KR100463916B1 - 미세입자물질의연속처리방법과그장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 시멘트원료와 같은 미세 입자를 연속적으로 처리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 특히, 내부에 분출층을 갖게되는 1개 이상의 고정식 반응로(6)를 갖추고서, 미세 입자가 반응로(6)내로 공급되면, 반응로(6)내의 바닥부 중앙부분에 위치한 덕트(16)의 가스주입구쪽부위(21)를 통해 반응로(6) 바닥부에서부터 이 반응로(6) 내부를 지나 위쪽으로 흐르는 가스에 의해 부양된 부유층에서 반응처리된 다음, 반응기(6) 바닥부에 이루어진 덕트(16)의 가스주입구쪽부위(21)를 통해 배출되도록 되어 있다. 상기 반응기(6)의 치수 및 작동변수와, 이에 연결된 냉각기(8)의 여유용적(8a)은 작동중 전체 부유층이 반응로(6)에서 소정의 진폭으로 상하로 맥동을 일으키도록 조절해서, 부유층이 가장 아래에 위치해 있을 때 새로운 원료의 공급량과 일치하는 양의 반응완료물이 가스의 유동속도가 미세 입자를 부양시키는데 요구되는 최소속도보다 느린 부분인 분리부(22)로 들어가 가스유통로를 거쳐 밖으로 배출되게 된다.

Description

미세 입자물질의 연속처리방법과 그 장치

본 발명은 미세 입자로 된 시멘트원료 같은 것을 연속처리하는 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 특히 1개 이상의 고정식 반응로를 구비하고서, 이 반응로의 내부로 미세 입자 시멘트원료를 공급하여 반응로 바닥부의 중앙에 위치한 가스주입구를 통해 주입되어 반응로 내부를 거쳐 위쪽으로 흐르는 가스에 의해 부양된 부유상태에서 반응처리되도록 한 다음, 반응로 바닥부의 상기 주입구를 통해 가스의 위쪽방향흐름에 따른 부양력을 극복해서 밑으로 떨어져 아래에 배치된 클링커냉각부쪽으로 배출되도록 하는 미세 입자 시멘트원료를 연속적으로 처리하는 방법과 이러한 방법을 실행하기 위한 장치에 관한 것이다.

종래의 이러한 연속처리방법으로서는 본 출원인의 유럽특허 제 380878호 (EP-B-0380878)에 기재된 것을 들 수 있는 바, 그 기술내용은, 고정식 반응로로부터 반응이 끝난 제품이, 반응으로 인해 설정값의 크기를 넘은 클링커 입자가 자체의 중력으로 부유가스의 부양력을 이기고서 가스주입도관을 통과해서 배출되도록 된 것이었다.

그러나, 이러한 종래의 배출방법은 원료공급이 반응완료품의 배출량 변화에 자동적으로 맞춰져 변화하도록 되어 있지 않았기 때문에, 반응로 내에 체류하는 시멘트원료의 양이 필요한 양만큼으로 확실하게 유지되도록 할 수가 없다는 결점이 있었다. 그에 따라, 이러한 배출방법을 채택한 장치에 있어서는, 반응과 에너지특성면에서 반응로 내에서 클링커가 머물러야 할 적정한 체류시간을 확보하기가 어려웠다.

이와 같은 종래의 방법에 따른 실제의 경험에 의하면, 어떤 작동조건에서는 부유층(浮游層, suspended bed)의 전부 또는 거의 대부분이 한꺼번에 밑으로 내려가게 됨으로써 클링커의 전부 또는 일부가 밖으로 배출되어 버리거나, 또는 반응로내에서 위쪽으로 퍼져버리는 일이 있게 된다. 또한, 종래의 연속처리방법은 부유층이 자리잡고 있는 위치에서 미세 입자들의 무게가 점차적으로 무거워지는 반응과정을 갖는 경우에만 이용할 수 있다고 하는 결점도 있었다.

이에 본 발명은 반응로 내에 반응처리물이 항상 필요한 양으로 유지될 수 있도록 하는 미세 입자 시멘트원료의 연속처리방법 및 장치를 제공함에 그 목적이 있다.

