KR100445905B1 - 다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및그 방법 - Google Patents

다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및그 방법 Download PDF

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Abstract

다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및 그 방법이 개시된다. 상기 과제를 이루기 위해, 다중파장 광 전송 시스템에서 본 발명에 따른 광 신호 성능 측정 장치는 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔을 생성하는 광 입력부, 제1다중파장 빔을 시준하고, 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 집속시키는 광 시준 및 집속부, 시준된 제1다중파장 빔을 회절 및 반사하여 시준된 제1다중파장 빔과 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 생성하는 회절 및 반사부 및 광 시준 및 집속부에 의해서 파장별로 집속된 제2다중파장 빔의 세기를 파장별로 측정하는 광 검출부를 포함하는 것을 특징으로 하고, 다 채널 광신호의 채널별 세기와 채널별 파장 그리고 채널별 광신호 대 잡음비를 동시에 실시간으로 측정할 수 있다. 또한, 수차에 대한 영향을 최소화 할 수 있고 광학계 내에서 동일한 에프수를 유지한다는 장점을 가지기 때문에 높은 분해능과 넓은 동적범위를 가진다.

Description

다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및 그 방법{Optical signal performance monitoring apparatus and method for multi-channel optical transmission systems}
본 발명은 다중파장 광 전송 시스템에 관한 것으로 특히, 다중파장 광 전송 시스템에서 다 채널 광 신호의 채널별 성능을 측정하는 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
종래의 다중파장 광 전송 시스템은 점 대 점(Point-to-Point) 전송방식으로 운용되었기 때문에 시스템내의 다 채널 광 신호는 동일한 전송선로를 통해서 전송되었으며 이에 따라서 동일한 선로특성과 전송손실을 가졌다. 그러나 현재의 다중파장 광 전송 시스템은 광 분기 결합 다중화기(Optical add drop multiplexer)와 광 회선 분배기(Optical cross connector)를 수용하는 점 대 다점(Point-to-multipoint) 전송방식으로 변화하고 있다. 이러한 구조의 다중파장 광 전송 시스템에서의 다 채널 광 신호는 각 노드에서 광 신호 상태로 분기, 결합이 발생하게 된다. 즉, 다 채널 광 신호는 채널별로 각기 다른 전송거리와 선로특성을 거치게 되어 채널별 광 성능이 달라지게 된다. 따라서 이러한 다중파장 광 전송 시스템의 전송 성능을 보장해 주기 위해서는 각 노드에서 다 채널 광 신호의 채널별 성능 즉 채널별 세기와 파장 그리고 광신호 대 잡음비를 광 신호 형태로 감시할 수 있어야 한다.
현재 다중파장 광 전송 시스템의 채널별 광 성능을 측정하기 위해서 배열 도파로 격자(미국특허 No. 5,986,782)와 광섬유 브래그 격자(미국특허 No. 5,995,255), 그리고 회절격자(K. Otsuka, ECOC97, pp. 147-150)를 이용하는 다양한 방법들이 연구되고 있다. 그러나 이러한 방법으로는 광 분기 결합 다중화기와 광회선 분배기를 가지는 대용량 다중파장 광 전송 시스템의 경우에는 채널별 광신호 대 잡음비를 측정하기 어렵고 무엇보다도 채널별 광신호 대 잡음비와 파장을 동시에 측정할 수 없다는 단점을 가진다. 또한 기존의 회절격자를 이용한 광 성능측정 장치는 대용량 다중파장 광 전송 시스템의 광 신호의 성능 측정에 사용하기 위한 높은 분해능을 얻기 위해서는 부피가 커지는 단점과 수차 및 편광 의존성이 큰 단점을 가진다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 다중파장 광 전송 시스템에서 높은 분해능을 가지면서 수차 및 편광 의존성을 최소화하는 다중파장 광 전송 시스템에서의 광 신호 성능 측정 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 광 신호 성능 측정 장치에서 수행되는 광 신호 성능 측정 방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명에 따른 광 신호 성능 측정 장치의 일실시예를 개략적으로 나타내는 블록도이다.
도 2는 도 1에서 광 반사부가 기울어진 각도(α)와 광 반사부에서 반사되는 다중파장 빔의 각도(β)사이의 관계를 설명하는 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 장치에서 파장 분리부에 의해서 파장별로 분리된 다중파장 빔과 광 반사부에 의해서 반사된 후 파장 분리부에 재 입사되는 다중파장 빔의 전파경로를 나타낸다.
