KR200178311Y1 - Gas scrubber - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 제조 공정에서 발생하는 유해성 가스를 유입하는 유입관과, 스크러버 내부에서 여과된 가스가 대기중으로 배출되는 배출관과, 유입되는 가스를 여과시키는 레진필터를 구비하는 가스 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a gas scrubber having an inlet tube for introducing a harmful gas generated in a semiconductor manufacturing process, a discharge tube for discharging the gas filtered in the scrubber into the atmosphere, and a resin filter for filtering the gas introduced therein.
이를 위한 본 고안 가스 스크러버는, 유해성 가스를 여과하기 위한 레진필터와 레진필터가 내부에 구비되는 케니스터와 레진필터의 상부와 하부에 위치하여 레진필터의 이탈을 방지하는 상, 하부 보호망과 케니스터의 일측에 구비된 제 1관과, 제 1관이 구비된 동일측에서 연장되어 레진필터를 관통하는 제 2관을 구비하는 가스 스크러버에 있어서, 케니스터의 내부에 구비된 레진필터의 일측에 제 1체류공간이 마련되고, 타측에 제 2체류공간이 마련되어, 제 1체류공간에 제 1관이 연결되고, 제 2체류공간에 제 2관이 연결되는 것을 특징으로 한다.The gas scrubber of the present invention has a resin filter and a resin filter for filtering a harmful gas, and the upper and lower protection nets and canisters disposed at upper and lower portions of the canister and the resin filter to prevent separation of the resin filter. A gas scrubber having a first tube provided on one side of the second tube and a second tube extending from the same side provided with the first tube and penetrating the resin filter, the gas scrubber provided on one side of the resin filter provided inside the canister. The first stay space is provided, the second stay space is provided on the other side, the first pipe is connected to the first stay space, and the second pipe is connected to the second stay space.
상기의 특징을 갖는 본 고안에 의한 가스 스크러버에 의하면, 유입과 또는 배출관이 레진필터를 관통하여 레진필터의 일측에 마련된 체류공간에서 레진필터에 의해 여과된 유해가스를 배출함으로써, 레진필터의 전체 면적을 사용하여 유해가스를 여과함으로 레진필터의 효율을 높이고, 또한 유해가스가 유입되는 유입관과, 레진필터에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출관이 동일면에 위치하게 함으로써 가스 스크러버의 전체 장비가 차지하는 공간을 효과적으로 줄일 수 있는 효과를 가져온다.According to the gas scrubber according to the present invention having the above characteristics, the inflow or discharge pipe passes through the resin filter and discharges harmful gas filtered by the resin filter in the retention space provided on one side of the resin filter, thereby reducing the total area of the resin filter. Improve the efficiency of the resin filter by filtering the harmful gas, and the inlet pipe through which the harmful gas flows in and the discharge pipe through which the harmful gas filtered out by the resin filter are discharged are located on the same side. The effect is to reduce the space effectively.
Description
본 고안은 유해성 가스를 여과하기 위한 가스 스크러버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정에서 발생하는 유해성 가스를 유입하는 유입관과, 스크러버 내부에서 여과된 가스가 대기중으로 배출되는 배출관과, 유입되는 가스를 여과시키는 레진필터를 구비하는 가스 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a gas scrubber for filtering a harmful gas, and more particularly, an inlet pipe for introducing a harmful gas generated in a semiconductor manufacturing process, a discharge pipe through which the filtered gas inside the scrubber is discharged into the atmosphere, and It relates to a gas scrubber having a resin filter for filtering gas.
최근에는 반도체 디바이스(device)의 고집적화와 고기능화가 급속히 진행되고 있다. 이러한 반도체 디바이스의 고성능화를 됫받침하기 위해서는 반도체 장비의 기능 또한 고성능화 되어야만 한다. 예를 들어 이전의 제조 공정에서 허용되던 공정조건(process condition)인 경우에도 반도체 디바이스가 고성능 및 고기능화되어 VLSI(Very Large-Scale integrated circuit)로부터 ULSI(Ultra Large-Scale integrated circuit)로 진보함에 따라 그 기준이 보다 엄격히 적용되며, 이러한 측면에서 반도체 장비의 개선이 요구된다.In recent years, high integration and high functionalization of semiconductor devices is progressing rapidly. In order to support the high performance of such semiconductor devices, the functions of semiconductor equipment must also be improved. For example, even in the case of process conditions that have been permitted in previous manufacturing processes, semiconductor devices are becoming more advanced and highly functional and moving from very large-scale integrated circuits (VLSIs) to ultra large-scale integrated circuits (ULSIs). Standards are more stringent and in this respect, improvements in semiconductor equipment are required.
