KR100483686B1 - 복수의실리콘웨이퍼상의문자식별방법및장치 - Google Patents

복수의실리콘웨이퍼상의문자식별방법및장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100483686B1
KR100483686B1 KR10-1998-0702229A KR19980702229A KR100483686B1 KR 100483686 B1 KR100483686 B1 KR 100483686B1 KR 19980702229 A KR19980702229 A KR 19980702229A KR 100483686 B1 KR100483686 B1 KR 100483686B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
parallel
incident light
parallel plane
optical axis
Prior art date
Application number
KR10-1998-0702229A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990063762A (ko
Inventor
베르나르 뽈리
알랭 뽈리
Original Assignee
르시
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 르시 filed Critical 르시
Publication of KR19990063762A publication Critical patent/KR19990063762A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100483686B1 publication Critical patent/KR100483686B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
    • G06V10/10—Image acquisition
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
    • G06V10/10—Image acquisition
    • G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
    • G06V10/14—Optical characteristics of the device performing the acquisition or on the illumination arrangements
    • G06V10/145—Illumination specially adapted for pattern recognition, e.g. using gratings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Artificial Intelligence (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Character Input (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 복수의 실리콘 웨이퍼(2) 상의 문자 식별방법은, 서로 병렬 면(P0)을 끼고 지지수단(1)을 기준으로 하여 배열된 복수의 실리콘 웨이퍼(2) 아래에 있던 반사도구(5)를 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b) 사이에 끼운 후, 1차 입사광 빔(R1)을 쏘아 상기 반사도구에 반사시켜 제 1 웨이퍼 상의 문자를 비추게 되는데 이때 1차 입사광 빔이 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축(AO)과는 다른 방향으로 진행하도록 하는 한편, 광축의 경우 웨이퍼 아랫부분까지 일직선으로 뻗어 있어 이를 따라 빛을 쬔 제 1 웨이퍼 표면의 문자를 감지, 식별하는 것을 특징으로 한다.

Description

복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법 및 장치
본 발명은 서로 병렬 면을 끼고 지지수단을 기준으로 하여 배열된 복수의 실리콘 웨이퍼 표면에 새겨진 문자에 빛을 쬐어 문자를 감지, 식별하는 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법 및 장치에 관한 것이다.
이미 국제특허출원 WO 91/10968호에서 전술한 방법 및 장치와 유사한 기술내용을 다룬 바 있다. 상기 특허명세서의 경우 바스킷(basket) 내부에 배열된 실리콘 웨이퍼 상의 기호(marks) 식별장치에 관한 것으로 1개 또는 2개의 거울에 반사된 빛이 식별해야 할 웨이퍼 표면의 기호를 비추면, 이때 해당 기호의 상(image)이 2개의 거울에 비춰지면서 감지 카메라에 투영되는 식의 원리를 주 내용으로 하고 있다. 바스킷 내에 배열된 각 웨이퍼 표면에 새겨져 있는 기호를 비추기 위해 이 장치에는, 거울이 웨이퍼 면과 45°각도를 이루며 기호 정면에 놓이도록 대상 웨이퍼 바로 앞에 있는 웨이퍼를 들어올리는 도구가 장착되어 있다.
그러나, 상술한 장치의 경우 하나의 웨이퍼에 표시된 기호를 식별하기 위해서는 또 다른 웨이퍼를 조작해야 하므로 웨이퍼가 오손될 위험이 있는데다 처리속도가 늦다는 결점을 가지고 있다. 또한, 일단 빛을 쪼인 기호를 감지하는데 여러 개의 거울이 사용되기 때문에 내부구조가 복잡해지는 것은 물론 제조원가가 높아질 수밖에 없으며, 사용된 거울에 반사된 기호의 상이 여러 개 맺힌 상태로 감지용 카메라에 투영됨으로써 기호 식별과정에 있어 오류가 발생할 수 있다.
본 발명은 그러한 결점을 다소 보완할 수 있는 방법을 제시하고 있다. 다시 말해, 서로 병렬 면을 끼고 지지수단을 기준으로 하여 배열된 복수의 실리콘 웨이퍼 표면에 새겨진 문자에 빛을 쬐어 문자를 감지, 식별하는 방법으로, 상기 실리콘 웨이퍼 아래에 있던 반사도구를 인접한 제 1 웨이퍼와 제 2 웨이퍼 사이에 끼운 후, 1차 입사광 빔을 쏘아 상기 반사도구에 반사시켜 제 1 웨이퍼 상의 문자를 비추게 되는데 이때 1차 입사광 빔이 병렬 면과 평행한 제 1 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축과는 다른 방향으로 진행하도록 하는 한편, 광축의 경우 웨이퍼 아랫부분까지 일직선으로 뻗어 있어 이를 따라 빛을 쬔 제 1 웨이퍼 표면의 문자를 감지, 식별하는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법을 내용으로 한다.
본 발명에 의한 방법의 경우, 다른 웨이퍼를 별도로 조작하지 않고도 전자 카메라와 같은 감지도구와 각 웨이퍼 상의 문자 간을 일직선으로 연결하는 광축을 이용함으로써 식별과정에서 발생가능한 오류를 최소화할 수 있다는 이점을 가지고 있다. 또한, 감지도구의 눈부심 방지를 위한 적절한 조명 배치, 반사도구의 사용 및 그 위치 등에 따라 실리콘 웨이퍼 표면에 음각 또는 양각으로 희미하게 새겨진 문자도 쉽게 식별할 수 있다는 특징이 있다.
본 발명에 의한 방법은 상기한 반사도구를 대상 문자 보다 높은 위치에 장착하는 것이 특징이다.
그리고, 특히 광축을 이용하며 반사도구는 인접한 제 1 웨이퍼와 제 2 웨이퍼 사이에 장치함으로써, 2차 입사광 빔이 상기한 반사도구에 이어 상기 병렬 면과 평행한 제 1 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축과 같은 방향으로 진행하도록 하는 것을 특징으로 한다.
한편, 상기한 2차 입사광 빔에는 상기 웨이퍼의 병렬 면과 평행한 중심 축을 갖는 1차 빔이 포함된다.
반면에, 상기한 1차 입사광 빔에는 상기 병렬 면과의 각도가 0∼3°, 특히 2°정도 되는 제 1 면 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 2차 빔이 포함된다.
상기의 1차 입사광 빔에는 마찬가지로, 상기 제 1 면과의 각도가 0∼3°, 특히 2°정도 되는 제 2 면 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 3차 빔이 포함된다.
본 발명은, 복수의 실리콘 웨이퍼가 서로 병렬 면을 끼고 배열하는데 기준이 되는 웨이퍼 지지수단, 문자를 비추는 조명도구, 광축을 따라 상기 문자를 감지하는 감지도구 및 감지된 문자를 식별하는 식별도구 등이 내장된 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치에 있어서, 다수의 실리콘 웨이퍼 아래에 해당하는 제 1 위치와 상기 웨이퍼 가운데 인접한 제 1 웨이퍼와 제 2 웨이퍼를 구분 짓는 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 해당하는 제 2 위치를 자유로이 오가는 가동 반사도구와, 상기 반사도구를 받치는 역할을 하며 그와의 사이에 창(window)이 나 있어 반사도구가 제 2 위치에 올 때 상기 창 일부가 인접한 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 놓이게 됨으로써 광축이 문자 감지도구와 이미 감지된 문자를 일직선으로 연결하도록 되어 있는 지지 아암(arm)을 장착한 것은 물론, 상기 문자를 비추는 조명도구에서 쏜 1차 입사광 빔이 상기 반사도구에 이어 병렬 면과 평행한 웨이퍼 일부에 반사되면서 그 표면에 새겨진 문자를 비춘 후 광축과 다른 방향으로 진행되는 것을 특징으로 하는 문자 식별장치를 대상으로 한다.
본 발명의 기타 여러 가지 특징들에 대해서는, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 따른 방법 및 장치의 실시예를 상세히 기술한 부분에서 다루기로 한다.
