KR100446907B1 - Apparatus for lapping crt panel - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 승강 및 회전가능한 스핀들과, 상기 스핀들의 하단에 결합되어 패널을 연마하는 연마툴을 갖는 음극선관용 패널 연마장치에 관한 것으로서, 연마될 패널이 안착되는 웨어테이블과; 상기 웨어테이블의 상단에 마련되어 연마될 상기 패널이 수용되는 폐루프형상의 홀더본체와, 상기 홀더본체의 내면으로부터 반경방향 내측으로 돌출되며 선단이 상기 패널의 스커트부의 외측면에 접촉지지되는 접촉지지부를 갖는 패널지지부재를 포함하며; 상기 접촉지지부는 상기 홀더본체의 내면 상측에 형성되어 있으며, 선단에는 상기 스커트부에 국부적으로 접촉지지되는 첨예부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 로딩시 패널에 발생되는 스크래치에 의한 불량을 현격하게 억제시킬 수 있다.The present invention relates to a panel polishing apparatus for a cathode ray tube having a lifting and rotating spindle and a polishing tool coupled to a lower end of the spindle for polishing a panel, comprising: a wear table on which a panel to be polished is mounted; A closed-loop holder body provided at the upper end of the wear table to accommodate the panel to be polished, and a contact support portion protruding radially inward from an inner surface of the holder body and having a tip contacting the outer surface of the skirt portion of the panel. A panel support member having; The contact support is formed on the inner surface of the holder body, the tip is characterized in that the sharp portion which is in contact with the skirt portion is formed locally. Thereby, the defect by the scratch which generate | occur | produces in a panel at the time of loading can be suppressed significantly.
Description
본 발명은, 음극선관용 패널 연마장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 패널을 지지하는 패널지지부재의 형상이 개선된 음극선관용 패널 연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to a panel polishing apparatus for a cathode ray tube, and more particularly, to a panel polishing apparatus for a cathode ray tube having an improved shape of a panel support member for supporting a panel.
음극선관은 화상이 투사되는 패널과, 패널의 배후에 결합되는 깔때기 형상의펀넬과, 전자총을 구비하여 펀넬에 결합되는 넥크를 가진다.The cathode ray tube has a panel on which an image is projected, a funnel-shaped funnel coupled to the rear of the panel, and a neck having an electron gun coupled to the funnel.
패널은 화상이 투사되는 페이스부와, 페이스부의 각 변으로부터 절곡된 스커트부를 갖는다. 스커트부의 단부면은 펀넬과의 접합을 위해 연마되며, 페이스부 역시 자세히 후술할 연마장치에 의해 연마된다.The panel has a face portion on which the image is projected and a skirt portion bent from each side of the face portion. The end face of the skirt portion is polished for joining with the funnel, and the face portion is also polished by a polishing apparatus described later in detail.
도 4는 종래의 음극선관용 패널이 로딩되는 상태를 도시한 도면이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 웨어테이블(131)의 상부에는 패널지지부재(132)가 마련되어 있으며 연마될 패널(110)은 도시 않은 이송장치에 의해 패널지지부재(132) 내에 수용되게 로딩된다. 로딩된 후에는 연마장치에 마련된 연마툴(미도시)에 의해 페이스부(110a)가 연마된다.4 is a view showing a state in which a conventional cathode ray tube panel is loaded. As shown in this figure, the panel support member 132 is provided on the upper portion of the wear table 131, and the panel 110 to be polished is loaded to be received in the panel support member 132 by a conveying device (not shown). After loading, the face portion 110a is polished by a polishing tool (not shown) provided in the polishing apparatus.
그런데, 이러한 종래의 음극선관용 패널 연마장치에 있어서는, 패널지지부재(132)의 측부가 평평하게 되어 있기 때문에 패널(110)이 로딩되는 과정에서 패널(110)의 스커트부(110b)의 외측면은 패널지지부재(132)의 내측면과 비교적 많은 부분에서 접촉할 수밖에 없다.(도 4의 "B" 참조) 따라서, 스커트부(110b)의 외측면 "B"영역에는 많은 스크래치가 발생하게 된다.However, in such a conventional cathode ray tube panel polishing apparatus, since the side of the panel support member 132 is flat, the outer surface of the skirt portion 110b of the panel 110 in the process of loading the panel 110 is There is no choice but to contact the inner surface of the panel support member 132 at a relatively large portion (see "B" in FIG. 4). Therefore, a lot of scratches are generated in the outer surface "B" region of the skirt portion 110b.
더욱이, 패널(110)의 로딩시 그 센터링이 부정확하게 이루어진다면 패널(110)의 스커트부(110b)의 외측면은 패널지지부재(132)의 내측면과의 접촉에 의한 스크래치가 발생 정도가 심해진다. 또한, 종래의 패널지지부재(132)는 비교적 경도가 강한 플라스틱으로 되어 있기 때문에 패널(110)의스커트부(110b)에 발생되는 스크래치의 정도가 더 심해 양질의 패널(110)을 양산해 내기가 곤란하다는 문제점이 있다.In addition, if the centering is incorrectly performed when the panel 110 is loaded, the outer surface of the skirt 110b of the panel 110 may have a high degree of scratches caused by contact with the inner surface of the panel support member 132. Lose. In addition, since the panel support member 132 of the related art is made of a relatively strong plastic, the degree of scratches generated in the skirt portion 110b of the panel 110 is more severe, so that a good quality of the panel 110 can be produced. There is a problem that is difficult.
따라서, 본 발명의 목적은, 로딩시 패널에 발생되는 스크래치에 의한 불량을 현격하게 억제시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널 연마장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a cathode ray tube panel polishing apparatus which can significantly suppress defects caused by scratches generated on a panel during loading.
도 1은 본 발명에 따른 음극선관용 패널 연마장치의 측면도,1 is a side view of a panel polishing apparatus for a cathode ray tube according to the present invention;
도 2는 웨어테이블로 음극선관용 패널이 로딩되는 상태를 도시한 도면,2 is a view illustrating a state in which a panel for a cathode ray tube is loaded into a wear table;
도 3은 패널지지부재의 부분 절취 사시도,3 is a partially cutaway perspective view of the panel support member;
도 4는 종래의 음극선관용 패널이 로딩되는 상태를 도시한 도면이다.4 is a view showing a state in which a conventional cathode ray tube panel is loaded.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
10 : 패널 10a : 페이스부10 panel 10a face part
10b : 스커트부 31 : 웨어테이블10b: skirt 31: wear table
32 : 패널지지부재 32a : 홀더본체32 panel support member 32a holder body
32b : 접촉지지부 32c : 첨예부32b: contact support 32c: sharpened part
상기 목적은, 본 발명에 따라, 승강 및 회전가능한 스핀들과, 상기 스핀들의 하단에 결합되어 패널을 연마하는 연마툴을 갖는 음극선관용 패널 연마장치에 있어서, 연마될 패널이 안착되는 웨어테이블과; 상기 웨어테이블의 상단에 마련되어 연마될 상기 패널이 수용되는 폐루프형상의 홀더본체와, 상기 홀더본체의 내면으로부터 반경방향 내측으로 돌출되며 선단이 상기 패널의 스커트부의 외측면에 접촉지지되는 접촉지지부를 갖는 패널지지부재를 포함하며; 상기 접촉지지부는 상기 홀더본체의 내면 상측에 형성되어 있으며, 선단에는 상기 스커트부에 국부적으로 접촉지지되는 첨예부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 음극선관용 패널 연마장치에 의해 달성된다.According to the present invention, there is provided a panel polishing apparatus for a cathode ray tube having a lifting and rotating spindle and a polishing tool coupled to a lower end of the spindle for polishing a panel, comprising: a wear table on which a panel to be polished is seated; A closed-loop holder body provided at the upper end of the wear table to accommodate the panel to be polished, and a contact support portion protruding radially inward from an inner surface of the holder body and having a tip contacting the outer surface of the skirt portion of the panel. A panel support member having; The contact support is formed on the inner surface of the holder body, the tip is achieved by the cathode ray panel panel polishing apparatus, characterized in that the sharp portion is formed in contact with the skirt portion.
여기서, 상기 접촉지지부는 상기 홀더본체의 내면 상측에 형성되어 있으며, 선단에는 상기 스커트부에 국부적으로 접촉지지되는 첨예부가 형성되어 있다. 따라서 패널의 스커트부 외측면에 발생가능한 스크래치 불량을 현격히 감소시킬 수 있다.Here, the contact support is formed on the inner surface of the holder body, the tip is formed with a sharp portion that is in contact with the skirt portion locally. Therefore, it is possible to significantly reduce scratch defects that may occur on the skirt outer surface of the panel.
상기 홀더본체 내에는 금속재질의 보강부재가 마련되어 있다. 따라서, 그 형상이 쉽게 변경되는 것을 방지할 수 있다.The holder body is provided with a metal reinforcing member. Therefore, the shape can be prevented from changing easily.
스커트부의 외측면에 발생가능한 스크래치 불량을 억제하기 위한 방편으로 상기 패널지지부재를 MC 나일론, 고무 및 우레탄과 같은 탄성재질로 형성할 수도 있다.The panel support member may be formed of an elastic material such as MC nylon, rubber and urethane as a means for suppressing scratch defects that may occur on the outer surface of the skirt portion.
상기 패널지지부재는 고리 형상을 갖는다. 이에 패널이 로딩되는 센터링 위치가 다소 부정확하더라도 패널지지부재 내에 수용되어 지지될 수 있다.The panel support member has a ring shape. Thus, even if the centering position where the panel is loaded is somewhat incorrect, it may be accommodated and supported in the panel support member.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
음극선관용 패널 연마장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 베이스부재(20)와, 베이스부재(20)의 일측에 기립되게 설치되는 컬럼(22)과, 컬럼(22)의 상부영역에 회동가능하도록 배치되는 회동아암(24)과, 회동아암(24)의 일단에 회동아암(24)의 길이방향에 가로로 배치되는 스핀들(26)을 갖는다. 스핀들(26)의 내부에는 축심을 따라 슬러리상의 연마재가 공급되는 연마재공급로(미도시)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 1, the cathode ray panel panel polishing apparatus is rotatable in the base member 20, the column 22 standing up on one side of the base member 20, and the upper region of the column 22. The rotating arm 24 arrange | positioned and the spindle 26 arrange | positioned transversely to the longitudinal direction of the rotating arm 24 at one end of the rotating arm 24 are provided. Inside the spindle 26, an abrasive supply path (not shown) through which the slurry-like abrasive is supplied along the axis is formed.
회동아암(24)의 타단에는 스핀들(26)을 회전구동시키기 위한 스핀들구동모터(28)가 설치되어 있다. 스핀들구동모터(28)와 스핀들(26)은 도시 않은 벨트에 의해 상호 연결되어 있다.At the other end of the rotating arm 24, a spindle drive motor 28 for rotating the spindle 26 is provided. Spindle drive motor 28 and spindle 26 are interconnected by a belt (not shown).
스핀들(26)의 하단에는 툴장착부(미도시)가 형성되어 있다. 툴장착부에는 연마툴(29)이 착탈가능하도록 결합되어 있다. 연마툴(29)은 승강 및 회전가능한 스핀들(26)에 의해 패널(10)의 페이스부(10a)에 접촉되어 페이스부(10a)를 연마한다.A tool mounting part (not shown) is formed at the lower end of the spindle 26. The polishing tool 29 is detachably coupled to the tool mounting portion. The polishing tool 29 contacts the face portion 10a of the panel 10 by lifting and rotating the spindle 26 to polish the face portion 10a.
베이스부재(20)의 상측에는 소정의 연마공간(30)이 형성되어 있다. 연마공간(30) 내에는 연마될 패널(10)이 안착되는 웨어테이블(31)이 마련되어 있다. 웨어테이블(31)은 그 하부에 마련된 다수의 장치(미도시)에 의해 회전가능하게 마련되어 있다. 웨어테이블(31)은 연마툴(29)의 회전에 대해 반대방향으로 회전한다.A predetermined polishing space 30 is formed above the base member 20. In the polishing space 30, a wear table 31 on which the panel 10 to be polished is mounted is provided. The wear table 31 is rotatably provided by a plurality of devices (not shown) provided below. The wear table 31 rotates in the opposite direction to the rotation of the polishing tool 29.
한편, 웨어테이블(31)의 상단에는 연마를 위해 로딩되는 패널(10)을 웨어테이블(31)상에 지지하는 패널지지부재(32)가 마련되어 있다.On the other hand, the upper end of the wear table 31 is provided with a panel support member 32 for supporting the panel 10 loaded for polishing on the wear table 31.
패널지지부재(32)는 웨어테이블(31)의 상단에 결합되는 홀더본체(32a)와, 홀더본체(32a)의 내면으로부터 반경방향 내측으로 돌출되며 선단이 패널(10)의 스커트부(10b)의 외측면에 접촉지지되는 접촉지지부(32b)를 갖는다.The panel support member 32 has a holder main body 32a coupled to the upper end of the wear table 31, and protrudes radially inward from the inner surface of the holder main body 32a, and the front end thereof has a skirt portion 10b of the panel 10. And a contact support part 32b which is in contact with and supported on the outer side of the.
패널지지부재(32)는 고리 형상을 갖는다(도 3 참조). 이는 거의 사각형상을 갖는 패널(10)의 로딩위치가 부정확하더라도 용이하게 패널지지부재(32) 내에 수용되어 지지되도록 하기 위함이다.The panel support member 32 has a ring shape (see FIG. 3). This is to easily accommodate and support the panel support member 32 even if the loading position of the panel 10 having a substantially rectangular shape is incorrect.
홀더본체(32a) 내에는 금속재질의 보강부재(33)가 마련되어 있다. 따라서, 그 형상이 쉽게 변경되는 것을 방지할 수 있다. 여기서 접촉지지부(32b) 내에도 보강부재(33)를 마련할 수 있음은 물론이다.The reinforcing member 33 made of metal is provided in the holder body 32a. Therefore, the shape can be prevented from changing easily. Here, of course, the reinforcing member 33 may be provided in the contact support part 32b.
도 2에 도시된 바와 같이, 접촉지지부(32b)는 홀더본체(32a)의 내면 상측에 형성되어 있다. 이는 패널(10)의 스커트부(10b) 영역에서 "A"로 도시한 영역이 좀 더 철저하게 관리되어야 할 필요가 있기 때문이다. 접촉지지부(32b)의 선단에는 스커트부(10b)의 "A" 영역 상부에 접촉지지되는 첨예부(32c)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 2, the contact support part 32b is formed above the inner surface of the holder body 32a. This is because the area indicated by " A " in the skirt portion 10b region of the panel 10 needs to be managed more thoroughly. At the tip of the contact support portion 32b, a sharp portion 32c is formed which is in contact with the upper portion of the “A” region of the skirt portion 10b.
첨예부(32c)는 패널지지부재(32) 내로 수용지지되는 패널(10)의 스커트부(10b)의 외측면에 거의 점접촉되듯, 스커트부(10b)와의 접촉을 최소화한다. 즉, 첨예부(32c)가 스커트부(10b)의 외측면에 접촉되었을 때, 패널(10)의 스커트부(10b)와 접촉지지부(32b)의 측부 사이에는 이격간격(H)이 발생된다. 따라서, 종래와 같이 패널(10)의 스커트부(10b)의 외측면에 스크래치가 많이 발생하는 것을 현격히 억제할 수 있다.The sharp portion 32c minimizes contact with the skirt portion 10b as it is almost in point contact with the outer surface of the skirt portion 10b of the panel 10 accommodated into the panel support member 32. That is, when the sharp part 32c contacts the outer side surface of the skirt part 10b, the space | interval spacing H is generated between the skirt part 10b of the panel 10, and the side part of the contact support part 32b. Therefore, it is possible to significantly suppress the occurrence of many scratches on the outer surface of the skirt portion 10b of the panel 10 as in the prior art.
또한, 본 발명에 따른 패널지지부재(32)는 MC 나일론, 고무 및 우레탄 등과 같은 탄성재질로 형성되어 있다. MC 나일론, 고무 및 우레탄 등과 같은 탄성재질은 비교적 연성이므로 패널(10)의 스커트부(10b)에 스크래치 발생을 최소로 억제시킬 수 있다.In addition, the panel support member 32 according to the present invention is formed of an elastic material such as MC nylon, rubber and urethane. Since elastic materials such as MC nylon, rubber, and urethane are relatively soft, scratches may be minimized in the skirt portion 10b of the panel 10.
이러한 구성을 갖는 음극선관용 패널 연마장치가 작동되는 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the panel polishing apparatus for a cathode ray tube having such a configuration as follows.
도시 않은 이송장치에 의해 연마될 패널(10)이 픽업되어 웨어테이블(31) 상부에 배치된 후 하방으로 이동되어 패널지지부재(32)의 내측에 로딩된다. 이 때, 패널(10)의 스커트부(10b) 외측면은 접촉지지부(32b)의 첨예부(32c)에 의해 지지된다.The panel 10 to be polished by the conveying device (not shown) is picked up and placed on the wear table 31, and then moved downward to be loaded inside the panel support member 32. At this time, the outer surface of the skirt portion 10b of the panel 10 is supported by the sharp portion 32c of the contact support portion 32b.
패널(10)의 로딩이 완료되면, 회동아암(24)이 소정 각도 회동하여 스핀들(26)을 웨어테이블(31)의 상부로 배치한다. 그리고 웨어테이블(31)의 상부에 배치된 스핀들(26)은 하강하여 연마툴(29)을 패널(10)의 페이스부(10a)에 가압 접촉시킨다.When the loading of the panel 10 is completed, the pivot arm 24 rotates by a predetermined angle to place the spindle 26 above the wear table 31. The spindle 26 disposed above the wear table 31 is lowered to bring the polishing tool 29 into pressure contact with the face portion 10a of the panel 10.
이어, 스핀들(26)의 내부의 연마재공급로를 통해 슬러리상의 연마재가 공급되어 패널(10)의 페이스부(10a)로 분출되기 시작한다. 이에 연동하여 스핀들구동모터(28)가 작동되고 스핀들구동모터(28)와 벨트로 상호 연결된 스핀들(26) 역시 회전하면서 연마툴(29)을 회전시킨다.Subsequently, the slurry-like abrasive is supplied through the abrasive supply passage inside the spindle 26 and starts to be ejected to the face portion 10a of the panel 10. In conjunction with this, the spindle drive motor 28 is operated and the spindle drive motor 28 and the spindle 26 interconnected with the belt also rotate while rotating the polishing tool 29.
이 때, 패널(10)이 안착된 웨어테이블(31)이 스핀들(26)의 회전방향의 역방향으로 회전하게 됨으로써 패널(10)의 페이스부(10a)는 웨어테이블(31)에 대한 연마툴(29)의 상대회전에 의해 연마된다.At this time, the wear table 31 on which the panel 10 is mounted is rotated in the reverse direction of the rotation direction of the spindle 26, so that the face portion 10a of the panel 10 is polished with respect to the wear table 31. Polished by the relative rotation of 29).
이와 같이, 본 발명에서는 패널지지부재(32)의 형상을 개선하여 패널(10)의 스커트부(10b)와의 접촉을 최소화함으로써 스커트부(10b)에 발생가능한 스크래치 등의 불량을 현격하게 감소시킬 수 있다.As described above, in the present invention, the shape of the panel support member 32 is improved to minimize contact with the skirt portion 10b of the panel 10, thereby significantly reducing defects such as scratches that may occur in the skirt portion 10b. have.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 로딩시 패널에 발생되는 스크래치에 의한 불량을 현격하게 억제시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널 연마장치가 제공된다.As described above, according to the present invention, there is provided a panel polishing apparatus for cathode ray tubes that can significantly suppress defects caused by scratches generated on the panel during loading.
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4902329A (en) * | 1988-07-22 | 1990-02-20 | Corning Incorporated | Method of using external system for locating the geometric center of an internal lens element |
| KR19980020129U (en) * | 1996-10-10 | 1998-07-15 | 김곤오 | CRT panel polishing airbag fixing structure |
| KR19990033585U (en) * | 1999-05-06 | 1999-08-16 | 이상규 | One-body type safe arrival board of panel for grinding a Braun tube |
| KR20000041517A (en) * | 1998-12-22 | 2000-07-15 | 서두칠 | Tool for polishing panel |
| KR20030078331A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-08 | 삼성코닝 주식회사 | Fixture for cathode ray tube panel |
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2002
- 2002-05-21 KR KR10-2002-0028088A patent/KR100446907B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4902329A (en) * | 1988-07-22 | 1990-02-20 | Corning Incorporated | Method of using external system for locating the geometric center of an internal lens element |
| KR19980020129U (en) * | 1996-10-10 | 1998-07-15 | 김곤오 | CRT panel polishing airbag fixing structure |
| KR20000041517A (en) * | 1998-12-22 | 2000-07-15 | 서두칠 | Tool for polishing panel |
| KR19990033585U (en) * | 1999-05-06 | 1999-08-16 | 이상규 | One-body type safe arrival board of panel for grinding a Braun tube |
| KR20030078331A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-08 | 삼성코닝 주식회사 | Fixture for cathode ray tube panel |
Also Published As
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|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |