1은 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬- 또는 히드록시-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌이거나: 또는 -R12-X-R13-이고,
R2, R3, R4 및 R5는 서로 독자적으로 수소, 염소, 히드록시, C1-C25-알킬, C7-C9페닐알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬-치환된 페닐; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4-알킬)아미노, C1-C25알카노일옥시, C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 을 포함하는 C3-C25-알카노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일옥시 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시이거나; 또는 라디칼 R2 및 R3 또는 라디칼 R3 및 R4 또는 라디칼 R4 및 R5는 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하거나 R4는 부가적으로 -(CH2)p-COR15 또는 -(CH2)qOH이거나, 또는 R3, R5 및 R6이 수소이면, R4는 부가적으로 하기 화학식 (3)의 라디칼이고,
[화학식 3]
이때, R1은 n= 1에 대해 정의한 바와 같으며,
R6은 수소 또는 하기 화학식 (4)의 라디칼이고,
[화학식 4]
이때, R4는 화학식 (3)의 라디칼이 아니며 또 R1은 n= 1에 대해 정의한 바와 같고,
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독자적으로 수소, 할로겐, 히드록시, C1-C25알킬, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알킬; C1-C25알콕시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25-알콕시; C1-C25알킬티오, C3-C25알케닐, C3-C25-알케닐옥시, C3-C25알키닐, C3-C25알키닐옥시, C7-C9페닐알킬, C7-C9페닐알콕시, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페녹시; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알콕시; C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, C1-C25알카노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일; C1-C25알카노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25-알카노일옥시; C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일; C3-C25알케노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐, C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일; 벤조일옥시 또는 C1-C12-알킬-치환된 벤조일옥시; 또는 이거나, 또는 화학식 (2)에서 라디칼 R7 및 R8 또는 라디칼 R8 및 R11은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하고,
R12 및 R13은 서로 독자적으로 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌이며,
R14는 수소 또는 C1-C8알킬이고,
R15는 히드록시, , C1-C18알콕시 또는 이며,
R16 및 R17은 서로 독자적으로 수소, CF3, C1-C12알킬 또는 페닐이거나, 또는 R16 및 R17은 이들이 부착된 C 원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하고;
R18 및 R19는 서로 독자적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이며,
R20은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R21은 수소, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐; C1-C25알킬, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알킬; 페닐 라디칼상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C9페닐알킬; 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하고 또 페닐 라디칼 상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C25페닐알킬이거나, 또는 라디칼 R20 및 R21은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬렌 고리를 형성하며;
R22는 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R23은 수소, C1-C25알카노일, C3-C25알케노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일; 디(C1-C6알킬)포스포네이트기에 의해 치환된 C2-C25알카노일; C6-C9시클로알킬카르보닐, 테노일, 푸로일, 벤조일 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일;
또는 이며,
R24 및 R25는 서로 독자적으로 수소 또는 C1-C18알킬이고,
R26은 수소 또는 C1-C8알킬이며,
R27은 직접 결합, C1-C18알킬렌, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C18알킬렌; C2-C18알케닐렌, C2-C20알킬리덴, C7-C20페닐알킬리덴, C5-C8시클로알킬렌, C7-C8비시클로알킬렌, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐렌, 또는 이고,
R28은 히드록시, , C1-C18알콕시 또는 이며,
R29는 산소, -NH- 또는 이고,
R30은 C1-C18알킬 또는 페닐이며,
R31은 수소 또는 C1-C18알킬이고,
M은 r-가 금속 양이온이며,
X는 직접 결합, 산소, 황 또는 -NR31-이고,
n은 1 또는 2이며,
p는 0, 1 또는 2이고,
q는 1, 2, 3, 4, 5 또는 6이며,
r은 1, 2 또는 3이고, 또
s는 0, 1 또는 2임.
비치환되거나 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시-, C1-C4알킬티오, 히드록시-, 할로겐-, 아미노-, C1-C4알킬아미노-, 페닐아미노- 또는 디(C1-C4알킬)아미노-치환된 나프틸, 페난트릴, 안트릴, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸, 티에닐, 벤조-[b]티에닐, 나프토[2,3-b]티에닐, 티아트레닐, 디벤조푸릴, 크로메닐, 페녹사티이닐, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 이돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 푸리닐, 퀴놀리지닐, 이소퀴놀릴, 퀴놀릴, 프탈라지닐, 나프티리디닐, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, β-카르볼리닐, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페리미디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 이소티아졸릴, 페노티아지닐, 이속사졸릴, 푸라자닐, 비페닐, 테르페닐, 플루오레닐 또는 페녹사지닐은 예컨대 1-나프틸, 2-나프틸, 1-페닐아미노-4-나프틸, 1-메틸나프틸, 2-메틸나프틸, 1-메톡시-2-나프틸, 2-메톡시-1-나프틸, 1-디메틸아미노-2-나프틸, 1,2-디메틸-4-나프틸, 1,2-디메틸-6-나프틸, 1,2-디메틸-7-나프틸, 1,3-디메틸-6-나프틸, 1,4-디메틸-6-나프틸, 1,5-디메틸-2-나프틸, 1,6-디메틸-2-나프틸, 1-히드록시-2-나프틸, 2-히드록시-1-나프틸, 1,4-디히드록시-2-나프틸, 7-페난트릴, 1-안트릴, 2-안트릴, 9-안트릴, 3-벤조[b]티에닐, 2-벤조[b]티에닐, 5-벤조[b]티에닐, 4-디벤조푸릴, 4,7-디벤조푸릴, 4-메틸-7-디벤조푸릴, 2-크산테닐, 8-메틸-2-크산테닐, 3-크산테닐, 2-페녹사티이닐, 2,7-페녹사티이닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 5-메틸-3-피롤릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-메틸-4-이미다졸릴, 2-에틸-4-이미다졸릴, 2-에틸-5-이미다졸릴, 3-피라졸릴, 1-메틸-3-피라졸릴, 1-프로필-4-피라졸릴, 2-피라지닐, 5,6-디메틸-2-피라지닐, 2-인돌리지닐, 2-메틸-3-이소인돌릴, 2-메틸-1-이소인돌릴, 1-메틸-2-인돌릴, 1-메틸-3-인돌릴, 1,5-디메틸-2-인돌릴, 1-메틸-3-인다졸릴, 2,7-디메틸-8-푸리닐, 2-메톡시-7-메틸-8-푸리닐, 2-퀴놀리지닐, 3-이소퀴놀릴, 6-이소퀴놀릴, 7-이소퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 3-메톡시-6-이소퀴놀릴, 2-퀴놀릴, 6-퀴놀릴, 7-퀴놀릴, 2-메톡시-3-퀴놀릴, 2-메톡시-6-퀴놀릴, 6-프탈라지닐, 7-프탈라지닐, 1-메톡시-6-프탈라지닐, 1,4-디메톡시-6-프탈라지닐, 1,8-나프티리딘-2-일, 2-퀴녹살리닐, 6-퀴녹살리닐, 2,3-디메틸-6-퀴녹살리닐, 2,3-디메톡시-6-퀴녹살리닐, 2-퀴나졸리닐, 7-퀴나졸리닐, 2-디메틸아미노-6-퀴나졸리닐, 3-신놀리닐, 6-신놀리닐, 7-신놀리닐, 3-메톡시-7-신놀리닐, 2-프테리디닐, 6-프테리디닐, 7-프테리디닐, 6,7-디메톡시-2-프테리디닐, 2-카르바졸릴, 3-카르바졸릴, 9-메틸-2-카르바졸릴, 9-메틸-3-카르바졸릴, β-카르볼린-3-일, 1-메틸-β-카르볼린-3-일, 1-메틸-β-카르볼릴-6-일, 3-페난트리디닐, 2-아크리디닐, 3-아크리디닐, 2-페리미디닐, 1-메틸-5-페리미디닐, 5-페난트롤리닐, 6-페난트롤리닐, 1-페나지닐, 2-페나지닐, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 2-페노티아지닐, 3-페노티아지닐, 10-메틸-3-페노티아지닐, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 4-메틸-3-푸라자닐, 2-페녹사지닐 또는 10-메틸-2-페녹사지닐이다.
비치환되거나 또는 C1-C4알킬-, C1-C4알콕시, C1-C4-알킬티오-, 히드록시-, 페닐아미노- 또는 디(C1-C4알킬)아미노-치환된 나프틸, 페난트릴, 안트릴, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸, 티에닐, 벤조-[b]티에닐, 나프토[2,3-b]티에닐, 티아트레닐, 디벤조푸릴, 크로메닐, 크산테닐, 페녹사티이닐, 피롤릴, 이소인돌릴, 인돌릴, 페노티아지닐, 비페닐, 테르페닐, 플루오레닐 또는 페녹사지닐, 예컨대 1-나프틸, 2-나프틸, 1-페닐아미노-4-나프틸, 1-메틸나프틸, 2-메틸나프틸, 1-메톡시-2-나프틸, 2-메톡시-1-나프틸, 1-디메틸아미노-2-나프틸, 1,2-디메틸-4-나프틸, 1,2-디메틸-6-나프틸, 1,2-디메틸-7-나프틸, 1,3-디메틸-6-나프틸, 1,4-디메틸-6-나프틸, 1,5-디메틸-2-나프틸, 1,6-디메틸-2-나프틸, 1-히드록시-2-나프틸, 2-히드록시-1-나프틸, 1,4-디히드록시-2-나프틸, 7-페나트릴, 1-안트릴, 2-안트릴, 9-안트릴, 3-벤조[b]티에닐, 5-벤조[b]티에닐, 2-벤조[b]티에닐, 4-디벤조푸릴, 4,7-디벤조푸릴, 4-메틸-7-디벤조푸릴, 2-크산테닐, 8-메틸-2-크산테닐, 3-크산테닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 2-페노티아지닐, 3-페노티아지닐, 10-메틸-3-페노티아지닐이 특히 바람직하다.
할로겐은 예컨대 염소, 브롬 또는 요오드이다. 염소가 바람직하다.
25개 이하의 탄소원자의 알카노일은 예컨대 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부타노일, 펜타노일, 헥사노일, 헵타노일, 옥타노일, 노나노일, 데카노일, 운데카노일, 도데카노일, 트리데카노일, 테트라데카노일, 펜타데카노일, 헥사데카노일, 헵타데카노일, 옥타데카노일, 아이코사노일 또는 도코사노일과 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 2 내지 18개, 특히 2 내지 12개, 예컨대 2 내지 6개의 탄소원자의 알카노일이 바람직하다. 아세틸이 특히 바람직하다.