최근의 반도체 장비에 있어서는, 장비의 운용중에 발생되는 오동작에 대응한 재조정의 용이성을 비롯하여 장비의 사용에 수반되는 정기적인 유지 및 보수의 수월성, 수작업을 최소화하여 자동화를 실현시킴으로써 작업의 정밀도를 높일 수 있는 자동화의 요구 등 다양한 필요가 나타나고 있다.In the recent semiconductor equipment, it is possible to increase the precision of the work by realizing automation by minimizing the ease of recalibration in response to the malfunction occurring during the operation of the equipment, the ease of regular maintenance and repair, and the manual work that are involved in the use of the equipment. Various needs are emerging, such as the need for automation.
특히, 각각의 반도체 제조공정 즉, 화학적 기상 증착(CVD), 이온주입(Ion implantation)공정, Photo공정, 에칭(etching)공정 등에 사용되는 BCL3, WF6, SiF4, CIF3, Cl2, DCS 및 TCS 등이 반도체 제조공정을 거치면서 SOX, NOX, CO, Cl2, 및 HCl 등의 각종 유해가스와 각종 고체 및 증기 형태의 불순물을 포함하여 생성되어 대기중에 방출되었을 때 심각한 대기오염을 유발하며, 발생되는 유해성 가스에 작업자가 노출되었을 때 작업자에게 심각한 영향을 미칠 수 있으며, 또한 제조되는 반도체 디바이스에 오염되는 문제점도 발생한다.In particular, BCL3, WF6, SiF4, CIF3, Cl2, DCS and TCS, which are used in each semiconductor manufacturing process, that is, chemical vapor deposition (CVD), ion implantation process, photo process, etching process, etc. Hazardous gases generated during the semiconductor manufacturing process, including various harmful gases such as SOX, NOX, CO, Cl2, and HCl, and impurities in the form of solids and vapors, causing severe air pollution when released into the atmosphere. When a worker is exposed to a worker, the worker may have a serious effect, and there is a problem of contamination of the semiconductor device to be manufactured.
이에 따라, 반도체 디바이스의 각 제조공정에는 각종 유해가스를 정화시키기 위한 가스 스크러버를 구비하여 반도체 디바이스 제조공정시 발생하는 각종 유해가스를 여과하여 배출시킨다.Accordingly, each manufacturing process of the semiconductor device is provided with a gas scrubber for purifying various harmful gases to filter and discharge various harmful gases generated during the manufacturing process of the semiconductor device.
일반적으로 종래 기술에 따른 가스 스크러버(100)는 도 1에 도시한 바와 같이 유해가스를 여과하는 레진필터(10)와, 레진필터(10)가 내부에 구비되는 케니스터(20)와, 케니스터(20) 내부로 유해가스를 유입시키는 유입관(30)과, 레진필터(10)에 의해 여과된 가스가 또 다른 스크러버 또는 대기중으로 배출되는 배출관(40)이 구비되어 있으며, 상기 케니스터(20)의 내부에 구비된 레진필터(10)의 일측에 유입관(30)으로부터 유입되는 유해가스의 체류공간(60)이 구비되고, 체류공간(60)의 소정 위치에 상기 유입관(30)의 단부가 마련되고, 상기 레진필터(10)에 의해 여과된 가스가 배출되는 배출관(40)이 상기 유입관(30)이 구비된 동일면에서부터 연장되어 배출관(40)의 단부가 레진필터(10)에 삽입되어 있는 형태로 구비되고, 배출관(40)의 단부에는 여과된 가스가 배출될 때 레진필터(10)의 입자가 여과된 가스와 같이 배출관(40)으로 배출되는 것을 막기 위하여 미세한 구조의 그물망(40b)이 형성되어 있다.In general, the gas scrubber 100 according to the prior art has a resin filter 10 for filtering harmful gases, a canister 20 having a resin filter 10 therein, and a canister as shown in FIG. 1. 20 is provided with an inlet pipe 30 for introducing harmful gas into the inside and a discharge pipe 40 through which the gas filtered by the resin filter 10 is discharged into another scrubber or the atmosphere, and the canister 20 On one side of the resin filter 10 provided in the inside of the inlet pipe 30 is provided with a residence space 60 of harmful gas flowing from the inlet pipe 30, the predetermined position of the residence space 60 of the inlet pipe 30 An end is provided, the discharge pipe 40 through which the gas filtered by the resin filter 10 is discharged is extended from the same surface provided with the inlet pipe 30 so that the end of the discharge pipe 40 to the resin filter 10 It is provided in the form that is inserted, the end of the discharge pipe 40 when the filtered gas is discharged Jean has a mesh (40b) of the fine structure is formed to prevent the discharge to the discharge pipe 40, as a particle filter 10 and the filtered gas.
