JP2000504102A - 微粒状材料の連続処理方法および装置 - Google Patents

微粒状材料の連続処理方法および装置

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Abstract

(57)【要約】 噴出口付き床として構成された固定反応器を備えた装置においてセメント原料粗粉のような部粒状材料を連続処理するにあたり、材料を供給し、中央に配置されたガス入口を経て反応器の底部で噴射され、反応器を通って上方に流れるガスによって材料を浮遊床で処理し、材料をそこから反応器の底部における開口部(21)を経て排出する微粒状材料を連続処理する方法。反応器(6、21)の寸法および作動パラメータまたは連結された装置(8a)の容積は、床を最も低い位置に位置決めした場合に、ガスの流速が床粒子を浮遊させるのに必要とされる最小の速度より低い帯域(22)へ新たな供給材料の量に対応する量の床材料が運ばれ、それによりがガスの流れを通って落下して反応器(6)から出ていくような振幅で、作動中に床が反応器(6)内で制御された仕方で上下に脈動されるように選択され且つ調整される。

Description

【発明の詳細な説明】 微粒状材料の連続処理方法および装置 本発明は噴出口付き床として構成された少なくとも1つの固定反応器を備えた 装置においてセメント原料粗粉のような微粒状材料を連続処理するにあたり、材 料を供給し、中央に配置されたガス入口を経て反応器の底部で噴射され、反応器 を通って上方に流れるガスによって材料を浮遊床で処理し、材料をそこから反応 器の底部におけるガスの流れに逆らって重力下でガス入口を経て排出する微粒状 材料を連続処理する方法に関する。また、本発明はこの方法を実施するための装 置に関する。 この種類(以下、上記種類と称する)の方法はヨーロッパ特許第 B-0380878号 から知られている。この特許出願によれば、固定反応器からの生成物の連続排出 は、所定の限度を越える大きさを達成した仕上げ燃焼クリンカー粒子が重力の影 響下で浮遊ガスと向流でガス入口を通るようにして起こる。 この公知の排出方法の欠点は、材料の供給速度の変化により、それ相当に材料 の排出速度が自動的に変化するので、所望量の材料が絶えず反応器に保持される ものではないと言う点である。従って、この排出方法を利用した装置では、反応 およびエネルギ特性によって反応器においてクリンカーの最適な保持時間を得る ことが困難である。上記方法での実際の経験の結果、或る作動条件を仮定して、 床のすべて或いは望ましくない大部分がたちまち押し下げられて反応器の完全ま たは部分排出をもたらしたり、或いは反応器内を上方に膨張されたりする。この 方法の更にの欠点は、床における粒子の重量の連続増大が起こる反応方法にしか 利用することができないと言う点である。 本発明の目的は所望量の材料が絶えず反応器に保持されるようにした方法およ び装置を提供することである。 本発明によれば、この目的は、床を最も低い位置に位置決めした場合に、ガス の流速が床粒子を浮遊させるのに必要とされる最小の速度より低い帯域へ新たな 供給材料の量に対応する量の床材料が運ばれ、それによりその量の床材料がガス の流れを通って落下して反応器から出ていくようなるような振幅で、作動中に床 が反応器内で制御された仕方で上下に脈動されるように、反応器の寸法および作 動パラメータおよび連結された装置の容積が選択され且つ制御されることを特徴 する上記種類の方法によって達成される。 本質的に上記特許に記載の種類の試験プラントで出願人が行った試験では、ク リンカー粒子が排他的に重力によって浮遊ガスの流れに打ち勝つのに十分な大き さを有するずっと前にセメントクリンカーの一部が反応器から排出されると言う ことが分かった。また、50%までのガスの速度の変化が反応器から排出される クリンカー粒子の大きさにほんの適度な採用をもたらすこと言うことも明らかに なった。 より詳細に調べた結果、反応器からのクリンカーの排出は断続的、およびガス 入口の速度における全床または床の一部が反応器において上方および下方に躍動 するのと同時に起こることを示した。しかも、反応器から排出される材料の粒径 分布は反応器内に保持される材料の粒径分布と本質的に同等である。 従って、浮遊床が反応器内で上方および下方に脈動され、且つクリンカーがこ のようにして反応器から排出されてしまう疑いがある。 噴出口付き床のような浮遊床における脈動は当業者には知られていないわけで はないが、今日まで、脈動は好ましくは避けるべきである現象として考えられて いた。専門家の文献が、だれも脈動の根元的な原因を確認するために脈動現象の 詳細な研究を何ら行っていないことを示していると思われる。対照的に、脈動を 回避するのに使用することができる適当な方法の多くの記載がある。 出願人が行った試験から、多くの相互作用要因により脈動が引き起こされるも のと思われる。この内容では、特定の趣旨要因が浮遊床の重量と、反応器ならび に連結装置における床の上下に存在する空気量から得られる弾性力および慣性力 との関係である。床の挙動についての他の決定的要因はファン特性、ガス入口ダ クトの寸法、反応器の円錐形断面の角度、および反応器ならびにガス入口ダクト における平均ガス質量流量、平均ガス速度、材料速度および温度のような作動パ ラメータである。 上記要因の適切な選択および調整により、当業者は望ましい脈動特性で定常モ ードを達成することができる。 例えば、連結装置における空気量を所望の床浮遊およびガスの流れに適合させ ることにより、浮遊床の脈動の周波数および振幅は、床を最も低い位置に置く場 合、床材料の所望部分が、ガス流速が床粒子を浮遊させるのに必要な最小速度よ り低い帯域へ運ばれ、それによりガスの流れを通って反応器から落下するのに必 要とされる大きさを振幅が正確に有するように変調されるのがよい。振幅は浮遊 床の質量が増大するにつれて増大するので、このようにして反応器から排出され る材料の量は浮遊床の質量が増大するにつれて増大する。その結果、浮遊床の質 量は非常に制限された範囲内で安定化され、しかも、選択された作動パラメータ に調和する。 かくして、本発明による方法によって、材料の供給速度の変化により自動的に 材料の排出速度の同様な変化になると言う点で材料の所望量が反応器内に絶えず 維持されることが達成される。これにより、以前に知られた方法と比較して反応 器内の材料の保持時間を制御することが容易になり、それにより材料のより一様 な保持時間になり、かくして反応およびエネルギ特性の最適化を確保する。また 、この方法を、床における粒子の重量の連続増大が起こらない処理に利用するこ とができる。 実際、反応器の寸法および作動パラメータならびに連結装置の容積を個々に或 いは組み合わせで可変の制御パラメータとして使用してもよい。 従って、反応器のガス入口ダクトの長さ方向および/または直径方向寸法を調 整するように選択すればよい。これは、所望の寸法を有しガス入口ダクトに嵌め 込まれた1つまたは幾つかの挿入部分によって始動前に簡単に行われるが、可変 の長さおよび/または直径の挿入部分のような適当な手段の使用により作動中い 行なってもよい。実際、ガス入口の長さと直径との関係を0.5〜6の範囲内に 調整することができるなら、有利であると立証された。 また、平均ガス質量流量、平均ガス速度、材料の流れ、反応器の温度および入 口ダクトの温度のような作動パラメータのうちの少なくとも1つを作動中に調整 するように選択してもよい。平均ガス速度を調整パラメータとして選択した場合 には、この速度はガス入口のより狭い部分において、反応器から排出される材料 における平均サイズの粒子の最終速度の1〜10倍の間である範囲内に調整すべ きである。 代表的には、反応器は、これが他の装置に直接連結されるより大きいプラント の一部として組入れられ、作動中に連結装置のうちの少なくとも1つの容積を調 整することにより反応器における床の脈動を調整する場合である。従って、所望 の脈動特性を得るようにして、脈動の周波数および振幅に影響する特定装置の弾 性力を調整することが可能である。 或る場合には、反応器から排出される材料の画分、代表的には、反応器から排 出される材料の最も細かい画分を反応器へ再循環することができるならば望まし い。これは、反応器におけるこの材料画分の保持時間が不適切であると思われる なら望ましい。従って、本発明による方法により、反応器から排出される材料を 分級することが可能であり、また分級された材料の所望画分を反応器へ再循環し たりすることが可能である。分級は、ダクトにおけるガス速度が床に収容された 材料における平均サイズの粒子の最終速度の0.1〜1倍である範囲内に維持さ れて、材料が浮遊ガスと向流である実質的に垂直なダクトを通して導かれること を伴う空気分離の形で行われるのがよい。 また、本発明は本発明による方法を実施するための装置に関し、この装置は少 なくとも1つの前処理ユニットと、浮遊ガスが後処理ユニットから反応器へ、排 出材料が反応器から後処理ユニットへ同時に通るための共通の垂直な中央ダクト を介して底部が後処理ユニットの上部分と開放/直接連結している円錐台形壁部 を下端部に備えた直立円筒形容器よりなる少なくとも1つの固定反応器とを備え ており、反応器は前処理された材料用の1つまたは幾つかの入口を備えており、 この装置は制御方法で床の脈動振幅を調整する手段を備えたことを特徴としてい る。 添付図面を参照して本発明を更に詳細に説明する。 第1図は本発明による装置の例を側面図で示しており、 第2図は第1図に示す装置の一部を拡大して示す部分断面図である。 第1図はセメントクリンカーを製造するプラントを示しており、このプラント は3つのサイクロン段階1、2、3よりなる浮遊プレヒータと、分離サイクロン 5を備えたか焼器4と、分離サイクロン7を備えた固定反応器6と、第1クリン カー冷却器8と、第2クリンカー冷却器9とを備えている。 セメント原料粉を入口10でプラントに供給し、プレヒータサイクロン1、2 、3を通してダクト11を経てか焼器4に公知な方法で搬送する。か焼器4には 、入口12で燃料を供給し、且つ燃焼ガスを反応器6の分離サイクロン7および 第2冷却器9からダクト13を経て供給する。 か焼器4において、予熱された原料粉を浮遊状態で公知な方法でか焼し、排ガ スおよびか焼原料粉の浮遊物を出口5aを経て搬送し、そこから、排ガスをプレ ヒータ1、2、3まで導き、引続き、ガスをガス出口14を経てプラントから排 出する。分離されたか焼原料粉を分離サイクロン5からダクト15および材料入 口15aを経て反応器6へ送る。プラントはまた、予熱された原料粉の一部をか 焼器4を通り越して反応器6の頂部へ直接差し向けるためのダクト11aを備え るのがよく、原料粉の上記一部を反応器に導入し、反応器6からの排ガスと混合 して分離サイクロン7における粘着が回避されるようにこの帯域における温度を 低下させる。 円錐形の噴射口付き床として構成された反応器6には、燃焼浮遊空気が第1冷 却器8からダクト16を経て供給され、且つ燃料が入口を経て供給される。仕上 げ燃焼されたクリンカーを反応器6から排出し、且つファン18によって冷却器 8をへ送られた冷却空気と向流でダクト16を経て冷却器8へ導く。第1冷却器 8からクリンカーをダクト19を経て第2冷却器9の中へ導き、第2冷却器9に は、ファン20によって冷却空気が送られる。 ダクト16は反応器6に最も近いガス入口部分21と、大きい横断面積を有す る下側分離部分22とよりなる。原則的にダクト16は任意の横断形態のもので もよいが、通常は実質的に円形である。 反応器6の寸法および作動パラメータおよび下側冷却器8のフリーボード容積 8aのような連結装置の容積は、作動中、反応器6における床の上方および下方 の脈動を確保するように予備的な作動経験に基づいて意図した割当を行うために プラントの始動に先立って選択される。始動時、およびおそらく、作動中の次の 段階で、脈動の振幅は、各脈動サイクルごとに、床材料の所望部分が、ガス流速 が床粒子を浮遊させるのに必要とされる最小速度より低いダクト16の分離部分 22へ送られ、それによりガスの流れを通って落下して反応器6から出ていき、 床の残りの部分が上昇して反応器6の中へ戻るような程度に床が移動されるよう に変調される。 第2図は床の脈動を調整するのに利用される手段の例を示している。ガス入口 部分21の長さは、ガス入口部分2121に入れ子式に設置されて二重矢印23 aで示すように上方および下方に変位可能である管部分23によって調整される 。作動温度が図示のプラントと比べて低いプラントでは、ガス入口部分21の直 径は例えば、図示しない管状ベローズ手段によって調整される。冷却器8のフレ ーボード容積を調整するのに幾つかの方法を使用し得る。例えば、冷却器の格子 底24を二重矢印25で示すように上昇させたり降下させたりしもよいし、或い は充填要素26を二重矢印27で示すように冷却器8の内外に変位可能に嵌めて もよい。他の方法は排出速度を供給速度に対して調整することによる冷却器8に おけるクリンカー量の調整を含む。ダクト16を上方に通るガスの流れおよびガ スの速度の調整はブロワー18によって行うことができ、反応器6への材料の流 れの調整はダクト10、11、11aにおける材料の流れを調整することにより 行うことができる。反応器の温度は、入口17からの燃料の供給を調整すること により調整することができ、ガス入口ダクト16における温度は、低温空気の追 加により、或いは冷却器フリーボード8aまたはダクトにおける燃料の適切な燃 焼により調整することができる。 本発明によるプラントは平行に配置される幾つかの反応器6を組み入れてもよ い。これらの反応器6は別々の前処理ユニットに個々に連結されてもよいし、幾 つかの前処理ユニットにグループをなして連結されてもよいし、或いは1つの同 じ前処理ユニットに連結されてもよい。また、これらの反応器6は別々の後処理 ユニットに個々に連結されてもよいし、幾つかの後処理ユニットにグループをな して連結されてもよいし、或いは1つの同じ後処理ユニットに連結されてもよい 。好適な実施例では、反応器6は1つの同じ前処理ユニットおよび別々の後処理 ユニットに連結されている。
【手続補正書】 【提出日】1998年8月4日(1998.8.4) 【補正内容】請求の範囲 1.噴出口付き床として構成された少なくとも1つの固定反応器を備えた装置に おいてセメント原料粗粉のような微粒状材料を連続処理するにあたり、材料を 供給し、中央に配置されたガス入口を経て反応器の底部で噴射され、反応器を 通って上方に流れるガスによって材料を浮遊床で処理し、材料をそこから反応 器の底部におけるガスの流れに逆らって重力下でガス入口を経て排出する微粒 状材料を連続処理する方法において、反応器(6、21)の寸法および作動パ ラメータおよび連結装置の容積(8a)は、床を最も低い位置に位置決めした 場合に、ガスの流速が床粒子を浮遊させるのに必要とされる最小の速度より低 い帯域へ新たな供給材料の量に対応する量の床材料が運ばれ、それによりその 量の床材料がガスの流れを通って落下して反応器から出ていくような振幅で、 作動中に床全体が反応器(6)内で制御された仕方で上下に脈動されるように 、選択され且つ制御されることを特徴する微粒状材料を連続処理する方法。 2.反応器のガス入口(21)の長さ方向および/または直径方向寸法が作動中 に調整されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 3.ガス入口(21)の長さおよび直径が0.5〜6の範囲内に調整されること を特徴とする請求項2に記載の方法。 4.平均ガス速度、平均ガス質量流量、材料の流れ、反応器の温度およびガス入 口ダクトの温度のような作動パラメータのうちの少なくとも1つが作動中に調 整されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 5.ガス入口(21)の最も幅狭い部分におけるガス速度が床から抜き取られる 材料における平均サイズの粒子の最終速度の1倍と10倍との間の範囲内に調 整されることを特徴とする請求項4に記載の方法。 6.反応器に連結された少なくとも1つの装置の容積(8a)が作動中に調整さ れることを特徴とする請求項4に記載の方法。 7.反応器(6)から排出される材料を分級し、分級された材料の最も細かい画 分を反応器へ再循環することを特徴とする請求項1ないし6のうちのいずれか に記載の方法。 8.分級は、ダクトにおけるガス速度が床に収容された材料における平均サイズ の粒子の最終速度の0.1〜1倍である範囲内に維持されて、材料が浮遊ガス と向流である実質的に垂直なダクト(22)を通して導かれることを伴う空気 分離の形で行われることを特徴とする請求項7に記載の方法。 9.少なくとも1つの前処理ユニット(1、2、3、4、5)と、浮遊ガスが後 処理ユニットから反応器へ、排出材料が反応器から後処理ユニットへ同時に通 るための共通の垂直な中央ダクト(16)を介して底部が後処理ユニット(8 )の上部分と開放/直接連結している円錐台形壁部(6b)を下端部に備えた 直立円筒形容器(6a)よりなる少なくとも1つの固定反応器(6)とを備え ており、反応器(6)が前処理された材料用の1つまたは幾つかの入口(15 a)を備えている、先行請求項のうちのいずれかに記載の方法を実施するため の装置において、制御された仕方で床の脈動振幅を調整する手段(18、23 、24、26)を備えたことを特徴とする装置。 10.調整手段はダクトのガス入口部分(21)の長さ方向および/または直径方 向の寸法を調整するための手段(23)を備えていることを特徴とする請求項 9に記載の装置。 11.調整手段は反応器(6)の作動パラメータを調整するための手段(23)を 備えていることを特徴とする請求項9に記載の装置。 12.調整手段は反応器に連結された少なくとも1つの装置の容積(8a)を調整 するための手段(23)を備えたことを特徴とする請求項9に記載の装置。 13.ガス入口部分(21)の下方のダクト(16)は1と10との間の長さ/直 径関係を有する空気分離部分(22)を備えていることを特徴とする請求項9 ないし12のうちのいずれかに記載の装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN, CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,G E,HU,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR ,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV, MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,P L,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK ,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ, VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.噴出口付き床として構成された少なくとも1つの固定反応器を備えた装置に おいてセメント原料粗粉のような微粒状材料を連続処理するにあたり、材料を 供給し、中央に配置されたガス入口を経て反応器の底部で噴射され、反応器を 通って上方に流れるガスによって材料を浮遊床で処理し、材料をそこから反応 器の底部におけるガスの流れに逆らって重力下でガス入口を経て排出する微粒 状材料を連続処理する方法において、反応器(6、21)の寸法および作動パ ラメータおよび連結装置の容積(8a)は、床を最も低い位置に位置決めした 場合に、ガスの流速が床粒子を浮遊させるのに必要とされる最小の速度より低 い帯域へ新たな供給材料の量に対応する量の床材料が運ばれ、それによりその 量の床材料がガスの流れを通って落下して反応器から出ていくような振幅で、 作動中に床が反応器(6)内で制御された仕方で上下に脈動されるように、選 択され且つ制御されることを特徴する微粒状材料を連続処理する方法。 2.反応器のガス入口(21)の長さ方向および/または直径方向寸法が作動中 に調整されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 3.ガス入口(21)の長さおよび直径が0.5〜6の範囲内に調整されること を特徴とする請求項2に記載の方法。 4.平均ガス速度、平均ガス質量流量、材料の流れ、反応器の温度およびガス入 口ダクトの温度のような作動パラメータのうちの少なくとも1つが作動中に調 整されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 5.ガス入口(21)の最も幅狭い部分におけるガス速度が床から抜き取られる 材料における平均サイズの粒子の最終速度の1倍と10倍との間の範囲内に調 整されることを特徴とする請求項4に記載の方法。 6.反応器に連結された少なくとも1つの装置の容積(8a)が作動中に調整さ れることを特徴とする請求項4に記載の方法。 7.反応器(6)から排出される材料を分級し、分級された材料の最も細かい画 分を反応器へ再循環することを特徴とする請求項1ないし6のうちのいずれか に記載の方法。 8.分級は、ダクトにおけるガス速度が床に収容された材料における平均サイズ の粒子の最終速度の0.1−1倍である範囲内に維持されて、材料が浮遊ガス と向流である実質的に垂直なダクト(22)を通して導かれることを伴う空気 分離の形で行われることを特徴とする請求項7に記載の方法。 9.少なくとも1つの前処理ユニット(1、2、3、4、5)と、浮遊ガスが後 処理ユニットから反応器へ、排出材料が反応器から後処理ユニットへ同時に通 るための共通の垂直な中央ダクト(16)を介して底部が後処理ユニット(8 )の上部分と開放/直接連結している円錐台形壁部(6b)を下端部に備えた 直立円筒形容器(6a)よりなる少なくとも1つの固定反応器(6)とを備え ており、反応器(6)が前処理された材料用の1つまたは幾つかの入口(15 a)を備えている、先行請求項のうちのいずれかに記載の方法を実施するため の装置において、制御された仕方で床の脈動振幅を調整する手段(18、23 、24、26)を備えたことを特徴とする装置。 10.調整手段はダクトのガス入口部分(21)の長さ方向および/または直径方 向の寸法を調整するための手段(23)を備えていることを特徴とする請求項 9に記載の装置。 11.調整手段は反応器(6)の作動パラメータを調整するための手段(23)を 備えていることを特徴とする請求項9に記載の装置。 12.調整手段は反応器に連結された少なくとも1つの装置の容積(8a)を調整 するための手段(23)を備えたことを特徴とする請求項9に記載の装置。 13.ガス入口部分(21)の下方のダクト(16)は1と10との間の長さ/直 径関係を有する空気分離部分(22)を備えていることを特徴とする請求項9 ないし12のうちのいずれかに記載の装置。
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