디(C1-C6알킬)포스포네이트 기에 의해 치환된 C2-C25알카노일은 예컨대 (CH3CH2O)2POCH2CO-, (CH3O)2POCH2CO-, (CH3CH2CH2CH2O)2POCH2CO-, (CH3CH2O)2POCH2CH2CO-, (CH3O)2POCH2CH2CO-, (CH3CH2CH2CH2O)2POCH2CH2CO-, (CH3CH2O)2PO(CH2)4CO-, (CH3CH2O)2PO(CH2)8CO- 또는 (CH3CH2O)2PO(CH2)17CO-이다.
25개 이하의 탄소원자의 알카노일옥시는 예컨대 포르밀옥시, 아세틸옥시, 프로피오닐옥시, 부타노일옥시, 펜타노일옥시, 헥사노일옥시, 헵타노일옥시, 옥타노일옥시, 노나노일옥시, 데카노일옥시, 운데카노일옥시, 도데카노일옥시, 트리데카노일옥시, 테트라데카노일옥시, 펜타데카노일옥시, 헥사데카노일옥시, 헵타데카노일옥시, 옥타데카노일옥시, 아이코사노일옥시 또는 도코사노일옥시와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 2 내지 18개, 특히 2 내지 12개, 예컨대 2 내지 6개의 탄소원자의 알카노일옥시가 바람직하다. 아세틸옥시가 특히 바람직하다.
3 내지 25개의 알케노일은 예컨대 프로페노일, 2-부테노일, 3-부테노일, 이소부테노일, n-2,4-펜타디에노일, 3-메틸-2-부테노일, n-2-옥테노일, n-2-도데세노일, 이소도데세노일, 올레오일, n-2-옥타데세노일 또는 n-4-옥타데세노일과 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12개, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알케노일이 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일은 예컨대 CH3OCH2CH2CH=CHCO- 또는 CH3OCH2CH2OCH=CHCO- 이다.
3 내지 25개의 탄소원자의 알케노일옥시는 예컨대 프로페노일옥시, 2-부테노일옥시, 3-부테노일옥시, 이소부테노일옥시, n-2,4-펜타디에노일옥시, 3-메틸-2-부테노일옥시, n-2-옥테노일옥시, n-2-도데세노일옥시, 이소도데세노일옥시, 올레오일옥시, n-2-옥타데세노일옥시 또는 n-4-옥타데세노일옥시와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12개, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알케노일옥시가 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일옥시는 예컨대 CH3OCH2CH2CH=CHCOO- 또는 CH3OCH2CH2OCH=CHCOO- 이다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일은 예컨대 CH3-O-CH2CO-, CH3-S-CH2CO-, CH3-NH-CH2CO-, CH3-N(CH3)-CH2CO-, CH3-O-CH2CH2-O-CH2CO-, CH3-(O-CH2CH2-)2O-CH2-CO-, CH3-(O-CH2-CH2-)3O-CH2CO- 또는 CH3-(O-CH2CH2-)4O-CH2CO-이다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일옥시는 예컨대 CH3-O-CH2COO-, CH3-S-CH2COO-, CH3-NH-CH2COO-, CH3-N(CH3)-CH2COO-, CH3-O-CH2CH2-O-CH2COO-, CH3-(O-CH2CH2-)2O-CH2-COO-, CH3-(O-CH2CH2-)3O-CH2COO- 또는 CH3-(O-CH2CH2-)4O-CH2COO- 이다.
C6-C9시클로알킬카르보닐은 예컨대 시클로헥실카르보닐, 시클로헵틸카르보닐 또는 시클로옥틸카르보닐이다. 시클로헥실카르보닐이 바람직하다.
C6-C9-시클로알킬카르보닐옥시는 예컨대 시클로헥실카르보닐옥시, 시클로헵틸카르보닐옥시 또는 시클로옥틸카르보닐옥시이다. 시클로헥실카르보닐옥시가 바람직하다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 알킬기를 포함하는 C1-C12알킬-치환된 벤조일은 예컨대 o-, m- 또는 p-메틸벤조일, 2,3-디메틸벤조일, 2,4-디메틸벤조일, 2,5-디메틸벤조일, 2,6-디메틸벤조일, 3,4-디메틸벤조일, 3,5-디메틸벤조일, 2-메틸-6-에틸벤조일, 4-삼차부틸벤조일, 2-에틸벤조일, 2,4,6-트리메틸벤조일, 2,6-디메틸-4-삼차부틸벤조일 또는 3,5-디-삼차부틸벤조일이다. 바람직한 치환기는 C1-C8-알킬, 특히 C1-C4-알킬이다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 알킬기를 포함하는 C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시는 예컨대 o-, m- 또는 p-메틸벤조일옥시, 2,3-디메틸벤조일옥시, 2,4-디메틸벤조일옥시, 2,5-디메틸벤조일옥시, 2,6-디메틸벤조일옥시, 3,4-디메틸벤조일옥시, 3,5-디메틸벤조일옥시, 2-메틸-6-에틸벤조일옥시, 4-삼차부틸벤조일옥시, 2-에틸벤조일옥시, 2,4,6-트리메틸벤조일옥시, 2,6-디메틸-4-삼차부틸벤조일옥시 또는 3,5-디-삼차부틸벤조일옥시이다. 바람직한 치환기는 C1-C8-알킬, 특히 C1-C4알킬이다.
25개 이하의 탄소원자의 알킬은 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이차부틸, 이소부틸, 삼차부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 아이코실 또는 도코실과 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. R2 및 R4의 바람직한 하나는 예컨대 C1-C18-알킬이다. R4의 특히 바람직한 것은 C1-C4알킬이다.
3 내지 25개의 탄소원자의 알케닐은 예컨대 프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-2,4-펜타디에닐, 3-메틸-2-부테닐, n-2-옥테닐, n-2-도데세닐, 이소도데세닐, 올레일, n-2-옥타데세닐 또는 n-4-옥타데세닐과 같은 측쇄되거나 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알케닐이 바람직하다.
3 내지 25개의 탄소원자의 알케닐옥시는 예컨대 프로페닐옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 이소부테닐옥시, n-2,4-펜타디에닐옥시, 3-메틸-2-부테닐옥시, n-2-옥테닐옥시, n-2-도데세닐옥시, 이소도데세닐옥시, 올레일옥시, n-2-옥타데세닐옥시 또는 n-4-옥타데세닐옥시와 같은 측쇄되거나 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알케닐옥시가 바람직하다.
3 내지 25개의 탄소원자의 알키닐은 예컨대 프로피닐(-CH2-C≡CH), 2-부테닐, 3-부테닐, n-2-옥티닐 또는 n-2-도데시닐과 같은 측쇄되거나 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12개, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알키닐이 바람직하다.
3 내지 25개의 탄소원자의 알키닐옥시는 예컨대 프로피닐옥시(-OCH2-C≡CH), 2-부티닐옥시, 3-부티닐옥시, n-2-옥티닐옥시 또는 n-2-도데시닐옥시와 같은 측쇄되거나 직쇄의 라디칼이다. 3 내지 18개, 특별히 3 내지 12개, 예컨대 3 내지 6개, 특히 3 내지 4개의 탄소원자의 알키닐옥시가 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알킬은 예컨대 CH3-O-CH2-, CH3-S-CH2-, CH3-NH-CH2-, CH3-N(CH3)-CH2-, CH3-O-CH2-CH2-O-CH2-, CH3-(O-CH2CH2-)2O-CH2-, CH3-(O-CH2CH2-)3O-CH2- 또는 CH3-(O-CH2CH2-)4O-CH2- 이다.
C7-C9페닐알킬은 예컨대 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 2-페닐-에틸이다. 벤질 및 α,α-디메틸벤질이 바람직하다.
페닐 라디칼 상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C9페닐알킬은 예컨대 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 2-페닐에틸, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 2,4-디메틸벤질, 2,6-디메틸벤질 또는 4-삼차부틸벤질이다. 벤질이 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하고 또 페닐 라디칼상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C25페닐알킬은 예컨대 페녹시메틸, 2-메틸페녹시메틸, 3-메틸-페녹시메틸, 4-메틸페녹시메틸, 2,4-디메틸페녹시메틸, 2,3-디메틸-페녹시메틸, 페닐티오메틸, N-메틸-N-페닐메틸, N-에틸-N-페닐메틸, 4-삼차부틸페녹시메틸, 4-삼차부틸페녹시에톡시메틸, 2,4-디-삼차부틸페녹시메틸, 2,4-디-삼차부틸페녹시에톡시메틸, 페녹시에톡시에톡시에톡시메틸, 벤질옥시메틸, 벤질옥시에톡시메틸, N-벤질-N-에틸메틸 또는 N-벤질-N-이소프로필메틸과 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다.
C7-C9페닐알콕시는 예컨대 벤질옥시, α-메틸벤질옥시, α,α-디메틸벤질옥시 또는 2-페닐에톡시이다. 벤질옥시가 바람직하다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 알킬기를 함유하는 C1-C4알킬-치환된 페닐은 예컨대 o-, m- 또는 p-메틸페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2-메틸-6-에틸페닐, 4-삼차부틸페닐, 2-에틸페닐 또는 2,6-디에틸페닐이다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 알킬기를 포함하는 C1-C4알킬-치환된 페녹시는 예컨대 o-, m- 또는 p-메틸페녹시, 2,3-디메틸페녹시, 2,4-디메틸페녹시, 2,5-디메틸페녹시, 2,6-디메틸페녹시, 3,4-디메틸페녹시, 3,5-디메틸페녹시, 2-메틸-6-에틸페녹시, 4-삼차부틸페녹시, 2-에틸페녹시 또는 2,6-디에틸페녹시이다.
비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬은 예컨대 시클로펜틸, 메틸시클로펜틸, 디메틸시클로펜틸, 시클로헥실, 메틸시클로헥실, 디메틸시클로헥실, 트리메틸시클로헥실, 삼차부틸시클로헥실, 시클로헵틸 또는 시클로옥틸이다. 시클로헥실 및 삼차부틸시클로헥실이 바람직하다.
비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알콕시는 예컨대 시클로펜톡시, 메틸시클로펜톡시, 디메틸시클로펜톡시, 시클로헥속시, 메틸시클로헥속시, 디메틸시클로헥속시, 트리메틸시클로헥속시, 삼차부틸시클로헥속시, 시클로헵톡시 또는 시클로옥톡시이다. 시클로헥속시 및 삼차부틸시클로헥속시가 바람직하다.
25개 이하의 탄소원자의 알콕시는 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, 펜톡시, 이소펜톡시, 헥속시, 헵톡시, 옥톡시, 데실옥시, 테트라데실옥시, 헥사데실옥시 또는 옥타데실옥시와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 1 내지 12개, 특히 1 내지 8개, 예컨대 1 내지 6개의 탄소원자의 알콕시가 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알콕시는 예컨대 CH3-O-CH2CH2O-, CH3-S-CH2CH2O-, CH3-NH-CH2CH2O-, CH3-N(CH3)-CH2CH2O-, CH3-O-CH2-CH2-O-CH2CH2O-, CH3-(O-CH2CH2-)2O-CH2CH2O-, CH3-(O-CH2CH2-)3O-CH2CH2O- 또는 CH3-(O-CH2CH2-)4O-CH2CH2O- 이다.
25개 이하의 탄소원자의 알킬티오는 예컨대 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, n-부틸티오, 이소부틸티오, 펜틸티오, 이소펜틸티오, 헥실티오, 헵틸티오, 옥틸티오, 데실티오, 테트라데실티오, 헥사데실티오 또는 옥타데실티오와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 1 내지 12개, 특히 1 내지 8개, 예컨대 1 내지 6개의 탄소원자의 알킬티오가 바람직하다.
4개 이하의 탄소원자의 알킬아미노는 예컨대 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, n-부틸아미노, 이소부틸아미노 또는 삼차부틸아미노와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다.
디(C1-C4알킬)아미노는 두 개의 라디칼이 서로 독자적으로 예컨대 디메틸아미노, 메틸에틸아미노, 디에틸아미노, 메틸-n-프로필아미노, 메틸이소프로필아미노, 메틸-n-부틸아미노, 메틸이소부틸아미노, 에틸이소프로필아미노, 에틸-n-부틸아미노, 에틸이소부틸아미노, 에틸-삼차부틸아미노, 디에틸아미노, 디이소프로필아미노, 이소프로필-n-부틸아미노, 이소프로필이소부틸아미노, 디-n-부틸아미노 또는 디이소부틸아미노와 같이 측쇄되거나 또는 직쇄된 것을 의미한다.
25개 이하의 탄소원자의 알카노일아미노는 예컨대 포르밀아미노, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 부타노일아미노, 펜타노일아미노, 헥사노일아미노, 헵타노일아미노, 옥타노일아미노, 노나노일아미노, 데카노일아미노, 운데카노일아미노, 도데카노일아미노, 트리데카노일아미노, 테트라데카노일아미노, 펜타데카노일아미노, 헥사데카노일아미노, 헵타데카노일아미노, 옥타데카노일아미노, 아이코사노일아미노 또는 도코사노일아미노와 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. 2 내지 18개, 특히 2 내지 12개, 예컨대 2 내지 6개의 탄소원자의 알카노일아미노가 바람직하다.
C1-C18알킬렌은 예컨대 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 데카메틸렌, 도데카메틸렌 또는 옥타데카메틸렌과 같은 측쇄되거나 또는 직쇄의 라디칼이다. C1-C12알킬렌, 특히 C1-C8알킬렌이 바람직하다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 측쇄되거나 직쇄의 알킬기를 함유하는 C1-C4알킬-치환된 C5-C12시클로알킬렌 고리는 예컨대 시클로펜틸렌, 메틸시클로펜틸렌, 디메틸시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 메틸시클로헥실렌, 디메틸시클로헥실렌, 트리메틸시클로헥실렌, 삼차부틸시클로헥실렌, 시클로헵틸렌, 시클로옥틸렌 또는 시클로데실렌이다. 시클로헥실렌 및 삼차부틸시클로헥실렌이 바람직하다.
사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C18알킬렌은 예컨대 -CH2-O-CH2-, -CH2-S-CH2-, -CH2-NH-CH2-, -CH2-N(CH3)-CH2-, -CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-, -CH2-(O-CH2CH2-)2O-CH2-, -CH2-(O-CH2CH2-)3O-CH2-, -CH2-(O-CH2CH2-)4O-CH2- 또는 -CH2CH2-S-CH2CH2- 이다.
C2-C18알케닐렌은 예컨대 비닐렌, 메틸비닐렌, 옥테닐에틸렌 또는 도데세닐에틸렌이다. C2-C8알케닐렌이 바람직하다.
2 내지 20개의 탄소원자의 알킬리덴은 예컨대 에틸리덴, 프로필리덴, 부틸리덴, 펜틸리덴, 4-메틸펜틸리덴, 헵틸리덴, 노닐리덴, 트리데실리덴, 노나데실리덴, 1-메틸에틸리덴, 1-에틸프로필리덴 또는 1-에틸펜틸리덴이다. C2-C8알킬리덴이 바람직하다.
7 내지 20개의 탄소원자의 페닐알킬리덴은 예컨대 벤질리덴, 2-페닐에틸리덴 또는 1-페닐-2-헥실리덴이다. C7-C9페닐알킬리덴이 바람직하다.
C5-C8시클로알킬렌은 2개의 자유 원자가 및 하나 이상의 고리 단위체를 갖는 포화 탄화수소기이고 그 예로는 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 시클로헵틸렌 또는 시클로옥틸렌이 있다. 시클로헥실렌이 바람직하다.
C7-C8비시클로알킬렌은 예컨대 비시클로헵틸렌 또는 비시클로옥틸렌이다.
비치환되거나 또는 C1-C4-알킬-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌은 예컨대 1,2-, 1,3-, 1,4-페닐렌, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,7-, 2,6- 또는 2,7-나프틸렌이다. 1,4-페닐렌이 바람직하다.
바람직하게는 1 내지 3개, 특히 1 또는 2개의 측쇄되거나 직쇄의 알킬기를 함유하는 C1-C4알킬-치환된 C5-C12시클로알킬리덴 고리는 예컨대 시클로펜틸리덴, 메틸시클로펜틸리덴, 디메틸시클로펜틸리덴, 시클로헥실리덴, 메틸시클로헥실리덴, 디메틸시클로헥실리덴, 트리메틸시클로헥실리덴, 삼차부틸시클로헥실리덴, 시클로헵틸리덴 또는 시클로옥틸리덴이다. 시클로헥실리덴 및 삼차부틸시클로헥실리덴이 바람직하다.
1-, 2- 또는 3-가 금속 양이온은 바람직하게는 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 알루미늄 양이온, 예컨대 Na+, K+, Mg++, Ca++ 또는 Al+++이다.
중요한 분말 코팅 조성물은 n이 1이면, R1은 비치환된 페닐 또는 파라 위치에 C1-C18알킬티오, 디(C1-C4알킬)아미노, C2-C8알카노일옥시 또는 -CH2CH2OR23에 의해 치환된 페닐; 1 내지 5개의 알킬 치환기에 총 18개 이하의 탄소원자를 갖는 1- 내지 5-치환된 알킬페닐; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬, C1-C4-알콕시-, C1-C4-알킬티오-, 히드록시- 또는 아미노-치환된 나프틸, 비페닐, 테르페닐, 페난트릴, 안트릴, 플루오레닐, 카르바졸릴, 티에닐, 피롤릴, 페노티아지닐 또는 5,6,7,8-테트라히드로나프틸이고, 또 R23이 C2-C18알카노일인 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 것이다.
n이 2이면,
R1은 -R12-X-R13-이고,
R12 및 R13은 페닐렌이며,
X는 산소 또는 -NR31-이고, 또
R31은 C1-C4알킬인 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이 바람직하다.
또한, 다음과 같은 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이 바람직하다:
n이 1이면,
R1은 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-, C1-C4-알콕시, C1-C4알킬티오-, 히드록시, 할로겐, 아미노-, C1-C4알킬아미노- 또는 디(C1-C4알킬)아미노-치환된 나프틸, 페난트릴, 티에닐, 디벤조푸릴, 카르바졸릴, 플루오레닐 또는 하기 화학식 (2)의 라디칼이고,
(2)
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독자적으로 수소, 염소, 브롬, 히드록시, C1-C18알킬, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C2-C18알킬; C1-C18알콕시, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C2-C18-알콕시; C1-C18알킬티오, C3-C12알케닐옥시, C3-C12알키닐옥시, C7-C9페닐알킬, C7-C9페닐알콕시, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐; 페녹시, 시클로헥실, C5-C8시클로알콕시, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, C1-C12-알카노일, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C3-C12알카노일; C1-C12알카노일옥시, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C3-C12-알카노일옥시; C1-C12알카노일아미노, C3-C12알케노일, C3-C12알케노일옥시, 시클로헥실카르보닐, 시클로헥실카르보닐옥시, 벤조일 또는 C1-C4-알킬-치환된 벤조일; 벤조일옥시 또는 C1-C4알킬-치환된 벤조일옥시; 또는 이거나, 또는 화학식 (2)에서 라디칼 R7 및 R8 또는 라디칼 R8 및 R11은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하고,
R15는 히드록시, C1-C12알콕시 또는 이며,
R18 및 R19는 서로 독자적으로 수소, C1-C4알킬이고,
R20은 수소이며,
R21은 수소, 페닐, C1-C18알킬, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C2-C18알킬; C7-C9페닐알킬, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하고 또 페닐 라디칼 상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C18페닐알킬이거나, 또는 라디칼 R20 및 R21은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실렌 고리를 형성하고;
R22는 수소 또는 C1-C4알킬이며,
R23은 수소, C1-C18알카노일, C3-C18알케노일, 사슬 중간에 산소 또는 황을 포함하는 C3-C12알카노일; 디(C1-C6알킬)포스포네이트기에 의해 치환된 C2-C12알카노일; C6-C9시클로알킬카르보닐, 벤조일,
또는 이고,
R24 및 R25는 서로 독자적으로 수소 또는 C1-C12알킬이며,
R26은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R27은 C1-C12알킬렌, C2-C8알케닐렌, C2-C8알킬리덴, C7-C12페닐알킬리덴, C5-C8시클로알킬렌 또는 페닐렌이며,
R28은 히드록시, C1-C12알콕시 또는 이고,
R29는 산소 또는 -NH- 이며,
R30은 C1-C18알킬 또는 페닐이고, 또
s는 1 또는 2임.
마찬가지로 다음과 같은 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이 바람직하다:
n이 1이면,
R1은 페난트릴, 티에닐, 디벤조푸릴, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 카르바졸릴; 또는 플루오레닐이거나; 또는 하기 화학식 (2)의 라디칼이고,
(2)
R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독자적으로 수소, 염소, 히드록시, C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C3-C4알케닐옥시, C3-C4알키닐옥시, 페닐, 벤조일, 벤조일옥시 또는 이며,
R20은 수소이고,
R21은 수소, 페닐 또는 C1-C18알킬이거나, 또는 라디칼 R20 및 R21은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실렌 고리를 형성하며,
R22는 수소 또는 C1-C4알킬이고, 또
R23은 수소, C1-C12알카노일 또는 벤조일임.
n이 1이면, R7, R8, R9, R10 및 R11이 서로 독자적으로 수소, C1-C12알킬, C1-C4-알킬티오 또는 페닐인 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이 특히 바람직하다.
특히 중요한 것은 다음과 같은 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이다:
R2, R3, R4 및 R5는 서로 독자적으로 수소, 염소, C1-C18알킬, 벤질, 페닐, C5-C8시클로알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C1-C18알카노일옥시, C1-C18-알카노일아미노, C3-C18알케노일옥시 또는 벤조일옥시이거나; 또는 라디칼 R2 및 R3 또는 라디칼 R3 및 R4 또는 라디칼 R4 및 R5는 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하거나 R4는 부가적으로 -(CH2)p-COR15 또는 -(CH2)qOH이거나, 또는 R3, R5 및 R6이 수소이면, R4는 부가적으로 화학식 (3)의 라디칼이며,
R15는 히드록시, C1-C12알콕시 또는 이고,
R16 및 R17은 메틸기이거나 또는 이들이 부착된 C원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하며;
R24 및 R25는 서로 독자적으로 수소 또는 C1-C12알킬이고,
p는 1 또는 2이며, 또
q는 2, 3, 4, 5 또는 6임.
또한, 특히 중요한 것은 2개 이상의 라디칼 R2, R3, R4 및 R5가 수소인 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이다.
특별히 중요한 것은 R3 및 R5가 수소인 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이다.
매우 특별히 중요한 분말 코팅 조성물은,
R2가 C1-C4알킬이고,
R3이 수소이며,
R4는 C1-C4알킬이거나, 또는 R6이 수소이면, R4는 부가적으로 화학식 (3)의 라디칼이고,
R5는 수소이며, 또
R16 및 R17은 이들이 부착된 C원자와 합쳐서 시클로헥실리덴 고리를 형성하는 하나 이상의 화학식 (1)의 화합물을 포함하는 것이다.
하기 화합물은 본 발명의 분말 코팅 조성물에서 성분 (b)로서 특히 적합한 벤조푸란-2-온 유형의 예이다: 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-삼차부틸벤조푸란-2-온; 5,7-디-삼차부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온; 3,3 '-비스[5,7-디-삼차부틸-3-(4-[2-히드록시-에톡시]페닐)-벤조푸란-2-온]; 5,7-디-삼차부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온; 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-삼차부틸벤조푸란-2-온; 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-삼차부틸벤조푸란-2-온; 5,7-디-삼차부틸-3-페닐벤조푸란-2-온; 5,7-디-삼차부틸-3-(3,4-디메틸페닐)벤조푸란-3-온; 5,7-디-삼차부틸-3-(2,3-디메틸페닐)벤조푸란-2-온; 5,7-디-삼차부틸-3-(2,3,4,5,6-펜타메틸)벤조푸란-2-온; 및 하기 화학식 (5c)의 화합물:
[화학식 5c]
또한, 특별히 중요한 것은 하나 이상의 하기 화학식 (5)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이다:
[화학식 5]
상기 식에서,
R2는 수소 또는 C1-C6알킬이고,
R3은 수소이며,
R4은 수소, C1-C6알킬 또는 하기 화학식 (3a)의 라디칼이고,
[화학식 3a]
R5는 수소이며,
R7, R8, R9 및 R10은 서로 독자적으로 수소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시이고,
R11은 수소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시, C2-C8알카노일옥시 또는 이며, 단 2개 이상의 라디칼 R7, R8, R9, R10 및 R11은 수소이고;
R16 및 R17은 이들이 부착된 C원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실리덴 고리를 형성하며,
R20, R21 및 R22는 수소이고, 또
R23은 C2-C18알카노일임.
하나 이상의 하기 화학식 (5)의 화합물을 성분 (b)로서 포함하는 분말 코팅 조성물이 매우 특별히 바람직하다:
상기 식에서,
R2는 삼차부틸이고,
R3은 수소이며,
R4는 삼차부틸 또는 하기 화학식 (3a)의 라디칼이고,
R5는 수소이고,
R7, R8, R9 및 R10은 서로 독자적으로 수소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시이며,
R11은 수소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시, C2-C8알카노일옥시 또는 이고, 단 2개 이상의 라디칼 R7, R8, R9, R10 및 R11은 수소이며;
R16 및 R17은 이들이 부착된 C원자와 합쳐서 시클로헥실리덴 고리를 형성하고,
R20, R21 및 R22는 수소이며, 또
R23은 C2-C18알카노일임.
본 발명의 분말 코팅 조성물에서 성분 (b)로서 벤조푸란-2-온 유형의 화합물은 문헌에 공지되어 있고 또 이들의 제조는 예컨대 미국 특허: U.S. 4,325,863호; U.S. 4,388,244호; U.S. 5,175,312호; U.S. 5,252,643호; U.S. 5,216,052호; U.S. 5,369,159호; U.S. 5,488,117호; U.S. 5,356,966호; U.S. 5,367,008호; U.S. 5,428,162호; U.S. 5,428,177호 또는 U.S. 5,516,920호에 기재되어 있다.
중요한 분말 코팅 조성물은 특히 가스 오븐에서 열-경화성인 조성물인 분말 코팅 조성물이다.
"가스 오븐"은 예컨대 메탄, 프로판, 부탄, 석탄 가스, 일산화 탄소, 수소 또는 오일과 같은 탄화수소의 연소에 의해 공급되는 오븐을 말한다. 가스가 연소되거나 또는 공기와 함께 산화되면 공기내에 존재하는 질소와 함께 분말 코팅 조성물의 경화에 대한 바람직하지 못한 질소 산화물이 생성된다. 이러한 가스 오븐에서 질소 산화물의 농도는 1 내지 500ppm, 특히 5 내지 100ppm, 예컨대 10 내지 80ppm이다.
따라서, 본 발명은 성분 (a) 및 (b)를 포함하고 또 경화 과정중에 연소 가스로부터 유래하는 질소 산화물과 접촉하는 분말 코팅 조성물에 관한 것이다.
"분말 코팅 조성물" 또는 "분말 코팅"은 "Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th, Completely Revised Edition, Vol. A 18", 3.4항의 438 내지 444쪽(1991)에 기재된 정의를 의미한다. 분말 코팅이란 주로 금속 기판에 분말 형태로 도포되는 열가소성 또는 베이킹이 가능한, 가교성 중합체를 말한다. 코팅시킬 공작물과 분말을 접촉시키는 방법은 정전기 분말 분무, 정전기 유동층 소결, 고정층 소결, 유동층 소결, 회전 소결 또는 원심 소결과 같은 다양한 도포 기술로 분류된다.
본 발명의 분말 코팅 조성물에 대한 바람직한 유기 필름-형성 결합제는 예컨대 에폭시 수지, 폴리에스테르-히드록시알킬아미드, 폴리에스테르-글리콜루릴, 에폭시-폴리에스테르 수지, 폴리에스테르-트리글리시딜 이소시아누레이트, 히드록시-관능성 폴리에스테르-블록화된 폴리이소시아네이트, 히드록시-관능성 폴리에스테르-우레트디온, 경화제를 갖는 아크릴레이트 수지, 또는 이들 수지의 혼합물을 기재로 하는 가열 건조 계이다.
또한, 중요한 것은 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 디클로라이드 또는 폴리비닐리덴 디플루오라이드와 같은 열가소성을 갖는 필름-형성 결합제이다.
폴리에스테르는 통상 히드록시- 또는 카르복시-관능성이고 또 통상 디올 및 디카르복시산의 축합 반응에 의해 제조된다. 폴리올 및/또는 다가산을 부가함으로써 가교제의 존재하에서 가열 건조할 때 코팅에 내마찰성, 내충격성 및 굴곡 강도와 같은 원하는 물리적 특성을 제공하는 망상 구조를 유발하는 측쇄된 폴리에스테르가 수득된다. 다관능성 산 대신에 무수물 또는 산 염화물, 예컨대 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 프탈산 무수물, 테레프탈산 무수물, 헥사히드로테레프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 이무수물, 숙신산 무수물 등을 사용할 수 있다. 예컨대 디메틸테레프탈레이트와 같은 단순한 에스테르를 사용할 수 있는 데, 이 경우 중합반응은 휘발성 알코올의 제거와 함께 에스테르 교환 반응에 의해 일어난다. 마찬가지로 에스테르 교환 반응 및 축합 반응의 조합에 의해 제조할 수도 있다. 더욱이, 폴리에스테르는 히드록시카르복시산, 예컨대 12-히드록시스테아르산 및 히드록시피발산, 또는 상응하는 락톤 예컨대 ε-카프로락톤의 중축합반응에 의해 제조될 수 있다. 디카르복시산 및 다가산의 예는 테레프탈산, 이소프탈산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 1,12-도데칸 이가산, 피로멜리트산, 3,6-디클로로프탈산, 숙신산, 1,3-시클로헥산디카르복시산 및 1,4-시클로헥산디카르복시산을 포함한다. 디올 및 폴리올의 예는 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, 헥산트리톨, 헥산-2,5-디올, 헥산-1,6-디올, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 트리스-1,4-시클로헥산디메탄올, 트리메틸펜탄디올, 2,2-디에틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 에스테르디올 204(히드록시피발산 및 네오펜틸글리콜의 에스테르), 수소화 비스페놀 A, 비스페놀 A, 히드록시피발산, 히드록시피발레이트 에스테르, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 2-부텐-1,4-디올, 2-부틴-1,4-디올 또는 2-메틸-1,3-프로판디올을 포함한다.
카르복시-관능성 폴리에스테르에 대한 적합한 가교제는 에폭시 화합물, 예컨대 NovolacR-에폭시 수지, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르, 수소화 비스페놀 A 및 예컨대 지방족 디카르복시산과의 반응에 의해 변형된 비스페놀 A이다. 또한, 적합한 것으로는 트리글리시딜트리아졸리딘-3,5-디온, 다가산의 글리시딜 에스테르, 예컨대 디글리시딜 테레프탈레이트 및 디글리시딜헥사히드로테레프탈레이트, 히단토인 에폭시드(U.S. 4,402,983호) 및, 특히 트리글리시딜 이소시아누레이트, 에폭시화 불포화 지방산 에스테르(예컨대 DSM의 UranoxR) 및 AralditR PT910(R시바 스페셜티 케미 AG)와 같은 반응성 에폭시 화합물이다. 카르복시-관능성 폴리에스테르에 대한 다른 가교제는 β-히드록시알킬아미드(U.S. 4,076,917호), 예컨대 주로 아디프산의 사관능화 β-히드록시알킬아미드 유도체(Rohm & Haas의 PrimidR XL 552)이다. 저분자량 알코올로 알킬화된 멜라민, 벤조구아니민 및 글리콜루릴의 유도체가 또한 적합한 것으로 증명되었다. 예로는 테트라메틸메톡시글리콜루릴(RAmerican Cyanamid의 PowderlinkR 1174)가 있다. 또, 가교제로서 비스- 및 트리스옥사졸리딘, 예컨대 1,4-비스옥사졸리디노벤젠이 또한 공지되어 있다.
보다 최근에는 화학 결합된 에폭시기를 함유하고 또 그들끼리 가교될 수 있는 카르복시-관능성 폴리에스테르가 있다(Molhoek et al., 22nd Fatipec Congress, 15-19.5.95, 부다페스트, Vol.1, 119-132).
가교 반응에서 에폭시기 또는 글리시딜 라디칼이 카르복시기 또는 무수물과 반응하는 모든 계에서 촉매를 사용할 수 있다. 예로는 아민 또는 금속 화합물, 예컨대 알루미늄 아세틸아세토네이트 또는 옥토산 주석이 있다.
폴리이소시아네이트 가교제는 히드록시-관능성 폴리에스테르에 대한 가교제로서 특히 중요하다. 이소시아네이트의 높은 반응성 때문에 조기 가교 반응을 방지하고, 또 용융 분말의 양호한 수준을 얻기 위해 폴리이소시아네이트는 블록화된다(내부적으로 우레트디온 형태 또는 차단제를 갖는 부가 생성물로서). 가장 통상적으로 사용되는 차단제는 ε-카프로락탐, 메틸 에틸 케톡심 또는 부타논옥심이다. 이소시아네이트에 대한 다른 적합한 차단제는 G.B. Guise, G.N. Freeland 및 G.C. Smith가 발표한 J. Applied Polymer Science, 23, 353(1979) 및 M. Bock 및 H.U. Maier-Westhues가 1993년 7월 12-16일, 아테네에서 개최된 유기 코팅, 과학 및 기술(Organic Coatings, Science and Technol)에 대한 제 19차 국제 회의에서 발표한 문헌 "Progress in Product Development for Powder Technology"에 기재되어 있다. 블록화되거나 또는 블록 해제된 폴리이소시아네이트의 예는 2-메틸펜탄 1,5-디이소시아네이트, 2-에틸부탄 1,4-디이소시아네이트, 3(4)-이소시아네이토메틸-1-메틸시클로헥실 이소시아네이트, 3-이소시아네이토메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥산 디이소시아네이트, 트리스(이소시아네이토메틸)벤젠, 4,4'-디이소시아네이토디시클로헥실메탄, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, m-테트라메틸크실렌 디이소시아네이트, p-테트라메틸크실렌 디이소시아네이트 및 특히 이소포론 디이소시아네이트를 포함한다. 블록 해제를 위해 예컨대 옥토산 주석, 디부틸주석 산화물 또는 디부틸주석 디아우레이트와 같은 금속 촉매를 폴리이소시아네이트 배합물에 부가하는 것이 통상적이다.
히드록시-관능성 폴리에스테르에 적합한 다른 가교제는 무수물, 예컨대 트리멜리트산 무수물 및 디올과 디아민의 반응 생성물이다. 이러한 가교제의 다른 예는 T.A. Misev in "Powder Coatings: Chemistry and Technology", John Wiley & Sons, Chichester, 1991, 123 및 124쪽에 기재되어 있다.
통상적으로 히드록시, 카르복시 또는 글리시딜 관능성을 갖는 폴리아크릴레이트는 분말 코팅에 대한 결합제로서 사용된다. 이들은 통상적인 방법, 주로 스티렌과 같은 단량체 및 아크릴산 또는 메타크릴산의 직쇄되거나 또는 측쇄된 C1-C8-알킬 에스테르로부터 제조된다. 또, 다른 에틸렌형 불포화 화합물, 예컨대 디비닐벤젠, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 부톡시메틸아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 부타디엔 등은 부가되고 또 공중합화될 수 있다. 히드록시 관능성은 예컨대 히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트와 같은 히드록시-관능성 단량체의 공중합 반응에 의해 제공된다. 카르복시 관능성에 대해서는 에틸렌형 불포화산 및 무수물, 예컨대 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산 및 크로톤산, 및 말레산-, 이타콘산-, 아크릴산- 또는 메타크릴산 무수물이 사용된다(US-A-3,836,604호). EP-A-0 256 369호 및 US-A-3 876 578호에 개시된 바와 같이 글리시딜 관능성은 글리시딜 아크릴레이트 및 글리시딜 메타크릴레이트와 같은 단량체의 공중합반응에 의해 제공된다. 히드록시 또는 카르복시 관능성을 갖는 폴리아크릴레이트에 대한 가교제로서, 원칙적으로 히드록시 또는 카르복시 관능성을 갖는 폴리에스테르에 대해 상술한 바와 같은 동일한 화합물을 사용할 수 있다. 다른 적합한 가교제는 US-A-0,045,040호의 에폭시 화합물이다. 글리시딜 관능성을 갖는 폴리아크릴레이트에 대한 적합한 가교제는 예컨대 세바스산 및 1,12-도데칸디카르복시산과 같은 디카르복시산, 및 예컨대 비스-트리멜리트산 무수물과 같은 무수물 및 US-A-3,880,946호에 기재된 화합물이다. 또한, DE-A-3 310 545호는 자기가교성(autocrosslinking) 폴리아크릴레이트를 개시하고 있다.
분말 코팅에 대한 에폭시 수지는 통상 NovolacR-에폭시 수지이거나, 특히 방향족 폴리올, 특별히 비스페놀 A와 같은 비스페놀을 기재로 하는 것들이다. JP-A-58 187 464호(1982)에 변형된 비스페놀-에폭시 수지가 또한 공지되어 있다. 에폭시 수지는 고형분 지방족 아민, 고형분 방향족 아민, 아민 부가생성물, 페놀성 수지, 다가산 및 상술한 카르복시-관능성 폴리에스테르의 군으로부터 선정된 가교제와 조합하여 사용된다. 특별히 언급할 만한 경화제는 예컨대 루이스산, 보론 트리플루오라이드-아민 착물, 금속 착물, 삼차 또는 사차 아민, 및 2-메틸이미다졸린과 같은 이미다졸린 유도체와 같은 촉매와 함께 종종 사용되는 디시안디아미드이다.
성분 (b)는 유기 필름-형성 결합제의 특성 및 경제성 등을 고려할 때, 성분 (a)의 중량 기준으로, 바람직하게는 0.001 내지 10중량%, 예컨대 0.01 내지 5중량%, 바람직하게는 0.025 내지 3중량% 및, 특히 0.05 내지 3중량%의 양으로 사용된다.
성분 (a) 및 (b) 이외에 본 발명의 분말 코팅 조성물은 다른 첨가제를 포함할 수 있다.
다른 첨가제로서 본 발명의 바람직한 분말 코팅 조성물은 안료, 염료, 충전제, 균염 보조제, 휘발 억제제(devolatilizing agent), 전하 조절제, 광학 광택제, 접착 촉진제, 산화 방지제, 광안정화제, 경화촉매, 광개시제, 습윤 보조제 또는 부식 보호제로 구성된 군으로부터 하나 이상의 성분을 포함한다.
부식 보호제는 예컨대 포스페이트- 또는 보레이트-함유 안료 또는 금속 산화물 안료와 같은 내식 안료, 또는 예컨대 니트로이소프탈산, 인산 에스테르, 공업용 아민, 치환된 벤조트리아졸 또는 (2-벤조티아졸릴티오)숙신산(IrgacorR 252, 시바 스페셜티 케미 AG)의 염과 같은 다른 유기 또는 무기 부식 억제제이다.
휘발 억제제의 예는 EP-A-0 471 409호에 기재된 바와 같은 지방산 아미드, ε-카프로락탐, 스테아르산, 메틸 및 디메틸 이소프탈레이트(EP-A-284 996호), 및 특히 벤조인이다.
균염 보조제의 예는 에폭시화 지방산, 아비에틸 알코올, 폴리라우릴 메타크릴레이트, 폴리라우릴 아크릴레이트, 폴리디메틸실록산-폴리알킬렌 옥사이드 블록 공중합체 또는, 특히 저분자량 중합체 및 C1-C8알킬 아크릴레이트 에스테르 또는 알킬 메타크릴레이트 에스테르의 공중합체이다.
접착 촉진제는 예컨대 변형된 실란, 티타네이트 또는 지르코네이트를 기재로한다.
안료는 예컨대 이산화 티탄, 산화철, 카본 블랙, 알루미늄 청동, 프탈로시아닌 블루, 아미노안트라퀴논, 황산 바륨 또는 리토폰(lithopone)이다.
적합한 습윤 보조제의 예는 FluoradR FC 430(3M, 미국)와 같은 불화 습윤제이다.
UV-경화 분말 코팅에 대한 적합한 광개시제는 벤조페논, 페닐글리옥살레이트, 비스- 및 모노-아실포스핀 옥사이드, α-히드록시 케톤 또는 벤질 디메틸 케탈을 기재로 한다. 광개시제의 혼합물이 또한 적합하다.
특히 적합한 광학 광택제는 UvitexR OB(시바 스페셜티 케미 AG)이다.
충전제의 예는 탈크, 알루미나, 규산 알루미늄, 중정석, 운모, 실리카, 탄산 칼슘 또는 마그네슘, 산화 마그네슘, 산화 아연, 탄산 아연, 인산 아연 또는 이들의 혼합물이다.
성분 (b) 이외에 본 발명의 분말 코팅 조성물은 예컨대 하기와 같은 다른 공안정화제(첨가제)를 포함할 수 있다:
1. 산화방지제
1.1 알킬화 모노페놀, 예컨대 2,6-디-삼차-부틸-4-메틸페놀, 2-삼차-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로-헥실페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시메틸페놀, 선형이나 측쇄에 분지된 노닐페놀, 예컨대 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1 '-메틸운데스-1' -일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1 '-메틸헵타데스-1' -일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1 '-메틸트리데스-1' -일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예컨대 2,4-디옥틸티오메틸-6-삼차-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예컨대 2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-삼차-부틸히드로퀴논, 2,5-디-삼차-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-삼차-부틸히드로퀴논, 2,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예컨대 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민E)
1.5. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예컨대 2,2 '-티오비스(6-삼차-부틸-4-메틸페놀), 2,2' -티오비스(4-옥틸페놀), 4,4 '-티오비스(6-삼차-부틸-3-메틸페놀), 4,4' -티오비스-(6-삼차-부틸-2-메틸페놀), 4,4 '-티오비스-(3,6-디-이차-아밀페놀), 4,4' -비스-(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예컨대 2,2 '-메틸렌비스(6-삼차-부틸-4-메틸페놀), 2,2' -메틸렌비스(6-삼차-부틸-4-에틸페놀), 2,2 '-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,2' -메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2 '-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2' -메틸렌비스(4,6-디-삼차-부틸페놀), 2,2' -에틸리덴비스(4,6-디-삼차-부틸페놀), 2,2 '-에틸리덴비스(6-삼차-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2' -메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2 '-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4' -메틸렌비스(2,6-디-삼차-부틸페놀), 4,4 '-메틸렌비스(6-삼차-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-삼차-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3' -삼차-부틸-4 '-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-삼차-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3' -삼차-부틸-2 '-히드록시-5' -메틸벤질)-6-삼차-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예컨대 3,5,3 ',5'-테트라-삼차-부틸-4,4 '-디히드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예컨대 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-삼차-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실메르캅토에틸-2,2-비스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예컨대 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예컨대 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예컨대 디메틸-2,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-삼차-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘염.
1.12. 아실아미노페놀, 예컨대 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.13. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과 β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.14. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N '-비스(히드록시에틸)옥사아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과 β-(5-삼차-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르.
1.15. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N '-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.16. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N '-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐 아세트산의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예컨대 N,N '-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N' -비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N' -비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
1.18. 아스코르브산(비타민 C)
1.19. 아민 산화방지제, 예컨대 N,N' -디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N '-디-이차-부틸-p-페닐렌디아민, N,N' -비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N' -비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N' -비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N' -디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N' -디페닐-p-페닐렌디아민, N,N' -비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N' -페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N' -페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N' -페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N' -페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술파모일)-디페닐아민, N,N' -디메틸-N,N' -디-이차-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-삼차-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예컨대 p,p' -디-삼차-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노-페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-삼차-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4 '-디아미노디페닐메탄, 4,4' -디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4' -디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-디(페닐아미노)프로판, (o-톨일)비구아니드, 비스[4-(1 ',3 '-디메틸부틸)페닐]아민, 삼차-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸/삼차-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸/삼차-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 삼차-옥틸-페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N' -테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
2. UV 흡수제와 광 안정화제
2.1. 2-(2 '-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예컨대 2-(2' -히드록시-5 '-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3' ,5 '-디-삼차-부틸-2' -히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5 '-삼차-부틸-2' -히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2 '-히드록시-5' -(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3 ',5' -디-삼차-부틸-2 '-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3' -삼차-부틸-2 '-히드록시-5' -메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3 '-2차부틸-5' -삼차-부틸-2 '-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2' -히드록시-4 '-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3 ',5' -디-삼차-아밀-2' -히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3 ',5' -비스-(α,-α-디메틸벤질)-2 '-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3' -삼차-부틸-2 '-히드록시-5' -(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2' -(3 '-삼차-부틸-5' -[2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸]-2 '-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3' -삼차-부틸-2 '-히드록시-5' -(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3 '-삼차-부틸-2' -히드록시-5 '-(2-메톡시카르보닐)페닐)벤조트리아졸, 2-(3' -삼차-부틸-2 '-히드록시-5' -(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3 '-삼차-부틸-5' -[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2 '-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3' -도데실-2 '-히드록시-5' -메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3 '-삼차-부틸-2' -히드록시-5 '-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2' -메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 또는 2-[3 '-삼차-부틸-5' -(2-메톡시카르보닐에틸)-2 '-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 에스테르 교환 반응 생성물; [R-CH2CH2-COO-CH2CH2-]2 (R은 3' -삼차-부틸-4 '-히드록시-5' -2H-벤조트리아졸-2-일페닐임), 2-[2 '-히드록시-3' -(α,α-디메틸벤질-5 '-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페닐]벤조트리아졸; 2-[2' -히드록시-3 '-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5' -(α,α-디메틸벤질)-페닐]벤조트리아졸.
2,2, 2-히드록시벤조페논, 예컨대 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2 ',4' -트리히드록시 및 2 '-히드록시-4,4' -디메톡시 유도체.
2.3. 비치환 또는 치환된 벤조산의 에스테르, 예컨대 4-삼차-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-삼차-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-삼차-부틸페닐 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-삼차-부틸페닐 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예컨대 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시-신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5 니켈 화합물, 예컨대 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민과 같은 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 2,2 '-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-삼차-부틸 벤질 포스폰산의 모노알킬 에스테르(예컨대 메틸 에스테르 또는 에틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예컨대 2-히드록시-4-메틸페닐 운데실케톡심)의 니켈 착물, 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예컨대 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질 말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-삼차-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복실레이트, 1,1' -(1,2-에탄디일)-비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 직쇄 또는 고리형 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N' -비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메티렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디-클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합 생성물 (CAS Reg. No.[136504-96-6]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4,5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4,5]데칸과 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1 '-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시-메틸렌-말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말론산 무수물-α-올레핀-공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
2.7. 옥사미드, 예컨대 4,4 '-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2' -디에톡시옥사닐리드, 2,2' -디옥틸옥시-5,5 '-디-삼차-부톡사닐리드, 2,2' -디도데실옥시-5,5 '-디-삼차-부톡사닐리드, 2-에톡시-2' -에틸옥사닐리드, N,N' -비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-삼차-부틸-2 '-에톡사닐리드 및 이들과 2-에톡시-2' -에틸-5,4 '-디-삼차-부톡사닐리드와의 혼합물 및 o- 및 p-메톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예컨대 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부톡시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈 활성화제, 예컨대 N,N '-디페닐옥사미드, N-살리실알-N' -살리실로일 히드라진, N,N' -비스(살리실로일) 히드라진, N,N '-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐) 히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살일 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피온일 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-삼차-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-삼차-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(삼차-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-삼차-부틸페닐)4,4 '-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-삼차-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-삼차-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐)에틸포스파이트, 2,2' ,2 "-니트릴로[트리에틸트리스(3,3 ',5,5' -테트라-삼차부틸-1,1 '-비페닐-2,2' -디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3 ',5,5' -테트라-삼차부틸-1,1 '-비페닐-2,2' -디일)포스파이트.
특히 바람직한 것은 하기의 포스파이트이다:
트리스(2,4-디-삼차부틸페닐) 포스파이트(IrgafosR 168, 시바-가이기), 트리스(노닐페닐)포스파이트,
특히 바람직한 것은 트리스(2,4-디-삼차부틸페닐) 포스파이트[IrgafosR 168, 시바 스페셜티 케미 AG], 비스(2,4-디-삼차부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트[IrgafosR 168, 시바 스페셜티 케미 AG, 화학식 (G)], UltranoxR 626[GE 케미칼스, 화학식 (D)], 테트라키스(2,4-디-삼차부틸페닐)-4,4 '-비페닐렌 디포스파이트[IrgafosR P-EPQ, 시바 스페셜티 케미, 화학식 (H)], UltranoxR 641[GE 케미칼스, 화학식 (I)], DoverphosR S9228[도버 케미칼스, 화학식 (K)] 또는 MarkR HP10[아데카 아르구스, 화학식 (L)].
5. 히드록시아민, 예컨대 N,N-디벤질히드록시아민, N,N-디에틸히드록시아민, N,N-디옥틸히드록시아민, N,N-디라우릴히드록시아민, N,N-디테트라데실히드록시아민, N,N-디헥사데실히드록시아민, N,N-디옥타데실히드록시아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록시아민, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록시아민.
6. 니트론, 예컨대 N-벤질-알파-페닐 니트론, N-에틸-알파-메틸 니트론, N-옥틸-알파-헵틸 니트론, N-라우릴-알파-운데실 니트론, N-테트라데실-알파-트리데실-니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실 니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실 니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실 니트론, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N' -디알킬히드록시아민으로부터 유도된 니트론.
7. 티오상승제, 예컨대 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트.
8. 과산화물 분해제, 예컨대 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연염, 디부틸디티오카르밤산 아연, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
공안정화제는 성분 (a) 기준으로 예컨대 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.025 내지 3중량%, 특히 0.05 내지 3중량%의 농도로 사용된다.
특히 바람직한 부가적인 첨가제는 페놀성 산화방지제(1항), 입체 장애 아민(2.6항), 포스파이트 및 포스포나이트(4항) 및/또는 티오상승제(7항)이다.
포스파이트 및 포스포나이트의 군으로부터 선정된 부가적인 첨가제는 바람직하게는 융점 40 내지 150℃, 특히 60 내지 120℃, 예컨대 70 내지 110℃이다. 이러한 바람직한 용융 범위는 성분 (a) 및 (b)와 함께 용이하게 혼합되도록 한다.
상술한 부가적인 첨가제는 공지 화합물이고, 또 이들 대부분은 시판되고 있다.
단량체의 첨가 중합반응 또는 공중합반응에 의한 유기 필름-형성 결합제[성분 (a)]의 제조에 있어서, 성분 (b) 및 상술한 부가적인 첨가제는 중합반응 전에라도 단량체에 부가될 수 있다.
분말 코팅 조성물은 통상적인 방법, 특히 정전기 분말 분무에 의해 기판에 도포된다. 분무 건(gun)으로부터 분무된 분말은 고압 전극에서 정전기적으로 하전되고 기류 및 정전기적 인력의 효과에 의해 공작물 상으로 유도된다. 전계선(field line)의 소위 "랩어라운드(wraparound)" 효과는 언더컷(undercut) 및 뒷면까지도 코팅시킨다. 쿨롱력에 의해 부착된 도포 입자는 가스 오븐에서 함께 용융(응집)되고 경화된다. 바람직한 베이킹 온도는 필름-형성 결합제(수지/경화제 계)의 반응성에 따라 130 내지 230℃로 다르다.
바람직한 기판은 철, 강철, 구리, 아연, 주석, 마그네슘, 규소, 티탄 또는 알루미늄과 같은 금속 기판 및 이들의 합금이다.
본 발명의 바람직한 구체예는 특히 가스 오븐에서 열경화성 분말 코팅 조성물(가열 건조성 에나멜)의 변색을 감소시키는 안정화제로서 성분 (b)의 용도이다.
본 발명은 또한 하나 이상의 성분 (b)를 분말 코팅 조성물에 혼입하거나 또는 도포하는 것을 포함하는 열경화성 분말 코팅 조성물의 변색을 감소시키기 위한 방법에 관한 것이다.
마찬가지로, 본 발명은 성분 (a) 및 (b)를 포함하는 분말 코팅 조성물을 가스 오븐에서 경화시키기 위한 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상술한 방법에 의해 도포되고 경화된 코팅 필름에 관한 것이다.
본 발명의 성분 (a) 및 (b)를 갖는 분말 코팅 조성물의 제조는 통상적인 방법에 의해 실시될 수 있다. T.A. Misev's book: "Powder Coatings: Chemistry and Technology", J. Wiley & Sons, Chichester in Chapter 5에 실험 절차 및 기구에 대해 잘 기재되어 있다.
통상, 분말 코팅 조성물의 모든 성분은 계량한 후 적절한 혼합기에서 함께 혼합된다. 회전식 혼합기, 원뿔 혼합기, 이중-원뿔 혼합기, 수평식 혼합기, 배합기 및 유성형(planetary) 혼합기와 같은 교반 장치를 이용하여 실시된다.
먼저, 배합물을 통상 70 내지 135℃, 바람직하게는 80 내지 120℃로 가열시킨 압출기에서 가공하여 균일성이 큰 용융 조성물을 수득한다. 이러한 목적에 대해 적합한 장치는 단일축 공-화합물(co-compound), 쌍축 압축기 및 유성형 압출기를 포함한다. 통상 축 컨베이어, 컨베이어 벨트 또는 진동 트로프(trough)를 사용하여 측량된다. 압출 후, 고온의 덩어리를 압연하고 예컨대 냉각 벨트에서 냉각시킨다. 고형화되면 덩어리를 파쇄한 다음 분쇄시킨다. 실리카 겔 또는 알루미나와 같은 보조제의 적은 양이 분쇄 전 또는 후에 부가될 수 있다. 적합한 분쇄 장치는 핀-디스크(pinned-disk) 분쇄기, 초원심 분쇄기, 제트 분쇄기, 및 특히 분류 분쇄기이다. 이어, 분말을 분류하고 바람직하게는 채가름한다. 분쇄 후, 예컨대 금속-효과(metal-effect) 안료 또는 운모를 부가할 수 있다. 분쇄 후 통상 입경은 평균 입경이 3 내지 50㎛인 1 내지 100㎛ 범위이다.
본 발명에 대해 사용할 수 있는 분말 코팅의 제조에 대한 다른 기술(EP-B-368 851호 또는 WO-A-92/00342호)은 최근에 개시되어 왔다. 상기 기술에 있어 예비 혼합된 배합물 또는 압출물을 가열시킨 회전 관에 공급하고 회전 판 상에서 원심 회전시켰다. 바닥으로 낙하하기 전에 냉각 공기에서 고형화되는 작은 원형, 유리하게는 단순 분산형 소적(droplet)이 판의 가장자리에 형성된다.
분말 코팅 조성물의 제조에 대한 신규 기술은 액체 이산화 탄소에서 성분 (a) 및 (b)를 혼합한 다음, 분무 건조 또는 증발에 의해 이산화 탄소를 제거하는 것으로 이루어져 있다(US-A-4,414,370호 또는 US-A-4,529,787호 참조). 본 발명의 안정화제[성분(b)]는 분말 코팅 조성물의 제조 방법에 대해 매우 적합하다.
본 발명의 성분 (b)가 낮은 융점(50℃이하)을 갖거나 또는 상온에서 액체인 경우에는, 점착성 또는 액체 생성물을 압출기로 도입하는 것이 용이하지 않기 때문에 취급상 난점이 있을 수 있다. 성분 (b)가 고형분이고 또 높은 융점(120℃이상)을 갖거나 또는 압출 온도에서 높은 용융 점도를 갖는 경우에도 난점이 발생할 수 있다. 이러한 성분 (b)를 성분 (a)와 혼합하는 것은 매우 쉽지 않다. 이러한 경우, 본 발명의 성분 (b)를 마스터뱃치 형태로 사용하는 것이 유용하다는 것이 밝혀졌다.
마스터뱃치는 성분 (a)에서 성분 (b)의 농축물이다. 여기에서 성분 (b)는 성분 (a)에서 분산액 또는 용액으로 존재할 수 있다. 마스터뱃치가 포함할 수 있는 성분 (b)의 양은 예컨대 성분 (a)에서의 용해도 및 저장시 케이크화되는 바람직하지 못한 경향과 같은 마스터뱃치의 물리적 특성에 의해서만 결정된다. 바람직한 마스터뱃치는 성분 (a)를 기준으로 성분 (b)의 5 내지 90중량%, 특히 5 내지 60중량%, 예컨대 5 내지 40중량%의 양을 포함한다.
마스터뱃치는 성분 (a)의 제조 도중과 같이 조기에 제조될 수 있다. 따라서, 예컨대 약 240℃에서 바람직하게 제조되는 폴리에스테르의 경우에는 중축합반응 도중에 성분 (b) 및 임의의 다른 첨가제를 부가할 수 있다.
본 발명의 분말 코팅 조성물에 있어서 성분 (b)의 용도에 대한 또 다른 방법은 다공성 고형분 상에서 성분 (b)를 흡수하는 것으로 이루어진다. 이 방법은 성분 (b)가 상온에서 (점성이 있는) 액체일 때 특히 유용하다. 특히 적합한 다공성 고형분은 예컨대 산화 알루미늄 또는 실리카 겔과 같은 높은 오일 흡수도 및 작은 입경을 갖는 것들이다.
분말 코팅은 실시에 있어 통상적인 방법에 의해 도포된다. 예컨대 코로나 건, 마찰전기 분무 건이 사용될 수 있다. 예컨대 WO-A-96/15199호에 기재된 바와 같이 자기 담체 입자와의 접촉에 의해 마찰전기 전하를 생성할 수도 있다. 또, 대전된 분말 코팅은 예컨대 EP-A-O 678 466호에 기재된 바와 같이 분말 측정 장치를 이용하여 기판에 도포될 수 있다. 더욱이, 경우에 따라 정전기적으로 대전되는 다양한 유동층 소결 기술이 전개될 수 있다. 열가소성 분말 코팅에 대해, 화염 분무법을 이용할 수도 있다.
예컨대 U.S. 4,268,542호 또는 WO-A-96/32452호에서는 분말 코팅이 적절한 분산제 및 습윤제에 의해 물에 현탁되는 분말 코팅 슬러리를 기재하고 있다. 이러한 분말 코팅 슬러리는 종래의 습식-도료 분무 건을 이용하여 분무된다. 물이 증발된 후, 기판에 도포된 분말 코팅 층은 통상적인 분말 코팅에 대한 것과 같이 베이킹될 수 있다. 본 발명의 분말 코팅 조성물은 상기 기술에 대해 특히 적합하다.
분말 코팅 조성물은 전기 오븐 또는 가스 오븐에서 베이킹될 수 있다. 또, 가스 오븐에서 베이킹은 적외선 가열 또는 전기 가열 장치에 의해 실시될 수 있다.
하기의 실시예는 본 발명을 설명한다. 부 및 퍼센트는 중량기준이다.
실시예 1: 카르복시-관능성 폴리에스테르를 기재로 하며 또 전기 및 가스 오븐에서 경화되는 분말 코팅의 변색 측정.
카르복시-관능성 폴리에스테르를 기재로 하는 분말 코팅 조성물을 제조하기 위해 성분 1 내지 6(첨가제가 없는 배합물) 또는 성분 1 내지 7(안정화제를 함유하는 배합물)을 지시된 절차(하기 표)에 따라 사용하였다.
상기 방식으로 계량한 성분을 유선형 교반기를 이용하여 혼합하였다. 이후, 상기 혼합물을 300rpm 및 100℃의 프리즘 압출기에서 압출한 후 압연하였다. 이 분말 코팅 조성물을 벤치(bench) 절단기를 이용하여 잘게 분쇄하고 0.75mm의 환상-다공(annular-perforation) 스크린을 갖는 15,000rpm의 Retsch ZM-1 초원심 분쇄기에서 분쇄하였다. 최종적으로, 이 분말을 원심 선별기(screening machine) 상의 30㎛ 막으로 통과시켰다.
최종 분말 코팅 조성물을 60kV의 ESB-Wagner 코로나 컵 건을 이용하여 정전기적으로 분무하여 알루미늄 패널상에 두께 70㎛의 코팅을 수득하였다. 몇몇 코팅된 패널을 180℃의 전기 오븐에서 90분 동안 경화하였다. 코팅된 잔여 패널을 NO2 함량 20ppm을 갖는 180℃의 가스 오븐에서 45분 동안 경화하였다. 샘플의 황색 지수(YI)는 ASTM D 1925-70에 따라 측정하였다. 낮은 YI 값은 거의 변색되지 않음을 의미하고, 높은 YI 값은 샘플의 심한 변색을 의미한다. 변색이 적을수록 안정화제는 보다 효과적이다. 그 결과를 하기 표에 나타내었다.
180℃의 전기 오븐에서 90분 동안 경화
180℃의 전기 오븐에서 45분 동안 경화
g) IrganoxR HP-136(시바 스페셜티 케미 AG)는 하기 화학식 (5a)의 화합물 약 85중량% 및 하기 화학식 (5b)의 화합물 약 15중량%의 혼합물이다.
[화학식 5a]
[화학식 5b]
h) IrgafosR 168(시바 스페셜티 케미 AG)는 트리스(2,4-디-삼차부틸페닐) 포스파이트이다.
i) HALS 혼합물은 TinuvinR 622(시바 스페셜티 케미 AG) 및 ChimassorbR 119(시바 스페셜티 AG)의 1:1 혼합물이다. TinuvinR 622(시바 스페셜티 케미 AG)는 평균 분자량이 약 3000인 하기 화학식의 화합물이다.
ChimassorbR 119(시바 스페셜티 AG)는 하기 화학식 (7)의 2-클로로-4,6-디(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진 및 하기 화학식 (8) 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄으로부터 제조되는 축합반응 생성물이다.
[화학식 7]
[화학식 8]
j) IrganoxR 1010(시바 스페셜티 케미 AG)는 3-(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시페닐)프로피온산(하기 화학식의 화합물)의 펜타에리트리톨 에스테르이다.
실시예 2: 히드록시-관능성 폴리에스테르-우레트디온을 기재로 하는 전기-오븐에서 경화시킨 분말 코팅의 변색 측정
히드록시-관능성 폴리에스테르-우레트디온을 기재로 하는 분말 코팅 조성물을 제조하기 위해, 성분 1 내지 6(첨가제가 없는 배합물) 및 성분 1 내지 7(안정화제를 함유하는 배합물)을 지시된 절차(하기 표)에 따라 사용하였다.
k) AlftaltR AN 745는 이탈리아 로마노 드 에첼리노 소재 비아노바 레진스 SpA의 히드록시-관능성 폴리에스테르이다.
l) VestagonR BF 1540은 독일 마를 소재 휠스 AG의 우레트디온 경화제이다.
m) ResiflowR PV88은 독일 라우엔부르크 소재 월레 케미 GmbH의 폴리아크릴레이트 균염 보조제이다.
n) 플루카 AG의 벤조인
o) Metatin 촉매 712ES는 스위스 북스 소재 아키모의 디-n-부틸주석 디라우레이트이다.
p) KronosR 2160은 독일 레버쿠젠 소재 티탄-GmbH의 이산화 티탄이다.
상기 방식으로 계량한 성분을 유선형 교반기를 이용하여 혼합하였다. 이후, 상기 혼합물을 300rpm 및 130℃의 프리즘 압출기에서 압출한 후 압연하였다. 이 분말 코팅 조성물을 벤치 절단기를 이용하여 잘게 분쇄하고 0.75mm의 환상-다공 스크린을 갖는 15,000rpm의 Retsch ZM-1 초원심 분쇄기에서 분쇄하였다. 최종적으로, 이 분말을 원심 선별기 상의 30㎛ 막으로 통과시켰다.
최종 분말 코팅 조성물을 60kV의 ESB-Wagner 코로나 컵 건을 이용하여 정전기적으로 분무하여 알루미늄 패널상에 두께 90㎛의 층을 수득하였다. 코팅된 패널을 185℃의 전기 오븐에서 15분 동안 경화시켰다. 이후, 샘플의 ΔE 색도는 백색 표준에 대한 DIN 6174 및 5033, Part 9에 따라 측정하였다. 큰 ΔE 값은 상대적으로 큰 황화를 의미한다. 변색이 적을수록 안정화제는 보다 효과적이다. 그 결과를 하기 표에 나타내었다.
전기 오븐에서 185℃에서 15분 동안 경화
q) (101)은 하기 화학식 (5c)의 화합물이다:
r) (102)는 하기 화학식의 화합물이다:
s) (103)은 하기 화학식의 화합물이다:
t) (104)는 하기 화학식의 화합물이다:
u) (105)는 하기 화학식의 화합물이다:
v) (106)은 하기 화학식의 화합물이다:
본 발명에 따른 분말 코팅 조성물은 열경화, 특히 가스 오븐 경화 과정에 있어서 변색을 감소시킨다.

Claims (4)

  1. a) 유기 필름-형성 결합제 및
    b) 안정화제로서 하나 이상의 벤조푸란-2-온 유형의 화합물을 성분 (a)를 기준으로 0.001 내지 10중량% 포함하는 분말 코팅 조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 성분 (b)가 하기 화학식 (1)의 벤조푸란-2-온 화합물인 분말 코팅 조성물:
    상기 식에서,
    n이 1이면,
    R1은 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-알킬티오-, 히드록시-, 할로겐-, 아미노-, C1-C4알킬아미노-, 페닐아미노- 또는 디(C1-C4-알킬)아미노-치환된 나프틸, 페난트릴, 안트릴, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸, 티에닐, 벤조[b]티에닐, 나프토[2,3-b]티에틸, 티안트레닐, 디벤조푸릴, 크로메닐, 크산테닐, 페녹사티이닐, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 푸리닐, 퀴놀리지닐, 이소퀴놀릴, 퀴놀릴, 프탈라지닐, 나프티리디닐, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, β-카르볼리닐, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페리미디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 이소티아졸릴, 페노티아지닐, 이속사졸릴, 푸라자닐, 비페닐, 테르페닐, 플루오레닐 또는 페녹사지닐이거나, 또는 R1은 하기 화학식 (2)의 라디칼이고,
    n이 2이면,
    R1은 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬- 또는 히드록시-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌이거나: 또는 -R12-X-R13-이고,
    R2, R3, R4 및 R5는 서로 독자적으로 수소, 염소, 히드록시, C1-C25-알킬, C7-C9페닐알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬-치환된 페닐; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4-알킬)아미노, C1-C25알카노일옥시, C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 을 포함하는 C3-C25-알카노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일옥시 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시이거나; 또는 라디칼 R2 및 R3 또는 라디칼 R3 및 R4 또는 라디칼 R4 및 R5는 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하거나, R4는 부가적으로 -(CH2)p-COR15 또는 -(CH2)qOH이거나, 또는 R3, R5 및 R6이 수소이면, R4는 부가적으로 하기 화학식 (3)의 라디칼이고,
    이때, R1은 n= 1에 대해 상기 정의한 바와 같으며,
    R6은 수소 또는 하기 화학식 (4)의 라디칼이고,
    이때, R4는 화학식 (3)의 라디칼이 아니며 또 R1은 n= 1에 대해 정의한 바와 같고,
    R7, R8, R9, R10 및 R11은 서로 독자적으로 수소, 할로겐, 히드록시, C1-C25알킬, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알킬; C1-C25알콕시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25-알콕시; C1-C25알킬티오, C3-C25알케닐, C3-C25-알케닐옥시, C3-C25알키닐, C3-C25알키닐옥시, C7-C9페닐알킬, C7-C9페닐알콕시, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페녹시; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알콕시; C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, C1-C25알카노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일; C1-C25알카노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25-알카노일옥시; C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일; C3-C25알케노일옥시, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알케노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐, C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일; 벤조일옥시 또는 C1-C12-알킬-치환된 벤조일옥시; 또는 이거나, 또는 화학식 (2)에서 라디칼 R7 및 R8 또는 라디칼 R8 및 R11은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 벤조 고리를 형성하고,
    R12 및 R13은 서로 독자적으로 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐렌 또는 나프틸렌이며,
    R14는 수소 또는 C1-C8알킬이고,
    R15는 히드록시, , C1-C18알콕시 또는 이며,
    R16 및 R17은 서로 독자적으로 수소, CF3, C1-C12알킬 또는 페닐이거나, 또는 R16 및 R17은 이들이 부착된 C 원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하고;
    R18 및 R19는 서로 독자적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이며,
    R20은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    R21은 수소, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐; C1-C25알킬, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C25알킬; 페닐 라디칼상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C9페닐알킬; 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하고 또 페닐 라디칼 상에서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C7-C25페닐알킬이거나, 또는 라디칼 R20 및 R21은 이들이 부착된 탄소원자와 합쳐서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬렌 고리를 형성하며;
    R22는 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    R23은 수소, C1-C25알카노일, C3-C25알케노일, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C3-C25알카노일; 디(C1-C6알킬)포스포네이트기에 의해 치환된 C2-C25알카노일; C6-C9시클로알킬카르보닐, 테노일, 푸로일, 벤조일 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일;
    또는 이며,
    R24 및 R25는 서로 독자적으로 수소 또는 C1-C18알킬이고,
    R26은 수소 또는 C1-C8알킬이며,
    R27은 직접 결합, C1-C18알킬렌, 사슬 중간에 산소, 황 또는 를 포함하는 C2-C18알킬렌; C2-C18알케닐렌, C2-C20알킬리덴, C7-C20페닐알킬리덴, C5-C8시클로알킬렌, C7-C8비시클로알킬렌, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐렌, 또는 이고,
    R28은 히드록시, , C1-C18알콕시 또는 이며,
    R29는 산소, -NH- 또는 이고,
    R30은 C1-C18알킬 또는 페닐이며,
    R31은 수소 또는 C1-C18알킬이고,
    M은 r-가 금속 양이온이며,
    X는 직접 결합, 산소, 황 또는 -NR31-이고,
    n은 1 또는 2이며,
    p는 0, 1 또는 2이고,
    q는 1, 2, 3, 4, 5 또는 6이며,
    r은 1, 2 또는 3이고, 또
    s는 0, 1 또는 2임.
  3. 제 1항에 있어서, 안료, 염료, 충전제, 균염 보조제, 휘발 억제제, 전하 조절제, 광학 광택제, 접착 촉진제, 산화 방지제, 광안정화제, 경화촉매, 광개시제, 습윤 보조제 또는 부식 보호제로 구성된 군으로부터 선정된 하나 이상의 첨가제를 부가적으로 포함하는 분말 코팅 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 페놀성 산화방지제, 입체 장애 아민, 유기 포스파이트 또는 포스포나이트, 티오상승제 또는 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선정된 하나 이상의 첨가제를 부가적으로 더 포함하는 분말 코팅 조성물.
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