도 1은 본 발명에 따른 장치의 실시예를 나타내는 측면도,

도 2는 도 1의 장치 중 일부분을 확대하여 나타낸 부분 단면도이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 미세 입자 시멘트원료 연속처리방법은, 반응로의 규격치수와 작동변수(parameter) 및 반응로에 연결된 장치의 용적을 작동중에 반응로 내에서 부유층이 소정의 폭으로 상하,이동할 수 있도록 설정하고 조절함으로써, 부유층이 가장 아래쪽에 위치할 때에 새롭게 처리해야 할 원료의 양에 상당하는 양만큼의 부유층원료가 가스의 유속이 부유층원료를 부양시키기위해 요구되는 최저속도보다 느린 부위인 가스주입도관의 분리부로 내려가 옮겨짐으로써, 처리가 끝난 원료가 가스주입도관을 거쳐 반응로 밖으로 낙하해서 배출되도록 한 점에 그 특징이 있다.

앞에서 설명한 종래의 기술에서 설명된 것과 기본적으로 같은 종류의 시험장치를 가지고 본 출원인이 시험생산하여 본 결과, 시멘트 클링커의 일부가 이 클링커 입자가 자체의 중력에 의해 가스흐름의 부양력을 이기기 위한 충분한 크기로 되기 훨씬 전에 반응로에서 배출됨을 알 수 있었다. 또, 주입가스의 속도가 약 50％가지 변화되기 까지는 반응로에서 배출되는 클링커 입자의 크기에 조금만 영향을 끼친다는 것도 알 수 있었다.

보다 한층 더 상세히 실험한 결과는, 반응로로부터 클링커의 배출은 간헐적으로 일어나지만, 부유층의 전체 또는 가스주입구 부근의 일부에서만 반응로 내를 동시에 위아래로 약동하게 됨을 알 수 있었고, 반응로에서 배출된 클링커 입자의 크기분포는 반응로 내에 남아있는 원료 입자의 그것과 같음을 알 수 있었다.

따라서, 부유층이 반응로 내에서 위아래로 맥동쳐 이동한다는 점과, 그렇게 됨으로써 클링커가 반응로에서 배출된다는 것을 알 수가 있었다.

가스의 분출에 따라 야기되는 부유층의 맥동현상은 당해 기술분야의 전문가들에게는 이미 잘 알려진 사실이기는 하지만, 이는 오로지 회피해야 할 대상으로만 고려되고 있었다. 또한, 전문적인 문헌에도 맥동현상의 원인을 규명하기 위한 어떤 상세한 연구가 이루어졌다는 기록을 찾아볼 수 없었지만, 그럼에도 불구하고 맥동현상이 일어나지 않도록 하는 데 적합한 방법에 대한 기록은 많이 찾아볼 수 있었다.

본 출원인이 시험해본 결과에 의하면, 맥동현상은 상호작용하는 많은 동작요소들에 의해 이루어짐을 알 수 있었고, 즉 그러한 상호작용을 하는 동작요소중 특히 중요한 것으로는 부유층의 무게와, 반응로와 이에 연결된 장치 내에 있는 부유층 위,아래의 공기의 양으로부터 연유하는 탄성력 및 관성력 사이의 관계였다. 부유층의 맥동현상에 대한 다른 결정요소로는, 송풍기의 특성과, 가즈주입도관의 규격, 반응로의 원추형상부의 각도 및, 가스의 평균유량과 가스의 평균유속, 원료의 이송속도 및 반응로와 가스주입도관의 온도 같은 작동변수들임을 알 수 있었다.

따라서, 이러한 여러가지 작동변수를 적절하게 선택하고 조절하게 되면 당해 분야의 어떤 기술자라도 바람직한 맥동특성을 가진 안정된 작동유형을 얻을 수가 있음을 알 수 있었다. 예컨대, 반응로에 연결된 장치들의 공기량을 바람직한 높이로 부양된 부유층과 가스의 분출에 맞춰지도록 함으로써 부유층 맥동의 진동수와 진폭을 조절할 수가 있게 된다. 즉, 맥동의 진폭을, 부유층이 가장 낮게 위치해 있을 때 시멘트원료가 주입가스의 유속이 부유층원료의 미세 입자를 부양시키기에 필요한 최소속도보다 느린 구역으로 필요한 만큼 옮겨가 가스주입도관을 거쳐 밑으로 떨어져 반응로 밖으로 배출되기에 적합한 크기가 되도록 한다. 상기 맥동의 진폭은 부유층의 원료량이 증가하면 증가하기 때문에, 반응로에서 배출되는 반응완료원료의 양도 부유층의 원료량이 증가함에 따라 증가하게 된다. 그 결과, 부유층의 원료량은 매우 한정된 범위 내에서 안정화되어 선택된 작동변수에 의해 스스로 조절되게 된다.

따라서, 본 발명에 의하면, 원료공급량의 변화가 반응완료원료의 배출량의 변화와 같아지도록 자동적으로 조절되어 반응로 내에 항상 필요한 양만큼의 원료가 체류할 수 있게 된다. 이러한 결과는 종래의 방법에 비해 반응로 내에 처리대상물이 지체하는 시간을 제어하기가 보다 더 쉬워지게 되고, 그에 따라 반응 및 에너지특성을 최적화할 수가 있게 된다. 또한, 본 발명은 부유층에 자리잡은 원료 입자의 무게가 지속적으로 증가하지 않도록 하는 공정을 위해서도 이용될 수 있다.

실제의 작업에서는, 반응로의 치수와 작동변수는 물론 반응로에 연결된 장치의 용량을 각기 개별적으로나 또는 함께 가변적인 작동변수로 이용할 수가 있다.

그래서, 작업자는 작동변수를 조절하기 위해 반응로의 가스주입도관의 길이방향이나 직경방향 및 이들 양자의 치수를 선택해서 용량을 조절할 수가 있는바, 이는 시동하기 전에 필요한 치수를 가진 1개 이상의 삽입부재를 가스주입도관 내에 다 삽입해서 설치하는 가장 단순한 방법만으로 실행할 수도 있지만, 길이나 직경 또는 이들을 함께 가변시킬 수 있도록 구성된 삽입부재를 가지고 작동중에 실행될 수도 있다. 실제의 실험에서는 공기주입도관의 길이와 직경 사이의 관계가 0.5 - 6.0 범위내에서 조절되도록 하는 것이 바람직함을 알 수 있었다.

또한, 작업자는 작업이 이루어지는 동안에 가스의 평균유량과, 가스의 평균유속, 원료의 이송량, 반응로의 온도 및 주입도관의 온도와 같은 작동변수들 중 1가지 이상을 선택해서 조절할 수 가 있는 바, 만약 평균속도를 작동변수로 선택한 경우라면 이 평균속도가 가스주입도관의 가장 좁은 부분에서 반응로로부터 배출되는 처리완료원료의 중간크기 미세 입자의 종단속도(terminal velocity)의 1 ∼ 10배 범위 내에서 유지되도록 하여야 한다.

통상적으로, 반응로는 규모가 큰 설비의 일부로 결합되어 사용되는데, 이 설비에서 반응로는 직접 다른 장치들과 연결되게 되는바, 이런 경우 반응로에서의 부유층의 맥동을 조절하려면 반응로에 연결된 장치 중 1개 이상의 용적을 작동중에 조정함으로써 조절할 수 있게 된다. 따라서, 바람직한 맥동특성을 얻을 수 있도록하기 위해서는 맥동의 진폭과 진동수에 영향을 미치는 특정 장치의 탄성력을 조절하는 것으로도 가능하게 된다.

어떤 경우에는, 통상적으로 반응로에서 배출되는 반응완료원료의 극히 미세한 입자가 반응로 내로 재순환되도록 하는 것이 필요할 때도 있는데, 이는 반응로내에 이 미세한 입자가 체류하는 시간이 적절치 못한 경우에 필요하게 된다. 따라서, 본 발명에 의하면, 반응로로부터 배출되는 원료를 분류해서 분류되어진 원료중 재차 반응시켜야 할 미세 입자들을 반응로로 재순환시킬 수가 있게 된다. 이러한 분류작업은 도관내에서의 가스의 유속이 부유층에 함유된 원료의 중간크기 미세 입자의 종단속도의 0.1 ∼ 1배의 범위내를 유지하도록 해서 분출되는 가스의 흐름에대해 역류해서 대체로 수직방향을 한 도관을 통해 내려오는 반응완료원료로부터 분리되어 상승하는 가스에 편승하게 되는 형태로 분리가 이루어지게 된다.

한편, 본 발명은 상기한 미세 입자 시멘트원료의 연속처리방법을 수행하기 위한 장치에 관한 것이기도 한데, 이 장치는, 1개 이상의 예비처리장치와, 아래부분에 깔대기형상을 하고서 위로 세워진 원통형상을 한 반응로를 갖추어 이루어지고서, 이 반응로의 바닥부가 개방되어 반응로에서 반응된 것을 후처리하는 후처리부로부터 주입되고 분출되는 통로이기도 한 수직방향의 통상적인 도관을 통해 후처리부인 냉각기의 상단부와 직접 연결되어 반응로에서 처리된 원료가 배출되는 한편 예비처리된 원료가 들어가기 위한 1개 이상의 주입구를 갖추어 구성된 미세 입자 시멘트원료 연속처리장치에 있어서, 상기 반응로내에서의 부유층의 상하이동에 따른 맥동의 진폭을 조절하기 위한 조절장치를 구비한 것을 특징으로 한다.

이하 본 발명을 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명 미세 입자 시멘트원료 연속처리장치의 1실시예에 관한 측면도로서, 3개의 예열싸이클론(1, 2, 3)으로 구성된 예열장치와, 분리싸이클론(5)을 갖춘 소성로(4), 다른 분리싸이클론(7)을 갖춘 고정식 반응로(6) 및, 제 1냉각기(8)와 제 2냉각기(9)로 이루어진 시멘트클링커 제조장치를 나타낸다.

시멘트원료는 원료가 투입되는 도관(10)에서 장치내로 공급되어 공지의 방식으로 예열싸이클론(1, 2, 3)을 지나 도관(11)을 통해 소성로(4)로 이송되고, 이 소성로(4)는 연료주입구(12)로부터 연료를 공급받음과 더불어 반응로(6)의 분리사이클론(7)과 제 2냉각기(9) 양쪽으로부터 도관(13)을 통해 연소용 공기를 공급받게 된다.

상기 소성로(4)에서는 앞에서 예열된 상기 시멘트원료가 공지된 방식으로 부유된 상태에서 소성되게 된다. 여기서, 배출가스와 소성된 시멘트원료의 부유혼합물은 배출구(5a)를 통해 분리싸이클론(5)으로 이송되고, 이 분리싸이클론(5)에서는 배출가스가 예열싸이클론(1, 2, 3)으로 올라간 다음 마침내 가스배출구(14)를 통해 처리장치로부터 배출시켜지게 된다. 또, 분리된 소성완료 시멘트원료는 분리싸이클론(5)으로부터 도관(15)과 원료투입구(15a)를 통해 반응로(6)로 이송되게 된다. 이 클링커 제조장치에는 소성로(4)를 통과한 예열된 시멘트원료의 일부를 직접 반응로(6)의 상단부로 이송되기 위한 도관(11a)도 갖추어져 있는데, 이 구역에 시멘트원료가 공급되어 반응로(6)로부터 분출되는 가스와 혼합되어 온도가 낮춰짐으로써 분리싸이클론(7)에서 일어날 수 있는 케이킹현상이 방지될 수 있게 된다.

또, 상기 하부가 깔대기형상으로 된 반응로(6)에는 제 1냉각기(8)로부터 덕 트(16)를 통해 연소와 원료부양을 위한 가스가 공급되는 한편, 연료주입구(17)를 통해서는 연료가 공급되도록 되어 있다. 따라서, 최후의 소성반응이 끝난 클링커는 반응로(6)에서 나와 덕트(16)를 거쳐 송풍기(18)에 의해 공급된 가스가 내부를 역류해 올라와 반응이 끝난 시멘트원료인 클링커를 냉각시키도록 된 제 1냉각기(8)로 이송되게 된다. 이렇게 제 1냉각기(8)로 옮겨진 클링커는 도관(19)을 통해 송풍기(20)에 의한 냉각공기가 공급되는 제 2냉각기(9)로 이송되게 된다.

여기서, 상기 덕트(16)는 반응로(6)에 가가운 쪽인 가스주입부(21)와 그 아래에 연속된 보다 큰 직경을 가진 분리부(22)로 구분되도록 되어 있다. 또, 상기 덕트(16)의 단면형상은 어떤 것이라도 좋지만 통상적으로는 원형으로 된 것이 사용되게 된다.

상기 반응로(6)의 치수와 작동변수 및, 냉각기(8)의 여유용적(8a; freeboard volume)과 같은 구성부의 용적은, 장치가 동작중 냉각기(6) 내에서의 부유층이 상하로 움직이는 맥동현상이 확실해지도록 종래의 경험을 기초로해서 선택하게 된다. 즉, 시동시와 시동에 이어져 작동하는 과정에서의 맥동의 진폭이, 각 맥동싸이클마다 부유층이 내부의 가스유속이 미세 입자를 부양시키는데 필요한 최저의 속도보다 낮도록 된 덕트(16)의 분리부(22) 내로 원료가 필요한 양만큼 밑으로 내려가서 가스유통로를 거쳐 반응로(6)에서 배출되는 한편, 나머지 부유원료는 반응로(6)내로 되돌아 올라가도록 조절되게 된다.

도 2는 부유층의 맥동을 조절하기 위해 쓰여지는 조절장치의 1례를 나타낸 것으로, 가스주입부(21)의 길이를, 이 가스주입부위(21)내에서 화살표(23a)로 지시된 것과 같이 상하로 위치가 옮겨질 수 있도록 된 파이프부재(23)를 설치하여 신축적으로 조절할 수 있도록 구성된 예이다. 작동온도가 도시된 클링커제조장치에 비해 낮도록 된 장치에서는, 상기 가스주입부(21)의 길이를 예컨대 도시되지 않은 주름관수단을 가지고 조절할 수 있도록 하면 된다.

기타 냉각기(8)의 여유용적(8a)을 조절하는 몇가지 수단도 생각할 수 있는 바, 그 한 예로서는 냉각기(8)의 내부에 가로로 배치된 격자판(24)을 도면에 화살표(25)로 나타내어진 것과 같이 상하로 이동하거나, 충전부재(26)를 화살표(27)로 나타내어진 것과 같이 냉각기(8)의 안팎으로 이동하도록 하여도 된다. 용적을 조절하는 다른 방법으로서는 원료의 공급량에 대해 배출량을 조정함으로써 냉각기(8)에서 클링커가 차지하는 용적을 조절할 수도 있다. 한편, 덕트(16)과 반응로(6)를 통해 상승하는 가스의 유량과 유속의 조절은 송풍기(18)에 의해 이루어질 수 있게 되므로, 반응로(6)로 들어가는 시멘트원료의 양은 도관(10, 11, 11a)내를 흐르는 시멘트원료의 양을 조정함으로써 조절될 수 있게 된다. 반응로(6) 내의 온도는 연료주입구(17)로 공급되는 연료량을 조정함으로써 조절할 수가 있게 되는 바, 왜냐하면 가스가 주입되는 덕트(16)의 온도는 찬 공기를 추가로 주입하거나 냉각기 여유용적(8a) 또는 적당한 덕트(16)내에서 각각 연료를 연소시킴으로써 조절할 수가 있기 때문이다.

본 발명에 따른 장치에서는 여러개의 반응로(6)가 병렬로 설치할 수도 있는 바, 이들 반응로(6)는 각 예비처리장치에 개별로 연결될 수도 있고, 여러 개의 예비처리장치에 집단으로 연결되거나, 오직 1개의 예비처리장치에만 연결될 수도 있다. 또한, 상기 반응로(6)는 개별적으로 후처리장치에 연결될 수 있고, 여러개의 후처리장치에 집단으로 연결되거나 오직 1개의 후처리장치에만 연결될 수도 있다. 바람직하기로는 복수의 반응로(6)가 1개의 예비처리장치에 연결되면서 여러개로 분리된 후처리장치들과 연결되도록 하는 것이 좋다.

본 발명은 시멘트원료와 같은 미립자물질을 연속적으로 처리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 반응기에서 바람직한 양의 물질이 지속적으로 유지될 수 있도록 된 방법 및 장치를 제공한다.

Claims (10)

1. 입상체 시멘트원료가 반응로(6)로 공급되어 이 반응로(6)의 바닥부 중앙부에 배치된 덕트(16)의 가스주입부(21)를 통해 반응로(6)내로 분출되어 반응로(6) 내부를 거쳐 위쪽으로 유동하는 가스에 의해 부양되어 부유층을 이룬 상태에서 반응처리되고 나서, 반응로(6) 바닥부로부터의 상기 가스의 부양력을 극복해서 자체의 중력으로 덕트(16)의 가스주입부(21)를 거쳐 배출되도록 된 1개 이상의 고정식 반응로(6)를 갖춘 클링커제조장치를 이용해서 미세 입자물질을 연속처리하는 방법에 있어서,

   상기 반응로(6)와 그에 연결된 냉각기(8)와 같은 장치의 여유용적(8a)의 치수와 작동변수를, 작동중 반응로(6) 내에서 부유층(suspended bed) 전체가 상하로 일정한 폭으로 이동하는 맥동현상을 이루도록 선택 내지 조절함으로써, 부유층이 가장 낮은 위치에 있을 때, 새로이 공급되는 원료의 양만큼의 부유층원료가, 공기의 유속이 부유 입자를 부양시키는 데 필요한 최저속도보다 낮은 구역인 덕트(16)의 분리부(22)내로 들어간 다음, 가스 유동로를 거쳐 떨어지면서 반응로(6) 밖으로 배출되도록 하는 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 덕트(16)의 가스주입구(21)의 길이나 직경 또는 이들 모두의 치수를 작동중 조절하도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
3. 제 2항에 있어서, 상기 덕트(16)의 가스주입부(21)의 길이와 직경 사이의 비를 0.5 - 6.0 범위내에서 조절하도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
4. 제 1항에 있어서, 상기 덕트로 주입되는 상기 가스의 평균속도와 평균유량, 시멘트원료의 이송량, 반응로의 온도 및 가스를 주입하는 덕트(16)에서 온도와 같은 작동변수 중 하나 이상을 작동중 조절하도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자 물질의 연속처리방법.
5. 제 4항에 있어서, 상기 덕트(16)의 가스주입부(21)의 가장 좁은 부분의 가스 유속이, 부유층으로부터 빠져나와 배출되는 반응완료원료의 중간크기 미세 입자의 종단속도의 1 ∼ 10배 범위를 유지할 수 있게 조절하도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
6. 제 1항에 있어서, 상기 반응로(6)에 연결된 하나 이상의 장치의 용적(8a)을 작동중 조절하도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
7. 제 1항 내지 제 6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응로(6)에서 배출되는 반응완료원료를 분류해서, 그 중 가장 미세한 입자를 반응로(6)로 재순환시키도록 된 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
8. 제 7항에 있어서, 상기 분류공정이 수직방향을 한 덕트(16)의 분리부(22)를 지나 이동하는 부유가스의 반대방향으로 이동하도록 시멘트원료를 부양시키는 공기분리의 형식으로 이루어지되, 분리부(22)에서의 가스유속이 부유층에 체류하는 원료의 중간크기 미세 입자의 종단속도의 0.1 ∼ 1배 범위내가 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리방법.
9. 싸이클론과 소성로와 같은 1개 이상의 예비처리장치와, 아래부분이 깔대기형상으로 된 원통형상을 하고서 수직으로 설치된 반응로(6)를 갖추고서, 이 반응로(6)의 바닥이 개방되어 후처리장치인 냉각기(8) 쪽에서 반응로(6)로 분출되는 가스가 통과함과 더불어, 배출되는 반응완료원료가 반응로(6)로부터 냉각기(8)로 통과하도록 통상적으로 중심부에 수직으로 배치된 덕트(16)를 매개로 냉각기(8)의 상단부와 직접 연결되고, 예비처리된 원료가 들어가도록 하기 위한 1개 이상의 주입구(15a)를 갖추어 이루어진 미세 입자물질의 연속처리장치에 있어서,

   상기 반응로(6)내의 부유층의 맥동의 진폭을 조절하기 위해 각종 작동변수를 조절하기 위한 조절장치가 갖춰지되, 이 조절장치는 덕트(16)의 길이와 직경을 조절하기 위한 장치, 또는 반응로(6)에 연결된 하나 이상의 장치의 용적(8a)을 조절하기 위한 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리장치.
10. 제 9항에 있어서, 상기 가스주입부(21) 아래의 덕트(16)는 길이/직경의 비율이 1과 10 사이인 분리부(22)를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 입자물질의 연속처리장치.