KR100480575B1 - Dry pump having bypass line & method for gas ventilation in line - Google Patents
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Abstract
반도체 제조공정에서 사용된 잔류가스를 제거되는데 사용되는 드라이 펌프에 대하여 개시한다. 본 발명에 의한 드라이 펌프는 드라이 펌프의 모터가 고장이 나더라도 잔류가스를 드라이 펌프와 연결된 가스 여과장치로 보낼 수 있는 바이패스 라인을 추가로 구비한다. 이러한 바이패스 라인(bypass line)은 모터(motor)가 정지시 발생하는 알람(alarm)에 의해 자동 개방(open)되어 잔류가스가 잔류가스 공급라인으로 들어와 바이패스 라인을 통해 잔류가스 배기라인으로 빠져 나가도록 함으로써, 역류하는 문제를 예방하면서 최종적으로 가스 여과장치에 수집되도록 한다.Disclosed is a dry pump used to remove residual gas used in a semiconductor manufacturing process. The dry pump according to the present invention further includes a bypass line capable of sending residual gas to the gas filtration device connected to the dry pump even if the motor of the dry pump fails. The bypass line is automatically opened by an alarm generated when the motor stops, so that residual gas enters the residual gas supply line and exits the residual gas exhaust line through the bypass line. By exiting, it is finally collected by the gas filtration device, preventing the backflow problem.
Description
본 발명은 반도체 소자의 제조공정에 사용되는 설비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학기상증착(CVD) 및 건식식각(Dry Etching) 설비에서 공정에 사용된 잔류가스를 외부로 배출하는데 사용되는 드라이 펌프(Dry Pump) 및 이를 이용한 배관내부의 잔류가스 배출방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plant used in the manufacturing process of a semiconductor device, and more particularly, a dry pump used to discharge residual gas used in the process in chemical vapor deposition (CVD) and dry etching (dry etching) equipment to the outside. The present invention relates to a dry pump and a method for discharging residual gas in a pipe using the same.
반도체 집적회로의 제조공정에는 여러 가지 종류의 폭발성, 가연성 및 독성(toxic) 가스를 여러 공정에서 사용한다. 대표적인 공정으로 여러 가지 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition) 및 건식식각 공정에서 포스핀(PH3), 실란(SiH4), 디클로로 실란(SiH2Cl2), 암모니아(NH3) 및 산화질소(N2O) 등의 가스를 사용한다. 이러한 가스는 설비의 챔버(Chamber)내에서 서로 혼합되어 공정에 사용된 후, 잔류하는 형태로 남아 있는 잔류가스가 드라이 펌프(Dry Pump)로 흡입되어 가스 여과장치(Gas scrubber)로 배출되도록 되어 있다. 또한, 드라이 펌프는 화학기상증착 및 건식식각 설비내의 저압(low pressure) 또는 진공(Vacuum)을 형성하는 장치로도 이용될 수 있다. 그러나, 드라이 펌프의 문제 발생으로 인하여 잔류가스를 배출하는 동안에 드라이 펌프의 모터가 정지해 버릴 경우가 종종 발생한다. 이때, 공정에 사용된 가스가 폭발성, 가연성 및 독성(toxic) 가스인 경우에는, 잔류가스가 정상적으로 드라이 펌프를 통해 가스 여과장치(gas scrubber)로 배출되지 못하게 된다. 따라서, 공정에 사용된 잔류가스는 반도체 설비 방향으로 역류하여 화학기상증착 장비나 건식식각 장비에 그대로 남아있거나, 가스 누출 사고를 발생함으로써 폭팔, 화재 및 인체흡입으로 인한 인명사고 등의 심각한 사태로 이어질 수 있다. In the manufacturing process of semiconductor integrated circuits, various kinds of explosive, flammable and toxic gases are used in various processes. Typical processes include gases such as phosphine (PH3), silane (SiH4), dichloro silane (SiH2Cl2), ammonia (NH3) and nitrogen oxide (N2O) in various chemical vapor deposition (CVD) and dry etching processes. Use These gases are mixed with each other in the chamber of the equipment and used in the process, and the residual gas remaining in the remaining form is sucked into the dry pump and discharged to the gas scrubber. . Dry pumps may also be used as devices for forming low pressure or vacuum in chemical vapor deposition and dry etching facilities. However, the motor of the dry pump often stops during the discharge of residual gas due to the problem of the dry pump. In this case, when the gas used in the process is an explosive, flammable and toxic gas, the residual gas is not normally discharged to the gas scrubber through a dry pump. Therefore, residual gas used in the process flows back to the semiconductor equipment and remains in chemical vapor deposition equipment or dry etching equipment, or gas leakage accidents can lead to serious events such as explosion, fire and human injuries due to human inhalation. Can be.