상술한 종래 기술에 따른 가스 스크러버의 작용을 첨부한 도면을 참고하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings the action of the gas scrubber according to the prior art as described above are as follows.
도 2에 도시한 바와 같이 반도체 디바이스 제조 장비에 발생되는 유해가스가 유입되는 유입관(30)으로부터 유해가스가 체류공간(60)으로 유입되고, 유입된 유해가스는 상기 체류공간(60)에서 일정한 압력으로 변환되어 상기 레진필터(10)로 흡수되어 여과되고, 레진필터(10)에서 여과된 유해가스는 단부가 레진필터(10)의 내부 소정 위치에 구비된 배출관(40)에 의해 다른 가스 스크러버 또는 대기중으로 배출된다.As shown in FIG. 2, the harmful gas flows into the residence space 60 from the inflow pipe 30 into which the harmful gas generated in the semiconductor device manufacturing equipment flows, and the introduced harmful gas is uniform in the residence space 60. The harmful gas converted into pressure is absorbed into the resin filter 10 and filtered, and the harmful gas filtered by the resin filter 10 has another gas scrubber by an exhaust pipe 40 having an end portion provided at a predetermined position inside the resin filter 10. Or to the atmosphere.
이때, 상기 유해가스의 유입관(30)의 단부가 구비된 체류공간(60)의 압력은 약 1기압(760Torr)이며, 레진필터(10)에 의해 여과되어 배출되는 배출관(40)의 배출 압력은 약 0.95기압(720Torr)으로 상기 체류공간(60)과 상기 배출관(40)의 압력차에 의해 유입관(30)으로 유입되는 유해가스가 레진필터(10)를 통과하고, 상기 레진필터(10)를 통과하는 유해가스 및 유해 생성물은 레진필터(10)의 입자와 반응하거나 또는 레진필터(10)에 여과되고, 레진필터(10)를 통과하여 압력이 안정된 가스만이 배출관(40)를 통해 배출된다.At this time, the pressure of the residence space 60 with the end of the inlet pipe 30 of the noxious gas is about 1 atmosphere (760 Torr), the discharge pressure of the discharge pipe 40 is filtered and discharged by the resin filter 10 Is about 0.95 atm (720 Torr) of harmful gas flowing into the inlet pipe 30 by the pressure difference between the residence space 60 and the discharge pipe 40 passes through the resin filter 10, the resin filter 10 Hazardous gases and harmful products passing through) react with the particles of the resin filter 10 or filtered through the resin filter 10, and only the gas whose pressure is stabilized through the resin filter 10 is passed through the discharge pipe 40. Discharged.
그러나, 상기와 같이 레진필터(10)를 사용하여 유해가스를 여과시키는 가스 스크러버(100)는 배출관(40)의 배출구(40a)가 레진필터(10)의 내부 소정 위치에 구비되어 있어 도 2에 도시된 바와 같이 유해가스가 유입되는 유입관(30)의 단부가 구비된 체류공간(60)에서부터 여과된 유해가스가 배출되는 배출관(40)의 단부까지의 가스 흐름이 체류공간의 레진필터(10) 상부 면적 부분에서 배출관(40)의 단부까지 역삼각형의 형상으로 흐르게 된다.However, the gas scrubber 100 for filtering harmful gas using the resin filter 10 as described above is provided with a discharge port 40a of the discharge pipe 40 at a predetermined position inside the resin filter 10. As shown, the gas flow from the staying space 60 having the end of the inlet pipe 30 through which the harmful gas is introduced to the end of the discharge pipe 40 through which the filtered harmful gas is discharged is carried out. ) Flows in the shape of an inverted triangle from the upper area portion to the end of the discharge pipe 40.
이에 따라, 가스 스크러버(100)의 케니스터(20) 내부에 구비된 레진필터(10)의 하부의 외곽영역(10a)은 유해가스가 미치지 못하여 레진필터(10)의 전체 효율을 감소시키는 문제점이 있다.Accordingly, the outer area 10a of the lower portion of the resin filter 10 provided in the canister 20 of the gas scrubber 100 does not reach harmful gases, thereby reducing the overall efficiency of the resin filter 10. have.