도 1은 본 발명에 의한 장치의 실시예를 개략적으로 나타낸 부분 측단면도이다.
도 2는 본 발명에 의한 장치의 작동 상태를 나타낸 것으로 도 1의 확대 상세도이다.
도 3은 본 발명에 의한 장치의 또 다른 작동 상태를 나타낸 것으로 도 2의 상세도이다.
도 1의 장치에는 복수의 실리콘 웨이퍼(2)가 병렬 면(P0)을 끼고 배열하는데 기준이 되는 원반형의 표준 웨이퍼 지지수단(1), 웨이퍼(2) 상의 문자를 비추는 조명도구(3), 광축(AO)을 따라 문자를 감지하는 감지도구(4), (미도시된) 문자 식별도구, 웨이퍼 아래에 해당하는 제 1 위치와 상기 웨이퍼 가운데 인접한 제 1 웨이퍼와 제 2 웨이퍼를 구분 짓는 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 해당하는 제 2 위치를 자유로이 오가는 가동 반사도구(5)와, 상기 반사도구(5)를 받치는 역할을 하며 그와의 사이에 창(7)이 나 있어 반사도구가 제 2 위치에 올 때 창(7) 일부가 인접한 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 놓이게 됨으로써 광축(AO)이 문자 감지도구(4)와 이미 감지된 문자를 일직선으로 연결하도록 되어 있는 지지 아암(6) 등이 장착되어 있다.
또한, 감지도구(4), 조명도구(3) 및 반사도구(7)를 받치는 지지 아암(6) 등을 부착, 고정시키는 역할을 하는 평판(8)이 있다. 평판(8)은 특히 이동이 자유로와, 이미 알려진 기존의 기술방법, 예를 들어 안내 바아(13) 두 개로 이루어진 안내도구를 이용하여 웨이퍼(2) 열을 따라 평행이동 하면서, 인접한 두 웨이퍼 사이 지점 바로 아래에 오거나, 정렬한 제 1 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별 위치를 설정할 수 있다. 평판(8)에 벨트를 고정한 상태에서 (미도시된) 모터를 이용한 벨트 구동 방식을 사용하여 안내 바아(13)를 따라 평판(8)을 이동시킬 수 있다. 한편, 본 장치는 이미 알려진 기술방법에 의한 프레임(10)을 갖추고 있어 안내 바아(13)끼리단단히 결합시킬 수 있을 뿐만 아니라, 고정 위치의 설정 및 웨이퍼 지지수단(1)의 상태 유지가 가능하다.
역시 이미 알려진 기술방법으로 실시 가능한 지지수단(1)은, 웨이퍼의 직경에 따라 그 표준 간격을 설정하는 역할을 한다. 가령 웨이퍼의 직경이 200㎜인 경우에는 두 웨이퍼 간격을 5.5㎜ 정도로 하게 된다. 이와 관련하여, 지지수단 아랫부분에 표시된 식별할 대상 문자를 정렬된 상태의 웨이퍼가 들어 있는 원통형 외장판 장착 제너레이터를 따라 배열하는 도구를 본 발명에 의한 장치에 내장할 수도 있다. 실제로 대상 문자는 평판(8)의 이동 방향을 따라 배열하도록 되어 있다.
지지 아암(6)의 경우 (도면상에는 표시되지 않았으나) 랙-피니언 연결장치와 같은 강성을 갖는 링크에 의해 어느 정도 이동이 자유로운 평판(8)에 부착되어 있어, 도 1 상의 화살표(11) 방향으로 웨이퍼 병렬면과의 평행 이동이 가능하다. 특히 반사도구가 정확히 제 위치에 놓이게 하려면 견고한 플라스틱재를 아암(6)의 소재로 사용하는 것이 좋다. 반사도구(5)로는 표면 형태가 빛을 반사하기에 적합한 거울(5)을 선택하여 접착제로 아암(6) 위에 단단히 부착하도록 한다. 인접한 2개의 웨이퍼 사이에 들어가게 되어 있는 아암(6) 부분의 두께는 두 웨이퍼 사이 간격 보다 작아야 하는데, 약 3㎜ 정도가 적당하다. 도 1에서의 아암(6)은 반사도구가 웨이퍼 아래에 놓이는 제 1 위치에 표시되어 있다.
한편, 조명도구(3)의 경우 복수의 전자 발광 다이오드가 사용되는 것이 특징이다. 각 도면에 표시된 대로, 조명도구는 3개의 다이오드 열(15, 16 및 17)로 이루어져 있다. 이 때 다이오드는 평판(8)에 매우 단단히 고정된 상태이며, 도 2 및 도 3에 그 고정 위치가 보다 상세히 나타나 있다. 아암(6)이 제 2 위치에 오는 경우에는 다이오드의 입사광 빔이 거울(5)에 반사되면서 대상 문자를 비추게 된다.
제 1 다이오드 열(15)은 특히 거울(5)의 위치 및 광축(AO) 조정에 사용되는데, 먼저 제 1열(15)에서 인접한 웨이퍼 사이를 구분 짓는 병렬면(P0)과 평행하게 입사광 빔(R0)을 쏜다. 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b) 사이로 들어간 광축(AO) 및 거울(5)의 경우 입사광 빔(R0)이 거울(5)에 반사되어 대상 문자를 비추거나 상기 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼(2a) 일부에 반사되면서 광축(AO)과 같은 방향으로 진행하기에 적당한 위치에 고정시킨다.
제 2 열 다이오드 열(16) 및 제 3 다이오드 열(17)은 대상 문자를 비추는데 사용된다. 제 2열(16) 및 제 3열(17)에서 쏜 입사광 빔(R1, R2)은 먼저 거울(5)에 이어 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼(2a) 일부에 반사되면서 문자를 비추고, 광축(AO)과 다른 방향으로 진행하게 된다. 이는 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼(2a) 일부에 반사된 입사광 빔이 곧장 광축(AO)과 같은 방향으로 진행하면서 생길 수 있는 감지도구(4)의 눈부심 방지를 위한 것이다. 본 방법을 이용함으로써 빛을 쪼인 대상 문자의 상이 감지도구(4)에 투영될 때 상의 대비를 극대화시키는 효과를 얻을 수 있다. 도 3은 바로 그러한 실시 형태를 나타낸 그림이다. 본 방법을 이용하는 경우 실리콘 웨이퍼 표면에 음각 또는 양각으로 새겨진 문자를 식별할 수 있는데, 특히 3㎛ 정도의 깊이로 매우 희미하게 조각된 문자라 하더라도 식별이 가능하다.
광축(AO)을 이용한 문자 감지도구로는 일반적으로 평판(8)에 고정시켰다가 필요에 따라 분리 가능한 착탈식 전자카메라를 사용한다. 여기에서 카메라(4) 광축(AO)은 대상 문자의 배열 위치나 구성에 따라, 보통 20∼65°각도의 병렬 면(P0)과 직각이 되도록 위치 조정을 할 수 있으며, 특히 병렬 면(P0)과 직각을 이루는 수직 면, 다시 말해 도 2 또는 도 3에 표시된 박판 안쪽에 광축(AO)이 놓이게 된다.
한편, 신경망을 이용한 문자 식별 프로그램이나 영상 처리 프로그램이 문자 식별도구로 사용되며 전자카메라(4)가 제공한 자료를 해석, 감지된 문자를 식별하는 작업을 처리한다.
도 2는 반사도구(5), 아암(6), 감지도구(4) 및 조명도구(3)를 확대한 도면이다. 도면에 대한 이해를 돕기 위해 평판(8)과 실리콘 웨이퍼를 일부만 확대하여 나타내었다. 여기에서 아암(6)은 제 2 위치에 해당하는 인접한 두 웨이퍼(2a 및 2b) 사이, 다시 말해 웨이퍼(2a) 상의 문자 식별 위치에 놓여 있다.