도 4는 도 1에 도시된 장치에서 광 시준 및 집속부에 의해서 시준 되어진 다중파장 빔의 전파경로와 파장 분리부에 의해서 파장별로 재 분리된 후 광 시준 및 집속부에 입력되는 다중파장 빔의 전파경로를 나타낸다.
도 5는 일렬로 배열된 광 검출기를 이용하여 광 시준 및 집속부에 의해서 파장별로 집속된 다중파장 빔의 파장별 세기를 측정하는 방법을 나타내는 도면이다.
상기 과제를 이루기 위해, 다중파장 광 전송 시스템에서 본 발명에 따른 광 신호 성능 측정 장치는 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔을 생성하는 광 입력부, 제1다중파장 빔을 시준하고, 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 집속시키는 광 시준 및 집속부, 시준된 제1다중파장 빔을 회절 및 반사하여 시준된 제1다중파장 빔과 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 생성하는 회절 및 반사부 및 광 시준 및 집속부에 의해서 파장별로 집속된 제2다중파장 빔의 세기를 파장별로 측정하는 광 검출부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 다른 과제를 이루기 위해, 다중파장 광 전송 시스템에서 본 발명에 따른 광 신호 성능 측정 방법은 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔을 생성하는 (a)단계, 제1다중파장 빔을 시준하는 (b)단계, 시준된 제1다중파장 빔을 회절 및 반사하여 시준된 제1다중파장 빔과 동일 평면상에서 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 생성하는 (c)단계 및 제2다중파장 빔을 집속하고, 집속된 제2다중파장 빔의 세기를 파장별로 측정하고, 각 파장에 해당하는 픽셀의 광 세기와 각 광 신호 사이에 위치한 지점에서의 자연증폭방출 잡음(ASE noise)의 세기를 측정하여 광신호 대 잡음비를 측정하는 (d)단계를 포함하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명에 따른 다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및 그 방법을 첨부한 도면들을 참조하여 다음과 같이 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 광 신호 성능 측정 장치의 일실시예를 개략적으로 나타내는 블록도로서, 광 입력부(10), 광 시준 및 집속부(20), 회절 및 반사부(70) 및 광 검출부(60)를 포함하여 구성된다.
도 1을 참조하여, 광 입력부(10)는 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿(spot) 크기를 제어하여 제1다중파장 빔(11)을 생성한다. 광 입력부(10)가 광 신호의 스폿 크기를 제어함에 상응하여 광 검출부(60)로 입력되는 집속된 제2다중파장 빔(61)의 스폿 크기가 제어된다.
광 시준 및 집속부(20)는 제1다중파장 빔(11)을 시준하고, 회절 및 반사부(70)로부터 생성되는 파장별로 분리된 제2다중파장 빔(22)을 집속시킨다.
회절 및 반사부(70)는 광 시준 및 집속부(20)에 의해 시준된 제1다중파장 빔(21)을 입사하고, 시준된 제1다중파장 빔(21)과 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔(22)을 생성한다. 구체적으로, 회절 및 반사부(70)는 파장 분리부(30), 편광 변환부(40) 및 광 반사부(50)를 포함하여 구성된다.
파장 분리부(30)는 광 시준 및 집속부(20)에 의해 시준된 제1다중파장 빔(21)을 파장별로 분리 및 회절하여 제3다중파장 빔(31)을 생성한다. 또한, 파장 분리부(30)는 편광 변환부(40)에서 제3다중파장 빔(31)과 소정각을 갖고 입사되는 편광변환된 다중파장빔(32)을 파장별로 분리 및 회절하여 시준된 제1다중파장 빔(21)과 평행한 제2다중파장 빔(22)을 생성한다. 즉, 파장 분리부(30)의 표면은 입사된 빛을 파장별로 분리하여 반사 또는 굴절시키는 회절 격자로 형성되어, 시간 영역에서의 파형(waveform)을 주파수 영역에서 다수의 파형들로 분리 및 회절시켜준다.
편광 변환부(40)는 파장 분리부(30)에 의해 회절되어 광 반사부(50)로 입사되는 제3다중파장 빔(31)의 편광을 변화시키고, 또한, 광 반사부(50)로부터 반사되어 파장 분리부(30)로 입사되는 다중파장 빔의 편광을 변화시킨다. 편광 변환부(40)는 위상 지연기로서 파장 분리부(30)의 편광 의존 손실(polarization dependence loss)을 감소시키기 위해서 사용되며, 1/4 파장 플레이트(quarter wave plate)로 구성된다. 즉, 빔이 1/4 파장 플레이트를 통과할 때마다 45°씩 편광 변환된다. 예컨대, 파장 분리부(30)에서 회절된 제3다중파장 빔(31)은 광 반사부(50)로 입사될 때 편광 변환부(40)를 거치면서 45°편광변환되고, 광 반사부(50)에서반사되어 파장 분리부(30)로 입사되면서 편광 변환부(40)를 거치면서 다시 45°편광변환된다. 결국, 파장 분리부(30)로 입사되는 다중파장 빔(32)은 제3다중파장 빔(31)과 비교하여 편광 상태가 90°바뀌게 되며, 따라서 파장 분리부(30)의 편광 의존 손실을 감소시켜줄 수 있다.
광 반사부(50)는 제3다중파장 빔(31)의 전파경로에 대해서 일정한 각도로 기울어져 있어서 입사한 다중파장 빔의 전파경로를 바꾸어서 반사시킨다. 구체적으로, 광 반사부(50)는 평면 거울로서 입사되는 제3다중파장 빔(31)에 대해 제1소정 각(α)으로 기울어져 있으며, 이러한 기울기로 인해 편광 변환부(40)로부터 입사되는 편광변환된 제3다중파장 빔은 제2소정 각(β)으로 반사되어 편광 변환부(40)로 재입사된다. 광 반사부(50)에 대해서는 도 2를 참조하여 상세히 설명될 것이다.
계속해서, 광 검출부(60)는 광 시준 및 집속부(20)에 의해 파장별로 집속된 제2다중파장 빔(61)의 파장별 세기를 측정하여 다 채널 광신호의 채널별 세기와 채널별 파장 그리고 채널별 광신호 대 잡음비를 측정한다. 이처럼, 광 검출부(60)에서 측정되는 다 채널 광신호의 채널별 세기와 채널별 파장 그리고 채널별 광신호 대 잡음비를 측정함으로써 광 신호의 성능을 측정할 수 있다. 광 검출부(60)에 대해서는 도 5를 참조하여 상세히 설명될 것이다.
도 1에 도시된 장치의 동작을 설명하면, 광 입력부(10)는 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔(11)을 생성한다. 광시준 및 집속 부(20)는 제1다중파장 빔(11)을 시준하고, 회절 및 반사부(70)는 시준된 제1다중파장 빔(21)을 회절 및 반사하여 시준된 제1다중파장 빔(21)과 동일 평면상에서 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔(22)을 생성한다.
구체적으로, 파장 분리부(30)는 시준된 제1다중파장 빔(21)을 파장별로 분리 및 회절하여 제3다중파장 빔(31)을 생성한다. 제3다중파장 빔(31)은 편광 변환부(40)를 통과하면서 편광변환되고, 편광변환된 제3다중파장 빔은 제1소정각 α만큼 기울어진 광반사부(50)에 의해 제2소정각 β으로 반사되며, 이는 다시 편광 변환부(40)를 통과하여 파장 분리부(30)로 재입사된다. 전술된 바와 같이, 편광 변환부(40)는 1/4 파장 플레이트로 구성되며 제3다중파장 빔(31)은 편광 변환부(40)를 한 번 통과할 때 마다 45°씩 편광변환되며 결국, 편광 변환된 다중파장 빔(32)은 제3다중파장 빔(31)과 비교하여 90°편광 변환되어 파장 분리부(30)로 입사된다.
파장 분리부(30)는 편광변환된 다중파장 빔(32)을 파장별로 분리 및 회절하여 시준된 제1다중파장 빔(21)과 동일 평면상에서 평행하면서 파장별로 분리된 제2다중파장 빔(22)을 생성한다.
계속해서, 광시준 및 집속부(20)는 제2다중파장 빔(22)을 집속한다. 그리고, 광 검출부(60)는 광시준 및 집속부(20)에서 집속된 제2다중파장 빔(61)의 세기를 파장별로 측정하고, 각 파장에 해당하는 픽셀의 광 세기와 각 광 신호 사이에 위치한 지점에서의 자연증폭방출 잡음(ASE noise)의 세기를 측정하여 광신호 대 잡음비를 측정한다.
이상에서 설명된 바와 같이, 광 시준 및 집속부(20)에서 회절 및 반사부(70)로 입사되는 다중파장 빔과 회절 및 반사부(70)에서 광 시준 및 집속부(20)로 반사되는 다중파장 빔은 소정 각도로 기울어진 광 반사부(50)에 의해 서로 평행하게 된다. 즉, 회절 및 반사부(70)는 광 시준 및 집속부(20)에서 시준된 다중파장 빔(21)과 광 시준 및 집속부(20)에서 집속되는 다중파장 빔(22)이 광 시준 및 집속부(20) 상에서 평행하도록 위치시켜 다중 파장 빔들(21,22)이 서로 다른 축상에 위치함으로써 발생하는 수차를 제거함으로써 높은 분해능과 넓은 동적범위를 얻을 수 있게 된다. 따라서, 광 검출부(60)에서 보다 정확한 파장별 광 세기를 검출 할 수 있다.
도 2는 도 1에서 광 반사부(50)가 기울어진 각도(α)와 광 반사부(50)에서 반사되는 다중파장 빔의 각도(β)사이의 관계를 설명하는 도면이다.
도 2를 참조하여, 광 반사부(50)의 기울어진 각도(α)와 광 반사부(50)에서 반사되는 다중파장 빔의 각도(β)는 β=2α인 관계가 있다. 또한, 광 반사부(50)에서 반사된 후 표면이 회절격자 처리된 파장 분리부(30)에 재 입사되는 다중파장 빔의 회절 격자상의 위치는 다음 수학식 1에 의해 구해질 수 있다.
tanβ=h/f
즉, 광 반사부(50)의 기울어진 각도 α를 제어함으로써 광 반사부(50)로부터 반사되는 다중파장 빔의 각도 β를 결정할 수 있으며, 수학식 1에 의해, 광 반사부(50)로부터 반사되는 다중파장 빔의 회절격자상에서의 위치(h)는 회절격자와 광 반사부(50)의 거리(f)에 의존하게 된다. 따라서, 회절격자의 중심을 기준으로 광시준 및 집속부(20)로부터 회절격자에 입력되는 다중파장 빔은 회절격자의 아래부분에 의해서 회절되며, 광 반사부(50)로부터 회절격자에 입력되는 다중파장 빔은회절격자의 윗부분에 의해서 재 회절된다. 따라서, 회절격자에 입력되는 두 다중파장 빔은 각각 수차를 최소화하기 위해서 최대한 회절격자의 중심에 가깝게 위치시키는 것이 중요하며 이는 광 반사부(50)의 기울어진 각도 α와 파장 분리부(30)와 광 반사부(50)의 거리를 조절함에 의해 얻을 수 있다.
도 3은 도 1에 도시된 장치에서 파장 분리부(30)에 의해서 파장별로 분리된 다중파장 빔(31)과 광 반사부(50)에 의해서 반사된 후 파장 분리부(30)에 재 입사되는 다중파장 빔(32)의 전파경로를 나타낸다.
도 3에서 광 반사부(50)는 입력되는 다중파장 빔(31)의 전파경로와 소정의 각도(α)로 기울어져 있으며, 편광 변환부(40)를 통해서 입사되는 다중파장 빔(31)을 소정 각도(β)로 반사 시켜서 파장 분리부(30)에 재 입력시킨다. 결국, 도 3에 도시된 바와 같이 파장 분리부(30)의 표면상에서 입력 및 출력되는 두 다중파장 빔(31, 32)은 동일한 평면 즉, yz 평면상에 위치함을 보인다.
도 4는 도 1에 도시된 장치에서 광 시준 및 집속부(20)에 의해서 시준 되어진 다중파장 빔(21)의 전파경로와 파장 분리부(30)에 의해서 파장별로 재 분리된 후 광 시준 및 집속부(20)에 입력되는 다중파장 빔(22)의 전파경로를 나타낸다.
도 3을 참조하여 소정각 α로 기울어진 광 반사부(50)에 의해 파장 분리부(30)로 입력 및 출력되는 다중파장 빔은 동일 평면 즉 yz평면에 위치함을 보였다. 따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, 광 시준 및 집속부(20)에 의해서 시준되어 파장 분리부(30)로 입력되는 다중파장 빔(21)과 파장 분리부(30)에 의해서 파장별로 재 분리된 후 광 시준 및 집속부(20)에 입력되는 다중파장 빔(22)은 광 시준및 집속부(20)상에서 동일한 평면 즉, yz평면상에 위치하게 된다. 또한 광 입력부(10)로부터 광 시준 및 집속부(20)에 입력되는 다중파장 빔(11)과 광 시준 및 집속부(20)에 의해서 광 검출기(60)상에 집속 되어지는 다중파장 빔(61) 역시 광 시준 및 집속부(20)상에서 동일한 yz평면상에 평행하게 위치하게 된다. 따라서, 광 시준 및 집속부(20)에 의한 수차의 영향을 최소화 할 수 있으며, 뿐만 아니라 광 시준 및 집속부(20)상에서의 두 다중파장 빔(21,22)의 에프-수(f-number, 밝기)를 동일하게 해준다.
도 5는 일렬로 배열된 광 검출기(60)를 이용하여 광 시준 및 집속부(20)에 의해서 파장별로 집속된 다중파장 빔의 파장별 세기를 측정하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하여, 일렬로 배열된 광 검출기(60)는 n개의 픽셀(Pixel)로 구성되어져 있으며 각 픽셀의 위치는 k개의 채널 신호로 구성된 다중파장 빔의 파장에 해당된다. k개의 채널 신호로 구성된 다중파장 빔은 파장 분리부(30)에 의해서 파장별로 분리된 후 광 시준 및 집속부(20)에 의해서 광 검출기(60)상에 파장별로 집속된다. 광 검출기(60)의 각 픽셀은 집속된 다중파장 빔의 각 파장에 해당되는 광 세기를 검출한다. 광 검출기(60)로 집속되는 다 채널 광신호의 채널별 세기와 파장은 각 픽셀에서의 광 세기와 각 픽셀에 해당하는 파장을 측정함으로써 구할 수 있다. 또한, 다 채널 광신호의 채널별 광신호 대 잡음비는 각 채널 파장에 해당하는 픽셀의 광 세기와 각 채널 파장 사이에 위치한 지점에서의 픽셀의 광 세기 즉 자연증폭방출 잡음(ASE noise)의 세기를 측정하여 구할 수 있다.
이상에서와 같이, 본 발명에 따른 다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호의 성능 측정 장치 및 그 방법에 따르면 회절격자와 같은 파장분리 소자와 일렬로 배열된 광 검출기(photo diode array sensor)에 의해 다 채널 광신호의 채널별 세기와 파장 및 다 채널 광신호의 채널별 광신호 대 잡음비를 동시에 구할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 광 반사부(50)를 소정 각도 α만큼 기울임으로써 광 시준 및 집속부(20)에서 시준된 다중파장 빔(21)과 광 시준 및 집속부(20)에서 집속되는 다중파장 빔(22)이 광 시준 및 집속부(20) 상에서 동일한 평면에 위치하여 다중 파장빔들(21,22)이 서로 다른 축상에 위치함으로써 발생하는 수차를 최소화하므로 높은 분해능과 넓은 동적범위를 얻을 수 있게 된다. 따라서, 본 발명에 따른 다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치는 광 분기 결합 다중화기나 광 회선 분배기를 가지는 대용량 다중파장 광 전송 시스템의 광 신호의 성능 측정에 사용이 용이하며, 시스템의 성능 및 효율을 극대화 할 수 있다.
이상 도면과 명세서에서 최적 실시예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 다중파장 광 전송 시스템에서 광 신호 성능 측정 장치 및 그 방법에 따르면, 다 채널 광신호의 채널별 세기와 채널별 파장 그리고 채널별 광신호 대 잡음비를 동시에 실시간으로 측정할 수 있다. 또한, 수차에 대한 영향을 최소화 할 수 있고 광학계 내에서 동일한 에프수를 유지한다는 장점을 가지기 때문에 높은 분해능과 넓은 동적범위를 가진다.

Claims (8)

  1. 입력되는 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔을 생성하는 광 입력부;
    상기 제1다중파장 빔을 시준하는 광 시준 및 집속부;
    상기 시준된 제1다중파장 빔을 회절격자 및 광 반사부를 통해 회절 및 반사하여 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 생성하고, 상기 제2다중파장 빔이 상기 제1다중파장 빔과 평행하고 동일한 축에 위치하도록 상기 회절격자와 상기 광 반사부와의 거리 및 상기 광 반사부의 반사 각도를 기초로 상기 제2다중파장 빔의 회절격자에서의 위치를 조절하는 회절 및 반사부; 및
    상기 광 시준 및 집속부는 상기 제2다중파장 빔을 집속하며,
    상기 집속된 제2다중파장 빔의 세기를 파장별로 측정하기 위해 각각의 파장에 대응되는 광 검출을 위한 픽셀들을 배열하고, 상기 집속된 제2다중파장 빔의 각 채널의 파장에 해당하는 픽셀들에서 측정한 광 세기 및 상기 각 채널 사이에 위치한 파장에 해당하는 픽셀들에서 측정한 잡음의 세기를 기초로 광 신호 대 잡음비를 측정하는 광 검출부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 회절 및 반사부는,
    상기 광 시준 및 집속부에 의해 시준된 제1다중파장 빔을 회절격자를 통해 반사 및 굴절하여 파장별로 분리된 제3다중파장 빔을 생성하는 파장 분리부;
    상기 제3다중파장 빔을 편광 변환하는 편광 변환부;
    상기 편광 변환부로부터 입사되는 편광 변화된 제3다중파장 빔을 소정의 각으로 반사하여 제4다중파장 빔을 생성하고, 상기 파장 분리부와의 거리 및 상기 반사 각을 기초로 상기 제4다중파장 빔이 상기 파장 분리부에 입사되는 위치를 조절하는 광 반사부;를 포함하며,
    상기 편광 변환부는 상기 제4다중파장 빔을 편광 변환하여 상기 파장 분리부로 전송하며,
    상기 파장 분리부는 상기 제4다중파장 빔을 파장별로 분리하여 상기 제2다중파장 빔을 생성하는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 장치.
  3. 삭제
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 광 반사부는 상기 각 및 상기 파장 분리부와의 거리를 제어하여, 상기 광 시준 및 집속부로부터 상기 파장 분리부에 입력되는 상기 제1다중파장 빔 및 상기 제4다중파장 빔이 상기 파장 분리부의 중심에 최대한 근접하게 위치시키는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 편광 변환부는 1/4파장 플레이트로 통과되는 상기 제3다중파장 빔 및 상기 제4다중파장 빔을 45도 변환시키는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 장치.
  6. (a) 다중파장 광 신호의 스폿크기를 제어하여 제1다중파장 빔을 생성하는 단계;
    (b) 상기 제1다중파장 빔을 시준하는 단계;
    (c) 상기 시준된 제1다중파장 빔을 회절격자를 통해 회절하고 상기 회절된 제1다중파장 빔을 소정의 거리를 이동시켜 소정의 각으로 반사하여 파장별로 분리된 제2다중파장 빔을 생성하고, 상기 제2다중파장 빔이 상기 제1다중파장 빔과 평행하고 동일한 축에 위치하도록 상기 거리 및 상기 반사 각도를 기초로 상기 제2다중파장 빔의 상기 회절격자에서의 위치를 조절하는 단계; 및
    (d) 상기 제2다중파장 빔을 집속하는 단계; 및
    (e) 파장별 광 검출을 위해 일렬로 배열된 픽셀들을 이용하여, 상기 집속된 제2다중파장 빔의 각 채널의 파장에 해당하는 픽셀들에서 측정한 광 세기 및 상기 각 채널 사이에 위치한 파장에 해당하는 픽셀들에서 측정한 자연증폭 방출 잡음의 세기를 기초로 광 신호 대 잡음비를 측정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 (c)단계는
    (c1)상기 시준된 제1다중파장 빔을 파장별로 분리 및 회절하여 제3다중파장 빔을 생성하는 단계;
    (c2)상기 제3다중파장 빔의 편광을 변화시키는 단계;
    (c3)상기 (c2)단계에서 편광 변환된 제3다중파장 빔을 소정 반사각으로 반사하는 단계;
    (c4)상기 (c3)단계에서 반사된 다중파장 빔의 편광을 변화시키는 단계; 및
    (c5)상기 (c4)단계에서 편광 변환된 다중파장 빔을 파장별로 분리 및 회절하여 상기 제2다중파장 빔으로서 생성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 (c2) 및 (c4) 단계에서 상기 제3다중파장 빔 및 상기 반사된 다중파장 빔 각각은 45°씩 편광 변환되는 것을 특징으로 하는 광 신호 성능 측정 방법.
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