이러한 문제점을 해결하고자 종래 기술에서는 도 3에 도시한 바와 같이 내부에 레진필터(10)가 구비된 케니스터(20)의 일측과 타측에 체류공간(60,60a)을 구비하여 일측에 유입관(30)을 마련하고, 타측에 배출관(40)을 마련함으로써 상술한 문제점을 해결하였으나, 이러한 구성은 유입관(30)과 배출관(40)의 배관에 따른 장비의 부피가 커짐으로 가스 스크러버(100)의 전체 점유 공간이 커지는 문제점이 발생한다.In order to solve this problem, in the related art, as shown in FIG. 3, the inlet pipe (1) is provided with residence spaces 60 and 60a at one side and the other side of the canister 20 having the resin filter 10 therein. 30) and the above-mentioned problem was solved by providing the discharge pipe 40 on the other side, but the configuration of the gas scrubber 100 is increased due to the increase in the volume of the equipment according to the piping of the inlet pipe 30 and the discharge pipe 40. A problem arises in that the total occupied space of is increased.
본 고안은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로 유입관에서 유입된 유해가스가 레진필터에 의해 여과될 때, 유해가스가 미치지 못하는 레진필터의 외곽 부분으로 유해가스를 통과시키고, 또한 가스 스크러버의 전체의 점유 공간을 줄일 수 있는 가스 스크러버를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention was devised to solve the above problems, and when the harmful gas introduced from the inlet pipe is filtered by the resin filter, the harmful gas passes through the outer portion of the resin filter that the harmful gas does not reach, and also the gas scrubber The purpose is to provide a gas scrubber that can reduce the overall occupied space.
도 1은 종래 기술에 의한 가스 스크러버를 나타낸 구성도.1 is a block diagram showing a gas scrubber according to the prior art.
도 2는 종래 기술에 의한 가스 스크러버의 작용을 나타낸 작용 상태도.Figure 2 is an operational state diagram showing the action of the gas scrubber according to the prior art.
도 3은 종래 기술에 의한 또 다른 가스 스크러버를 나타낸 구성도.Figure 3 is a block diagram showing another gas scrubber according to the prior art.
도 4는 본 고안에 의한 가스 스크러버의 첫 번째 실시예를 나타낸 구성도.Figure 4 is a schematic view showing a first embodiment of a gas scrubber according to the present invention.
도 5는 본 고안에 의한 가스 스크러버의 첫 번째 실시예에 따른 작용을 나타낸 작용 상태도.5 is an operational state diagram showing the action according to the first embodiment of the gas scrubber according to the present invention.
도 6은 본 고안에 의한 가스 스크러버의 두 번째 실시예를 나타낸 구성도.Figure 6 is a schematic view showing a second embodiment of a gas scrubber according to the present invention.
도 7은 본 고안에 의한 가스 스크러버의 두 번째 실시예에 따른 작용을 나타낸 작용 상태도.7 is a state diagram showing the action according to the second embodiment of the gas scrubber according to the present invention.
＜도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Description of the code | symbol about the principal part of drawing>
100,200 : 스크러버 10,11 : 레진필터100,200: scrubber 10,11: resin filter
20,21 : 케니스터 30,31 : 유입관20,21: canister 30,31: inlet pipe
40,41 : 배출관 50,51 : 배플40,41: discharge pipe 50,51: baffle
60 : 체류공간 70,71 : 제 1체류공간60: dwelling space 70,71: first stay space
80,81 : 제 2체류공간80,81: 2nd stay space
상기한 목적을 달성하기 위한 본 고안 가스 스크러버는, 유해성 가스를 여과하기 위한 레진필터와; 상기 레진필터가 내부에 구비되는 케니스터와; 상기 레진필터의 상부와 하부에 위치하여 상기 레진필터의 이탈을 방지하는 상, 하부 보호망과; 상기 케니스터의 일측에 구비된 제 1관과, 상기 제 1관이 구비된 동일측에서 연장되어 상기 레진필터를 관통하는 제 2관을 구비하는 가스 스크러버에 있어서,The present invention gas scrubber for achieving the above object is a resin filter for filtering the harmful gas; A canister having the resin filter provided therein; Upper and lower protection nets disposed on upper and lower portions of the resin filter to prevent separation of the resin filter; In the gas scrubber having a first pipe provided on one side of the canister, and a second pipe extending from the same side provided with the first pipe and penetrates the resin filter,
상기 케니스터의 내부에 구비된 상기 레진필터의 일측에 제 1체류공간이 마련되고, 타측에 제 2체류공간이 마련되어, 상기 제 1체류공간에 상기 제 1관이 연결되고, 상기 제 2체류공간에 상기 제 2관이 연결되는 것을 특징으로 한다.A first residence space is provided on one side of the resin filter provided inside the canister, and a second residence space is provided on the other side, and the first pipe is connected to the first residence space, and the second residence space is provided. The second pipe is characterized in that connected to.
상기 제 1관은 유해가스가 유입되는 유입관이고, 제 2관은 여과된 가스가 배출되는 배출관인 것이 바람직하다.The first pipe is an inlet pipe through which harmful gas is introduced, and the second pipe is a discharge pipe through which the filtered gas is discharged.
상기 하부 보호망의 소정 위치에 상기 배출관의 단부가 삽입되도록 배플이 구비되는 것이 바람직하다.The baffle is preferably provided so that the end of the discharge pipe is inserted into a predetermined position of the lower protection net.
상기 제 2관은 유해가스가 유입되는 유입관이고, 제 1관은 여과된 가스가 배출되는 배출관인 것이 바람직하다.The second pipe is an inlet pipe through which harmful gas is introduced, and the first pipe is a discharge pipe through which the filtered gas is discharged.
상기 케니스터의 상부 소정 위치에 상기 배출관의 단부가 삽입되도록 배플이 구비되는 것이 바람직하다.The baffle is preferably provided so that the end of the discharge pipe is inserted into the upper predetermined position of the canister.
본 고안의 실시예는 두 가지의 실시예가 예시되고, 이 두 가지의 실시예의 구성은 약간의 차이를 두고 있지만, 본 고안에서 해결하고자 하는 목적과 기술적 사상에 따른 구성은 서로 동일하다고 할 수 있다.In the embodiment of the present invention, two embodiments are exemplified, and the configuration of the two embodiments has a slight difference, but the configuration according to the object and the technical idea to be solved in the present invention may be the same.
본 고안을 설명함에 있어서 종래 기술과 동일한 구성에 대하여는 동일한 도면 부호를 부여하고, 또한 본 고안을 설명함에 있어 고안의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 설명은 생략한다.In the description of the present invention, the same components as in the prior art are given the same reference numerals, and in describing the present invention, descriptions deemed to obscure the subject matter of the present invention will be omitted.
도 4는 본 고안에 의한 가스 스크러버의 첫 번째 실시예를 나타낸 구성도이고, 도 5는 본 고안에 의한 가스 스크러버의 첫 번째 실시예에 따른 작용을 나타낸 작용 상태도이고, 도 6은 본 고안에 의한 가스 스크러버의 두 번째 실시예를 나타낸 구성도이고, 도 7은 본 고안에 의한 가스 스크러버의 두 번째 실시예에 따른 작용을 나타낸 작용 상태도이다.4 is a configuration diagram showing a first embodiment of the gas scrubber according to the present invention, Figure 5 is an operational state diagram showing the action according to the first embodiment of the gas scrubber according to the present invention, Figure 6 is FIG. 7 is a configuration diagram showing a second embodiment of the gas scrubber, and FIG. 7 is an operational state diagram showing the action according to the second embodiment of the gas scrubber according to the present invention.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 고안 가스 스크러버의 첫 번째 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the first embodiment of the present invention gas scrubber with reference to the accompanying drawings in detail as follows.
도 4에 도시한 바와 같이 본 고안에 의한 가스 스크러버(200)의 첫 번째 실시예는 기기의 본체(200)를 형성하는 케니스터(20)와, 케니스터(20)의 내부에 구비되어 유입되는 유해가스를 여과하는 레진필터(10)와, 케니스터(20) 내부로 유해가스를 유입하는 유입관(30)과, 레진필터(20)에 의해 여과된 유해가스를 대기중 또는 다른 가스 스크러버로 배출하는 배출관(40)이 구비되어 있다.As shown in FIG. 4, the first embodiment of the gas scrubber 200 according to the present invention is provided with a canister 20 and a canister 20 forming the main body 200 of the device. Resin filter 10 for filtering harmful gas, inlet pipe 30 for introducing harmful gas into canister 20, and harmful gas filtered by resin filter 20 to the atmosphere or other gas scrubber. A discharge pipe 40 for discharging is provided.
상기 케니스터(20) 내부에는 레진필터(10)가 레진필터(10)의 이탈을 방지하는 보호망(10a,10b)에 의해 케니스터(20)의 소정 위치에 구비되고, 케니스터(20)와 케니스터(20)의 내부에 구비된 레진필터(10) 사이의 일측에는 유입되는 유해가스가 정압을 유지하기 위한 제 1체류공간(70)이 마련되고, 타측에는 레진필터(10)에 의해 여과된 유해가스가 배출되기 전에 압력을 유지하기 위한 제 2체류공간(80)이 마련된다.In the canister 20, a resin filter 10 is provided at a predetermined position of the canister 20 by protection nets 10a and 10b that prevent the separation of the resin filter 10, and the canister 20 and the canister 20. One side between the resin filter 10 provided in the canister 20 is provided with a first residence space 70 for maintaining a constant pressure of the harmful gas flowing in, the other side is filtered by the resin filter 10 The second residence space 80 is provided to maintain the pressure before the harmful gas is discharged.
그리고, 케니스터(20)의 일면에 유해가스가 유입되는 유입관(30)의 유입구(30a)가 제 1체류공간(70)에 마련되고, 동일면의 소정 위치에서 연장되어 레진필터(10)를 관통하여 제 2체류공간(80)의 소정 위치로 레진필터(10)에 의해 여과된 유해가스를 대기중 또는 다른 가스 스크러버로 배출시키는 배출관(40)의 배출구(40a)가 마련된다.In addition, an inlet port 30a of the inlet pipe 30 through which noxious gas flows into one surface of the canister 20 is provided in the first residence space 70, and extends at a predetermined position on the same surface to extend the resin filter 10. A discharge port 40a of the discharge pipe 40 for penetrating and discharging the noxious gas filtered by the resin filter 10 to the predetermined position of the second residence space 80 to the air or another gas scrubber is provided.
또한, 제 2체류공간(80)에서 압력이 유지되어 배출되는 가스의 흐름을 전환하는 배플(50)이 레진필터(10)의 이탈을 제한하는 보호망(10b)에 레진필터(10)에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출관(40)의 배출구(40a) 단부가 삽입되도록 구비된다.In addition, the baffle 50 for switching the flow of the gas discharged by maintaining the pressure in the second residence space 80 is filtered by the resin filter 10 through a protection net 10b that restricts the separation of the resin filter 10. The end of the discharge port 40a of the discharge pipe 40 through which the harmful gas is discharged is provided.
이에 따라, 상기와 같이 구성된 본 고안 가스 스크러버의 첫 번째 실시예의 작용을 설명하면 다음과 같다.Accordingly, the operation of the first embodiment of the present invention gas scrubber configured as described above is as follows.
도 5에 도시한 바와 같이 케니스터(20)의 내부에 구비된 레진필터(10)의 일측에 마련되고 유해가스가 유입되는 유입구(30a)가 구비된 제 1체류공간(70)으로 유해가스가 유입되면 제 1체류공간(70)에 의해 대기압보다 높은 정압으로 유지되고, 케니스터(20)의 내부에 구비된 레진필터(10)의 타측에 마련되고 레진필터(10)에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출구(40a)를 구비한 제 2체류공간은 대기중으로 배출되거나 또는 다른 가스 스크러버로 연결되어 있어 대기압보다 적은 압력이 유지되어 상기 제 1체류공간(70)으로 유입된 유해가스는 상기 레진필터(10)를 통과하여 제 2체류공간(80)으로 여과되어 이동된다.As shown in FIG. 5, harmful gas is provided in the first residence space 70 provided at one side of the resin filter 10 provided in the canister 20 and provided with an inlet 30a through which harmful gas is introduced. When introduced, the harmful gas is maintained at a static pressure higher than atmospheric pressure by the first residence space 70, and is provided on the other side of the resin filter 10 provided in the canister 20 and filtered by the resin filter 10. The second residence space having an outlet 40a through which the gas is discharged is discharged into the atmosphere or connected to another gas scrubber, so that a pressure less than atmospheric pressure is maintained so that the harmful gas introduced into the first residence space 70 is Passed through the filter 10 is filtered to the second residence space 80 is moved.
유해가스는 제 1체류공간(70)에서 제 2체류공간(80)으로 레진필터(10)를 통과하여 이동되는데 이때, 제 1체류공간(70)에 머물러 일정한 압력으로 유지되는 유해가스는 레진필터(10)의 상부 전면으로 유입되고 유입된 유해가스는 레진필터(10)의 전체를 통과하여 레진필터(10)의 하부에 마련된 제 2체류공간(80)으로 레진필터(10)의 입자와 반응하거나 여과되어 레진필터(10)의 하부 전면을 통과하여 제 2체류공간(80)으로 이동된다.The noxious gas moves through the resin filter 10 from the first stay space 70 to the second stay space 80. At this time, the noxious gas remaining in the first stay space 70 and maintained at a constant pressure is a resin filter. The harmful gas introduced into the upper front surface of the 10 passes through the resin filter 10 and reacts with particles of the resin filter 10 to the second residence space 80 provided below the resin filter 10. Or it is filtered through the lower front of the resin filter 10 is moved to the second residence space (80).
그리고, 제 2체류공간(80)에 이른 유해가스는 제 2체류공간(80)에 의해 정압으로 유지되어 제 2체류공간(80)의 소정 위치에 구비되고 배출관(40)의 배출구(40a) 단부에 마련된 배플(50)에 의해 대기 또는 다른 가스 스크러버로 배출된다.In addition, the harmful gas reaching the second stay space 80 is maintained at a constant pressure by the second stay space 80 and is provided at a predetermined position of the second stay space 80, and an end portion of the discharge port 40a of the discharge pipe 40 is provided. By the baffle 50 provided in it, it discharges to air | atmosphere or another gas scrubber.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 고안 가스 스크러버의 두 번째 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a second embodiment of the present invention gas scrubber with reference to the accompanying drawings in detail as follows.
도 6에 도시한 바와 같이 본 고안에 의한 가스 스크러버의 두 번째 실시예는 기기의 본체(300)를 형성하는 케니스터(21)와, 케니스터(21)의 내부에 구비되어 유입되는 유해가스를 여과하는 레진필터(11)와, 케니스터 내부로 유해가스를 유입하는 유입관(31)과, 레진필터(11)에 의해 여과된 유해가스를 대기중 또는 다른 가스 스크러버로 배출하는 배출관(41)이 구비되어 있다.As shown in FIG. 6, the second embodiment of the gas scrubber according to the present invention includes a canister 21 forming the main body 300 of the device and a harmful gas introduced into the canister 21. A resin filter 11 for filtering, an inlet pipe 31 for introducing harmful gas into the canister, and a discharge pipe 41 for discharging the harmful gas filtered by the resin filter 11 to the air or another gas scrubber. It is provided.
상기 케니스터(21) 내부에는 레진필터(11)가 레진필터(11)의 이탈을 방지하는 보호망(11a,11b)에 의해 케니스터(21)의 소정 위치에 구비되고, 케니스터(21)와 케니스터(21)의 내부에 구비된 레진필터(11) 사이의 일측에는 유입되는 유해가스가 정압을 유지하기 위한 제 1체류공간(71)이 마련되고, 타측에는 레진필터(11)에 의해 여과된 유해가스가 배출되기 전에 압력을 유지하기 위한 제 2체류공간(81)이 마련된다.In the canister 21, a resin filter 11 is provided at a predetermined position of the canister 21 by protection nets 11a and 11b for preventing the resin filter 11 from being separated from the canister 21. One side between the resin filter 11 provided inside the canister 21 is provided with a first residence space 71 for maintaining a constant pressure of the harmful gas flowing therein, and the other side is filtered by the resin filter 11. A second residence space 81 is provided to maintain the pressure before the harmful gas is discharged.
그리고, 케니스터(21)의 일면의 소정 위치에 유해가스가 유입되는 유입관(31)이 상기 레진필터(21)를 관통하여 레진필터(11)의 하부에 구비된 제 1체류공간(71)의 소정 위치에 연장되어 마련되고, 동일면의 소정 위치에서 레진필터(11)의 상부에 마련된 제 2체류공간(81)에 레진필터(11)에 의해 여과된 유해가스를 대기중 또는 다른 가스 스크러버로 배출시키는 배출관(41)의 배출구(41a)가 마련된다.In addition, a first residence space 71 provided below the resin filter 11 through an inflow pipe 31 through which the harmful gas flows into a predetermined position on one surface of the canister 21 through the resin filter 21. Extends to a predetermined position of the toxic gas filtered by the resin filter 11 in the second residence space 81 provided above the resin filter 11 at a predetermined position on the same surface as an air or other gas scrubber. A discharge port 41a of the discharge pipe 41 for discharging is provided.
또한, 제 2체류공간(80)에서 압력이 유지되어 배출되는 가스의 흐름을 전환하는 배플(50)이 케니스터(21)의 상부 소정위치에 레진필터(10)에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출관(40)의 배출구(40a) 단부가 삽입되도록 구비된다.In addition, the harmful gas filtered by the resin filter 10 is discharged at a predetermined position on the upper portion of the canister 21 by the baffle 50 for switching the flow of the gas discharged by maintaining the pressure in the second residence space 80. It is provided so that the end of the discharge port 40a of the discharge pipe 40 to be inserted.
이에 따라, 상기와 같이 구성된 본 고안 가스 스크러버의 두 번째 실시예의 작용을 설명하면 다음과 같다.Accordingly, the operation of the second embodiment of the present invention gas scrubber configured as described above is as follows.
도 7에 도시한 바와 같이 케니스터(21)의 내부에 구비된 레진필터(11)의 일측에 마련되고 유해가스가 유입되는 유입구(31a)가 구비된 제 1체류공간(71)으로 유해가스가 유입되면 제 1체류공간(71)에 의해 대기압보다 높은 정압으로 유지되고, 케니스터(21)의 내부에 구비된 레진필터(11)의 타측에 마련되고 레진필터(11)에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출구(41a)를 구비한 제 2체류공간(81)은 대기중으로 배출되거나 또는 다른 가스 스크러버로 연결되어 대기압보다 적은 압력이 유지되어 상기 제 1체류공간(71)으로 유입된 유해가스는 상기 레진필터(11)를 통과하여 제 2체류공간(81)으로 여과되어 이동된다.As shown in FIG. 7, noxious gas is supplied to the first residence space 71 provided at one side of the resin filter 11 provided in the canister 21 and provided with an inlet 31a through which noxious gas is introduced. When introduced, the harmful gas is maintained at a static pressure higher than atmospheric pressure by the first residence space 71, and is provided on the other side of the resin filter 11 provided in the canister 21 and filtered by the resin filter 11. The second retention space (81) having an outlet (41a) through which is discharged is discharged into the atmosphere or connected to another gas scrubber to maintain a pressure less than atmospheric pressure so that the harmful gas introduced into the first retention space (71) Passed through the resin filter 11 is filtered to the second residence space 81 is moved.
유해가스는 제 1체류공간(71)에서 제 2체류공간(81)으로 레진필터(11)를 통과하여 이동되는데 이때, 제 1체류공간(71)에 머물러 일정한 압력으로 유지되는 유해가스는 레진필터(11)의 하부 전면으로 유입되고 유입된 유해가스는 레진필터(11)의 전체를 통과하여 레진필터(11)의 상부에 마련된 제 2체류공간(81)으로 레진필터(11)의 입자와 반응하거나 여과되어 레진필터(11)의 상부 전면을 통과하여 제 2체류공(81)간으로 이동된다.The noxious gas moves through the resin filter 11 from the first stay space 71 to the second stay space 81. At this time, the noxious gas remaining in the first stay space 71 and maintained at a constant pressure is a resin filter. The harmful gas introduced into the lower front surface of the (11) passes through the entire resin filter (11) and reacts with particles of the resin filter (11) to the second residence space (81) provided at the upper portion of the resin filter (11). Or filtered to pass through the upper front surface of the resin filter 11 is moved between the second retention hole (81).
그리고, 제 2체류공간(81)에 이른 유해가스는 제 2체류공간(81)에 의해 정압으로 유지되어 제 2체류공간(81)의 소정 위치에 구비되고 배출관(41)의 배출구(41a)에 마련된 배플(51)에 의해 여과된 유해가스의 흐름이 전환되어 대기 또는 다른 가스 스크러버로 배출된다.The noxious gas reaching the second stay space 81 is maintained at a constant pressure by the second stay space 81, and is provided at a predetermined position of the second stay space 81, and is discharged to the discharge port 41a of the discharge pipe 41. The harmful gas filtered by the provided baffle 51 is switched to be discharged to the atmosphere or another gas scrubber.
상술한 바와 같이 본 고안에 의한 가스 스크러버에 의하면, 유입과 또는 배출관이 레진필터를 관통하여 레진필터의 일측에 마련된 체류공간에서 레진필터에 의해 여과된 유해가스를 배출함으로써, 레진필터의 전체 면적을 사용하여 유해가스를 여과함으로 레진필터의 효율을 높이고, 또한 유해가스가 유입되는 유입관과, 레진필터에 의해 여과된 유해가스가 배출되는 배출관이 동일면에 위치하게 함으로써 가스 스크러버의 전체 장비가 차지하는 공간을 효과적으로 줄일 수 있는 효과를 가져온다.As described above, according to the gas scrubber according to the present invention, the inflow and discharge pipes pass through the resin filter and discharge the harmful gas filtered by the resin filter in the retention space provided on one side of the resin filter, thereby reducing the total area of the resin filter. Increase the efficiency of the resin filter by filtering the harmful gas, and also make the inflow pipe into which the harmful gas flows in and the discharge pipe through which the harmful gas filtered out by the resin filter are located on the same surface to occupy the entire equipment of the gas scrubber. The effect can be effectively reduced.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019990024759U KR200178311Y1 (en) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Gas scrubber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019990024759U KR200178311Y1 (en) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Gas scrubber |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR200178311Y1 true KR200178311Y1 (en) | 2000-04-15 |
Family
ID=19596069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019990024759U KR200178311Y1 (en) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Gas scrubber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200178311Y1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101924167B1 (en) | 2017-09-28 | 2018-11-30 | 삼성중공업 주식회사 | Apparatus for reducing air pollutant |
-
1999
- 1999-11-12 KR KR2019990024759U patent/KR200178311Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101924167B1 (en) | 2017-09-28 | 2018-11-30 | 삼성중공업 주식회사 | Apparatus for reducing air pollutant |
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