아암(6)의 경우 특히, 앞서 언급한 바와 같은 광축(AO)의 통과와 함께 인접한 두 웨이퍼 사이에 거울(5) 위치를 설정하는 등의 기능 수행에 적합한 형태로 된 것을 사용하되, 도면에 표시된 장치의 경우 입사광 빔의 통과 역시 가능해야 한다. 따라서, 아암(6)에는 광축(AO) 및 입사광 빔을 통과시키는 중앙 창(7)이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 도 2에 도시된 것 같이, 아암 상단에 장착된 거울(5) 또는 아암(6)의 거울장착 부분은 돌출 형태라기 보다는 표면에 덮개를 씌운 형태를 하고 있으며, 특히 거울은 진동에 비교적 강한 것이라야 한다. 도 2에 도시된 것 같이, 아암(6)은 제 1 다이오드 열에서 병렬 면(P0)과 평행한 면 안쪽으로 입사광 빔을 쏘아올리기에 용이하도록 세 다이오드 열의 위치를 잡아주기에 적합한 형태를 하고 있어야 한다. 각 도면에 나타낸 것 같이, 제 1 다이오드 열(15)과 아암(6) 사이에 있는 제 2 다이오드 열(16) 및 제 3 다이오드 열(17)에서도 거울(5) 표면으로 두 개의 입사광 빔(R1, R2)을 쏠 수 있어야 한다. 특히, 문자 식별 지점인 제 2 위치에 아암이 오게 될 때 거울(5)은 대상 문자 보다 높은 위치에 있어야 한다.
대상 문자(18) 보다 높이 위치한 거울(5)에 반사된 입사광 빔(R0)과 광축(AO)의 경우 도 2의 병렬 면(P0)과 직각을 이루는 수선(19)에 대해 서로 대칭이다. 한편, 입사광 빔(R0)과 병렬 면(P0) 사이의 각도에 상관없이 대상 문자(18) 보다 높이 위치한 거울(5)에 반사된 입사광 빔(R0)과 광축(AO)이 각각 수선(19)에 대해 이루는 각도(β1 및 β2)가 도 2에 표시된 대로 서로 동일하도록 거울(5)과 광축(AO)의 위치를 정한다.
3개의 다이오드 열(15,16,17)은 각각 (도면 상에는 표시되지 않았으나) 복수의 다이오드가 일렬로 늘어선 형태를 갖기도 하는데, 가령 다이오드 수가 6개인 경우, 실리콘 웨이퍼(2)의 수직 대칭 면에 해당하는 박판에 대해 서로 대칭을 이루도록 배치한다. 대상 문자들은 앞서 언급한 바와 마찬가지로 도 2에서처럼 웨이퍼 아랫부분에 배열되거나 일직선 상에 배열되는 것이 보통이다. 따라서, 전술한 바와 같이 거울(5)은 평면이어야 하며, 각각의 다이오드에서 쏘아 올린 입사광 빔의 중심 축선이 서로 평행하도록 다이오드를 배열하여야 한다.
도 2에 도시된 것 같이, 본 발명에 따른 장치에는 거울(5)을 이용하여 다이오드에서 대상 문자(18)가 새겨진 영역으로 쏘아 올린 복수의 입사광 빔을 한 곳에 모으는 집광도구(20)가 장착되어 있어, 기생 반사를 방지할 뿐만 아니라 전자 발광 다이오드의 길이를 보다 단축할 수 있다. 상기 집광도구(20)로는 빛을 한 곳에 집중시키는 기능이 있는 것이라면 무엇이든 사용 가능한데, 일반적으로 도 2에 나타낸 것 같이, 3개의 다이오드 열(15,16,17) 각각에 해당하는 세 개의 홈(21)을 가진 강판(20)을 사용한다. 특히, 이 강판(20)은 다이오드나 평판(8)에 단단히 고정되어 있다.
도 3은 도 2와 동일한 도면으로, 본 발명에 따른 방법의 실시에 대한 이해를 돕기 위해 입사광 빔(R1, R2)이 제 2 다이오드 열(16) 및 제 3 다이오드 열(17)에서 조사되는 모습을 나타내고 있다. 제 2 다이오드 열(16)에서 쏘아 올린 입사광 빔(R1)에는, 입사광 빔(R0)이 병렬 면(P0)과 평행을 이룰 때 병렬 면(P0)과의 각도(α1)가 0∼3°, 특히 2°정도 되는 제 1 면(P1) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 빔이 포함된다.
반면에, 제 3 다이오드 열(17)에서 쏘아 올린 입사광 빔(R2)의 경우 제 1 면(P1)과의 각도(α2)가 0∼3°, 특히 2°정도 되는 제 2 면(P2) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 빔이 포함된다. 입사광 빔(R0)을 기준으로 입사광 빔(R1, R2)의 위치를 설정하게 되면 두 빔(R1, R2)이 병렬 면(P0)과 평행한 웨이퍼 표면 일부에 반사되어 광축(AO)과 같은 방향으로 진행하는 일은 없다.
도 2 및 도 3에 나타낸 것 같이, 카메라(4) 광축(AO)은 카메라(4)와 대상 문자(18) 사이를 일직선으로 연결하므로 처리과정이 단순하면서도 직접적이고 확실한 감지 효과를 거둘 수 있다.
본 발명에 의한 장치에서는 지지수단(1)나 프레임, 지지수단(1)을 기준으로 배열된 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별 프로그램 등을 이용하여, 웨이퍼의 배열 형태에 따라 아암(6)과 평판(8)이 거울의 위치를 자동 조절하는 (미도시된) 자동화 시스템을 장착할 수도 있다.
마지막으로, 아암(6)의 경우 어느 정도 이동이 자유로운 (미도시된) 강성 링크가 장착된 평판(8)에 고정시킴으로써, 전술한 것 같은 광축(AO)의 위치 조정은 물론 거울(5)을 제 2 위치에 오도록 조정하여, 입사광 빔(R0)이 거울(5)에 반사된 후 병렬 면(P0)과 평행한 웨이퍼 부분에 반사되면서 광축(AO)과 같은 방향으로 진행하도록 할 수 있다. 또한 이러한 위치 조정으로 입사광 빔(R1, R2)이 거울(5)에 이어 병렬 면(P0)과 평행한 웨이퍼 일부에 반사되면서 카메라 광축(AO)과 다른 방향으로 진행하게 할 수도 있다. 특히, 제 1 다이오드 열(15)에서 쏘아 올린 빔(R0)의 경우 지지수단(1) 안쪽에 있는 실리콘 웨이퍼의 식별 과정에서는 더 이상 사용되지 않는다는 점에 주의해야 한다.

Claims (12)

  1. 서로 병렬 면(P0)을 끼고 지지수단(1)을 기준으로 하여 배열된 복수의 실리콘 웨이퍼(2) 표면에 새겨진 문자에 빛을 쬐어 문자를 감지 및 식별하는 방법에 있어서,
    상기 실리콘 웨이퍼 아래에 있던 반사도구(5)를 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b) 사이에 끼우는 단계와,
    1차 입사광 빔(R1)을 쏘아 상기 반사도구에 반사시켜 제 1 웨이퍼 상의 문자를 비춤으로써, 1차 입사광 빔이 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축(AO)과는 다른 방향으로 진행하도록 하는 한편, 광축의 경우 웨이퍼 아랫부분까지 일직선으로 뻗도록 하는 단계와,
    이를 따라 빛을 쬔 제 1 웨이퍼 표면의 문자를 감지 및 식별하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사도구(5)를 대상 문자 보다 높은 위치에 장착하는 것을 특징으로 하는, 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 광축(AO)을 이용하며 상기 반사도구(5)는 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b) 사이에 장착함으로써 2차 입사광 빔(R0)이 상기 반사도구에 이어 상기 병렬 면(P0)과 평행한 제 1 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축과 같은 방향으로 진행하는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 2차 입사광 빔에는 웨이퍼의 병렬 면(P0)과 평행한 중심 축을 가진 1차 빔(R0)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 1차 입사광 빔에는 병렬 면(P0)과의 각도(α1)가 0∼3°되는 제 1 면(P1) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 2차 빔(R1)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 1차 입사광 빔에는 제 1 면(P1)과의 각도(α2)가 0∼3°되는 제 2 면(P2) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 3차 빔(R2)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별방법.
  7. 복수의 실리콘 웨이퍼가 서로 병렬 면을 끼고 배열하는데 기준이 되는 웨이퍼 지지수단(1)과, 문자를 비추는 조명도구(3)와, 광축(RO)을 따라 상기 문자를 감지하는 감지도구(4)와, 감지된 문자를 식별하는 식별도구 등이 내장된 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치에 있어서,
    복수의 실리콘 웨이퍼(2) 아래에 해당하는 제 1 위치와 상기 웨이퍼 가운데 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b)를 구분짓는 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 해당하는 제 2 위치를 자유로이 오가는 가동 반사도구(5)와, 상기 반사도구를 받치는 역할을 하며 그와의 사이에 창(7)이 나 있어 반사도구가 제 2 위치에 올 때 상기 창 일부가 인접한 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 놓이게 됨으로써 광축(AO)이 문자 감지도구(4)와 이미 감지된 문자를 일직선으로 연결하도록 되어 있는 지지 아암(6)을 장착한 것은 물론, 상기 문자를 비추는 조명도구(3)에서 쏜 1차 입사광 빔이 상기 반사도구에 이어 병렬 면(P0)과 평행한 웨이퍼 일부에 반사되면서 그 표면에 새겨진 문자를 비춘 후 광축과 다른 방향으로 진행되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 반사도구(5)의 제 2 위치는 대상 문자 보다 높은 지점인 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 조명도구에서 쏜 2차 입사광 빔(R0)이 인접한 제 1 웨이퍼(2a)와 제 2 웨이퍼(2b)를 구분 짓는 제 1 병렬 면과 제 2 병렬 면 사이에 놓인 반사도구(5)에 이어 병렬 면(P0)과 평행한 웨이퍼 일부에 반사되면서 광축(AO)과 같은 방향으로 진행되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 2차 입사광 빔에는 웨이퍼의 병렬 면(P0)과 평행한 중심 축을 가진 1차 빔(R0)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 1차 입사광 빔에는 병렬 면(P0)과의 각도(α1)가 0∼3°되는 제 1 면(P1) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 2차 빔(R1)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 1차 입사광 빔에는 제 1 면(P1)과의 각도(α2)가 0∼3°되는 제 2 면(P2) 속으로 들어가 있는 중심 축을 가진 3차 빔(R2)이 포함되는 것을 특징으로 하는 복수의 실리콘 웨이퍼 상의 문자 식별장치.
KR10-1998-0702229A 1996-07-29 1997-07-25 복수의실리콘웨이퍼상의문자식별방법및장치 KR100483686B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9609698A FR2751769B1 (fr) 1996-07-29 1996-07-29 Procede et appareil d'identification de caracteres formes sur une pluralite de plaquettes de silicium
FR96/09698 1996-07-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990063762A KR19990063762A (ko) 1999-07-26
KR100483686B1 true KR100483686B1 (ko) 2005-08-29

Family

ID=9494715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-1998-0702229A KR100483686B1 (ko) 1996-07-29 1997-07-25 복수의실리콘웨이퍼상의문자식별방법및장치

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5917169A (ko)
EP (1) EP0857336B1 (ko)
JP (1) JPH11514157A (ko)
KR (1) KR100483686B1 (ko)
AT (1) ATE240561T1 (ko)
DE (1) DE69721965T2 (ko)
FR (1) FR2751769B1 (ko)
WO (1) WO1998004997A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2778496B1 (fr) 1998-05-05 2002-04-19 Recif Sa Procede et dispositif de changement de position d'une plaque de semi-conducteur
EP1300872A1 (en) 2001-10-08 2003-04-09 Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG Semiconductor device identification apparatus
FR2835337B1 (fr) * 2002-01-29 2004-08-20 Recif Sa Procede et dispositif d'identification de caracteres inscrits sur une plaque de semi-conducteur comportant au moins une marque d'orientation
US20070297885A1 (en) * 2006-06-27 2007-12-27 Jean Michel Processe Product designed to be used with handling system

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4983842A (en) * 1988-03-31 1991-01-08 Tokyo Electron Limited Image reading apparatus

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4582987A (en) * 1983-06-01 1986-04-15 Bianco James S Bar coded index tab holder
US4585931A (en) * 1983-11-21 1986-04-29 At&T Technologies, Inc. Method for automatically identifying semiconductor wafers
JPS60222979A (ja) * 1984-04-19 1985-11-07 Toshiba Corp 情報読取装置
US4812631A (en) * 1987-06-02 1989-03-14 Kam Kwong Lee Limited Bar code and read-out method thereof
US4794238A (en) * 1987-10-09 1988-12-27 Ultracision, Inc. Method and apparatus for reading and marking a small bar code on a surface of an item
JP3216205B2 (ja) * 1992-03-27 2001-10-09 神鋼電機株式会社 半導体製造システムにおけるｉｄ認識装置
FR2711824B1 (fr) * 1993-10-21 1996-01-05 Recif Sa Procédés et dispositifs d'identification de caractères inscrits sur des substrats.
US5567927A (en) * 1994-07-25 1996-10-22 Texas Instruments Incorporated Apparatus for semiconductor wafer identification
US5703348A (en) * 1994-12-26 1997-12-30 Kabushiki Kaisha Tec Hand-held optical code reader

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4983842A (en) * 1988-03-31 1991-01-08 Tokyo Electron Limited Image reading apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE69721965T2 (de) 2004-05-19
US5917169A (en) 1999-06-29
KR19990063762A (ko) 1999-07-26
FR2751769A1 (fr) 1998-01-30
FR2751769B1 (fr) 1998-10-09
ATE240561T1 (de) 2003-05-15
DE69721965D1 (de) 2003-06-18
WO1998004997A1 (fr) 1998-02-05
JPH11514157A (ja) 1999-11-30
EP0857336A1 (fr) 1998-08-12
EP0857336B1 (fr) 2003-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0873551B1 (en) Illumination system for ocr of indicia on a substrate
CA2415376A1 (en) Scanning system and method for scanning a plurality of samples
US5818573A (en) Opthalmic lens inspection system
EP1548397B1 (en) LED-fiber lighting units with uniform line of light
CN1256693C (zh) 读卡机用的卡片闸门机构
EP1416302A3 (en) Backlight unit
US5801822A (en) Ophthalmic lens inspection system
JP2011527476A (ja) 半透明または透明の曲壁上のマークを分析するための方法および光学装置
KR100483686B1 (ko) 복수의실리콘웨이퍼상의문자식별방법및장치
EP1335577A3 (en) Illumination Apparatus and Image Reading Apparatus
KR100372953B1 (ko) 부품의 위치를 감지 또는 부품 연결부의 위치를 체킹하는 방법 및 장치와, 상기 장치를 구비한 장착 헤드
CN109540899B (zh) 检查装置及检查方法
KR100346828B1 (ko) 기판상에쓰여진문자를확인하는방법및장치
JP3644212B2 (ja) 電子部品実装装置
US5666204A (en) Method and apparatus for optical shape measurement of oblong objects
US4857752A (en) Parts recognition method and apparatus therefor
JPH08166514A (ja) 斜光照明装置
JPH11160035A (ja) 外観検査装置および外観検査方法
KR100931713B1 (ko) 주변노광장치 및 그 방법
JP2000266680A (ja) 基板検査装置および斜照明ユニット
US4895437A (en) Illumination method and apparatus
JP4559275B2 (ja) 電子部品装着装置
JP2003315282A (ja) 表面検査装置
JPH11215300A (ja) 撮像素子ユニット
JPH0836110A (ja) 光ガイド素子およびその使用方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee