KR100397156B1 - Apparatus for lapping crt panel - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 패널의 유효면을 연마하는 연마툴과 상기 연마툴을 회전가능하게 지지하는 스핀들을 갖는 음극선관용 패널연마장치에 관한 것으로서, 지지스탠드와, 상기 지지스탠드의 상부에 상기 패널의 유효면에 대하여 직교방향의 평면 내에서 회동가능하게 결합되며 상단부에 수평방향의 안내레일부가 마련된 회동지지부재와, 상기 지지스탠드에 대한 상기 회동지지부재의 회동각도를 조절하는 회동조절수단를 갖는 지지유니트와; 상기 안내레일부에 맞물려 슬라이딩 이동가능하도록 슬라이딩부를 갖는 슬라이더와; 일단이 상기 안내레일부에 고정된 고정브래킷에 배치되고 타단이 상기 슬라이더의 단부면에 배치되어, 상기 지지유니트에 대하여 상기 슬라이더를 슬라이딩 구동시키는 액츄에이터를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 패널의 유효면을 보다 균일하고 섬세하게 연마시킬 수 있을 뿐만 아니라 연마시간을 단축시킬 수 있게 된다.The present invention relates to a panel polishing apparatus for a cathode ray tube having a polishing tool for polishing an effective surface of a panel and a spindle for rotatably supporting the polishing tool, comprising: a support stand and an effective surface of the panel on top of the support stand. A support unit rotatably coupled in a plane orthogonal with respect to a rotation support member having a guide rail in a horizontal direction at an upper end thereof, and a rotation control means for adjusting a rotation angle of the rotation support member with respect to the support stand; A slider having a sliding portion to engage the guide rail portion and to be slidably movable; One end is disposed on the fixing bracket fixed to the guide rail portion and the other end is disposed on the end surface of the slider, characterized in that it comprises an actuator for sliding the slider relative to the support unit. As a result, the effective surface of the panel can be polished more uniformly and delicately, and the polishing time can be shortened.
Description
본 발명은, 음극선관용 패널연마장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 패널의 유효면을 보다 균일하고 섬세하게 연마시킬 수 있을 뿐만 아니라 연마시간을단축시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널연마장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a panel polishing apparatus for cathode ray tubes, and more particularly, to a panel polishing apparatus for cathode ray tubes that enables not only to polish the effective surface of the panel more uniformly and delicately, but also to shorten the polishing time. .
일반적으로 음극선관은 전방에 마련되어 화상이 투사되는 패널과, 패널의 후방에 결합되는 깔때기형상의 펀넬과, 전자총을 구비하여 펀넬에 결합되는 넥크를 가지며, 음극선관의 외표면은 공지되어 있는 다양한 종류의 연마장치에 의해 소정의 곡률을 갖도록 연마되어 곡면상의 유효면을 갖게 된다. 근래에는 시청자의 시각적 효과를 증대시키기 위해 패널의 유효면을 평탄화하고 있는 추세에 있으며, 이러한 평면 패널, 즉, 비구면 패널의 유효면 연마에는 통상적으로 공기쿠션을 이용한 연마툴이 사용되어 진다.Generally, a cathode ray tube has a panel provided in front and projecting an image, a funnel-shaped funnel coupled to the rear of the panel, and a neck coupled to the funnel with an electron gun, and the outer surface of the cathode ray tube is of various known types. It is polished so as to have a predetermined curvature by the polishing apparatus, so as to have a curved effective surface. Recently, the effective surface of the panel has been flattened in order to increase the visual effect of the viewer, and the flat surface, that is, the polishing surface using the air cushion is generally used for polishing the effective surface of the aspherical panel.
이하에서는 이러한 평면 패널의 유효면을 연마하는 연마장치에 관해 설명한다. 도 5는 종래의 음극선관용 패널연마장치의 측면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 패널연마장치는 지지프레임(122)과, 지지프레임(122)의 일측에 기립되게 설치되는 컬럼(124)과, 컬럼(124)의 상부영역에 회동가능하도록 배치되는 회동아암(114)과, 회동아암(114)의 일측 단부영역에 슬라이더의 길이방향에 대해 가로로 회전가능하도록 배치되는 스핀들을 갖는다.Hereinafter, a polishing apparatus for polishing the effective surface of such a flat panel will be described. 5 is a side view of a conventional panel polishing apparatus for cathode ray tubes. As shown in the figure, the panel polishing apparatus is arranged to be rotatable in the support frame 122, the column 124 is installed standing on one side of the support frame 122, and the upper region of the column 124 The rotating arm 114, and one end region of the rotating arm 114 has a spindle disposed so as to rotate horizontally with respect to the longitudinal direction of the slider.
컬럼(124)에는 회동축(115)으로부터 소정이격된 영역에 회동아암(114)을 소정의 범위내에서 상하방향으로 회동구동시키기 위한 실린더(126)가 배치되어 있다. 또한, 회동아암(114)의 타측 단부영역에는 스핀들을 회전구동시키기 위해 스핀들과 도시 않은 벨트로 상호 연결된 스핀들구동모터(142)가 마련되어 있으며, 스핀들의 하단에는 패널(110)의 유효면(111)에 접촉되어 유효면(111)을 연마시키는 연마툴(120)이 착탈가능하도록 결합되어 있다.The column 124 is provided with a cylinder 126 for rotating the pivot arm 114 in a predetermined range in a region spaced from the pivot shaft 115 in a vertical direction. In addition, the other end region of the rotating arm 114 is provided with a spindle drive motor 142 interconnected by a spindle and a belt (not shown) to rotate the spindle, and an effective surface 111 of the panel 110 at the lower end of the spindle. A polishing tool 120 for contacting and polishing the effective surface 111 is detachably coupled.
지지프레임(122)의 상측에는 연마툴(120)에 의해 패널(110)이 연마되는 소정의 연마공간(128)이 형성되어 있으며, 연마공간(128)내에는 연마될 음극선관용 패널(110)이 안착되는 웨어테이블(130)이 상기의 스핀들의 회전방향에 대해 상대회전 가능하도록 설치되어 있다.A predetermined polishing space 128 in which the panel 110 is polished by the polishing tool 120 is formed on the upper side of the support frame 122, and the cathode ray tube panel 110 to be polished in the polishing space 128 is formed. The wear table 130 to be seated is installed to be relatively rotatable with respect to the rotational direction of the spindle.
이러한 구성에 의하여, 도시 않은 패널이송장치에 의해 패널(110)이 웨어테이블(130)상에 적치되면, 실린더(126)에 의해 회동아암(114)은 소정거리 하향 회동하게 되어 연마툴(120)은 패널(110)의 유효면(111)에 접촉하게 된다. 다음, 스핀들구동모터(142)가 작동되면, 스핀들구동모터(142)와 벨트로 상호 연결된 스핀들(116) 역시 회전하면서 스핀들(116)의 축심을 따라 슬러리상의 연마재가 패널(110)의 유효면(111)으로 제공되게 되며, 이와 동시에, 패널(110)이 안착되는 웨어테이블(130)은 스핀들(116)의 회전방향의 역방향으로 회전하게 됨으로써 패널(110)의 유효면(111)은 웨어테이블(130)에 대한 연마툴(120)의 상대회전에 의해 연마되게 된다.By this configuration, when the panel 110 is placed on the wear table 130 by a panel conveying device (not shown), the rotating arm 114 is rotated downward by a predetermined distance by the cylinder 126 so that the polishing tool 120 Is in contact with the effective surface 111 of the panel 110. Next, when the spindle driving motor 142 is operated, the slurry-like abrasive along the axis of the spindle 116 is rotated while the spindle 116 interconnected with the spindle and the spindle driving motor 142 are also rotated. 111, and at the same time, the wear table 130 on which the panel 110 is seated is rotated in the opposite direction of the rotational direction of the spindle 116 so that the effective surface 111 of the panel 110 becomes the wear table ( The polishing is performed by the relative rotation of the polishing tool 120 with respect to 130.
그런데, 이러한 종래의 음극선관용 패널연마장치에 있어서는, 패널의 유효면이 웨어테이블에 대한 연마툴의 상대회전에 의해서만 연마되므로 연마된 패널의 유효면은 균일하고 섬세하게 연마되지 못하게 될 뿐만 아니라 연마시간이 다소 오래 걸린다는 문제점이 있다.However, in the conventional panel polishing apparatus for cathode ray tubes, since the effective surface of the panel is polished only by the relative rotation of the polishing tool with respect to the wear table, the effective surface of the polished panel is not only uniformly and delicately polished, but also the polishing time. There is a problem that this takes a long time.
따라서, 본 발명의 목적은, 패널의 유효면을 보다 균일하고 섬세하게 연마시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널연마장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a panel polishing apparatus for cathode ray tubes that enables the effective surface of a panel to be polished more uniformly and delicately.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 연마시간을 단축시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널연마장치를 제공하는 것이다.Further, another object of the present invention is to provide a panel polishing apparatus for cathode ray tubes that can shorten the polishing time.
도 1은 본 발명에 따른 음극선관용 패널연마장치의 측면도,1 is a side view of a panel polishing apparatus for a cathode ray tube according to the present invention,
도 2는 도 1의 부분확대도,2 is an enlarged partial view of FIG.
도 3은 슬라이더영역의 평면도,3 is a plan view of the slider area;
도 4는 도 2의 우측면도,4 is a right side view of FIG. 2;
도 5는 종래의 음극선관용 패널연마장치의 측면도이다.5 is a side view of a conventional panel polishing apparatus for cathode ray tubes.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
10 : 패널 12 : 지지유니트10 panel 12 support unit
14 : 슬라이더 16 : 스핀들14 slider 16 spindle
20 : 연마툴 24 : 지지스탠드20: polishing tool 24: support stand
30 : 웨어테이블 51 : 실린더본체30: wear table 51: cylinder body
52 : 엑츄에이터 53 : 실린더로드52: actuator 53: cylinder rod
상기 목적은, 본 발명에 따라, 패널의 유효면을 연마하는 연마툴과 상기 연마툴을 회전가능하게 지지하는 스핀들을 갖는 음극선관용 패널연마장치에 있어서, 지지스탠드와, 상기 지지스탠드의 상부에 상기 패널의 유효면에 대하여 직교방향의 평면 내에서 회동가능하게 결합되며 상단부에 수평방향의 안내레일부가 마련된 회동지지부재와, 상기 지지스탠드에 대한 상기 회동지지부재의 회동각도를 조절하는 회동조절수단를 갖는 지지유니트와; 상기 안내레일부에 맞물려 슬라이딩 이동가능하도록 슬라이딩부를 갖는 슬라이더와; 일단이 상기 안내레일부에 고정된 고정브래킷에 배치되고 타단이 상기 슬라이더의 단부면에 배치되어, 상기 지지유니트에 대하여 상기 슬라이더를 슬라이딩 구동시키는 액츄에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 패널연마장치에 의해 달성된다.The object of the present invention is to provide a cathode ray tube panel polishing apparatus having a polishing tool for polishing an effective surface of a panel and a spindle for rotatably supporting the polishing tool, comprising: a support stand and the upper portion of the support stand. A pivotal support member rotatably coupled in a plane perpendicular to the effective surface of the panel and provided with a horizontal guide rail at an upper end thereof, and a pivot adjustment means for adjusting a rotational angle of the pivotal support member with respect to the support stand; A support unit; A slider having a sliding portion to engage the guide rail portion and to be slidably movable; One end is disposed on the fixing bracket fixed to the guide rail portion and the other end is disposed on the end surface of the slider, the panel polishing apparatus for a cathode ray tube, characterized in that it comprises an actuator for sliding the slider relative to the support unit. Is achieved.
여기서, 상기 안내레일부와 상기 슬라이딩부는 상호 도브테일 형상으로 맞물림 결합되는 것이 유리하다.Here, the guide rail portion and the sliding portion is advantageously coupled to each other in a dovetail shape.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 음극선관용 패널연마장치의 측면도이고, 도 2는 도 1의 부분확대도이며, 도 3은 슬라이더영역의 평면도이고, 도 4는 도 2의 우측면도이다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 음극선관용 패널연마장치는, 지지유니트(12)와, 지지유니트(12)의 상부영역에 수평축선을 가지고 슬라이딩 가능하게 배치되는 슬라이더(14)와, 슬라이더(14)의 일측 단부영역에 슬라이더(14)의 길이방향에 대해 가로로 승강 및 회전가능하게 배치되는 스핀들(16)과, 스핀들(16)을 승강이동시키는 승강부(18)와, 스핀들(16)의 하단부에 착탈가능하게 결합되어 패널(10)의 유효면(11)을 연마하는 연마툴(20)을 갖는다.1 is a side view of a cathode ray tube panel polishing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG. 1, FIG. 3 is a plan view of a slider region, and FIG. 4 is a right side view of FIG. 2. As shown in these drawings, the cathode ray tube panel polishing apparatus according to the present invention includes a support unit 12, a slider 14 which is slidably arranged with a horizontal axis in an upper region of the support unit 12, A spindle 16 which is arranged to be elevated and rotatable in a horizontal direction with respect to the longitudinal direction of the slider 14 in one end region of the slider 14, a lifting unit 18 for lifting and lowering the spindle 16, and a spindle ( 16 has a polishing tool 20 detachably coupled to the lower end of the panel 10 to polish the effective surface 11 of the panel 10.
스탠드(12)는 일단이 지지면에 고정되는 지지프레임(22)과, 지지프레임(22)의 일측에 기립되게 설치되는 지지스탠드(24)와, 지지스탠드(24)의 상부에 패널(10)의 유효면(11)에 대하여 직교방향의 평면내에서 회동가능하게 결합되는 회동지지부재(25)를 갖는다. 그리고, 지지스탠드(24)와 회동지지부재(25) 사이에는 회동핀(15)이 결합되어 있으며, 지지스탠드(24)의 일측 연부면에는 지지스탠드(24)에 대한 회동지지부재(25) 및 슬라이더(14)의 수평축선을 조절하는 실린더(26)가 마련되어 있다. 그리고, 지지프레임(22)의 상측에는 연마툴(20)에 의해 패널(10)이 연마되는 소정의 연마공간(28)이 형성되어 있으며, 연마공간(28)내에는 연마될 패널(10)이 안착되는 웨어테이블(30)이 스핀들(16)의 회전방향에 대해 상대회전 가능하도록 설치되어 있다.The stand 12 includes a support frame 22 having one end fixed to a support surface, a support stand 24 installed to stand on one side of the support frame 22, and a panel 10 on an upper portion of the support stand 24. It has a rotation support member 25 which is rotatably coupled in a plane in the orthogonal direction with respect to the effective surface 11 of. In addition, the pivot pin 15 is coupled between the support stand 24 and the pivot support member 25, and the pivot support member 25 with respect to the support stand 24 is formed at one edge of the support stand 24. The cylinder 26 which adjusts the horizontal axis of the slider 14 is provided. In addition, a predetermined polishing space 28 in which the panel 10 is polished by the polishing tool 20 is formed on the upper side of the support frame 22, and the panel 10 to be polished in the polishing space 28 is formed. The wear table 30 to be seated is provided to be relatively rotatable with respect to the rotational direction of the spindle 16.
승강부(18)는 중앙연부면이 상부프레임(32)에 고정된 승강슬라이더(34)와, 승강슬라이더(34)의 양 단부에 마련되어 승강슬라이더(34)를 소정 거리 승강시키는 안내로드(36)와, 일단이 상부프레임(32)에 고정되고 타단이 승강슬라이더(34)에 결합되어 승강슬라이더(34)를 승강구동시키는 승강실린더(38)를 갖는다. 그리고, 스핀들(16)은 승강슬라이더(34)의 중앙영역에 결합되어 있으며, 스핀들(16)의 상부영역에는 패널(10)의 유효면(11) 연마시, 연마재의 공급을 위한 연마재공급관(40)이 마련되어 있다. 또한, 슬라이더(14)를 중심으로 스핀들(16)의 대향측에는 스핀들(16)을 회전구동시키기 위한 스핀들구동모터(42)가 마련되어 있으며, 스핀들구동모터(42)와 스핀들(16)은 벨트(44)로 상호 연결되어 있다.The elevating unit 18 includes a lifting slider 34 having a central edge surface fixed to the upper frame 32, and guide rods 36 provided at both ends of the lifting slider 34 to elevate the lifting slider 34 by a predetermined distance. And, one end is fixed to the upper frame 32 and the other end is coupled to the lifting slider 34 has a lifting cylinder 38 for driving the lifting slider 34. In addition, the spindle 16 is coupled to the center region of the lifting slider 34, and the abrasive supply pipe 40 for supplying the abrasive when the effective surface 11 of the panel 10 is polished in the upper region of the spindle 16. ) Is provided. In addition, a spindle drive motor 42 for rotating the spindle 16 is provided on the opposite side of the spindle 16 around the slider 14, and the spindle drive motor 42 and the spindle 16 are belts 44. ) Are interconnected.
한편, 회동지지부재(25)의 상측 연부면에는 슬라이더(14)의 길이방향을 따라 소정의 길이구간에 걸쳐 안내레일부(46)가 형성되어 있으며, 슬라이더(14)의 하측 연부면에는 안내레일부(46)와 상호 도브테일 형상으로 맞물려 슬라이더(14)가 수평방향을 따라 선형이동될 수 있도록 슬라이딩부(48)가 형성되어 있다. 또한, 슬라이더(14) 내에는, 회동지지부재(25)의 상측 연부면에 설치된 고정브래킷(50)에 고정된 실린더본체(51)와 실린더본체(51)의 단부영역으로부터 길이연장됨으로써 지지유니트(12)에 대해 슬라이더(14)를 소정거리 왕복구동시키는 실린더로드(53)를 갖는 엑츄에이터(52)가 수평방향을 따라 마련되어 있다.On the other hand, a guide rail portion 46 is formed on the upper edge of the pivot support member 25 over a predetermined length section along the longitudinal direction of the slider 14, and on the lower edge of the slider 14 the guide rail. A sliding portion 48 is formed to engage the portion 46 with each other in a dovetail shape so that the slider 14 can be linearly moved along the horizontal direction. Further, in the slider 14, a length is extended from the end portions of the cylinder body 51 and the cylinder body 51 fixed to the fixed bracket 50 provided on the upper edge surface of the rotation support member 25, thereby supporting the support unit ( An actuator 52 having a cylinder rod 53 for reciprocating the slider 14 by a predetermined distance with respect to 12 is provided along the horizontal direction.
이러한 구성에 의하여, 도시 않은 패널이송장치에 의해 패널(10)이 웨어테이블(30)상에 적치되면, 승강실린더(38)에 작동유체가 공급되어 승강슬라이더(34)는 양 단부의 안내로드(36)를 따라 소정거리 하향하게 되며, 이에 의해 스핀들(16) 역시 소정거리 하향됨으로써 연마툴(20)은 패널(10)의 유효면(11)에 접촉하게 된다. 연마툴(20)이 패널(10)의 유효면(11)에 접촉하게 되면, 스핀들구동모터(42)가 작동되어 스핀들구동모터(42)와 벨트(44)로 상호 연결된 스핀들(16)을 회전시키게 되므로 연마툴(20)은 패널(10)의 유효면(11) 상에서 축선방향을 따라 회전하게 되며,이와 동시에 패널(10)이 안착된 웨어테이블(30)은 스핀들(16)의 회전방향의 역방향으로 회전하게 된다.By such a configuration, when the panel 10 is placed on the wear table 30 by a panel conveying apparatus (not shown), the working fluid is supplied to the lifting cylinder 38 so that the lifting slider 34 has guide rods at both ends ( A predetermined distance is lowered along the 36, whereby the spindle 16 is also lowered by a predetermined distance so that the polishing tool 20 comes into contact with the effective surface 11 of the panel 10. When the polishing tool 20 comes into contact with the effective surface 11 of the panel 10, the spindle drive motor 42 is operated to rotate the spindle 16 interconnected by the spindle drive motor 42 and the belt 44. Therefore, the polishing tool 20 rotates along the axial direction on the effective surface 11 of the panel 10, and at the same time, the wear table 30 on which the panel 10 is seated is rotated in the direction of rotation of the spindle 16. It will rotate in the reverse direction.
다음, 웨어테이블(30)과 연마툴(20)간의 상대회전이 시작되어, 연마재공급관(40)을 통해 스핀들(16)의 축심을 따라 슬러리상의 연마재가 패널(10)의 유효면(11)으로 제공되면서 패널(10)의 유효면(11)의 연마공정이 개시되면, 본 발명에 따른 엑츄에이터(52)가 작동되게 된다.Then, relative rotation between the wear table 30 and the polishing tool 20 is started, and the slurry-like abrasive material along the axis of the spindle 16 through the abrasive supply pipe 40 is moved to the effective surface 11 of the panel 10. When the polishing process of the effective surface 11 of the panel 10 is started while being provided, the actuator 52 according to the present invention is operated.
즉, 실린더본체(51)에 작동유체가 공급되어 실린더로드(53)의 길이를 연장시키게 되면, 실린더로드(53)는 상호 도브테일 형상으로 맞물려 있는 슬라이더(14)를 지지유니트(12)에 대해 수평방향(도 1의 우측방향)으로 소정 거리 이동시키게 되며, 이에 의해 패널(10)의 유효면(11) 상에 회전가능하게 접촉되어 있는 연마툴(20) 역시 슬라이더(14)의 이동방향으로 소정거리 선형이동하게 된다. 소정의 시간을 두고 다시 실린더로드(53)의 길이가 수축되게 되면, 역시 실린더로드(53)는 슬라이더(14)를 지지유니트(12)에 대해 상기의 방향의 역방향(도 1의 좌측방향)으로 이동시키게 되고, 따라서, 연마툴(20) 역시 패널(10)의 유효면(11) 상에서 전술한 반대방향으로 이동하게 된다.That is, when the working fluid is supplied to the cylinder body 51 to extend the length of the cylinder rod 53, the cylinder rod 53 is horizontal with respect to the support unit 12 to the slider 14 engaged with each other in a dovetail shape. Direction (in the right direction in FIG. 1), thereby moving the polishing tool 20, which is rotatably in contact with the effective surface 11 of the panel 10, in the direction of movement of the slider 14. Distance linear movement. When the length of the cylinder rod 53 is contracted again after a predetermined time, the cylinder rod 53 also moves the slider 14 in the opposite direction to the support unit 12 in the above direction (left direction in FIG. 1). As a result, the polishing tool 20 also moves on the effective surface 11 of the panel 10 in the opposite direction described above.
이러한 과정, 즉, 실린더로드(53)의 길이가 연장 및 수축되는 과정이 소정의 시간을 두고 반복되게 되면, 슬라이더(14)는 지지유니트(12)에 대해 수평방향으로 왕복구동할 수 있게 되고, 이에 따라 연마툴(20)은 패널(10)의 유효면(11)상에서 소정거리 선형 왕복이동하며 패널(10)의 유효면(11)을 연마할 수 있게 된다. 다시 말해, 패널(10)의 유효면(11)은, 선형 왕복이동함과 동시에 축선방향으로 회전가능한 연마툴(20)에 의해 연마될 수 있게 된다.When this process, that is, the process of extending and contracting the length of the cylinder rod 53 is repeated for a predetermined time, the slider 14 is able to reciprocate in the horizontal direction with respect to the support unit 12, Accordingly, the polishing tool 20 is capable of grinding the effective surface 11 of the panel 10 while linearly reciprocating a predetermined distance on the effective surface 11 of the panel 10. In other words, the effective surface 11 of the panel 10 can be polished by the polishing tool 20 which is rotatable in the axial direction while simultaneously linearly reciprocating.
이와 같이, 본 발명에서는, 패널(10)의 유효면(11) 상에서 연마툴(20)이 회전함과 동시에 선형이동하게 됨으로써 종래에 비해 패널(10)의 유효면(11)은 보다 균일하고 섬세하게 연마될 수 있게 된다. 또한, 연마툴(20)의 회전에 의해서만 패널(10)의 유효면(11)을 연마하던 종래기술에 비해 본 발명에서는 연마툴(20)이 직선 왕복이동할 수 있게 되므로, 연마시간을 단축시킬 수 있게 된다.As described above, in the present invention, the effective surface 11 of the panel 10 is more uniform and delicate than the conventional one by rotating the polishing tool 20 on the effective surface 11 of the panel 10 and linearly moving at the same time. It can be polished easily. In addition, compared to the prior art in which the effective surface 11 of the panel 10 is polished only by the rotation of the polishing tool 20, the polishing tool 20 can be linearly reciprocated, thereby reducing the polishing time. Will be.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 패널의 유효면을 보다 균일하고 섬세하게 연마시킬 수 있을 뿐만 아니라 연마시간을 단축시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널연마장치가 제공된다.As described above, according to the present invention, there is provided a panel polishing apparatus for cathode ray tubes, which can not only polish the effective surface of the panel more uniformly and delicately, but also shorten the polishing time.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-0036119A KR100397156B1 (en) | 1999-08-28 | 1999-08-28 | Apparatus for lapping crt panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-0036119A KR100397156B1 (en) | 1999-08-28 | 1999-08-28 | Apparatus for lapping crt panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20010019606A KR20010019606A (en) | 2001-03-15 |
| KR100397156B1 true KR100397156B1 (en) | 2003-09-06 |
Family
ID=19609099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-0036119A KR100397156B1 (en) | 1999-08-28 | 1999-08-28 | Apparatus for lapping crt panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100397156B1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR940012437A (en) * | 1992-11-02 | 1994-06-23 | 안재학 | Cathode ray tube glass polishing machine |
-
1999
- 1999-08-28 KR KR10-1999-0036119A patent/KR100397156B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR940012437A (en) * | 1992-11-02 | 1994-06-23 | 안재학 | Cathode ray tube glass polishing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010019606A (en) | 2001-03-15 |
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