도 1은 종래기술에 의한 드라이 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.1 is a schematic diagram illustrating a dry pump according to the prior art.
도 1을 참조하면, 기존의 드라이 펌프는 크게 잔류가스 공급라인(50), 모터부(60) 및 잔류가스 배기라인(50)으로 구성된다. 여기서, 화살표의 방향은 모터부(60)의 모터가 정지할 경우의 잔류가스의 흐름 방향을 표시한 것이다. 이때, 잔류가스는 모터부를 통해 연결된 잔류가스 배기라인(70)에 연결된 가스 여과장치(Gas Scrubber, 미도시)로 수집되지 못하고 화학기상증착 장비(CVD) 또는 건식식각 장비로 역류하게 됨으로써, 심할 경우에는, 폭팔, 화재 및 인체흡입으로 인한 인명사고 등의 심각한 사태로 이어질 수 있는 문제점이 있다. Referring to FIG. 1, a conventional dry pump is largely composed of a residual
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 반도체 제조공정에 사용되는 드라이 펌프에서 모터가 정지하는 문제가 발생하더라도 이로 인한 폭팔, 화재 및 인체흡입으로 인한 인명사고 등을 예방할 수 있는 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 제공하는데 있다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a bypass line-mounted dry pump that can prevent accidents such as explosion, fire and human inhalation caused by the motor stops in the dry pump used in the semiconductor manufacturing process It is.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 이용한 배관내의 가스 배출방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a gas discharge method in a pipe using the bypass line-mounted dry pump.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 공정에 사용된 잔류가스가 들어오는 잔류가스 공급라인과, 상기 잔류가스 공급라인과 연결되어 잔류가스의 배출 효과를 높이는 모터부와, 상기 모터부와 연결되고 잔류가스를 외부로 배출시키는 잔류가스 배기라인을 포함하는 드라인 펌프에 있어서, 상기 드라이 펌프는, 상기 잔류가스 공급라인과 잔류가스 배기라인을 연결시키는 바이패스 라인(bypass line)과, 상기 바이패스 라인에 설치된 자동밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention is connected to the residual gas supply line, the residual gas supply line, which is used in the process, the motor part is connected to the residual gas supply line to increase the effect of discharging the residual gas, and A drain pump including a residual gas exhaust line for discharging residual gas to the outside, wherein the dry pump includes: a bypass line connecting the residual gas supply line and the residual gas exhaust line, and the bypass. It provides a bypass line-mounted dry pump characterized in that it further comprises an automatic valve installed in the line.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프는 잔류가스 배기라인과 연결된 가스 여과장치(gas scrubber)를 더 구비하는 것이 적합하고, 상기 바이패스 라인에 장착된 자동 밸브(auto valve)는 모터부의 모터가 정상적으로 작동하면 차단되고, 모터가 정지하면 개방되는 것이 적합하다.According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that the bypass line-mounted dry pump further includes a gas scrubber connected to the residual gas exhaust line, and an automatic valve mounted on the bypass line. ) Is shut off when the motor of the motor unit operates normally, and is opened when the motor stops.
바람직하게는, 상기 바이패스 라인은 드라이 펌프 내에 있는 잔류가스 공급배관 및 잔류가스 배기라인에 설치되거나, 드라이 펌프밖에 있는 잔류가스 공급배관 및 잔류가스 배기라인에 설치될 수 있다.Preferably, the bypass line may be installed in the residual gas supply pipe and the residual gas exhaust line in the dry pump or in the residual gas supply pipe and the residual gas exhaust line outside the dry pump.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 공정에 사용된 잔류가스가 들어오는 잔류가스 공급라인과, 상기 잔류가스 공급라인과 연결되고 잔류가스의 배출 효과를 높이는 모터부와, 상기 모터부와 연결되어 잔류가스를 외부로 배출시키는 잔류가스 배기라인과, 상기 잔류가스 공급라인과 잔류가스 배기라인을 연결시키는 바이패스 라인(bypass line)과, 상기 바이패스 라인에 설치된 자동밸브을 포함하여 구성된 드라이 펌프를 이용한 라인내부의 가스 배출방법에 있어서, 상기 잔류가스 공급 배관으로 잔류가스를 공급하는 단계와, 상기 바이패스 라인의 자동 밸브(Auto valve)를 개방하는 단계와, 상기 바이패스 라인으로 들어온 잔류가스를 잔류가스 배기라인을 통해 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이 펌프를 이용한 라인내부의 가스 배출 방법을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a residual gas supply line into which the residual gas used in the process enters, a motor part connected to the residual gas supply line and increasing a discharge effect of the residual gas, and connected to the motor part. A dry pump including a residual gas exhaust line for discharging residual gas to the outside, a bypass line connecting the residual gas supply line and the residual gas exhaust line, and an automatic valve installed in the bypass line. A method of discharging gas in a line, the method comprising: supplying residual gas to the residual gas supply pipe, opening an automatic valve of the bypass line, and removing residual gas entering the bypass line. In-line using a dry pump comprising the step of discharging through the residual gas exhaust line The method provides a gas discharge.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 바이패스 라인의 자동 밸브를 개방하는 단계는 상기 모터부의 모터가 정지했을 때에 개방되도록 하는 것이 적합하며, 상기 잔류가스 배기라인을 통해 잔류가스를 배출한 후에, 배출된 잔류가스를 가스 여과장치(gas scrubber)에서 수집하는 단계를 더 구비하는 것이 적합하다.According to a preferred embodiment of the present invention, the step of opening the automatic valve of the bypass line is suitable to open when the motor of the motor unit is stopped, and after discharging the residual gas through the residual gas exhaust line, It is suitable to further comprise the step of collecting the discharged residual gas in a gas scrubber (gas scrubber).
본 발명에 따르면, 드라이 펌프에서 모터의 고장이 발생할 경우에 잔류가스가 역류하여 발생할 수 있는 폭팔, 화재 및 인체흡입으로 인한 인명사고 등을 예방할 수 있고, 반도체 제조공정의 설비 및 드라이 펌프를 재가동시에 배관내의 잔류가스를 없앰으로써 정비시간을 단축할 수 있다.According to the present invention, when a motor failure occurs in a dry pump, it is possible to prevent human accidents due to explosion, fire, and inhalation of human body, which may occur due to backflow of residual gas. Maintenance time can be shortened by eliminating residual gas in the pipe.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
실시예 1Example 1
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 의한 바이패스 라인 장착형 드라인 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.Figure 2 is a schematic diagram for explaining the bypass line-mounted draft pump according to a first embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명에 의한 바이패스 라인(Bypass Line) 장착형 드라이 펌프는, 화학기상증착 설비 및 건식식각 설비에 연결되어 사용되는 잔류가스가 들어오는 잔류가스 공급라인(100)과, 상기 잔류가스를 모터로 돌려서 배출을 효과를 증진시키는 모터부(102)와, 상기 모터부(102)를 통과한 가스가 드라이 펌프(116) 외부로 배출되는 배관역할을 하는 잔류가스 배기라인(104)과, 상기 드라이 펌프 외부 배관에서 잔류가스 공급라인(100)과 잔류가스 배기라인(104)을 서로 연결하는 바이패스 라인(106)과, 상기 바이패스 라인(106)의 일단에 설치된 자동밸브(108) 및 잔류가스 배기라인(104)과 연결되어 잔류가스를 최종적으로 모으는 역할을 하는 가스 여과장치(gas scrubber)로 구성되어 있다. Referring to FIG. 2, the bypass line-mounted dry pump according to the present invention includes a residual
여기서, 상기 바이패스 라인(106)과 자동밸브(108)는 본 발명의 목적을 달성하는 가장 핵심적인 역할을 수행하는 것으로서, 드라이 펌프(116)에서 문제가 발생하여 모터부(102)의 모터가 정지시에 종래기술처럼 잔류가스가 역류하여 문제를 일으키는 것을 예방하는 수단이 된다. 즉, 모터부(102)의 모터에 이상이 발생하여 정지하면 자동밸브(108)는 폐쇄되어 있는 바이패스 라인(106)을 개방시켜 잔류가스가 모터부(102)를 거치지 않고도 외부로 배출시킬 수 있는 길을 열어주는 역할을 하는 것이다. 이것은 모터가 정지될 때 발생하는 알람신호(Alarm signal)를 이용하여 자동밸브(108)를 조정하면 실현할 수 있다. 따라서, 드라이 펌프(116)의 모터부에 이상이 발생하더라도, 가스가 역류하지 않고 바이패스 라인(106) 및 잔류가스 배기라인(104)을 통해 가스 여과장치(110)에 수집되게 된다.Here, the
따라서, 본 발명에 의한 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 이용한 잔류가스의 배기 방법은, 도면의 제2 배기방향(112)으로 잔류가스의 흐름이 발생한다. 여기서 참조부호 114는 모터부(102)에 이상이 없을 때, 정상적인 잔류가스의 배기방향을 도시한 제1 배기방향(114)을 가리킨다. 상기 제2 배기방향(112)을 상세히 설명하면, 먼저 반도체 설비에서 사용된 잔류가스가 잔류가스 공급라인으로 투입된다. 이때, 모터부(102)의 모터가 고장이 발생하면, 바이패스 라인(106)의 자동밸브(108)가 개방되어 잔류가스는 바이패스 라인(106)으로 흘러가게 된다. 상기 바이패스 라인(106)을 타고 온 가스는 드라이 펌프(116)의 모터부(102)를 반드시 경유하지 않고도 잔류가스 배기라인(104)을 통해 외부로 배출되어, 잔류가스의 최종 수집장소인 가스 여과장지(110)에 수집되게 된다.Therefore, in the exhaust gas exhaust method using the bypass line-mounted dry pump according to the present invention, the residual gas flows in the
실시예 2Example 2
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.3 is a schematic diagram illustrating a bypass line mounted dry pump according to a second exemplary embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 상기 제1 실시예에 설명된 드라이 펌프와 구성이 동일하지만, 차이점이 있다면 바이패스 라인(206) 및 자동밸브(208)가 드라이 펌프(216) 내부에 구성되어 있는 점이다. 다른 부재의 역할과 참조부호는 제1 실시예에 설명된 것과 동일하기 때문에 중복을 피하여 생략한다. 이 경우는 드라이 펌프(216) 자체를 개조하여 바이패스 라인(206) 및 자동밸브(208)를 설치한 경우이므로, 추가로 바이패스 라인을 설치할 필요가 없어져 셋엎(set-up)시에 시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 추가로 발생한다.Referring to FIG. 3, the configuration is the same as that of the dry pump described in the first embodiment, but the difference is that the
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함이 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications can be made by those skilled in the art within the technical spirit to which the present invention belongs.
따라서, 상술한 본 발명에 따르면, 드라이 펌프에서 모터의 고장이 발생할 경우에 잔류가스가 역류하여 발생할 수 있는 폭팔, 화재 및 인체흡입으로 인한 인명사고 등을 예방할 수 있고, 반도체 제조공정의 설비 및 드라이 펌프를 재가동시에 배관내의 잔류가스를 없앰으로써 정비시간을 단축할 수 있다.Therefore, according to the present invention described above, it is possible to prevent human accidents due to explosion, fire and human inhalation, which may occur due to the backflow of residual gas when a failure of the motor occurs in the dry pump, and the equipment and dry of the semiconductor manufacturing process Maintenance time can be shortened by removing residual gas in the pipe when the pump is restarted.
도 1은 종래기술에 의한 드라이 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.1 is a schematic diagram illustrating a dry pump according to the prior art.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.2 is a schematic view illustrating a bypass line mounted dry pump according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 바이패스 라인 장착형 드라이 펌프를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.3 is a schematic diagram illustrating a bypass line mounted dry pump according to a second exemplary embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100: 잔류가스 공급라인, 102: 모터부,100: residual gas supply line, 102: motor unit,
104: 잔류가스 배기라인, 106: 바이패스 라인,104: residual gas exhaust line, 106: bypass line,
108: 자동밸브(auto valve), 110: 가스 여과장치(gas scrubber),108: auto valve, 110: gas scrubber,
112: 제 2배기방향, 114: 제 1배기방향,112: second exhaust direction, 114: first exhaust direction,
116: 드라이 펌프(dry pump).116: dry pump.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0758032A (en) * | 1993-08-09 | 1995-03-03 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Apparatus and method for controlling pressure |
JPH09298162A (en) * | 1996-04-30 | 1997-11-18 | Shinko Electric Co Ltd | Heater cooling method of vacuum-type semiconductor manufacturing device |
KR0166777B1 (en) * | 1994-11-23 | 1999-02-01 | 문정환 | Gas exhausting tube and controlling system thereof |
KR0163640B1 (en) * | 1995-10-21 | 1999-04-15 | 김정부 | Strobo lighting apparatus adjusting the amount of light and the temperature of color |
KR200169515Y1 (en) * | 1994-05-10 | 2000-02-01 | 김영환 | Backflow prevention device of chamber |
-
1997
- 1997-12-03 KR KR1019970065536A patent/KR100480575B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0758032A (en) * | 1993-08-09 | 1995-03-03 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Apparatus and method for controlling pressure |
KR200169515Y1 (en) * | 1994-05-10 | 2000-02-01 | 김영환 | Backflow prevention device of chamber |
KR0166777B1 (en) * | 1994-11-23 | 1999-02-01 | 문정환 | Gas exhausting tube and controlling system thereof |
KR0163640B1 (en) * | 1995-10-21 | 1999-04-15 | 김정부 | Strobo lighting apparatus adjusting the amount of light and the temperature of color |
JPH09298162A (en) * | 1996-04-30 | 1997-11-18 | Shinko Electric Co Ltd | Heater cooling method of vacuum-type semiconductor manufacturing device |
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