KR100485709B1 - 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 히터가 실장된 상태로 상면에 투명기판이 안착되도록 지지하는 서셉터가 설치된 밀폐된 반응영역을 정의하고, 상기 투명기판과 대향하는 일면과, 외부로부터 공급되는 기체물질을 상기 반응영역으로 유입하는 유입관을 포함하는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버로서, 상기 일면을 관통하는 다수의 관통부와; 상기 관통부 각각을 밀폐하는 다수의 투명절연물질과; 상기 다수의 투명절연물질 각각을 통해서 상기 투명기판 방향으로 빛을 공급하는 다수의 발광소자를 포함하는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 제공한다.

Description

액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버{chamber for manufacturing substrate of liquid crystal display device}
본 발명은 액정표시장치용(Liquid Crystal Display device : LCD) 제조장비에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 피 처리대상물인 투명기판이 안착되는 고온의 반응영역을 정의하여, 이 투명기판의 상면에 박막을 증착하는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버(chamber)에 관한 것이다.
최근 사회가 정보화 시대로 발전함에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔다.
특히 근래에 들어 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 요구를 충족시킬 수 있는 박막트랜지스터형 액정표시장치(Thin-film transistor liquid crystal display device)가 개발됨에 따라, 기존의 브라운관(Cathode-Ray Tube : CRT)을 대체하며 디스플레이 분야의 새로운 주류를 이루고 있다.
일반적으로 액정표시장치는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하여 화상을 디스플레이 한다. 즉, 액정의 분자구조는 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 광학적 이방성과, 인위적으로 전기장을 인가할 경우 배열방향이 변화하는 분극성질을 가지고 있는 바, 액정표시장치는 이들 액정분자에 적절한 전압을 인가해 액정분자의 배열 방향을 인위적으로 변화시키고, 이를 따라 굴절하는 빛으로 화상을 표현하게 된다.
이에 액정표시장치는 크게 표현하고자 목적하는 화상에 대한 정보를 출력하는 구동시스템과, 이 화상정보를 적절한 전기적 신호로 변환하는 회로부와, 이들 전기적 신호를 통해 화상을 디스플레이하는 액정패널로 구분될 수 있다.
이중 특히 액정패널에는 특히 전기적 신호에 따라 분자 배열방향이 변화되는 액정이 실장되어, 이에 의한 빛의 투과율 변화를 통해 사용자에게 목적하는 화상을 디스플레이하는 부분으로서, 간단히 유리등의 투명기판 일면에 각각 전계생성전극을 포함하는 여러 가지 전기적 소자가 설치된 상부기판과 하부기판을 구비한 후, 이들 전극이 서로 마주보도록 배치하여 그 사이에 액정을 충진한 구성을 가지고 있다.
이때 상, 하부기판 각각에 포함되는 전계생성전극 및 여러 가지 전기적 소자들은 통상 투명기판 상면으로 박막을 증착한 후 이를 식각하여 패터닝(patterning)하는 과정을 수 차례 반복하여 구현되는 바, 이들 박막의 증착이나 식각 등의 공정은 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버(chamber)에서 진행되는 것이 일반적이다.
도 1은 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버의 일례로, 고온의 공정조건을 가지면서 플라즈마를 사용하여 투명기판 상에 박막을 증착하는 플라즈마 화학기상증착용(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD) 챔버(10)의 개략적인 단면을 도시한 도면이다.
일반적인 플라즈마 화학기상증착용 챔버(10)는 상면에 관통부가 설치된 박스(box)형상의 챔버바디(chamber body)(20)와, 이를 덮는 뚜껑역할의 챔버리드(chamber lid)(30)를 포함하여 그 내부로 피 증착대상물인 투명기판(5)이 안착되는 밀폐된 반응영역(A)을 정의하고 있는데, 이들 챔버바디(20)와 챔버리드(30)는 통상 금속재질로 이루어지는 것이 일반적이다.
이때 외부로부터 공급되는 기체물질을 이 반응영역(A)으로 유도하는 유입관(32)이 구비되어 이의 말단이 챔버리드(30)의 일 지점을 관통하여 반응영역(A)으로 인입되어 있고, 특히 반응영역(A) 내로는 중앙에 관통된 하나의 디퓨져 홀(diffuser hole)(34a)을 가지는 알루미늄(Aluminium)재질의 디퓨저 커버(diffuser cover)(34)가 설치되며, 상기 유입관(32)의 말단이 상기 디퓨져 홀(34a)에 연결되어 있다.
또한 반응영역(A) 내의 기체물질을 외부로 배출할 수 있는 배출구(22)가 챔버바디(20)의 저면(20a)에 관통되고, 이 챔버바디(20) 저면(20a)과 디퓨저 커버(34) 사이로는 실질적으로 이들과 평행하게 서셉터(40)가 설치되어 이의 상면에 투명기판(5)이 안착된다.
따라서 서셉터(40) 상면에 투명기판(5)이 안착된 후 배출구(22)을 통해 반응영역(A) 내의 기체물질이 강제 배출되어 진공분위기가 형성되면, 이어 유입관(32)을 통해 공급되는 기체물질의 화학반응을 통해 투명기판(5) 상에 박막을 증착하게 된다.
이때 특히 이들 기체물질간의 화학반응을 보다 용이하게 발생시키기 위해 통상 서셉터(40) 내에는 발열가능한 히터(42)가 실장되어 투명기판(5)을 가열하도록 하고, 디퓨저 홀(34a)로 분사되는 기체물질을 투명기판 (5)상의 전면적으로 고르게 분사할 수 있는 샤워헤드(shower head) 방식의 인젝터(injector)(50)가 구비되어, 디퓨저 커버(34)와 투명기판(5) 사이에 설치되는 것이 일반적이다.
이러한 구성을 가지는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버(10)에 있어서, 특히 반응영역으로 유입된 기체물질을 이용하여 플라즈마를 생성함으로써 박막증착 속도는 물론 보다 균일한 박막을 구현할 수 있는 플라즈마 증착 방법이 개발되었고, 이에 플라즈마 발생장치가 실장된 챔버가 소개되어 현재 액정표시장치의 제조는 물론 반도체산업 등에 널리 사용되고 있다.
이때 플라즈마를 발생시키는 방법으로는 여러 가지가 있지만, 일례로 용량결합형 플라즈마(CCP : Capacitively Coupled Plasma) 발생방법을 설명한다.
이 용량결합형 플라즈마 발생방법은 간단히 고주파의 알에프(RF : Radio frequency) 전원을 사용하여 시간에 따라 변화하는 전기장을 생성한 후, 이에 기체물질을 통과시킴으로서 분자를 해리하여 플라즈마를 생성하는 것이라 할 수 있는데, 이를 위해 챔버의 내부로는 투명기판(5)을 사이에 두고 전기적으로 접지된 접지전극과, 알에프 전압이 입력되는 알에프 전극이 대향하여 구비된다.
이때 공간의 활용도를 높이고 챔버(10) 내의 고유환경을 해치지 않도록 서셉터(40) 내로 접지전극(44)을 실장시키고, 알에프 전극으로는 금속재질로 이루어지는 디퓨저 커버(34)가 활용될 수 있는 바, 이 경우 디퓨저 커버(34)와 챔버(10)의 접점 부위에는 테프론 등의 절연실링 물질을 개재하여 전기적으로 분리시키게 된다.
또한 미설명 부호 70은 알에프 전극에 알에프 전력을 공급하는 전원공급장치를 도시하고 있으며, 80은 디퓨저 홀(34a) 하단으로 디퓨저 커버(34)와 인젝터(50) 사이에 개재되어 기체물질의 확산을 보조하는 디퓨저 플레이트(80)를 도시하고 있다.
이와 같은 일반적인 액정표시장치용 기판제조를 위한 플라즈마 챔버를 통한 박막증착공정은 최초 피 증착대상물인 투명기판(5)이 운반되어 서셉터(40) 상면에 안착되는 투명기판 로딩(loading)공정과, 이어 챔버(10)가 밀폐된 후 배출구(22)를 통해 반응영역(A) 내의 기체를 배출하여 진공을 조성함과 동시에 서셉터(40) 내의 히터(42)를 발열시켜 투명기판(5)을 가열하는 진공 및 가열공정과, 이후 유입관(32)을 통해 외부의 기체물질을 반응영역(A)으로 유입시키면서 디퓨저 커버(34)에 알에프 전력을 인가하여 반응영역(A)에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성공정과, 이들 플라즈마 상태의 기체물질간의 화학반응생성물을 투명기판(5) 상에 박막으로 증착하는 박막성장과정 순으로 진행된다.
그러나 전술한 일반적인 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버(10)는 몇 가지 문제점을 가지고 있는데, 이중 하나가 서셉터(40)와 투명기판(5)의 온도차이로 인한 공정 지연현상이다.
즉, 어느 하나의 투명기판에 대한 박막증착과정이 완료되면, 이 투명기판은 외부로 빠져나감과 동시에 다른 투명기판이 챔버(10) 내로 들어와 서셉터(40) 상에 안착되는데, 이때 서셉터(40)의 온도는 통상 200℃ 이상의 고온을 유지하고 있음에 반해 외부에서 공급되는 투명기판은 실온 상태이므로 이들간의 온도가 크게 차이난다. 따라서 서셉터(40) 상에 안착된 투명기판이 충분히 가열되기 위해서는 3 내지 5분 정도의 예열 시간이 요구되고, 이 시간은 결국 공정진행이 불가능한 지연시간이 된다.
이러한 공정지연시간은 비단 전술한 플라즈마 박막증착용 챔버에만 국한되는 것이 아니라, 통상 고온공정에서 공통적으로 발생되는 현상인데, 액정표시장치를 위한 상부기판 또는 하부기판의 제조공정은 수 차례에 걸친 박막의 증착 및 이의 식각 공정이 반복되므로 이 공정시간의 지연은 결국 제품의 제조 수율을 크게 저하시키는 단점으로 작용하게 된다.
또한 서셉터(40) 상에 안착된 투명기판(5)은 그 배면을 통해서만 가열되므로 결국 이면과의 온도차이에 따라 뒤틀리거나 변형되는 현상이 빈번하게 관찰되기도 하는데, 결국 이들 서셉터(40)와 투명기판(5)의 급격한 온도차이는 액정표시장치의 신뢰성을 저하시키는 심각한 요인이 되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 투명기판과 서셉터의 온도차이를 보다 쉽게 극복할 수 있음은 물론 이들 투명기판이 가열되기 위한 공정지연시간을 최대한 단축할 수 있는, 보다 개선된 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 제공하고자 한다.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 내부에 히터를 구비하며 상면에 투명기판을 안치하는 서셉터와; 외부에서 상기 서셉터의 상부로 기체물질을 유입하는 유입관과; 상기 유입관의 말단에 결합되며, 다수의 관통부와, 상기 각 관통부를 밀폐하는 다수의 투명절연물질을 포함하는 판상의 디퓨저커버와; 상기 디퓨저커버의 하부에 결합되어 상기 유입관을 통해 유입된 기체물질을 균일하게 분사하며, 상기 디퓨저커버와의 사이에 기체물질이 확산할 수 있는 공간을 형성하는 샤워헤드 방식의 인젝터와; 상기 디퓨저커버의 상부에 설치되어 상기 관통부를 통해 상기 인젝터로 빛을 투사하는 다수의 발광소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 제공한다.이때 상기 투명절연물질은 쿼츠이고, 상기 발광소자는 적외선램프인 것을 특징으로 한다.이하에서는 본 발명에 대한 올바른 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버는 특히 투명기판을 고온으로 가열하여 공정을 진행하는 경우에 더욱 뛰어난 효과를 보일 수 있는데, 도 2는 이러한 본 발명에 따른 챔버의 일례로, 고온의 공정온도를 가지고 플라즈마를 사용하여 투명기판 상에 박막을 증착하는 플라즈마 화학기상증착용(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD) 챔버의 개략적인 단면도이다.
이때 설명의 편의를 위해 용량결합형 플라즈마 발생장치가 사용된 경우를 일례로 설명한다.
본 발명에 따른 챔버(110)는 상면에 관통부가 설치된 박스형상의 챔버바디(120)와, 이를 덮는 뚜껑역할의 챔버리드(130)를 포함하여 내부로 투명기판(5)이 안착되는 밀폐된 반응영역(A)을 정의하고 있는데, 이때 이 반응영역(A) 내로는 외부로부터 기체물질이 공급되는 유입관(132)이 삽입 설치되어 있다. 또한 반응영역(A) 내로는 중앙에 관통된 하나의 디퓨져 홀(134a)을 가지는 판 상의 디퓨저 플레이트(134)가 위치하는 바, 전술한 유입관(132)의 말단은 디퓨져 홀(134a)과 연결됨으로서, 유입관(132)을 통해 공급된 기체물질이 투명기판(5)으로 분사될 수 있도록 한다.
또한 반응영역(A) 내의 기체물질을 외부로 배출할 수 있는 배출구(122)가 챔버바디(120) 저면(120a)에 관통 구비되고, 이 챔버바디(120) 저면(120a)과 디퓨저 커버(134) 사이로는 실질적으로 이들과 평행하게 서셉터(140)가 설치되어, 이의 상면에 투명기판(5)이 안착된다. 이때 특히 반응영역(A) 내로 유입된 기체물질간의 화학반응을 보다 용이하게 발생시키기 위해서, 바람직하게는 서셉터(140) 내로 발열 가능한 히터(142)가 실장되어 공정 중 투명기판(5)을 가열하게 되고, 또한 반응영역(A)에는 샤워헤드(shower head) 방식의 인젝터(150)가 디퓨저 커버(134)와 투명기판(5) 사이에 설치됨으로써, 유입관(132) 및 디퓨저 홀(134a)을 통해 공급된 기체물질을 투명기판(5) 전면으로 고르게 분사시킬 수 있다.
또한 본 발명에 따른 챔버(110)는 특히 반응영역(A)으로 유입된 기체물질 간의 화학반응 속도를 보다 빠르게 함과 동시에, 균일한 박막 구현을 위한 플라즈마 발생장치가 실장될 수 있는데, 이를 구성하는 접지전극(144)은 서셉터(140) 내부로 설치하고, 알에프 전원(170)을 구비하여 이를 알루미늄(Aluminium) 재질의 디퓨저 커버(134)에 연결함으로서 알에프 전극으로 활용할 수 있을 것이다.
이 경우 챔버(110)와 디퓨저 커버(134)의 접점부위로는 테프론 등의 절연실링(160) 물질을 개재하여 전기적으로 분리하는 것이 바람직하며, 미설명 부호 180은 디퓨저 커버(134)와 인젝터(150) 사이에 개재되는 디퓨저 플레이트(180)를 도시하고 있는 바, 이는 바람직하게는 디퓨저 홀(134a) 하단에 위치하여 기체물질의 확산을 보조할 수 있음은 일반적인 경우와 동양(同樣)이라 할 수 있을 것이다.
그러나 본 발명은 일반적인 경우와 달리 디퓨저 커버(134)를 관통하는 다수의 관통부(136)와, 이를 밀폐하는 투명절연물질(200)과, 이들 투명절연물질(200)을 통해 챔버의 반응영역(A) 내로 빛을 조사하는 다수의 발광소자(220)가 포함됨이 특이하다 할 수 있는데, 이들은 공정의 진행중이나 또는 공정 완료 후 새롭게 교체된 투명기판을 가열하는 역할을 한다.
즉, 도 3은 본 발명에 따른 챔버의 디퓨저 커버(134)만을 한정하여 도시한 도면으로서, 도 2에서 136으로 대표된 관통부는 다수개가 구비되므로 이들을 제 1 내지 제 4 관통부(136a, 136b, 136c, 136d) 로 구분하여 표시하였고, 이는 투명절연물질(200), 발광소자(220)의 경우에 동일하게 적용된다.
본 발명에 따른 디퓨저 커버(134)는, 일례로 각각 제 1 내지 제 4 투명절연물질(200a, 200b, 200c, 200d)로 밀폐되는 제 1 내지 제 4 관통부(136a, 136b, 136c, 136d)와, 반응영역(A) 이면으로 제 1 내지 제 4 투명절연물질(200a, 200b, 200c, 200d) 상에 각각 구비되는 다수의 제 1 내지 제 4 발광소자(220a, 220b, 220c, 220d)를 포함하고 있다. 이에 다수의 발광소자(220a, 220b, 220c, 220d)가 발생한 빛은 각각 투명절연물질(200a, 200b, 200c, 200d) 이면으로 반응영역(A) 내의 투명기판(5) 방향으로 빛을 조사하게 되는데, 이때 발생되는 복사열을 통해 투명기판(5)을 가열하게 되는 것이다.
이에 투명절연물질(200)의 재질로는 챔버 내의 공정진행에 최소한의 영향을 줄 수 있는 쿼츠(quartz)등의 재질로 이루어지는 것이 바람직하고, 다수의 발광소자(220)로는 파장이 길고 가시광선이나 자외선에 비해 열작용이 큰 적외선 램프를 사용하는 것이 유리하다.
또한 도 2의 통상의 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버의 경우에 디퓨저 커버(134)와 투명기판(5) 사이로 기체물질의 확산을 보조하기 위한 인젝터(150)가 설치될 수 있음은 전술한 바 있는데, 이 경우 다수의 발광소자(220)가 조사하는 빛은 투명절연물질(200)을 통해 인젝터(150)로 전달됨으로서, 간접적으로 투명기판(5)이 가열될 수도 있을 것이다.
즉, 본 발명의 가장 핵심적인 내용은 다수의 발광소자(220)를 통한 복사열을 이용하여 투명기판(5) 상면을 가열할 수 있는 챔버(110)에 관한 것으로, 구조적으로는 반응영역(A)에서 진행되는 공정을 방해하지 않으면서도 안정적인 설치가 가능하도록 디퓨저 커버(134)에 다수의 관통부(136)를 설치하여 이를 투명절연물질(200)로 밀폐하고, 반응영역(A) 이면으로 이 투명절연물질(200) 상에 발광소자(220)를 설치하는 것이다.
따라서 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 그 형상과 구조는 다양하하게 변형될 수 있음은 당업자에게는 자명한 사실일 것이다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 통한 박막증착공정은, 최초 피 증착대상물인 투명기판(5)이 운반되어 서셉터(140) 상면에 안착됨으로서 시작된다. 이때 이미 본 발명에 따른 발광소자(220)는 투명절연물질(200) 이면으로 빛을 조사하여 인젝터(150)를 가열하게 되는 바, 서셉터(140) 상면에 안착된 투명기판(5)은 그 상면이 가열된다.
이어 챔버(110)가 밀폐된 후 배출구(122)를 통해 반응영역(A) 내의 대기를 배출하여 진공을 조성하고, 이와 동시에 서셉터(140) 내의 히터(142)가 발열하여 투명기판(5)을 배면으로부터 가열하게 된다. 이후 알에프 전극 역할의 디퓨저 커버(134)에 알에프 전력이 인가됨에 따라 반응영역(A)으로 시간에 따라 변화하는 전자기장이 생성된다. 이때 유입관(132)을 통해 기체물질이 유입됨에 따라 반응영역(A) 내에는 플라즈마가 생성되어 이들의 화학반응생성물이 투명기판(5) 상에 박막으로 증착되는 것이다.
이와 같이 하나의 투명기판(5)에 대한 공정이 완료되면 챔버(110)가 개방되어 다른 투명기판으로 교체되는데, 이 투명기판은 가열된 서셉터(140)와, 본 발명에 따른 다수의 발광소자(220)에 의해 양면이 함께 가열되면서 공정이 진행된다.
이상에서 본 발명에 따른 챔버를 설명하기 위한 일례로 플라즈마 처리 챔버를 들어 설명하였으나, 이는 액정표시장치용 기판의 제조를 위한 전공정에 있어서 특히 내부의 밀폐된 고온의 반응영역을 정의하는 모든 종류의 챔버에 적용이 가능함은 당업자에게는 자명한 사실일 것이다.
본 발명은 히터가 실장된 서셉터에 의해 고온의 공정조건을 가지는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버에 있어서, 투명기판과 대향하는 일면에 설치된 다수의 관통부 및 이들을 폐변하는 투명절연물질과, 이들 투명절연물질 상에 각각 설치되어 투명기판 방향으로 빛을 공급하는 다수의 발광소자를 포함하는 챔버를 제공한다. 이를 통해 투명기판과 서셉터의 온도차이를 보다 쉽게 극복할 수 있음은 물론 이들 투명기판이 가열되기 위한 공정지연시간을 최대한 단축할 수 있는 장점을 가지게 되는 바, 특히 일반적인 액정표시장치용 기판의 제조공정이 수 차례 반복되는 박막의 증착 및 이의 식각공정으로 진행됨을 감안하면, 본 발명에 따른 챔버를 사용할 경우 높은 생산성을 기대할 수 있는 장점을 가지게 된다. 특히 본 발명은 투명기판을 가열하기 위한 열원으로서 발광소자 및 이로부터 공급되는 빛의 복사에너지를 사용하는 바, 반응영역에 조성된 고유의 반응환경을 해치지 않고 투명기판의 신뢰성 있는 가열을 가능하게 하는 장점을 가지고 있다. 또한 일반적 챔버와 달리 서셉터 외의 추가적인 열원을 제공함에 따라 서셉터의 수명을 연장시킴은 물론 장비의 효율적인 사용이 가능한 장점을 가지고 있다.
특히 본 발명은 플라즈마를 사용하여 투명기판을 처리하는 플라즈마 챔버에 적용될 경우 더욱 유리할 수 있는데, 일반적으로 플라즈마를 사용하여 투명기판을 처리하는 공정에서는 플라즈마에 노출된 부분 중 온도가 상대적으로 낮은 부분으로 화학반응생성물이 응결되는 현상이 나타나고 있다. 이에 특히 인젝터 등에 이들 화학반응생성물이 응결되는 현상이 가장 빈번하게 나타나고 있는 바, 본 발명에 따른 챔버는 인젝터가 구비될 경우 이를 통해 투명기판을 간접접으로 가열하는 방법을 사용하게 되므로 이들 화학반응생성물의 응결현상을 아울러 방지할 수 있는 장점을 가지고 있다.
도 1은 일반적인 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 개략적으로 도시한 단면도
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버를 개략적으로 도시한 단면도
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버의 디퓨저 커버를 도시한 평면도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
5 : 투명기판 110 : 챔버
120 : 챔버바디 120a : 저면
122 : 배출구 130 : 챔버리드
132 : 유입관 134 : 디퓨저 커버
134a : 디퓨저 홀 136 : 관통부
140 : 서셉터 142 : 히터
144 : 접지전극 150 : 인젝터
160 : 절연실링 170 : 전원공급장치
180 : 디퓨저 플레이트 200 : 투명절연물질
220 : 발광소자 A : 반응영역

Claims (8)

  1. 내부에 히터를 구비하며 상면에 투명기판을 안치하는 서셉터와;
    외부에서 상기 서셉터의 상부로 기체물질을 유입하는 유입관과;
    상기 유입관의 말단에 결합되며, 다수의 관통부와, 상기 각 관통부를 밀폐하는 다수의 투명절연물질을 포함하는 판상의 디퓨저커버와;
    상기 디퓨저커버의 하부에 결합되어 상기 유입관을 통해 유입된 기체물질을 균일하게 분사하며, 상기 디퓨저커버와의 사이에 기체물질이 확산할 수 있는 공간을 형성하는 샤워헤드 방식의 인젝터와;
    상기 디퓨저커버의 상부에 설치되어 상기 관통부를 통해 상기 인젝터로 빛을 투사하는 다수의 발광소자
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 투명절연물질은 쿼츠인 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 발광소자는 적외선램프인 액정표시장치용 기판제조를 위한 챔버
  4. 삭제
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  8. 삭제
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